201034923 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用於物體或物料貯存或運輸之容 器，特別關於一種用以吸附被動元件料盤之真空吸盤。 【先前技術】
Q 以往，一般傳統吸盤係藉由多數個吸附貫孔形成一道 吸附面，用以吸附被動元件料盤。因此，吸附貫孔數量 的多寡，便影響了吸盤吸附力之強度，連帶影響了吸盤 和料盤之間的穩固性。然而，隨著科技日新月異，被動 元件之體積逐漸發展趨向微小化，一般傳統吸盤由於吸 附貫孔之孔徑過大，一旦有被動元件意外對準於吸附貫 孔，常使微小型被動元件被整個或部分陷入或被吸入， 導致部分被動元件於料盤上產生歪斜之情況，影響後續 沾膏、測試等後製程。而後，亦有將吸附貫孔之孔徑縮 小之因應方式出現，但隨著吸附貫孔的孔徑縮小，導致 吸盤吸附力減弱，無法穩固地將料盤吸附，容易有破真 空之問題。0*需要在金屬盤上設置為數更多的吸附貫 孔，除了加工不易之外，更連帶提高了整體成本。 【發明内容】 為了解決上述之問題，本發明之主要目的係在於提供 -種用以吸附被動元件料盤之真空吸盤，不需要因應吸 附貫孔之縮小計而增加吸附貫孔之數量，藉由增加吸 附面積’使承載被動元件之料盤能穩固地被吸附，並避 免微小型被動元件陷入甚至吸入於吸附貫孔内。 3 201034923 本發明之次一目的係在於提供一種用以吸附被動元 r盤之真a吸盤’能使被動元件呈現同平面的整齊排 ;料盤上利於後續製程中能夠確實地使每一個被動 元件確實沾著烊膏。 本發明的目的及解決其技術問題是採用以下技術方 案來實現的。本發明揭示一種用以吸附被動元件料盤之 真二吸盤，包含一吸盤本體，該吸盤本體係具有一平坦 〇 表面、複數個外露於該平坦表面之吸附貫孔以及複數個 吸附凹槽，該些吸附凹槽係連接每一吸附貫孔並朝向相 鄰之吸附貫孔，其中該些吸附凹槽係具有一長度，以致 使不連通至相鄰吸附貫孔與由相鄰吸附貫孔擴散延伸之 吸附凹槽。 本發明的目的及解決其技術問題還可採用以下技術 措施進一步實現。 在前述之用以吸附被動元件料盤之真空吸盤中，該些 © 吸附凹槽之寬度係可不大於該些吸附貫孔之孔徑。 在前述之用以吸附被動元件料盤之真空吸盤中，該此 吸附凹槽之長度係可不大於該些吸附貫孔之間隔之二分 —* 〇 在前述之用以吸附被動元件料盤之真空吸盤中，該此 吸附凹槽之長度係可介於該些吸附貫孔之間隔之二分之 一至一倍之間。 在前述之用以吸附被動元件料盤之真空吸盤中，該此 吸附凹槽之深度係可由其對應連接之吸附貫孔往外漸淺 4 201034923 變化。 在前述之用以吸附被動元件料盤之真空吸盤中，該此 吸附凹槽之深度係可為弧形變化。 — 在前述之用以吸附被動元件料盤之真空吸盤中，，此 吸附凹槽係可成對地以對應連接之吸附貫孔為中心=二 一直線連接。 在前述之用以吸附被動元件料盤之真空吸盤中，上述 〇
連通在同一吸附貫孔之該些吸附凹槽係可呈十字型= 列。 在前述之用以吸附被動元件料盤之真空吸盤中，上、,
呈十字型排列之該些吸附凹槽係可A 货』马十仃等距排列於該 吸盤本體上，以使該些吸附凹槽之外端對準相鄰吸附貫 孔之其中一吸附凹槽之外端。 在前述之用以吸附被動元件料盤之真空吸盤中，上述 呈十字型排列之該些吸附凹槽係可為交錯等距排列於該 吸盤本體上’以使該些吸附凹槽介設相鄰吸附貫孔之該 些吸附凹槽之間。 在前述之用以吸附被動元件料盤之真空吸盤中，該吸 盤本體之材質係可由剛性金屬所製成1使該平坦表面 為堅硬表面。 