TW201033648A - Light reflector and planar light source device - Google Patents
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Description
201033648 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光反射體、以及使用該光反射體之面 光源裝置,該光反射體可用作面光源裝置中所使用之反射 板、反射器及各種照明器具中所使用之光反射用之構件。 【先前技術】 配置有内置式光源之背光型之液晶顯示器正廣泛地普 及。背光型之内置光源中,最常用於液晶TVCTelevision, 電視)等中之直下型背光之典型性構成係如圖2所示,包括 光反射體11、擴散板12、及冷陰極燈13,且藉由擴散板而 形成均勻面狀之光。此種直下型背光存在如下問題:於作 為光源之冷陰極燈附近,亮度變高,於除此以外之位置, 亮度變低,從而產生亮斑。 相對於此種問題,提出有使用進行了用以改善亮斑之表 面塗層之白色聚酯薄膜(例如參照專利文獻^3)作為光反 射體。然而,此種白色聚酯薄膜有於長時間使用期間會黃 變之又一問題。 另一方面’作為即便長時間使用黃變亦較少之光反射 體’提出有一種白色聚烯烴薄膜(例如參照專利文獻 4〜6)。若使用該等光反射體,則可提高亮度,但該等文獻 中並未揭示對於亮斑之處理。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]曰本專利特開2005-148515號公報 145544.doc 201033648 [專利文獻2]曰本專利特開2005473546號公報 [專利文獻3]日本專利特開2〇〇6_〇72347號公報 [專利文獻4]曰本專利特開平8_2622〇8號公報 [專利文獻5]國際公開w〇〇3/〇14778號公報 [專利文獻6]曰本專利特開2〇〇6_195453號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 近年來’對於背光、特別是液晶TV等之直下型背光而 言’有為了節能、及削減成本而削減背光中之冷陰極燈之 使用根數的傾向。如此,冷陰極燈之使用根數較少之直下 型背光與先前之直下型背光相比,冷陰極燈(光源)間之距 離變長。因此,冷陰極燈間變得較先前更暗,且於冷陰極 燈之附近亮線趨於明顯。先前所提出之上述白色聚酯薄膜 或白色聚烯烴薄膜無法充分地減少此種比較大之亮斑。因 此’必需開發即便於削減背光之冷陰極燈使用根數時,亮 斑抑制效果亦高之光反射體。 本發明之課題在於提供如下之光反射體,其即便於組裝 至已削減冷陰極燈使用根數之面光源裝置中時,亦可充分 地抑制亮斑之產生。 [解決問題之技術手段] 本發明等人經過銳意研究之後發現··藉由形成具備特定 條件之最外層,例如將以銳角入射至薄膜反射面之光之指 向J·生調整得較咼,將以鈍角入射之光之指向性調整得較 低,藉此可顯著地改善亮斑,從而完成了本發明。 145544.doc 201033648 即,提供具有以下構成之本發明作為解決問題之技術手 段。 [1] 一種光反射體,其係於基材層上設置有光澤調整層作為 最外層者,上述光澤調整層表面之45。光澤度為1〇〜8〇%, 下述式(1)所表示之光澤度比為2〜25,且滿足下述<條件卜 或下述〈條件2>。 [數1] 光澤度比=—米澤調整層表面之45。光澤唐 光澤調整層表面之85。光澤度~ …式⑴ <條件1>上述光澤調整層包含熱塑性樹脂⑴與平均粒徑為 2〜20 μιη之填料(U),壁厚為2〜2〇 μιη,至少進行單軸延 伸,且上述光澤調整層中之上述填料(ii)之含有量為5〜6〇 重量%。 <條件2>上述光澤調整層係含有填料之塗佈層,且上述光 澤調整層之表面之平均斜率為0.04〜0.2,反射率為9〇〇/0 以上。 [2] 如[1]之光反射體,其滿足上述 < 條件1;>。 [3] 如[2]之光反射體,其中上述光澤調整層之表面之平均 斜率Aa為0.02〜0.2。 [4] 如[2]或[3]之光反射體’其中上述光澤調整層係以高於 上述熱塑性樹脂⑴之熔點之溫度而進行延伸。 [5] 如[2]至[4]中任一項之光反射體,其中上述熱塑性樹脂 ⑴主要包含熔點未達160°C之聚烯烴系樹脂。 [6] 如[2]至[5]中任一項之光反射體’其中上述光澤調整層 145544.doc 201033648 包s 10〜40重量。/。之平均粒徑為2〜2〇 之填料(丨丨)。 [7]如[2]至[6]中任—項之光反射體,其係由包括基材層 上述光澤調整層之積層體所形成,上述基材層包含熱塑 樹脂(iii)及填料(iv),且至少進行單轴延伸。 … 與 性 m如m之光反射體,其中上述熱塑性樹脂⑽主要包含嫁 點及玻璃轉移點中之至少一者為16〇。。以上之聚烯烴系樹 脂。 [9]如[7]或[8]之光反射體,其中作為上述基材層中之上述 填料(IV),包含5〜75重量%之平均粒徑為0 054 5 之無 機填料及平均分散粒徑為0 05〜1.8 μιη之有機填料中之至少 一者。 [1〇]如[7]至[9]中任-項之光反射體,其中上述基材層之反 射率為90%以上。 [11] 如[7]至[1〇]中任一項之光反射體,其中包括上述光澤 調整層與上述基材層之積層體於積層兩層之後,以高於上 述熱塑性樹脂(1)之熔點、且低於上述熱塑性樹脂(Hi)之熔 點及玻璃轉移點中之至少一者之溫度而進行延伸。 [12] 如[7]至[11]中任一項之光反射體,其中上述光澤調整 層之孔隙率為0〜4%,且上述基材層之孔隙率為i 5〜75%。 [13] 如[2]至[12]中任一項之光反射體,其密度為〇3〜12 g/cm3。 Π4]如[2]至[13]中任一項之光反射體,其中s83t:、相對 濕度50%之環境條件下,自設置於相距丨〇 cm之位置的金屬 鹵化物燈照射1 00小時之照射強度為90 mw/cm2之紫外線前 145544.doc 201033648 後之下述式(2)所表示的色差AEh為〇〜1〇, AEH==[(L〇-Li)2+(a〇-ai)2+(b〇-b1)2]0·5 式(2) (式(2)中’ L〇、a〇、b0分別表示照射前之表色系統之 • 色空間中的亮度指數L*與色彩指數a*、b*,^、匕分別 ’ 表示照射後之L*a*b*表色系統之色空間中的亮度指數L*與 色彩指數a*、 [15]如[1]之光反射體’其滿足上述 <條件2>。 Φ [16]如[15]之光反射體’其中上述塗佈層乾燥之後之填料 濃度為2〜40重量%。 [17]如[15]或[16]之光反射體,其中上述塗佈層中所含之填 料之平均粒框為4〜3 Ο μηι。 ' [18]如[15]至[17]中任—項之光反射體,其中上述基材層係 . 包含熱塑性樹脂與填料,且至少於單軸方向上進行延伸之 樹脂延伸薄膜。 [19] 如[18]之光反射體,其中於上述基材層中,上述熱塑 • 性樹脂為聚烯烴系樹脂。 [20] 如[18]或[19]之光反射體,其中上述基材層以5〜75重量 %之濃度而含有平均粒徑為0.054.5 μιη之無機填料、平均 分散粒徑為0.05〜1.8 μιη之有機填料、或該等之混合物。 [21] —種面光源裝置,其使用有如中任一項之光反 射體》 [發明之效果] 本發明之光反射體於組裝至面光源裝置時,可充分地抑 制免斑之產生。又,本發明之面光源裝置由於亮斑小,故 145544.doc 201033648 可抑制亮線產生。 【實施方式】 以下,對本發明之光反射體之構成以及效果進行詳細說 明。以下所揭示之構成要件之說明係基於本發明之代表性 之實施態樣,但本發明並不限定於此種實施態樣。再者, 本發明中「〜」係指包含其前後所記載之數值分別作為最 小值及最大值之範圍。又,本說明書中所謂「主要包 含」,係指包含整體之50重量%以上,較好的是包含7〇重 量%以上,更好的是包含9〇重量%以上,最好的是1〇〇重量 %。 本發明之光反射體係於基材層上設置有光澤調整層而作 為最外層者,上述光澤調整層表面之45。光澤度為 10〜8〇% ’且式(1)所表示之光澤度比為2〜25。本發明之光 反射體大致區分為滿足〈條件丨>者以及滿足〈條件2>者。 [滿足 <條件1 >之光反射體] (1)光反射體之構成之特徵 滿足 <條件1>之光反射體係包含光澤調整層作為最外層 者’該光澤調整層包含熱塑性樹脂⑴與填料(ii),其壁厚 為2〜20 μιη且至少進行單軸延伸。光澤調整層所含之填料 之平均粒徑為2〜20 μιη,其含有量為5〜6〇重量。/(^而且, 滿足 <條件1>之光反射體之光澤調整層表面之45。光澤度為 10〜80°/。’且上述式(1)所表示之光澤度比為2〜25。 以下’ 一面參照滿足 <條件之光反射體之較佳態樣, 一面進行具體說明。 145544.doc 201033648 (2)光澤調整層 上述光澤調整層包含熱塑性樹脂⑴以及平均粒徑為2〜2〇 . μηι之填料(ii)。又,光澤調整層係至少進行單軸延伸之樹 • 脂延伸薄膜,其構成光反射體之最外層而調整光澤,且具 . 有防止亮線之功能。具體而言,藉由以填料(ii)為核心之 突起而將該光澤調整層之表面之平均斜率虹調整至 0.02〜0.2之範圍,藉由該突起而對45。光澤度以及85。光澤 度進行調整。 攀 <熱塑性樹脂(i)> 上述光澤調整層中所使用之熱塑性樹脂⑴之種類並無特 另J限制作為可使用於上述光澤調整層之熱塑性樹脂(丨), 可列舉馬密度聚乙稀、中密度聚乙烯、低密度聚乙烯等之 ' 乙烯系樹脂;丙烯系樹脂、聚甲基-1-戊烯、乙烯-環狀烯 烴共聚物等之聚烯烴系樹脂;尼龍_6、尼龍_6,6、尼龍_ 630、尼龍-6,12等之聚醢胺系樹月旨;聚對苯二甲酸乙二酯 • 或其共聚物、聚萘二甲酸乙二酯、脂肪族聚酯等之熱塑性 聚酯系樹脂;以及聚碳酸酯、亂排聚苯乙烯、對排聚苯乙 烯、聚苯硫醚等之熱塑性樹脂。