TW201008950A - Process for preparing complexes of palladium (hydrogen) carbonate with amine ligands - Google Patents
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- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 60
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 27
- 239000003446 ligand Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 title claims description 19
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 32
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 22
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 16
- AQBOUNVXZQRXNP-UHFFFAOYSA-L azane;dichloropalladium Chemical compound N.N.N.N.Cl[Pd]Cl AQBOUNVXZQRXNP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 12
- MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N palladium(2+) Chemical compound [Pd+2] MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 10
- -1 carbonate anion Chemical class 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- KSSJBGNOJJETTC-UHFFFAOYSA-N COC1=C(C=CC=C1)N(C1=CC=2C3(C4=CC(=CC=C4C=2C=C1)N(C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1)OC)C1=CC(=CC=C1C=1C=CC(=CC=13)N(C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1)OC)N(C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1)OC)C1=CC=C(C=C1)OC Chemical compound COC1=C(C=CC=C1)N(C1=CC=2C3(C4=CC(=CC=C4C=2C=C1)N(C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1)OC)C1=CC(=CC=C1C=1C=CC(=CC=13)N(C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1)OC)N(C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1)OC)C1=CC=C(C=C1)OC KSSJBGNOJJETTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 3
- QVYARBLCAHCSFJ-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diamine Chemical compound CCCC(N)N QVYARBLCAHCSFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 3
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KJOMYNHMBRNCNY-UHFFFAOYSA-N pentane-1,1-diamine Chemical compound CCCCC(N)N KJOMYNHMBRNCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 2
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- PRKQVKDSMLBJBJ-UHFFFAOYSA-N ammonium carbonate Chemical compound N.N.OC(O)=O PRKQVKDSMLBJBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 5