以上技術方案可以看出’本發明之用以 件料盤之真空吸盤，具有以下優點與功效： — '可藉由吸盤本體與吸附凹槽之特定組合關係作為其 技術手^又，使得連通吸附貫孔之吸附凹槽可呈 5 201034923 放射狀，例如十字型，並且為平行或交錯等距排列 於吸盤本體上，能增加吸盤本體的吸附面積，提高 了吸盤本體對料盤的吸附力’使料盤能穩固地被吸 附於吸盤本體上，並避免微小型被動元件陷入甚至 吸入於吸附貫孔内。 二、 可藉由吸附貫孔與吸附凹槽之特定組合關係作為其 中一技術手段，由於吸附凹槽之寬度不大於吸附貫 〇 孔之孔徑，並且成對地以對應連接之吸附貫孔為中 心而呈一直線連接，能使被動元件呈現同平面地整 齊排列於料盤上，利於後續製程中能夠確實地使每 一個被動元件確實沾著焊膏。 三、 可藉由吸盤本體、吸附貫孔與吸附凹槽之特定組合 關係作為其中一技術手段，由於吸盤本體之材質係 由剛性金屬所製成，形成在吸盤本體的吸附貫孔與 吸附凹槽亦具.有較強之剛性，較不易因長期使用而 〇 產生彎曲或損耗現象，有利於長期作業之使用。 【實施方式】 以下將配合所附圖示詳細說明本發明之實施例，然應 注意的是，該些圖示均為簡化之示意圖，僅以示意方法 來說明本發明之基本架構或實施方法，故僅顯示與本案 有關之元件與組合關係，圖中所顯示之元件並非以實際 實施之數目、形狀、尺寸做等比例繪製，某些尺寸比例 與其他相關尺寸比例或已誇張或是簡化處理，以提供更 清楚的描述。實際實施之數目、形狀及尺寸比例為一種 6 201034923 選置性之設計 詳細之元件佈局可能更為複雜。 依據本發明之一具體實施例種用以吸附被動元件 料盤之真空吸# 100並舉例說明於帛1圖之立體示意圖 與第3圖之立體局部放大圖。該真空吸盤1〇〇係主要包 含一吸盤本體110，該吸盤本體110係具有一平坦表面 1U、複數個外露於該平坦表面i i i之吸附貫孔i Η以及 Ο 〇 複數個吸附凹槽113，該些吸附凹槽i 13係連接每一吸 附貫孔11 2並朝向相鄰之吸附貫孔i丨2，其中該些吸附 凹槽113係具有-長度，以致使不連通至相鄰吸附貫孔 Π2與由相鄰吸附貫孔112擴散延伸之吸附凹槽ιΐ3。 請參閱第2圖所示’該些吸附凹槽113之寬度係$不 大於該些吸附貫孔112之孔徑，故不會擴大該些吸附貫 孔112之吸附開口端之面積。並且，該些吸附凹槽n3 112之間隔之二分之 之長度係可不大於該些吸附貫孔 一’以避免連通至不同吸附貫孔112之吸附凹槽113在 該平坦表面111上直接產生連通關係。較佳地，該政吸 附凹槽11 3係成對地以對應連接之吸附貫孔i i 2為中心 而呈一直線連接，並且上述連通在同一吸附貫孔112之 該些吸附凹槽113係呈十字型排列，而上述呈十字塑排 列之該些吸附凹槽11 3係為平行等距排列於該吸盤本體 11 0上，以使該些吸附凹槽11 3之外端對準相鄰吸附貫 孔112之其中一吸附凹槽113之外端。如此，可使該些 吸附凹槽11 3之形成有作業上的方便性。尤佳地，該些 吸附凹槽11 3之深度係可由其對應連接之吸附貫孔11 2 201034923 Ο ❹ 往外漸淺變化。較佳地，該些吸附凹槽113之深度係為 弧形變化（如第3及4圖所示）’便能以一切割刀輪對準 每一吸附貫孔112，以一次磨切動作快速形成兩道直線 連接之吸附凹槽丨丨3。此一吸附凹槽丨丨3之形狀與配置 特徵更具有吸附力往該些吸附貫孔丨12漸強之效果。此 外’該吸盤本體11 〇之材質係由剛性金屬所製成，以使 該平坦表面111為堅硬表面，故被吸附的料盤2〇中所承 載之被動tl件1〇不會有或高或低的明顯誤差變化。因 此，形成在該吸盤本體110之該些吸附貫孔112與該些 吸附凹槽U3亦具有較強之剛性’不易因長期使用而； 生彎曲或損耗現象，有利於長期作業之使用。 請參閱第4圖所示，該真空吸盤係用以吸附一放置有 複數個被動元件1G之料盤2G，該料盤2q具有複數個容 置孔以及在其底面貼附一彈性軟膜η。