亦可混合地使用兩種以上 之該等樹脂。 該等樹脂中,就使用時之黃變較少以及耐化學品性及生 . 產成本等之觀點而言,較好的是使用聚烯烴系樹脂,其中 . 更好的是使用丙稀系樹脂。 作為上述丙烯系樹脂,可使用丙烯均聚物、或作為主成 分之丙烯與乙烯、1_ 丁烯、己烯、1-庚烯,4-甲基-1-戊 145544.doc 201033648 烯等之α-烯烴之共聚物。上述丙烯系樹脂之立體規則性並 無特別限制,可使用表現出同排或對排以及各㈣度之立 體規則性者。X,於上述㈣系樹脂為共聚物之情形時, 可為二元系、三元系’亦可為四元系,又,可為無規共聚 物’亦可為鼓段共聚物。該等中,較好的是使用溶點 (獄(di— scanning cal〇rimetry,差示掃描熱量測 定)峰值溫度)未達160。。之聚烯烴系樹脂,具艎而言,特別 好的是使用主要包含丙稀之多元系之無規共聚物。 關於熱塑性接m⑴於光澤調整層中之調配量,其總量為 40〜95重量%之範圍,較好的是5〇〜95重量%之範圍,更好 的是55〜90重量%之銘圈,、备=ϊ 1 (批圍進而好的是60〜90重量%之範 圍。 <填料(ii)> 於上述光澤調整層中使用上述熱塑性樹脂⑴及填料 (11)作為上述光澤調整層中所使用之填料⑴),可列舉各 種無機填料或有機填料。 作為上述無機填料,可例示重質碳酸弼、沈澱性碳酸 齊锻燒黏土、滑石、氧化鈦、硫酸鎖、硫酸铭、二氧化 矽、氧化辞、氧化鎂、及矽藻土等。X,亦可例示上述無 機填料之各種表面處理劑所形成之表面處理品。其中若使 用重質碳酸鈣、沈澱性碳酸鈣及該等之表面處理品、黏 及夕藻土,則由於廉價且延伸時之孔隙形成性良好, 較佳更好的疋重質碳酸鈣、沈澱性碳酸鈣之各種表 面處理劑所形成之表面處理品。 I45544.doc 201033648 作為上述表面處理劑,較奸 θ ^ _ . ,疋例如樹脂酸、脂肪酸、 =酸、硫㈣型陰離子界面活性劑、續酸型陰離子界面 • 蝴、石油樹脂酸、該等之納、钟、錄等之鹽、或該等 •之脂肪酸醋、樹脂酸醋、峨、石蠘等,且非離子系界面活 ,T劑、一烯系聚合物、鈦酸酷系偶合劑、石夕烧系偶合劑、 鱗酸系偶合劑等亦較佳。作為上述硫酸醋型陰離子界面活 性劑,例如可列舉長鍵醇硫酸酷、聚氧乙埽烧基喊硫酸 • §旨、硫酸化油等或彼等之納,等之鹽,作為績酸型陰離 子界面活性劑’例如可列舉统基苯續酸、烧基蔡績酸、石 壤續酸、α_烯烴俩、㈣續基破#酸等或彼等之納、_ 等之鹽。X ’作為上述脂肪酸,例如可列舉己酸、辛酸、 酸癸酸十烷酸、月桂酸、肉豆謹 ㈣、山荟酸、油酸、亞麻油酸、次亞麻油酸、及桐酸 等。作為上述有機酸,例如可列舉順丁烯二酸及山梨酸 等。作為上述二稀系聚合物,例如可列舉聚丁二稀、及異 _ 戊一烯等。作為上述非離子系界面活性劑可列舉聚乙二醇 醋型界面活性劑等。該等表面處理劑可使用一種或組合兩 種以上加以使用。作為使用有該等表面處理劑之無機填料 之表面處理方法’例如可使用於日本專利特開平5-43815 號公報、日本專利特開平5-1 39728號公報、曰本專利特開 平7-30〇568號公報、日本專利特開平1〇·1?6〇79號公報、曰 本專利特開平11-256144號公報、曰本專利特開平u_ 349846號公報、日本專利特開2〇〇1_158863號公報、曰本 專利特開2002-220547號公報、及日本專利特開2〇〇2· 145544.doc 201033648 363443號公報等中所揭示之方法。
作為上述有機填料,較佳使用熔點或玻璃轉移點高於上 述熱塑性樹脂之熔點或玻璃轉移點之有機填料(例如 120〜300°C)。例如可例示聚對苯二甲酸乙二酯 '聚對苯二 甲酸丁二酯、聚醯胺、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚 苯乙烯、二聚氰胺樹脂、環狀烯烴均聚物、環狀烯烴與乙 烯之共聚物、聚環硫乙烷、聚醯亞胺、聚乙醚酮、聚苯硫 醚、及丙烯酸系樹脂等。其中,就形成以填料為核心之: 起之觀點而言’較好的是使用相對於較佳用作上述熱塑性 樹脂之聚烯烴系樹脂為非相溶性之有機填料。 上述光澤調整層中’作為上述填料(ii),較好的是使用 可滿足下述較佳範圍之粒徑之無機填料或有機填料,更好 的是使用二氧切、氧化銘、氧化鎂、氧化鋅、沈殿性碳 酸妈、及丙稀酸系樹腊等。就光澤調整之觀點而言,特別 好的疋使用沈澱性碳酸鈣或交聯丙烯酸珠粒。 可自無機填料或有機填料中選擇一種填料並將其單獨地
使用於上述光澤調整層,亦可選擇兩種以上心合地使用 於上述光澤調整層。於έ日人工# 毅層》組合兩種以上而加以使用之情形 時’亦可混合地使用有機填料與無機填料。 j述光澤調整層中所使用之填料⑼係使用平均粒徑以 及平均刀散粒徑為2〜20⑽者。上述粒徑較好的是2〜15 叫’更好=是3〜10.叫,進而好的是3〜8帅,特別好 …m。於上述填料之粒徑為2μιη以上 入射至反射面之光之朝向正反射方向的指向性變低,= 145544.doc -12- 201033648 適度地擴散,因此可抑制亮斑之產生。於上述填料之平均 粒k為2 0 μιη以下之情形時,不易成為表面缺陷等之原 因’且所獲得之光澤調整層、光反射體之外觀亦良好。 上述無機填料之平均粒徑以及上述有機填料之平均分散 粒徑,例如可藉由微跡(瓜卜⑺訌扣”法、利用掃描型電子顯 微鏡觀察一次粒徑(本發明中將〗〇〇個粒子之平均值設為平 均粒徑)、及根據比表面積進行換算(本發明中使用島津製
作所(股)製作之粉體比表面積測定裝置ss_1〇〇而測定比表 面積)等而求出。 關於上述填料(ii)於上述光澤調整層中之調配量,其總 1為5〜6〇重量。/〇之範圍,較好的是5〜50重量%之範圍,更 好的疋10 45重量%之範圍,進而好的是1〇〜4〇重量%之範 圍、。若調配量為5重量%以上,#易於在光澤調整層上形 成、真料為核心之突起,該突起使以鈍角入射至反射面之 ,擴散或反射而降低反射之指向性,故而光澤不會變得過 :。,從而有易於抑制亮斑之產生之傾向。於調配量為⑽重 二/。以下之情形時,以銳角人射至反射面之光之指向性變 :,從而有易於抑制亮斑之產生之傾向。又,就易於維持 表面強度之方面而言亦較佳。 ^述光澤調整層選擇兩種以上之填料而組合地使用之 月/•〃要根據上述觀察或換算而求出之粒徑滿足本發 明之特徵’則亦可包含一 料。祚A 匕含疋量之平均粒徑未達2 μιη之填 ' 亦可包含於上述光澤調整層之平均粒徑未達 叫之填料’例如可列舉平均粒徑為〇2哗左右之氧化鈦 145544.doc •13- 201033648 等。就提高光反射體之長期使用之耐久性之觀點而言’較 好的是包含氧化鈦。 亦可包含於上述光澤調整層之平均粒徑未達2 μιη之填 料’可相對於上述光澤調整層而含有0.1〜1〇重量%,更好 的是於0.2~7重量%之範圍,特別好的是於〇.5〜4重量%之範 圍而含有該填料。 <添加劑> 亦可根據需要而於光澤調整層十調配螢光增白劑、穩定 劑(抗氧化劑)、光穩定劑、分散劑、潤滑劑等之添加劑。 作為上述穩疋劑可調配〇 〇〇〖〜丨重量❶/。之位阻苯齡系或碟 系、胺系等,作為上述光穩定劑可調配0 00hi重量%之位 =胺或笨并三唾系、二苯甲鋼系冑,作為上述無機填料之 分散劑可調配H4重量%之石夕烧偶合劑、油酸或硬醋酸 等之高級脂肪酸、金屬4、聚丙料、聚f基丙稀 等之鹽等。 <光澤調整層之製造方法>
Q 製造光澤調整層之方法包含朝向$,卜 嫌h 3朝向至少-個方向之延伸步 X的是包含進行縱向延伸以及橫 伸。當延伸光澤調整狎之雙軸延 材層咬中門層η 較好的疋亦-併延伸下述之基 柯層次中間層H於本說明書中 朝向MD(machine direction,加工方 、…延伸係表 橫向延伸係表示朝向與MD方向正交之向^向之延伸’所謂 於上述延伸步驟中,可使用通常之單轴伸。 延伸方法。作為具體例,可列舉 延伸方法或雙軸 法,即,使用連接 145544.doc 14- 201033648 於螺旋型擠出機之單層或 月匕爐Φ故— 層之τ子模或1子模而將熔融樹 月曰擠出為溥片狀之後,藉 错由利用輥群之周速差之縱向延伸 而進仃早軸延伸;進而可例舉 J舉於早軸延伸之後,組合使用 向延伸之雙轴延伸方法、或藉由組合拉幅爐 與線性馬達而同時進行延伸之雙轴延伸方法等。 上述延伸步驟中之延伸溫度 性樹脂之熔點之、的疋於上述熱塑 π合於丄 在㈣溫度下進行延伸,故而 =於光澤調整層之表面上形成以填料為核心之孔隙或表 -口,而易於形成具有下述光學特徵之表面凹凸(突 :),可降低以鈍角入射至反射面之光之指向性,且可抑 制亮斑之產生。 . <壁厚> • 關於光反射體之光澤調整層之辟;t ^ ^ ^ ^ 列金層之壁厚,觀察掃描型電子顯 微鏡所獲得之光反射體之剖面照片中之不同部位之洲 點,將根據所觀察之壁厚與倍率而算出之同層之最厚部分 籲 3又為光澤調整層的壁厚。 上述光澤調整層之壁厚為? 又序馮2〜20 μιη之範圍,該厚度較好 的是2〜15 μηι,更好的县,< Α 又灯的疋2〜ό μηι。若上述壁厚為2 μιη以 上,則可朝上述光澤調整層中調配具有足夠大之平均粒徑 之填料,無填料之脫落,且易於抑制亮斑之產生。若上述 • 壁厚為20 μιη以下,刖亦且从m 則了易於利用上述光澤調整層中所調 .酉己之填料而形成表面凹凸(突起),可降低以純角入射至反 射面之光之指向性,且可抑制亮斑的產生。 光澤調整層之壁厚較好的是光澤調整層中所含之填料之 I45544.doc -15- 201033648 更好的是1〜3倍, 進而好的是1〜1.5 平均粒徑之1〜6倍 倍。就易於獲得特定之光澤度比之方面而言,較好的是光 澤調整層之壁厚為填料之平均粒徑之6倍以下。