- 229910000069 nitrogen hydride Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910000364 palladium(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- YXIZUXGMHQUZQH-UHFFFAOYSA-N diazanium hydrogen carbonate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OC([O-])=O.OC([O-])=O YXIZUXGMHQUZQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWHYKTAISUZRAD-UHFFFAOYSA-L palladium(2+);carbonate Chemical compound [Pd+2].[O-]C([O-])=O LWHYKTAISUZRAD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RFLFDJSIZCCYIP-UHFFFAOYSA-L palladium(2+);sulfate Chemical compound [Pd+2].[O-]S([O-])(=O)=O RFLFDJSIZCCYIP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- FFRBMBIXVSCUFS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dinitro-1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C2=C1 FFRBMBIXVSCUFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- ZFTFAPZRGNKQPU-UHFFFAOYSA-N dicarbonic acid Chemical compound OC(=O)OC(O)=O ZFTFAPZRGNKQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-VENIDDJXSA-N palladium-100 Chemical compound [100Pd] KDLHZDBZIXYQEI-VENIDDJXSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003303 ruthenium Chemical class 0.000 description 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
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- C07F15/006—Palladium compounds
- C07F15/0066—Palladium compounds without a metal-carbon linkage
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201008950 六、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於製造鈀錯合物之方法。特別地,本發明 係關於碳酸(氫)鈀的氨錯合物轉化成具有胺配位基的錯 合物之方法。 _ 【先前技術】 ϋ 慣用的鈀-鎳電解質含有氨和氯化物,因此對於操作 人員的健康有潛在危害且因設備材料的腐蝕而有危險性。 根據以前技術之慣用的鹼性氨法使用氯化四胺鈀(Π )[( ' NH3 ) 4Pd]Cl2 或二亞硝酸二胺鈀(II ) [ ( NH3 ) 2Pd]( N〇2 ) 2作爲用以澱積鈀或鈀合金之鈀化合物。在現有的無 氯化物法中,硫酸四胺鈀(II) [ ( nh3 ) 4Pd]S〇4用以代 替氣化物(Galvanotechnik 3 ( 2007) , p.677)。這些方 法中,沒有使用具腐蝕性的氯化物,即,結果爲設備材料 ❹ 之腐鈾損害明顯減少。然而,因釋出的氨蒸汽而對人類健 康之影響依然存在。 早至1 98 6,Raub和Walz描述自以乙二胺爲基礎的電 解質電化學澱積鈀—鎳塗層(MetalloberflSche 40 ( 1 986 )5, p.199-203, D. Walz and Ch. J. Raub, “Die galvanische Palladium-Nickel-Abscheidung aus ammoniakfreien
Grundelektrolyten mit Ethylendiamin als Komplexibildner” )。此論文中解釋乙二胺爲使得兩種金屬的澱積電位夠接 近以便能澱積合金之理想錯合劑。此電解質中,使用[Pd 201008950 (EDA ) 2]X作爲鈀錯合物(X =陰離子)。使用氯化物、 溴化物、硫酸根和胺磺酸根作爲陰離子。 由美國專利案(US 6743346 )已知的方法亦使用乙二 胺作爲錯合劑及引入硫酸鈀之固體化合物形式的鈀和乙二 胺。該鹽含有31至41 %的鈀([S04]: [Pd]的莫耳比由0.9 至1.15,且[乙二胺]:[Pd]的莫耳比由0·8至1.2)。過量 乙二胺存在時,該鹽不溶於水中但溶於電解質中。雖然該 鹽得以引入鈀和減低量的乙二胺,提高的硫酸根含量導致 電解質中的鹽含量提高,並因此縮短電解浴壽命。 鹵化四胺鈀(II )或硫酸四胺鈀(II )之製備中,對 應的簡單鈀鹽(如,氯化或溴化或碘化鈀(II )或硫酸鈀 (II)作爲起始物,且這些與4份的氨反應。此形成水溶 性錯合物[(NH3 ) 4Pd]X2 (其中 X = C1、Br、I )或[(ΝΗ3 )4Pd]S04。