該些被動元 件1 〇係插置於該些容置孔2丨 '置孔21而使其-端電極部為突出 狀外露，該料盤20係以該彈性軟 出 盤之平土……生軟膜22貼附於該真空吸 之表面m上。當該真空吸盤1〇 抽氣機並進行抽氣後，該料盤2〇 卜邛 被緊密地吸附於該平妇表面⑴'由該彈性軟膜22 t 表面U1上，使該料盤20與該吸 盤本體11〇之間隙呈現真空^ …及 孔m本身之吸附面積外，由供該些吸附貫 予型，且平行等距排列 槽113呈十 該吸盤本體110的吸附& # 0上，亦能增加 與該料盤20之間隙，逸I χ ^及盤本體11 〇 進而提高了該吸盤本體110與該料 8 201034923 盤20之間的吸附力，使該料盤2〇能穩固且緊密地被吸 附於該吸盤本體11〇上。 並晴參閱第5至7圖所示’由於該些吸附貫孔Η]之 孔徑與該些吸附凹槽丨丨3之寬度係皆小於該些被動元件 10之一電極長度’更藉由該些吸附凹槽113呈十字型排 列連通在同一吸附貫孔丨12，當該彈性軟膜22被吸入該 些吸附貫孔112後產生些許凹陷，該些被動元件1〇的角 0 隅或邊緣仍可得到該平坦表面111之支撐托護（如第6與 7圖所不）。因此，當部分之該些被動元件1 0意外地對 準於該些谷置孔2 1時，仍不會被對準於其下之吸附貫孔 112吸附而產生凹陷下沉，故仍能與其它未對準於該些 容置孔21之該些被動元件10呈同平面地整齊排列於該 料盤20上，有利於後續製程中能夠確實地使每一個被動 兀件1 0確實地沾著焊膏，或者是可以進行準確的測試作 業等等。 © 在另—具體實施例中，請參閱第8圖所示，該些吸附 凹槽113之長度係可介於該些吸附貫孔112之間隔之二 刀之至一倍之間’上述呈十字型排列之該些吸附凹槽 113係為交錯等距排列於該吸盤本體丨丨〇上，以使該些 及附凹槽113介設相鄰吸附貫孔II2之該些吸附凹槽Η] 之間。藉此’更進一步地大幅增加了該吸盤本體110與 該料盤20之吸附面積，相對地’該些吸附貫孔丨丨2可再 縮小孔徑以因應該些被動元件1 〇之體積縮小問題，不致 使得該些被動元件1 〇直接地被吸入該些吸附貫孔 112 9 201034923 中。 以上所述’僅是本發明的較佳實施例而已 發明作任何形式上的限制，雖然本發明已以 揭露如上，然而並非用以限定本發明，任何 術者，在不脫離本發明之技術範圍内，所作 ^改、4效性變化與修飾，均仍屬於本發明 内。 U 【圖式簡單說明】 第1圖.為依據本發明之一具體實施例的一 被動元件料盤之真空吸盤之立體示 第2圖：為依據本發明之一具體實施例的用 元件料盤之真空吸盤之平面局部放 第3圖：為依據本發明之一具體實施例的用 元件料盤之真空吸盤針對其中一吸 連通之吸附凹槽之立體局部放大圖 〇 第4圖：為依據本發明之一具體實施例的該 吸附一被動元件料盤時之截面示意 第5圖：為依據本發明之一具體實施例的該 吸附時一被動元件對準於吸附貫孔 剖視圖。 第6圖：為依據本發明之一具體實施例的該 吸附時一被動元件對準於吸附貫孔 圖。 第7圖：為依據本發明之一具體實施例的該 ’並非對本 較佳實施例 熟悉本項技 的任何簡單 的技術範圍 種用以吸附 意圖。 以吸附被動 大圖。 以吸附被動 附貫孔以及 〇 真空吸盤在 圖。 真空吸盤當 之局部放大 真空吸盤當 之局部上視 真空吸盤當 10 201034923 吸附時一被動元件對準於吸附貫孔之局部立體 透視圖。 第8圖：為依據本發明之另一具體實施例的用以吸附被 動元件料盤之真空吸盤之平面局部放大圖。 【主要元件符號說明】 10 被動元件 20 料盤 21 容置孔 22 彈性軟膜 1 00用以吸附被動元件料盤之真空吸盤 11 0吸盤本體 111 平坦表面 11 2吸附貫孔 11 3 吸附凹槽 〇 11