又,根據 上述壁厚之敎方法,光澤㈣層之壁厚成為與填料之平 均粒徑同等以上之值,因此下限值為丨倍。 <平均斜率Aa> 關於光反射體之光澤調整層之表面之平均斜率&係使用 三維粗糙度計(小阪研究所(股)製作:spA_u)而測定該光 反射體之表面粗糙度,根據測定資料且藉由下述式(3) =行 計算而求出的值。 [數2] hi + h2+h3+- · *+h △ a ------^_ r …式(3) 上式中,hhh……h係鄰接之凹凸部之間之高低差 L係測定長度(圖8)。 之表面之凸構造 平均斜率表示光反射體之光澤調整層 之大小或頻率之類的形狀特徵,該數值越小,則表示凸構 造之頻率越少,該數值越大,職示凸構造之頻率越多。 作為最外層之光澤調整層係包含5〜6〇重量%之該熱塑性 樹脂⑴與平均粒徑為2〜20 μιη之填料(ii),且至少進行單軸 延伸之壁厚為2〜20 μιη之層,於該層上,該填料(u)形成覆 蓋於該熱塑性樹脂⑴之突起,藉此實現如上所述之特定之 表面。 光反射體之光澤調整層之表面之平均斜率虹較好的是 145544.doc -16- 201033648 0.02~0·2。該值更好的是〇·〇3〜〇·ΐ5,進而好的是〇 〇4〜 0.1 ’特別好的是0.04〜0.06。若上述值處於0.02〜0_2之範圍 内,則同樣可獲得請求項中所規定之45。光澤度、光澤度 比’於組裝至面光源裝置時易於改善亮斑。 <光澤度> 光反射體之45。光澤度係使用數位變角光澤度計(Suga Test Instruments(股)製作:UGV-5DP),按照 JlS(Japanese Industrial Standards,曰本工業標準)_Z8741之方法4所揭示 之方法,對入射角為45。之鏡面光澤度進行所得的值。45。 光澤度係觀測以銳角入射至反射面之光之反射所得者,光 反射體之45光澤度為1〇〜8〇%。該值較好的是15〜,更 好的是20~50°/〇,進而好的是21〜45%。若上述值為1〇%以 上’則以銳角入射至反射面之光之指向性足夠高,且可抑 制亮斑之產生。又,若45。光澤度為80❶Λ以下,則亦可賦予 擴散反射之效果,且可抑制產生由光反射體之彎曲等所引 起之亮斑(由鏡面反射所引起)。 當將先前之光反射體組裝至如圖2所示之面光源裝置 時,來自光源(例如冷陰極燈13)之直接光會根據與光源相 距之距離而逐漸地衰減,因此於擴散板上之遠離光源之部 位產生暗部15(圖4)。因此,導致於光源附近產生亮線14, 從而產生亮斑。相對於此,本發明之光反射體可使傾斜入 射之光中之某程度之鈍角之入射光擴散,且可對某程度之 銳角之入射光進行正反射。因此,將本發明之光反射體組 裝至如圖2所示之面光源裝置之後’對於自光源(例如冷陰 145544.doc 17 201033648 極燈13)發出且經本發明之光反射體11所反射之反射光, 以圖5所示之30度〜50度之反射光16〜18之朝向正反射方向 之指向性變高的方式加以控制,由於對其他角度之反射光 (例如60度之反射光19及70度之反射光20)進行漫反射,故 以朝向正反射方向之指向性變低的方式加以控制。其結 果,可使來自圖4所示之冷陰極燈13之直接光所產生之朝 向擴散板暗部15之反射光聚光,相反地,可使反射光不會 朝擴散板亮線部14聚集。即,可消除因直接光引起之亮 斑。此種本發明之原理與先前之方法不同,先前之方法係 提高相對於所有入射角之反射光之指向性,提高光擴散板 整體之亮度,以使亮斑不明顯。 本發明之光反射體之85。光澤度係使用Handy85。光澤度 計(DR LANGE製作:LMG〇63),對入射角為85。之鏡面光 澤度進行測定所得之值。85。光澤度係觀測以鈍角入射至 反射面之光之反射所得者,本發明之光反射體之Μ。光澤 度較好的是1〜40%。 該值更好的是1〜3〇%,進而好的
光之指向性足夠低,且易於抑制亮斑之產生。 <光澤度比>
’進而好的是5.5〜18之 145544.doc 201033648 範圍内。右光澤度比為2以上, 則鈍角入射至反射面之 先之私向性不會變得過高, 代句可抑制凴斑之產生。於光 澤度比為25以下之情形時, T孓罝下型背光而言,冷陰極 燈之正上方亦變得足夠明亮, 攸昀可抑制亮斑之產生。可 藉由調整光澤調整層之厚度、埴 真枓之平均粒徑、及填料之 δ有量等而控制光澤度比。例 — ⑺如’使用具有某程度之平均 粒徑之填料(例如4 μηι以上),啖— ^ 面以60重置%之量使用 平均粒徑比較小之填料(例如3 _以下),_面將光澤調整 層之厚度調整為與填料平均粒徑相同之程度,藉此可將光 澤度比調整至本發明之範圍内。 (3)基材層 本發明之光反射體較好的是包含將上述光澤調整層作為 最外層而積層於基材層 < 至少單面(光反射面)所 藉 層體。 本發明之光反射體之基材層係於内部包含多個微細空隙 • 之層,藉由該孔隙而效率良好地將入射光反射至入射 側’從而實現光反射體之高反射率,又,於上述光澤調: 層之延伸成形時,上述基材層作為支撐體而具有輔助穩定 且均勻之延伸的作用。 因此,與光澤調整層同樣地,上述基材層較好的是亦係 包含熱塑性樹脂與填料,且至少進行單轴延伸之樹脂延伸 薄膜。然而,與光澤調整層不同,基材層較好的是於内部 形成多個微細且形狀均勻之孔隙,因此,作為上述義材層 中之上述填料,較好的是以5〜75重量%而包含平均教彳孩為 145544.doc -19- 201033648 0.05〜1.5 μιη之無機填料以及平均分散粒徑為005M 8 μιη 之有機填料中的至少一者。 進而,於上述積層體中,為了幾乎不於光澤調整層中形 成孔隙,而選擇性地於基材層中形成孔隙,有效的是於積 層兩層之後,以高於光澤調整層之熱塑性樹脂⑴之熔點、 且低於基材層之熱塑性樹脂(iii)之熔點及玻璃轉移點中之 至少一者之溫度進行延伸,從而獲得光反射體。因此,光 澤調整層中所使用之熱塑性樹脂與基材層中所使用之熱塑 性樹脂,較好的是有意圖地使用具有不同熔點或不同玻璃 轉移點者。 〈熱塑性樹脂(iii)> 上述基材層中所使用之熱塑性樹脂(iii)之種類並無特別 限制。作為可使用於上述基材層之熱塑性樹脂,可使 用與上述熱塑性樹脂(i)中所例示者相同者。該等中就使 用時之黃變少、耐化學品性及生產成本等觀點而言,較好 的疋使用聚烯烴系樹脂,其中更好的是使用丙烯系樹脂。 作為上述丙烯系樹脂,可使用丙稀均聚物、或作為主成 分之丙烯與乙烯、1-丁烯、b己烯' 丨_庚婦、4曱基q戊 烯等α-烯烴之共聚物。上述丙烯系樹脂之立體規則性並無 特別限制,可使用表現出同排或對排以及各種程度之立體 規則性者。又,於上述丙烯系樹脂為共聚物之情形時,可 為二元系、三元系、四元系,又,可為亂排共聚物,亦可 為嵌段共聚物。該等中,較好的是使用熔點(DSC峰值溫 度)以及玻璃轉移點中之至少一者為!6〇。〇以上之聚烯烴系 145544.doc -20· 201033648 樹脂,具體而言特別好的是使用丙烯均聚物。 此種熱塑性樹脂較好的是以25〜95重量。/。使用於基材層 中’更好的是以30〜90重量%加以使用,進而好的是以 40〜85重量%加以使用。若基材層中之熱塑性樹脂之含有 量為25重量%以上,則於下述積層薄膜之延伸成形時,有 不易於表面產生損傷之傾向,若上述含有量為95重量%以 下’則有易於獲得充分之孔隙數之傾向。 於構成上述基材層之主要樹脂為丙烯系樹脂之情形時, 為改善延伸性’亦可相對於上述基材層整體而調配3〜25重 量%之聚乙烯、乙烯乙酸乙烯酯等之熔點低於丙烯系樹脂 的樹脂。 <填料(iv)> 於上述基材層中使用上述熱塑性樹脂(iii)及填料。作為 上述基材層中所使用之填料(iv),可使用與上述填料(ii)所 例不者相同之化合物。該等中較好的是使用沈澱性碳酸 鈣。又,於使用有機填料之情形時,就較佳地於基材層中 ,成孔隙之觀點而言,較理想的是使用熔點或玻璃轉移點 高於較佳地用作熱塑性樹脂(iii)之聚烯烴系樹脂,且對於 聚烯烴系樹脂為非相溶性之有機填料。 於上述基材層中,為調整於τ文詳述之藉由延伸成形而 產生之孔隙尺寸’上述基材層中所添加之上述無機填料之 平均粒徑較好的是〇.〇5〜15 μιη之範圍,更好的是G Μ叫 之範圍’上述有機填料之平均分散粒徑較好的是0.05〜1>8 μηι之範圍’更好的是5叫之範圍。該等可單獨使用 145544.doc -21- 201033648 亦可混合地使用。若使用平均粒徑紅5 w以下之益機填 料或平均分散粒徑為u _以下之有機㈣,則有如下傾 向,即’易於形成微細之孔隙,且使用本發明之光反射體 之面光源裝置之亮度變高…若使用平均粒徑或平均分 散粒徑為0.05 μιη以上之填料,則有如下傾向㉛,易於 獲得孔隙,且制本發明之光反射體之面光源裝置之亮度 變高。 又’為調整於下文詳述之藉由積層體之延伸成形而產生 之孔隙量,上述基材層中所添加之上述填料較好的是以 5〜75重量%之濃度使用於基材層中,^好的是以ι〇〜7〇重 量%之濃度加以使肖’ it而好的是以15〜6〇重量%之濃度加 以使用。若基材層中之填料之含有量為5重量%以上則 有易於獲得充分之孔隙數之傾向,若為75重量%以下則 有不易於表面產生損傷之傾向。 <壁厚> 本發明之光反射體之基材層之壁厚係藉由與上述光澤調 整層相同之方法而m上述基材層之壁厚較好的是 30〜1000 μιη’更好的是40〜400 μιη,進而好的是5〇〜3〇〇 μιη。上述基材層可為單層構造,亦可為多層構造。 (4)中間層 本發明之光反射體中除了設置有根據入射光之入射角而 調整光澤度之光澤調整層、以及確保反射率之基材層以 外,還可設置中間層。設置中間層之目的在於例如賦予光 反射體之強度或剛度、尺寸穩定性等之其他性能。 145544.doc •22- 201033648 於中間層中,可使用與用於基材層之樹脂相同之熱塑性 樹脂。又,上述中間層亦可含有填料,上述中間層中所含 之上述填料之調配量為〇~60重量%之範圍,較好的是〇〜4〇 重量%之範圍,更好的是0〜20重量%之範圍,特別好的是 0〜10重量%之範圍。上述填料亦可使用與用於基材層之化 合物相同者。