目前,由於對應的二碳酸氫鹽Pd(Il) Pd( HC〇3 ) 2不存在或非市售品,所以,類似的碳酸氫鹽[Pd (EDA) 2] (HC03) 2無法藉此合成途徑製造。對應的碳 酸鹽之狀況類似。 【發明內容】 因此,本發明的目的係提供製造具有胺配位基之碳酸 鈀(Π )或碳酸氫鈀(II)之錯合物的方法。此應使得所 欲化合物以生態或經濟上有利的方式由簡單的方法中製造 〇 此目的係由申請專利範圍中所述的方法達成。 -6 - 201008950 一種製造鈀錯合物的方法,該鈀錯合物包含二價鈀陽 離子、一或多個胺配位基和一個碳酸根陰離子或兩個碳酸 氫根陰離子或它們的混合物,其中對應的二碳酸氫四胺鈀 (II)或碳酸四胺鈀(Π)在溶液中與胺配位基在可移除 所釋出的氨之條件下反應,該方法完全出乎意料之外,但 有利地達成所述的目的。該方法得以高產率和極高純度地 製造所欲化合物,使得它們可以所列優點地用於鈀之電化 0 學澱積。 基本上,可由嫻於此技藝者自由地選擇所使用的胺配 位基。該選擇將由可取得且易藉商業或製造方式得到的配 • 位基主導。有利地,使用一或多種二牙、三牙或四牙配位 基,如,以二胺、三胺或四胺爲基礎的配位基。特別佳者 爲具有2至11個碳原子者。極特別佳者爲使用選自由乙 二胺、丙二胺、丁二胺、戊二胺、己二胺、1,2 -丙二胺、 丙四胺、己四胺所組成之群組的配位基。此處特別佳者爲 ❹ 乙二胺(EDA)。 取決於胺配位基爲單牙或多牙配位基,該胺配位基以 相對於四胺鈀(Π)鹽之不同的化學計量比使用。四胺鈀 (II)鹽與胺配位基較佳以1: 1.0-4.5,更佳1: 1.0-3.0 ,最佳1: 1.0-2.5最佳,的莫耳比反應。二牙配位基(特 別是乙二胺),該莫耳比爲1: 1.0-3.0,以1: 1.5-2.5爲 佳,1 : 2.0-2.1特別佳。 反應溫度可由嫻於此技藝者自由選擇。此選擇將由達 到非常完全轉化的所欲程度來主導,以完全抑制副反應爲 201008950 佳。反應期間的溫度以20°C至l〇〇°C爲佳。此溫度以40 至90°C特別佳,60至80°C更特別佳。 欲完全移除由討論的錯合物所釋出的氨,嫻於此技藝 者將選擇可用於此目的的方式。在配位基交換期間內施以 真空似乎有利。結果是,反應因平衡的連續干擾而拉向一 方。同樣地發現另藉由將惰性氣體通入溶液中以將所形成 的氨驅除出溶液的體系似乎有利。此二方式皆有助於自平 衡移除氨及得以降低反應期間內使用的溫度且仍得到足夠 的反應速率。 根據本發明之反應可以在嫻於此技藝者認爲適合的所 有溶劑中進行。這些以對反應呈惰性但溶解討論中的材料 至足夠程度之溶劑爲佳。例如,可使用水溶液。這些除了 水溶性有機溶劑以外,亦包含超過5 0重量%的水。以僅使 用水作爲溶劑爲佳。設定溶液的pH,以可自反應混合物 移除氨。該pH以在鹼性範圍中爲佳。較佳範圍爲7-14, 8-13更佳,且9-12特別佳。特別佳的pH爲9·1 1,製造 對應的碳酸氫鹽時尤然。 嫻於此技藝者可選擇反應物的添加順序。然而,在較 佳體系中,先將該胺配位基引至溶液中,及繼而添加四胺 鈀(II)鹽。 例如,鈀-乙二胺化合物之製造可以藉二碳酸氫四胺 鈀(II) [Alfa Aesar cat._N〇.45082]與乙二胺反應而進行 。如實例中所述者,乙二胺先引至水中,之後於劇烈攪拌 時,每次添加少量的二碳酸氫四胺鈀(Π )。也可以相反 -8- 201008950 順序添加起始物。此處,二碳酸氫四胺鈀(11 )可以,Μ 如,在水中形成淤漿,並於劇烈攪拌時,經由滴液漏斗g 加乙二胺。於至高1 〇〇°C的回流下,繼續進行反應約i小 時,形成產物二碳酸氫雙(乙二胺)鈀(II)。 氨和乙二胺的配位基根據下列反應式進行交換反應: [(NH3 ) 4Pd] ( HC〇3 ) 2 + 2 H2N-CH2-CH2-NH2-> [( H2N-CH2-CH2-NH2) 2Pd] ( HC03) 2 + 4 nh3 釋出的氨部分立即離開溶液或之後藉由在滌氣氣體( 如,空氣或氮)中的吹氣而被驅除。欲加速氨的此移除, 另可施用真空。所得溶液爲黃色透明且具有pH 9.5至10 ' 〇 藉蒸發溶液或藉移除溶劑(適當時,在減低壓力下) 可得到純固體形態的錯合物。其可以有利地以此固體形態 或在對應的電解浴液中之溶液形態使用,並當消耗的鈀藉 由在電解浴中添加碳酸(氫)鹽形式的鈀而補充時,有助 〇 於防止電解浴中的鹽濃度提高。 【實施方式】 實例一藉由與乙二胺(EDA )之配位基交換’二碳酸 氫四胺鈀(Π)與乙二胺之反應 設備=
三頸瓶,攪拌器,加熱器,溫度計’回流冷凝管’ PH 電極。 201008950 起始物: 組份 質量 [克] 莫耳數 [莫耳] 莫耳質量 [克/莫耳] 密度 [克/立方公分1 體積 mm 鈀 100* 0.940 106.4 - 乙二胺(EDA) 117 1.947 60.1 0.898 130 *277克的二碳酸氫四胺鈀(II) TAPHC ( 3 6% Pd )
Pd: EDA 莫耳比=1 : 2.07 所用化學品的品質:
二碳酸氫四胺鈀(II )(產品編號45082 ),得自
Alfa Aesar 乙二胺,99%,合成試劑(如,MerckNo.800947) 用於含有100克Pd之最終1升體積的製備程序: 1. 500毫升的去離子水置於反應槽中。 2. 乙二胺加至水中(pH 1 1.5-12 )。 3-碳酸氫四胺鈀(II)每次少量地添加;溫度提高至 超過50°C。形成金黃色溶液。鈀鹽全部加完之後,pH約 10.5。 4.加熱至80°C並使其反應1小時。加熱時,溶液顏 色自金黃變爲綠黃。因爲黑色粒子而略爲混濁。 5 .使混合物冷卻至5 0 °C。 6. 以6號玻璃纖維濾器過濾混合物:少量黑色殘渣 在濾器上,淡黃色溶液有強烈的氨味。 7. 使壓縮空氣通過溶液以降低氨濃度。 8. 以去離子水補足最終體積。 -10-