上述中間層之壁厚較好的是i μιη以上,更好的是2〜30 ㈣進而好的是3〜20 μπι。藉由設為i μηι以上,光反射趙 之表面強度會提高,且加工適合性會提高。 (5)光反射體之層構成 本發明之光反射體較好的是包含上述光澤調整層與上述 基材層。 。又’亦可具有進而積層有其他層之構造。具體而言,亦 可具有於基材層之兩面積層有光澤調整層之構造。又亦 可於基材層之與接觸於光澤調整層之面相反之面侧、或基 材層與光澤調整層之間包含中間層。 即’作為本發明之光反射體之較佳層構成,可例示旦有 光澤調整層/基材層(參照圖1(a)) 八 光澤調整層/基材層/光澤調整層 光澤調整層/基材層/中間層 光澤調整層/中間層/基材層(參照圖卿 光澤調整層/中間層/基材層/光澤調整層 光澤調整層/中間層/基材層/中間層/光澤調整層 等之構造之光反射體。再者,對於本說明書.中之積層之離 145544.doc -23- 201033648 樣而言’左側表示設置於面光源裝置時成為光反射面之側 之層,右側表示不成為反射面之側之層。即,若光反射體 為光澤調整層/基材層/中間層之構成,則表示光澤調整層 成為反射面。 (6)光反射體之製造方法 本發明之光反射體係可包含上述基材層者。可使用擠出 機對各個層用之組成物進行溶融捏合,將溶融物自擠出機 擠出為薄片狀,於冷卻輥上將該熔融物予以冷卻並使之固 化,從而獲得各層。又,關於作為該等積層體之光反射體❹ 之製造方法’可列舉如下方法’ ,使用多字模或工字 模將熔融原料予以共擠出,對所獲得之積層體進行延伸成 形而加以製造光反射體。又,於對上述基材層進行雙轴延 . 伸之情形時,亦可於積層之後進行雙軸延伸,但亦可列舉 下方法,即,當基材層之單轴方向之延伸結束之後將 光澤調整層之炼融原料予以播出並貼合,進而對該積層體 進行單軸延伸成形而進行製造。由於上述光澤調整層係經 延伸而形成,故而上述較佳粒徑之填料可表露於光反射體© 表面且可於光反射體表面形成用以滿足本發明之光反射 體之特1±的表面凹凸(或突起)^如此,藉由延伸而於光反 射體上形成突起,藉此,與直接將玻璃珠粒塗佈於反射面 之情形相比,生產性得以提高,又,可於基材表面均勻地 - 形成表面凹凸,故而較佳。 - _述令間層之形成方法與上述光澤調整層之形成方法相 同進而,除了上述光澤調整層之形成方法以外,還可列 145544.doc •24- 201033648 舉於經延伸成形而獲得上述基材層之後,將中間層之原料 樹脂直接或經由易接著層而N擠出,將其貼合於上述基 材層而形成之方法等。 土 為調整積層體中所產生之孔隙之大小,基材層之面積延 伸倍率較好的是13〜8G倍之,更好的是7〜70倍之範 f特別好的疋設為22倍〜65倍,最好的是設為Μ〜6〇倍。 若面積延伸倍率處於L3,倍之範圍内,則易於獲得微細
之孔隙,且亦易於抑制反射率之降低。再者,本說明書 中’所謂面積延伸倍率係指縱向延伸倍率^向延伸 所表示之倍率。 尤年調登層之較佳 明〜丨,0卞丹工遇丞材層之較 面積延伸倍率相同。若面積延伸倍率處於1.3〜80倍之範 圍内’則易於形成由填料之表露所產生之突起。 將包含上述㈣調整層與上述基材層之積層體於積層兩 層之後進行延伸時之延伸溫度,較好的是設為高於上述敎 玻=:)Γ點’且低於上述熱塑性樹脂㈣之溶點及 玻璃轉移點中之至少一者的溫度。藉由設為上述條件,光 澤調整層形成以填料為核突 填料為核心之空隙。 “於基材層上形成以 度較好的是處於較所使用之熱塑性樹脂⑴之 献塑隨 35m度範圍内,且較所使用之 熱塑性樹脂(出)之炫:^
熔點低2〜6〇C,較破璃轉移點高2〜6(TC 之溫度。 具體而言 當所使用之熱塑性樹脂( 0為聚丙烯系亂排共 145544.doc -25- 201033648 聚物(熔點為130〜145。〇,且熱塑性樹脂(iii)為丙烯均聚物 (炫點為155〜167。〇時,上述延伸溫度較好的是125〜 165 C。再者’於使熱塑性樹脂熔融並將其擠出之情形 時’較好的是於冷卻、固化之後’再次加熱至上述延伸溫 度為止並進行延伸。又,上述延伸步驟中之延伸速度較好 的是20〜350 m/分鐘。 根據需要而對所獲得之樹脂延伸薄膜進行熱處理(退火 處理),亦可實現結晶化之促進、及積層薄膜之熱收縮率 之降低等。又,可根據需要而切開所獲得之積層體之邊緣 部,並將其作為光反射體。 (7)光反射體之性狀 <孔隙率> 於包含上述光澤調整層與上述基材層之本發明之光反射 體中’各個層係具有不同之孔隙率者,較好的是上述光澤 調整層中之孔隙率為0〜4〇/〇,且上述基材層中之孔隙率為 15〜75%,更好的是上述光澤調整層中之孔隙率為〇〜2%, 且上述基材層中之孔隙率為3〇〜60%。 關於本發明之光反射體之各層之孔隙率,一面以不壓碎 上述光反射體之孔隙之方式進行冷卻一面進行切割,製作 厚度方向剖面(觀察面)’將其貼附於觀察試料台,於該觀 察面上蒸鍍金之後,使用掃描型電子顯微鏡(裝置名「掃 描電子顯微鏡:SM-200」、TOPCON公司(股)製作),以易 於觀察之任意倍率(500倍〜3000倍)觀察各層之孔隙。進而 取入所觀察之區域作為圖像資料,利用圖像解析裝置(骏 145544.doc • 26 - 201033648 置名「小型通用圖像解析裝置:LuzexAP」、nirec〇(股)製 作)而對該圖像進行圖像處理,求出孔隙之面積率,並將 其設為孔隙率。 B <密度> . 為調整光反射體中產生之孔隙之每單位體積之量,本發 明之光反射體之密度較好的是〇.Li 2 g/cm3,更好的是 0.4〜1.0 g/cm3。若密度為〇·3 g/cm3以上,則基材之孔隙數 φ 不會過多,基材強度充分,於施工時不易產生折斷或皺 褶。若密度為1.2 g/cm3以下,基材之孔隙數充分,且反射 率變高,故而較佳。再者,此處所謂之基材除了包含上述 基材層以外’還可包含光澤調整層、中間層。 ' 〈色差ΔΕη> • 關於本發明之光反射體,於83t:、相對濕度50%之環境 條件下’自設置於相距1〇 cm之位置之金屬齒化物燈照射 1〇〇小時之照射強度為90 mW/cm2之紫外線前後之以上述式 φ (2)所表示的色差δεη為〇〜1〇,更好的是〇〜5,進而好的是 〇〜3 ’特別好的是〇〜。當^以為1〇以下時,於長時間使用 中,不會產生反射體之變色,且可抑制亮度降低及亮斑之 產生。 該特長主要可藉由使用聚烯烴系樹脂作為構成光反射體 . 之熱塑性樹脂、及調配螢光增白劑、光穩定劑作為添加劑 而達成。 <反射率> 於本發明之光反射體之光澤調整層表面,以波長55〇 nm 145544.doc •27- 201033648 所測定之波長之反射率較好的是90%以上。上述反射率更 好的是95%以上,特別好的是97%以上。若反射率為9〇% 以上’則當組裝至面光源裝置時,相對於本發明中受到控 制之特定之入射光之反射光的亮度變高,易於改善亮斑。 該特長可藉由基材層於内部包含多個孔隙,且具有上述 孔隙率而達成。 (8)光反射體之利用 本發明之光反射體可利用於内置式光源之液晶顯示裝 置、或意圖不使用内置式光源而使室内光反射之低耗電型 之顯示裝置。又’亦可廣泛地利用於室内外照明用、及電 飾看板用光源之背面。 [滿足 <條件2>之光反射體] (1) 光反射體之構成之特徵 滿足<條件2>之光反射體之特徵在於:其係於基材層上 設置有含有填料之塗佈層之塗佈薄膜,由於在該塗佈層表 面形成以填料為核心之突起,故而該塗佈層表面之平均斜 率Aa為〇.〇4〜0.2,上述式(1)所算出之光澤度比為2〜25,且 反射率為90%以上。 以下’ 一面參照滿足 <條件2>之光反射體之較佳態樣, 一面進行具體說明。 (2) 基材層 基材層係成為用以設置塗佈層之支撐體者,其使入射光 效率良好地反射至入射面側而實現光反射體之反射率。 因此’若基材層係可用作塗佈支撐體且可實現光反射體 145544.doc -28- 201033648 之反射率為9〇%以上者,則並無特別限定,但較好的是包 含熱塑性樹脂及填料’且至少於單轴方向經延伸之樹脂= 伸薄膜。該等可與 < 條件卜中所述之基材層相同。 <熱塑性樹脂> ' i述基材層中所使用之熱塑性樹脂之種類並無特別限 制。作為可使用於上述基材層之熱塑性樹脂,可列舉例示 為上述熱塑性樹脂(iii)者。 • 熱塑性樹脂較好的是以25〜95重量%使用於基材層更 好的疋以30〜90重量%加以使帛。若基材層中之熱塑性樹 脂之含有量為25重量%以上,則有於下述積層薄膜之延伸 成形時不易於表面產生損傷之傾向,若為%重量%以下, 财獲得充分之孔隙數且易於獲得高光澤之傾向。 - <填料> ❿ 較好的疋於上述基材層中使用熱塑性樹脂及填料。作為 上述基材層中所使用之填料,可列舉各種無機填料及有機 真料作為無機填料、表面處理劑、及有機填料,可列舉 例示為上述料⑼者。就較佳地於下述基材層中形成孔 :、 而口較好的疋使用熔點或玻璃轉移溫度高於較 佳用作上述熱塑性樹脂之聚稀烴系樹脂,且相對於聚稀煙 系樹脂為非相溶性之有機填料作為有機填料。 ;上述基材層中’可自無機填料或有機填料中選擇一種 並將其單獨使用’亦可選擇兩種以上而組合地使用。於組 合地使用兩種以上之愔拟眭 月形時,亦可混合地使用有機填料與 無機填料。 145544.doc -29- 201033648 於下述之基材層之製造方法中’為調整藉由延伸成形而 產生之孔隙尺寸’上述基材層中所添加之上述無機填料之 平均粒徑較好的是0.054.5 μιη之範圍,更好的是〇1〜1从瓜 之範圍,上述有機填料之平均分散粒徑較好的是〇〇5〜ΐ 8 μΓΠ之範圍β ’更好的是0.Η.5哗之範圍。若使用平均粒 徑為1.5 μηι以下之無機填料或平均分散粒徑為丨8 以下 之有機填料,則有使用本發明之光反射體之面光源裝置之 亮度變高的傾向。X ’若使用平均粒徑或平均分散粒徑為 0.05 μιη以上之填料,則有易於獲得孔隙且使用有本發明 〇 之光反射體之面光源裝置之亮度變高的傾向。 於下述基材層之製造方法中,為調整藉由延伸成形而產 生之孔隙量’上述基材層中所添加之上述填料之調配量較 好的是5〜75重量%之範圍,更好的是1〇〜7〇重量%之範圍。
若上述基材層中所添加之上述填料之調配量為5重量%以 . 上,則有易於獲得充分之孔隙數之傾向。又,若上述基材 層中所添加之上述填料之調配量為75重量%以下則有更 不易於表面產生損傷之傾向。 G <基材層之製造方法> 於基材層係包含熱塑性樹脂與填料,且至少於單轴方向 上經延伸之樹脂延伸薄膜之情形時,可使用擠出機對上述 層用之樹餘成物進行㈣捏合,將、熔融物自褂出機擠出 為薄片狀,於冷卻輥上冷卻該熔融物並使其固化而獲得樹· 月曰片材之後,對其實施眾所周知之延伸步驟,從而獲得基 材層。製造基材層之方法較好的是包含至少於單轴方向上 145544.doc •30· 201033648 之延伸步驟,更好的是包含進行縱向延伸以及橫向延伸之 雙軸延伸。
於上述延伸步驟中,可使用通常之單軸延伸方法或雙轴 延伸方法。作為具體例,可列舉如下方法,即,使用連接 於螺旋型擠出機之單層或多層之τ字模或工字模而將熔融樹 脂擠出為薄片狀之後’藉由利用棍群之周速差之縱向延伸 而進行單軸延伸;進而可列舉於單軸延伸之後,組合使用 拉幅爐之橫向延伸之雙軸延伸方法、或藉由組合拉幅爐與 線性馬達而同時進行延伸之雙軸延伸方法等。 又’上述基材層不僅可為單層構造,亦可為具有兩層以 上之層之多層構造。 、作為該等積層體之基材層之製造方法,可列舉如下方 法’即,使用多層τ字模或碎模而對各溶融原料進行共擠 =,對所獲得之積層體進行延伸成形而製造基材層。又, 當上述基材層為雙軸延伸時,亦可於積層所有層之後進行 雙轴延伸,但亦可列舉如下方法,即,當任意層之單軸方 向之延伸(例如縱向延伸)結束之後,將其他層之炼融原料 擠出並貼合而作為積㈣,進而將其於不同之軸方向上延 伸(例如橫向延伸),從而製造僅對任意之層進行雙抽延伸 之基材層。 為調整基材層中所產生之孔隙之大小,基材層之面⑽ 伸倍率較好的U3〜8〇倍之範圍,更好的是7〜7g倍之範 圍,特別好的是設為22倍〜65倍,最好的是設為25〜6〇倍。 相積延伸倍率處於1>3〜8G倍之範圍内,㈣於獲得微細 145544.d« 201033648 之孔隙,且亦易於抑制反射率之降低。再者,於本說明書 中,所4面積延伸倍率係縱向延伸倍率X橫向延伸倍率所 表示之倍率。 對上述基材層進行延伸時之延伸溫度較好的是設為低於 上述熱塑性樹脂之熔點及玻璃轉移點中之至少一者的溫 度。藉由設為上述溫度條件,於基材層形成以填料為核心 之空隙。 上述延伸溫度較好的是較所使用之熱塑性樹脂之熔點低 2〜60°C且較玻璃轉移點高2〜6〇<t之溫度。 具體而言,當所使用之熱塑性樹脂為丙烯均聚物(熔點 為155〜167°C)時,上述延伸溫度較好的是95〜165(>c,當所 使用之熱塑性樹脂為聚對苯二甲酸乙二酯(玻璃轉移點: 約為70°C)時,上述延伸溫度較好的是1〇〇〜13〇它。再者, 於對熱塑性樹脂進行熔融擠出之情形時,較好的是於冷卻 並固化之後,再次加熱至上述延伸溫度為止並進行延伸。 又’上述延伸步驟中之延伸速度較好的是2〇〜35〇 m/分 鐘。 根據需要而對所獲得之樹脂延伸薄膜進行熱處理(退火 處理),亦可實現結晶化之促進、及積層薄膜之熱收縮率 之降低等。又,可根據需要而切開所獲得之積層體之邊緣 部,並將其作為基材層。 (3 )塗佈層 塗佈層係藉由塗佈而設置於基材層上者,其調整入射光 之光澤度而防止光反射體之亮線。 145544.doc -32· 201033648 該塗佈層含有填料,較好的是含有填料以及黏合劑樹 脂。該塗佈層之特徵在於:藉由在該塗佈層表面上形成以 帛料為核心之突起,使該塗佈層表面之平均斜率^為 〇.〇4 0.2 ’以上述式⑴所算出之光澤度比為2,且反射 率為90%以上。 <填料> 作為上述塗佈層中所使用之填料,較好的是使用可滿足 • 了述較佳範圍之粒徑之無機填料或有機填料。作為無機填 料之具體例’更好的是使用二氧化石夕、氧化銘、氧化鎂、 氧化辞、及沈澱性碳酸鈣等,·作為有機填料之具體例,更 ㈣是使用丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、及胺基甲酸醋 系樹月曰等。其中,就表面突起之开;成性、以及因其引起之 . 平均斜率Μ之調整、光澤調整之容易度之觀點而言,特別 好的是使用沈澱性碳酸鈣或交聯丙烯酸珠粒。 又,上述塗佈層中所使用之填料之平均粒徑較好的是 鲁 4〜30 μιη,更好的是4〜2〇 μηι,進而好的是4〜ΐ5 μιη,特別 好的是4〜10 μίη。若上述填料之粒徑為4 μιη以上則以鈍 角入射至反射面之光之朝向正反射方向之指向性變低,可 適度地擴散,因此有易於抑制亮斑產生的傾向。若上述填 料之平均粒徑為30 μηχ以下,則有如下傾向即,不易由 . 因摩擦引起之填料之脫落等而導致表面缺陷等,且所獲得 之塗佈層、光反射體、及使用該光反射體之面光源裝置之 外觀亦易變得良好。 為於本發明之光反射體上形成理想之突起密度而調整平 145544.doc •33· 201033648 均斜率Aa,上述塗佈層中之上述填料之調配量於乾燥之 後,較好的是2〜40重量❶Λ之範圍’更好的是3〜3〇重量%之 範圍,特別好的是4〜14重量%之範圍。當調配量為2重量% 以上時’可適度地形成突起而不會使光澤變得過高,可降 低以鈍角入射至反射面之光之指向性,從而有易於抑制亮 斑產生之傾向。當調配量為40重量%以下時,亦可適度地 確保平坦面,因此,以銳角入射至反射面之光之指向性變 同,有易於抑制亮斑產生之傾向。又,就亦可充分地維持 表面強度之觀點而言亦較佳。 <黏合劑樹脂> 作為上述塗佈層中,與上述填料一併塗佈於基材層上而 固定填料之黏合劑樹脂,可列舉包含丙烯酸系樹脂、胺基 甲酸酯系樹脂、醚系樹脂、酯系樹脂、環氧系樹脂、橡膠 系樹月曰 碎氧系樹脂、ABS(Arcylonitrile-butadiene- styrene,丙烯腈_丁二烯_苯乙烯)系樹脂等之樹脂成分。使 用先前眾所周知之溶劑而將該等樹脂於該溶劑之相中溶 解、分散、乳濁分解、稀釋,形成具有流動性且可塗佈之 溶液型或乳液型之形態之塗佈劑,藉此可塗佈於基材層 上。 <其他成分> 亦可根據需要而於塗佈劑中調配螢光增白劑、抗氧化 劑、及光穩定劑等之添加劑。作為上述螢光增白劑,可調 配苯并嚼唾系或香豆素系、苯乙烯聯苯系、°比唑啉酮系; 作為上述抗氧化劑,可調配位阻苯酚系或磷系、胺系等·, 145544.doc 201033648 作為上述光穩定劑,可調配位阻胺或苯并三唑系、二苯甲 酮系等。 <塗佈層之製造方法> 製造塗佈層之方法’使用模塗佈機、棒塗佈機、簾幕式 塗佈機、凹版印刷塗佈機、噴塗機、刮刀塗佈機、反向塗 佈機、氣刀塗佈機、浸塗機、擠壓式塗佈機、斜板式漏斗 塗佈機等之設備,將含有塗佈層成分之塗佈劑塗佈於基材 層之單面或兩面,其後根據需要而進行平滑化,經由乾燥 步驟或硬化步驟而使黏合劑樹脂乾燥並固化,從而使其成 膜。 1«!上迷較佳粒徑之填料可 經塗佈而形成上述塗佈層 突出至光反射體表面,且可於光反射體表面上形成用以滿 足本發明之光反射體之特性的表面凹凸(或突起)。 上述塗佈層之基重於乾燥之後,較好的是2〜2〇 “^之 範圍,更好的是2〜15 g/m2之範圍,進而好的是2〜6 g/m2之 範圍。若上述基重為2 g/m2以上,則上述塗佈層中所調配 之填料亦足夠大’且易於抑制亮斑之產生。當上述基重為 20 g/心下時’上述塗佈層中所調配之填料不會掩埋於黏 合劑樹脂’易形成表面凹凸(突起),可降低以純角入射至 反射面之光之指向性,且可抑制亮斑之產生。上述塗佈層 土係根據上述塗佈設備之塗佈量而調整,且根據按照 ,8124所測疋之光反射體及基材層之基重之差而求出。 <平均斜率Aa> ㈣平均斜率^為〇·(Μ〜0.2。該值較好的是 145544.doc -35- 201033648 〇.04〜〇.15,更好的是G‘G441。若該值處於G.G4〜0.2之範 圍内,則可獲得請求項中所規定之45。光澤度、及光澤度 比,從而於組裝至面光源裝置時易於改善亮斑。 由於作為最外層之塗佈層含有填料,且該填料形成突 起,故而可達成此種特定之表面形狀。可藉由調整形成塗 佈層時所使用之塗佈液中所含之填料的種類及調配量、塗 佈層之基重等而控制平均斜率。 (4)光反射體之性狀與利用 關於滿足<條件2>之光反射體之光澤度、光澤度比、反 射率、及利用,可參照滿足〈條件卜之光反射體之對應的 »己載β再者,滿足<條件2>之光反射體之85。光澤度較好的 是1〜40% ’更好的是,進而好的是,特別好 的是1〜8 %。 [面光源裝置] 本發明之面光源裝置之特徵在於:使用本發明之光反射 體。本發明之面光源裝置可較佳地用作側光方式、直下型 照明方式等之面光源裝置。#中對於直下型照明方式之面 光源裝置極為有用。作為本發明之面光源裝置,例如可列 舉液晶電視等之液晶顯示裝置。 本發月之:t下型照明方式之液晶顯示裝置(液晶電視等) 例如具有如圖2所示之構成,且可使自所有方向入射至光 反射體之光效率良好地朝與光反射體成直角之方向反射。 因此’亮度高且無亮斑,可使觀看液晶顯示裝置之人有自 然之感覺。 145544.doc 201033648 [實施例] 以下揭示實施例、比較例以及試驗例,更具體地對本發 明進行說明。以下所示之材料、使用量、比例、操作等只 ' 要不脫離本發明之主旨,則可適當地變更。因此,本發明 - 之範圍並不限制於以下所示之具體例。 [使用材料] 首先’於表1中表示本實施例以及比較例中所使用之材 料。表1中’關於填料(a)、填料(f)以及填料(i),使用掃描 9 型電子顯微鏡以3000倍之倍率實施觀察,將各填料粒子 100點之粒徑(長徑)之平均設為平均粒徑或平均分散粒徑。 又,關於填料(b)以及填料(e),使用日機裝(股)公司製作之 ' 微跡HRA作為粒度分析計而進行粒度分布之測定,將相對 • 於填料總重量為重量50%之粒徑設為平均粒徑。再者,關 於填料(c)、填料(d)、填料(g)、填料(h)以及Ti〇2,分別使 用平均粒徑已調整之填料,並參照目錄資料。 ❹ 表1 種類 内容 PP1 丙烯均聚物(Japan Polypropylene(股)製作、novatecPPFY6C、 細11(230°(:、2.16]^荷重):2.4§/10分鐘、 熔點(DSC峰值溫度):167°〇 PP2 丙稀亂排共聚物(Japan Polypropylene(股)製作、novatecPPFW4BT、 ^^11(230°(:、2.161^荷重):4§/10分鐘、 熔點(DSC峰值溫度):142°〇 HDPE 高密度聚乙浠(Japanpolyethylene(股)製作、novatec HD HJ360、 :\^11(190°(:、2.16让经荷重):5.5岁10分鐘、 熔點(DSC峰值溫度):134°C) 填料(a) 表面處理沈澱性碳酸妈(Maruo Calcium(股)製作、calfine YM30、 平均粒徑:0.3 μιη) 填料(b) 重質碳酸妈(Maruo Calcium(股)製作、Caltex7、 平均粒徑:1 μπι) 145544.doc -37- 201033648 填料(C) 交聯丙婦酸珠粒(综研化學(股)製作、ChemisnoMX500、 平均粒徑:5 pm) 填料(d) 交聯丙烯酸珠粒(綜研化學(股)製作、ChemisnoMX300、 平均粒徑:3 μιη) 填料⑻ 沈澱性碳酸約(Maruo Calcium(股)製作、CUBE50KAS、 平均粒徑:5 μη〇 填料① 環狀聚烯烴共聚物(三井化學(股)製作、APL6015、 平均粒徑:1 μπ〇 填料(g) 交聯丙烯酸珠粒(綜研化學(股)製作、ChemisnoMX1500、 平均粒徑:15 μιη) 填料(h) 交聯丙烯酸珠粒(綜研化學(股)製作、ChemisnoMXIOOO、 平均粒徑:10 μιη) 填料(i) 聚峻酸酯樹脂(三菱Engineering-Plastics(股)製作、 IupilonS-2000、平均分散粒徑:1.5μιη) Ti〇2 二氧化鈦(石原產業(股)製作、TIPAQUECR-60、 平均粒徑:0.2 μιη) 黏合劑 胺基甲酸酯系樹脂乳液(Adeka(股)製作、Bontighter-HUX523、 固含有量為30%) [光反射體之製造] <實施例1、2以及8> 使用擠出機,對以表2所揭示之調配比率將表1所揭示之 材料加以混合而成之基材層用組成物(A),於250°C進行熔 融捏合。其後,將其擠出為薄片狀,利用冷卻輥而冷卻至 約60°C為止,藉此獲得基材層(A)。將該基材層(A)再次加 熱至145 °C之後,利用多數個輥群之周速差而於縱方向上 以表2所揭示之倍率進行延伸。 對以表2所揭示之調配比率將表1所揭示之材料加以混合 而成之光澤調整層用組成物(B)進行熔融捏合,將其熔融 擠出至所獲得之基材層(A)之單面上,以B/A之方式積層光 澤調整層(B)。繼而,將該積層物再次加熱至160°C,利用 拉幅機而於橫方向上以表2所揭示之倍率進行延伸。其 後,以160°C之溫度進行退火處理之後冷卻至60°C為止, 145544.doc •38- 201033648 刀開邊緣口p而獲得具有表2所揭示之厚度之雙層構造的積 層薄膜1該積層薄膜分別作為實施例1、2以及8之光反 射體。 ' <實施例3> • 分別使用不同之擠出機,對以表2所揭示之調配比率將 表1所揭不之材料加以混合而成之基材層用組成物與光 澤調整層用組成物(B),以25(rc之溫度進行熔融捏合。其 φ 後,將基材層用組成物(A)與光澤調整層用組成物供給 至σ共擠出模具,於該共擠出模具内,將光澤調整層用 組成物(Β)積層於基材層用組成物(Α)之表面之後,擠出為 薄片狀,並利用冷卻輥冷卻至約6〇乞為止,藉此獲得β/α ' 之積層物。 ' 將該積層物再次加熱至之後,利用多數個輥群之 周速差而於縱方向上進行延伸,再次加熱至約15〇它為 止,並利用拉幅機而於橫方向上進行延伸。繼而,將該積 • 層物再次加熱至16〇〇C,並利用拉幅機而於橫方向上進行 延伸。其後,以160°c之溫度進行退火處理之後冷卻至 6〇°C為止’切開邊緣部而獲得雙層構造的積層薄膜。將該 積層薄膜作為實施例3之光反射體。 〈實施例4〜6、9、比較例1、2、4〜6> • 使用擠出機,對以表2所揭示之調配比率將表1所揭示之 材料加以混合而成之基材層用組成物(A),以25〇°c之溫产 進行溶融捏合。其後,將基材層用組成物(A)擠出為薄片 狀’利用冷卻輥而將其冷卻至約60°C為止,藉此獲得基材 145544.doc -39- 201033648 層(A)。將該基材層(A)再次加熱至145。〇之後,利用多數個 輥群之周速差而於縱方向上以表2所揭示之倍率進行延 伸0 對以表2所揭示之調配比率將表i所揭示之材料加以混合 而成之光澤調整層用組成物(B)、中間層用組成物(C)進行 熔融捏合,並將該等熔融擠出至所獲得之基材層之兩 面以基材層(A)、光澤調整層(B)、中間層(〇成為 B/C/A/C之方式而進行積層。繼而,將該積層物再次加熱 至16CTC,利用拉幅機而於橫方向上以表2所記載之倍率進 仃延伸。其後,以16(rc之溫度進行退火處理之後冷卻至 6〇°C為止,切開邊緣部而獲得具有表2所揭示之厚度之四 層構造的積層薄膜。將該積層薄膜分別作為實施例4〜6、 9、比較例1、2、4〜6之光反射體。 <實施例7> 使用擠出機,對以表2所揭示之調配比率將表丨所揭示之 材料加以混合而成之基材層用組成物(A),以25〇t:之溫度 進行熔融捏合。其後,將其擠出為薄片狀,利用冷卻輥而 冷部至約60 C為止,藉此獲得基材層(A)。將該基材層(A) 再-人加熱至145 C之後,利用多個輥群之周速差而於縱方 向上以表2所揭不之倍率進行延伸。 對以表2所揭示之調配比將表丨所揭示之材料加以混合而 成之光澤調整層用組成物(B)、中間層用組成物(c)進行熔 融捏合,將該等熔融擠出至所獲得之基材層(A)之兩面, 以基材層(A)、光澤調整層(b)、中間層(c)成為B/A/c之方 145544.doc •40- 201033648 式而進仃積層。繼而,將該積層物再次加熱至16(TC,並 =用拉機而於橫方向上以表2所揭示之倍率進行延伸。 八後以160 c之溫度進行退火處理之後冷卻至60〇c為 A,切開邊緣部而獲得具有表2所揭示之厚度之三層構造 • 的積層薄臈。將該積層薄膜作為實施例7之光反射體。 <實施例1〇> 使用擠出機,對以表2所揭示之調配比率將表i所揭示之 φ 材料力、以此合而成之基材層用組成物(A),以260°C之溫度 進行炫融捏合。其後,將基材層用組成物(A)擠出為薄片 狀’利用冷卻輥而冷卻至約6(rc為止,藉此獲得基材層 ⑷。將該基材層⑷再次加熱至i5〇c>c之後,利用多個概群 . 之周速差而於縱方向上以表2所揭示之倍率進行延伸。 - 對以表2所揭示之調配比率將表1所揭示之材料加以混合 而,之光澤調整層用組成物⑻、中間層用組成物(c)進行 熔融捏合,將該等熔融擠出至所獲得之基材層(A)之兩 • 面乂基材層(八)、光澤調整層(8)、中間層(〇成為8/八/匚 之方式而進行積層。繼而,將該積層物再次加熱至 16〇°C,並利用拉幅機而於橫方向上以表2所揭示之倍率進 盯延伸。其後,以160°C之溫度進行退火處理之後冷卻至 60 C為止,切開邊緣部而獲得具有表2所揭示之厚度之三 層構造的積層薄膜。將該積層薄膜作為實施例10之光反射 體。 〈比較例3> 按照日本專利特開2〇〇6_195453號公報之實施例i,獲得 145544.doc -41 · 201033648 下述表2所揭示之構成之四層構造的積層薄膜。將該積層 薄膜作為比較例3之光反射體。 [測定以及試驗] 使用實施例1〜1 〇以及比較例1〜6之光反射體而進行以下 之測定與試驗。 <層厚度> 根據JIS-P-811 8而測定各實施例以及比較例之光反射體 之總厚度。另外,隨機地對各實施例以及比較例之光反射 體進行取樣’使用切片機而進行剖面切削,並使用掃描型 電子顯微鏡以3000倍之倍率觀察切削麵,從而算出層厚 度。當算出光澤調整層之厚度時,將觀察視野中之最厚之 部分設為層厚度。 <光反射體之密度> 以3 cm見方對各實施例以及比較例之光反射體進行取 樣’使用南精度電子比重計(Mirage貿易(股)製作:SD_ 200L),於23°C環境下利用水中置換法而測定密度。 <孔隙率> 一面以不壓碎各實施例以及比較例之光反射體之孔隙之 方式進行冷卻,一面進行切割,製作厚度方向剖面(觀察 面),將其貼附於觀察試料台,於該觀察面上蒸鍍金,並 使用掃描型電子顯微鏡(裝置名「掃描電子顯微鏡: 2〇〇」、T0PC0N公司(股)製作),以易於觀察之任意倍率 (500倍〜3000倍)而觀察各層之孔隙。進而,取入所觀察之 區域作為圖像資料,藉由圖像解析裝置(裝置名「小型通 145544.doc •42- 201033648 用圖像解析裝置:LuzexAP」、nireco公司(股)製作)而對該 圖像進行圖像處理,求出孔隙之面積率並將其設為孔隙 率。 • <平均斜率Aa> • 關於各實施例以及比較例之光反射體之光澤調整層側表 面之平均斜率Aa,使用三維粗糙度計((股)小阪研究所製 作:SPA-11),遍及5 mm之長度(L)而測定將上述光反射體 切割為3 cm見方所得之樣品之表面粗糙度,根據圖8所示 之凹凸部之間之高低差山、h2、h3...hn,並利用上述式(3) 藉由計算而求出。 <反射率> ' 關於各實施例以及比較例之光反射體之光澤調整層側表 - 面之反射率,使用搭載有直徑為150 mm之積分球之分光光 度計(日立製作所(股)製作:U-3310),按照JIS-Z8722條件 d所揭示之方法,測定波長為550 nm下之反射率。測定結 Φ 果表示將氧化鋁之反射率設為100%時之相對反射率。 <45°光澤度> 使用數位變角光澤度計(Suga Test Instruments(股)製 •作:UGV-5DP),按照JIS-Z-8741之方法4所揭示之方法, . 測定光澤調整層側表面之入射角為45°之光澤度。將該測 . 定值設為各實施例以及比較例之光反射體之45°光澤度。 <85°光澤度> 使用Handy85°光澤度計(DRLANGE製作:LMG063),測 定光澤調整層側表面之入射角為85°之光澤度。將該測定 145544.doc -43- 201033648 值設為各實施例以及比較例之光反射體之85。光澤度。 <光澤度比> 使用藉由測定而求出之上述45。光澤度、及Μ。光澤度之 值,根據上述式(1)藉由計算而求出光澤度比。 <色差δεη> 對各實施例以及比較例之光反射體進行取樣,於下述條 件之对候性促進試驗開始之前及結束之後,使用分光濃度 計(Χ-RUe公司製作:x_Rite5〇8)而實施色彩測定獲得亮 度指數L值以及色彩指數a值、1)值,並根據上述式p)藉由 計算而求出色差ΔΕΗ。 使用耐候性促進試驗機(DAIPLA WINTES(股):咖… weather) ’於83°C、相對濕度5〇%之環境條件下,自設置 於相距10 cm之位置之金屬鹵化物燈照射1〇〇小時之照射強 度為90 mW/cm2之紫外線,藉此進行耐候性試驗。 <亮斑> 將各實施例以及比較例之光反射體安裝至圖2所示之類 型之直下式者光型面光源裝置。該裝置中設置有3個冷陰 極燈13,且冷陰極燈之間的距離d為3〇mm,自光反射體u 至冷陰極燈13之中心部為止之距離為2 mm,自光反射體j工 至擴散板12之底面為止之距離為2i mm,直下式背光整體 之幅寬為100 mm。 藉由目視而確認使該直下式背光點燈時所產生之亮斑, 並根據以下之基準而進行評價。 ◎:未確認亮斑,良好。 145544.doc • 44- 201033648 〇:確認有亮斑但實用上無問題。 △:痛認有亮斑且實用上有問題。 X:亮斑嚴重且並非實用水準。 [測定以及試驗結果] .· 纟3中表示該等之各試驗結果。再者,於表2中之填料之 一棚中’數字表示各層所含之填料之含有量(重量。/。),符 號表示各層所含之填料於上述表1中的種類。
145544.doc -45- ο 2 303 (N< 价 V0 MD*CD 38.3 38.3 45.6 38.3 28.5 38.3 32.3 38.3 38.3 32.0 38.3 38.3 1 38.3 38.3 38.3 38.3 延伸倍率 橫CD 00 w-j 00 On 00 od 00 οό 00 ο οό yn οό οό οό 〇〇 od od 縱MD 寸’ — 00 寸’ — 00 — 00 — — ο — «ο 寸 寸· — — — 層構成 B/A B/A ; B/A B/C/A/C B/C/A/C B/C/A/C B/A/C B/A B/C/A/C B/C/A B/C/A/C B/C/A/C 'B/C/A/C B/C/A/C B/C/A/C B/C/A/C 各層之厚度 ㈣ 5/200 5/200 3/200 8/10/200/15 5/13/200/15 5/13/200/15 15/118/15 5/200 15/13/200/15 5/20/200 3/13/200/15 ;3/13/200/15 1_ '3/10/200/13 25/13/200/15 5/13/200/15 8/10/200/15 中間層(C)組成(重量%) Ti02 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 填料 1 1 1 1 1 1 40(b) 1 1 1 1 1 59⑻ I 1 1 PP2 1 1 1 〇 ON 〇\ 〇 § 1 Ο Ο Ο Ο Ο Ο ψ^* 〇 1-H 〇 光澤調整層田)(重量%) Ti02 1-^ 1—« 1 1 1 1—Η 填料 20(c) 40(c) 20(d) 00 55(e) 20⑹ 20(c) 20(c) 10(g) 25(e) 1 62(d) 1 59(a) 20(c) 20(b) m PP2 os Os 5 On g Os 00 νΊ Ο P; Ο Ον Os Ό as 基材層(Α)組成(重量%) Ti02 yr) W-> o ο v-> <Τ) •Τ} ν-> KD 填料 40(a) 40(a) 40(a) 40(a) 40⑻ 40(a) 55(b) 20(f) 40⑻ 35⑴ 40(a) 40(a) 40(a) 40(a) 40(a) 40(a) HDPE 寸 寸 寸 寸 寸 寸 寸 寸 寸 寸 PP1 |〇 in in Ό \〇 VC •η »〇 ΙΟ in 實施例1 實施例2 J 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實施例9 實施例10 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6 145544.doc •46- 201033648 表3
參 如表3之結果所示,已知本發明之光反射體均無亮斑且 良好,進而色差ΔΕΗ亦較小《另一方面,已知於光澤度比 低於本發明之範圍之比較例1〜6中,亮斑改善並不充分, 特別於45。光澤度高於本發明之上限值之比較例1、及45。光 澤度低於本發明之下限值之比較例2及3中,亮斑嚴重且未 達到實用水準。 [亮斑之實測] 將實施例1之光反射體安裝至用以測定上述亮斑之直下 式背光型面光源裝置。使用CCD(Charge Coupled Device, 電荷耦合元件)亮度計(HIGHLAND公司製作:RISA-COLOR-ONE),於三根冷陰極燈之橫斷方向上測定使該直 下式背光點燈時所產生之亮斑。圖6中表示其結果。 另一方面,除了使用比較例1之光反射體代替實施例1之 145544.doc -47- 201033648 光反射體以外,以相同之方式,同樣地測定使調整後之直 下式背光點燈時所產生之亮斑。圖7中表示其結果。 如圖6以及圖7所示,當使用本發明之光反射體時,實測 出即便係冷陰極燈使用根數少之面光源裝置,亦抑制了亮 線之產生,從而抑制了亮斑之產生。 根據以上說明,已知本發明之光反射體係即便組裝至冷 陰極燈使用根數少且燈之間的距離大之面光源裝置時,2 斑之產生較少且紫外線照射引起之黃變少者。因此,使用 有本發明之光反射體之面光源裝置之亮斑少,可長期使 〇 用。 [基材層之製造] 〈製造例11及12> 使用擠出機,對以表4所揭示之調配比率將表丨所揭示之 材料加以混合而成之組成物(a),以25〇它進行熔融捏合。. 其後,將熔融物擠出為薄片狀,並利用冷卻輥而冷卻至約 60°C為止,從而獲得無延伸片材。將該無延伸片材再次加 熱至145°C之後,利用多個輥群之周速差而於縱方向上以Θ 表4所揭示之倍率進行延伸。 繼而,將以表4所揭示之調配比率將表丨所揭示之材料加 以混合而成之組成物(b)熔融擠出至所獲得之無延伸片材之 兩面,以成為(b)/(a)/(b)之方式而進行積層。繼而,將該 積層物再次加熱至16(TC並利用拉幅機而於橫方向上以表1 所揭不之倍率進行延伸。其後,以16〇t之溫度進行退火. 處理之後冷卻至60°c為止,切開邊緣部而獲得具有表4所 145544.doc •48- 201033648 揭不之厚度之 材層(A)。 三層構造的積層薄膜β 將該積層薄膜作為基 又’於表4中之填料 料之含有量(重量°/〇), 種類。 之—攔中,數字表示各層所含之填 予母表示各層所含之填料於表1中的 <製造例13> 使用擠出機,對以裊4 .表4所揭不之調配比率將表1所揭示之 # = u混合而成之组成物⑷,以26代進行炼融捏合。 熔融物掎出為薄片狀,並利用冷卻輥而冷卻至約 轨從㈣得無延伸片材。將該無延伸片材再次加 、,、至15GC之後’利用多個輥群之周速差而於縱方向上以 表4所揭示之倍率進行延伸。 • 冑而’將以表4所揭示之調配比率將幻所揭示之材料加 以混合而成之組成物晴融擠出至所獲得之延伸片材之單 面,以成為⑻/⑷之方式而進行積層。然後,將該積層物 ❹再次加熱至16 01並利用拉幅機而於橫方向上以表4所揭示 之倍率進行延伸。其後,以16代之溫度進行退火處理^ 後冷卻至60。〇為止,切開邊緣部而獲得具有表續揭示之 厚度之雙層構造的積層薄膜。將該積層薄膜作為基材声 (A)。 又,於表4中之填料之一欄中,數字表示各層所含之填 料之含有量(重量%),字母表示各層所含之填料於表丨中的 種類。 〈白色 PET(Polyethylene terephthalate,聚對苯二甲酸乙 145544.doc • 49- 201033648 酯)> 準備市售之白色?£丁薄膜(1^11111卜11(^£601^、1'〇以丫(股)製 作)作為其他基材層(A)。 145544.doc -50· 201033648
反射率(%) 99.0 99.0 v〇 vd ON 基材密度 (g/cm3) 〇 rj o 0.60 墙 Q 举? 赛9 00 m m od o (N 延伸倍率 橫CD od od 00 縱MD yn — — 寸 各層之厚度 (μιη) 20/190/20 20/190/20 20/200 層構成 b/a/b b/a/b ce Λ 組成物〇3)(重量%) P 1 > 填料 34(b) 1 1 CS CU vo o o 組成物(a)(重量%) P in »〇 填料 40(a) 40(a) 35(i) HDPE 寸 寸 寸 製造例11 製造例12 製造例13 145544.doc -51- 201033648 [光反射體之製造] <實施例11〜16以及比較例11、13〜15> 於表5所揭示之基材層(A)之單面上,塗佈具有表5之調 配組成之塗佈劑並使其乾燥,藉此形成具有表5之基重之 塗佈層(B)’從而製造具有(B)/(A)之積層構造之光反射 體。於表5中之塗佈劑之填料之一欄中,數字表示塗佈劑 所含之填料之含有量(重量份),字母表示各塗佈劑所含之 填料於表1中的種類。 <實施例17> 於表5所揭示之基材層(A)之組成物(a)面上,塗佈具有表 5之調配組成之塗佈劑並使其乾燥,藉此獲得具有表$之基 重之塗佈層(B),從而製造具有(b)/(A)之積層構造之光反 射體。於表5中之塗佈劑之填料之一欄中,數字表示塗佈 劑所含之填料之含有量(重量份),字母表示各塗佈劑所含 之填料於表1中的種類。 <比較例12> 將製造例11所揭示之基材層(A)直接作為光反射體。 [測定以及試驗] 使用實施例11〜17以及比較例11〜15之光反射體,藉由與 上述相同之方法,針對反射率、平均斜率△&、45。光澤 度、85。光澤度、及光澤度比而進行以下之測定與試檢。 按照以下說明而對亮斑進行評價。 <亮斑> 將各實施例以及比較例之光反射體安裝至圖2所示之對 145544.doc -52· 201033648 應的直下式背光型面光源裝置。該裝置係32忖之直下式背 光’其中’冷陰極燈之間的距離d為30 mm,自光反射體U 至冷陰極燈13之中心部為止之距離為5 mm,自光反射體11 至擴散板12之底面為止之距離為25 mm,且搭載有12根冷 陰極燈13。藉由目視而確認使該直下式背光點燈時所產生 之亮斑,並根據以下之基準而進行評價。 ◎:未確認亮斑,良好。 φ 〇:確認有亮斑但實用上無問題。 △:確認有亮斑且實用上有問題。 x:亮斑嚴重且並非實用水準。 [測定以及試驗結果] . 纟5中歸納地表㈣等之各試驗結果。 145544.doc •53· 201033648 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ I oss$ 一 (%¾ (%)妨 軚采-寸 东^^- (%)
S 卜.9 ·- σ寸 L'9 Γ9 9 8Ό ·0 2 2 寸·ι 9 0寸
SO 0.96 0- - 09 se 卜0Ό Γ66 卜- 0寸 -
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I 10Ό 1 0·66 0·66 0.66 卜 6 Γ66 0*66 Γ66 1.66 Γ66 •s ο.οι 0-
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OS (β^^^ ?s 01 0寸 °ε 01 οε - οι S寸 09 (¾)
Z ($制) $ sol $0寸 0)03 30- (βοΜ 3" (ρ)οι 05-寸 (βι (##¥) οοε i β οοε β °s οοε °8l oei 骤«(V)本_ 13¾^ uf香贺鉍 -苳啭鉍 si ς< 145544.doc £1革碧私 -f4 鎵d 寸一苍鸾- -54- 201033648 如表5之結果所示’已知本發明之光反射體均無亮斑且 良好。另一方面,平均斜率Aa低於本發明之下限值之比較 例11、未塗佈有塗佈層(B)之比較例12、45。光澤度低於本 發明之下限值之比較例13、平均斜率Aa低於本發明之下限 值之比較例14、以及45。光澤度高於本發明之上限值之比 較例15之亮斑均嚴重。 根據以上說明,已知本發明之光反射體係即便組裝至冷 陰極燈使用根數少且燈之間的距離大之面光源裝置時,亮 斑之產生亦較少者。 【圖式簡單說明】 圖1(a)、(b)係本發明之光反射體之構成之概略圖; 圖2係直下式背光之構成之剖面之概略圖; 圖3係側光式背光之構成之剖面之概略圖; 圖4係表示直下式背光之冷陰極燈間之亮斑的模式圖; 圖5係表示於使用本發明之光反射體之直下式背光中, 消除冷陰極燈間之亮斑之方法的模式圖; 圖6係自擴散板方向觀察使用本發明之實施例1之光反射 體之直下式背光時的亮斑之概略圖; 圖7係自擴散板方向觀察使用比較例1之光反射體之直下 式背光時的亮斑之概略圖;及 圖8係表面粗糙度之測定例。 【主要元件符號說明】 1 光澤調整層(B) 2 基材層(A) 145544.doc -55- 201033648 3 中間層(C) 11 光反射體 12 擴散板 13 冷陰極燈 14 擴散板上產生之亮線部 15 擴散板上產生之暗部 16 30度反射光 17 40度反射光 18 50度反射光 19 60度反射光 20 70度反射光 d 冷陰極燈間之距離 h 鄰接之凹凸部間之高低差 L 測定長度 145544.doc -56-
Claims (1)
- 201033648 七、申請專利範圍: 1· 一種光反射體,其係於基材層上設置有光澤調整層作為 最外層者,上述光澤調整層表面之45。光澤度為 10〜80%,以下述式(1)所表示之光澤度比為2〜25 , [數1] 光澤調整層表面之45。光澤廑 光澤度比 .式⑴ 光澤調整層表面之85。光澤度 且滿足下述〈條件1>或下述〈條件2> :<條件1>上述光澤調整層包含熱塑性樹脂⑴與平均粒徑 為2〜20 μιη之填料(ii),壁厚為2〜20 μιη,至少進行單軸 延伸,且上述光澤調整層中之上述填料(ii)之含有量為 5〜60重量% ; <條件2>上述光澤調整層係含有填料之塗佈層,且上述 光澤調整層之表面之平均斜率為〇 〇4〜〇·2,反射率為 90%以上。 2.如請求項1之光反射體,其中滿足上述<條件1>q ® 3.如請求項2之光反射體,其中上述光澤調整層之表面之 平均斜率Aa為0.02〜0.2。 4.如請求項2之光反射體,其中上述光澤調整層係以高於 上述熱塑性樹脂⑴之熔點之溫度而進行延伸。 • 5·如請求項2至4中任一項之光反射體,其中上述熱塑性樹 脂⑴主要包含熔點未達160。(:之聚烯烴系樹脂。 6.如請求項2至4中任一項之光反射體,其中上述光澤調整 層含1 0 40重量。/。之平均粒控為2〜2〇 之填料⑴)。 145544.doc 201033648 7. 如清求項2之光反射體,装— ^ 瓶再由包括基材層與上述光澤調 整層之積層體所形成,上人mi 足基材層包含熱塑性樹脂(丨Η) 及填料(iv),且至少進行單軸延伸。 8. 如吻求項7之光反射體,其中上述熱塑性樹脂(1丨丨)主要包 含熔點及玻璃轉移點中之至少一者為16〇。〇以上之聚烯烴 系樹脂。 9. 如請求項7之光反射體,其中作為上述基材層中之上述 填料(iv),包含5〜75重量%之平均粒徑為ooki 5 ^^之 無機填料及平均分散粒徑為0.05Μ 8 μπΐ2有機填料中之 至少一者。 10. 如請求項7之光反射體,其中上述基材層之反射率為9〇% 以上。 11. 如請求項7至10中任一項之光反射體,其中包括上述光 澤調整層與上述基材層之積層體於積層兩層之後,以高 於上述熱塑性樹脂⑴之熔點、且低於上述熱塑性樹脂 (iii)之熔點及玻璃轉移點中之至少一者之溫度而進行延 伸0 12. 如請求項7至1〇中任一項之光反射體,其中上述光澤調 整層之孔隙率為〇〜4%,且上述基材層之孔隙率為 15〜75%〇 13. 如請求項2至4中任一項之光反射體,其中密度為o.lj 2 g/cm3 ° 14. 如請求項2至4中任一項之光反射體,其中於83 °C、相對 濕度50%之環境條件下,自設置於相距1 〇 cm之位置的金 145544.doc -2 - 201033648 屬鹵化物燈照射100小時之照射強度為90 mw/cm2之紫外 線前後之下述式(2)所表示的色差ΔΕΗ為〇〜1〇, AEH=[(L〇-Li)2+(a〇-ai)2+(b〇-b1)2]0·5 ...式(2) 式(2)中,L〇、a〇、b〇分別表示照射前之L*a*b*表色系統 之色空間中的亮度指數L*與色彩指數a*、b,,、ai、h 分別表示照射後之L*a*b*表色系統之色空間中的亮度指 數L*與色彩指數a*、b*。 15. 如請求項1之光反射體,其中滿足上述 <條件2>。 16. 如请求項15之光反射體,其中上述塗佈層乾燥之後之填 料濃度為2〜40重量%。 17. 如請求項15之光反射體,其中上述塗佈層中所含之填料 之平均粒徑為4〜30 μιη。 18·如請求項15〜17中任一項之光反射體,其中上述基材層 係包含熱塑性樹脂與填料且至少於單軸方向上進行延伸 之樹脂延伸薄膜。 19. 如請求項18之光反射體,其中於上述基材層中,上述熱 塑性樹脂為聚烯烴系樹脂。 20. 如請求項18之光反射體,其中上述基材層以5〜75重量% 之濃度而含有平均粒徑為0.H.5 μιη之無機填料、平均0 分散粒徑為0.05〜1.8 μΐη之有機填料、或該等之混合物。 21. 一種面光源裝置,其使用有如請求項⑴、15至17中任 一項之光反射體。 145544.doc
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