Claims (1)
- 201008950 七、申請專利範圍 1. —種製造鈀錯合物的方法,該鈀錯合物包含二價 ts陽離子、一或多個胺配位基和—個碳酸根陰離子或兩個 碳酸氫根陰離子或它們的混合物,其中對應的二碳酸氫四 胺鈀(II)或碳酸四胺鈀(II)在溶液中與胺配位基在可 . 移除所釋出的氨之條件下反應。 2. 如申請專利範圍第1項之方法,其中胺配位基是 Q 選自由乙二胺、丙二胺、丁二胺、戊二胺、己二胺、1,2- 丙二胺、丙四胺、己四胺所組成之群組。 3·如則述申請專利範圍之一或多項之方法,其中四 胺鈀(II)鹽與胺配位基以1 : 1.0-4.5的莫耳比反應。 4 如前述申請專利範圍之一或多項之方法,其中反 應期間的溫度設定在2(TC至100°C的範圍內。 5.如前述申請專利範圍之一或多項之方法,其中該 方法係在真空下進行。 參 6·如前述申請專利範圍之一或多項之方法,其中另 藉由將惰性氣體通入溶液中將所形成的氣驅除出溶液。 7. 如則述申請專利範圍之一'或多項之方法,其中該 方法在水溶液中進行。 8. 如前述申請專利範圍之一或多項之方法,其中先 將該胺配位基引至溶液中’及繼而添加四胺把(I〗)鹽。 -11 - 201008950 四、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:無 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明:無201008950 五 本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學 式:無申請案 夺1 年月茂7 m該鈀錯合物包 201008950 七、申請專利範圍 附件2:第98114191號專利 中文申請專利範圍替換本民國98 I —種製造鈀錯合物的方法, 鈀陽離子、一或多個胺配位基和一個碳酸根陰離子 碳酸氫根陰離子或它們的混合物,其中對應的二碳 胺鈀(II)或碳酸四胺鈀(Π)在溶液中與胺配位 移除所釋出的氨之條件下反應。 2·如申請專利範圍第1項之方法,其中胺配 選自由乙二胺、丙二胺、丁二胺、戊二胺、己二胺 丙二胺、丙四胺、己四胺所組成之群組。 3. 如申請專利範圍第1項之方法,其中四胺鈀 鹽與胺配位基以1: 1.0-4.5的莫耳比反應。 4. 如申請專利範圍第1項之方法,其中反應 溫度設定在2〇°C至100°C的範圍內。 5. 如申請專利範圍第1項之方法,其中該方 真空下進行。 6-如申請專利範圍第1項之方法,其中另藉 性氣體通入溶液中將所形成的氨驅除出溶液。 7. 如申請專利範圍第1項之方法,其中該方 溶液中進行。 8. 如申請專利範圍第1項之方法,其中先將 位基引至溶液中,及繼而添加四胺鈀(II)鹽。 含二價 或兩個 酸氫四 基在可 位基是 ' 1,2- (II) 期間的 法係在 由將惰 法在水 該胺配
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP08008573A EP2116550B1 (de) | 2008-05-07 | 2008-05-07 | Verfahren zur Herstellung von Komplexen des Palladium(hydrogen) carbonats mit Aminliganden |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201008950A true TW201008950A (en) | 2010-03-01 |
Family
ID=39768491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW098114191A TW201008950A (en) | 2008-05-07 | 2009-04-29 | Process for preparing complexes of palladium (hydrogen) carbonate with amine ligands |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8273909B2 (zh) |
EP (1) | EP2116550B1 (zh) |
JP (1) | JP5523445B2 (zh) |
KR (1) | KR101598005B1 (zh) |
CN (1) | CN102015744B (zh) |
AT (1) | ATE473991T1 (zh) |
DE (1) | DE502008000944D1 (zh) |
TW (1) | TW201008950A (zh) |
WO (1) | WO2009135668A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2743273A1 (de) | 2012-12-12 | 2014-06-18 | Umicore AG & Co. KG | Verfahren zur Herstellung wasserhaltiger Zubereitungen von Komplexen der Platingruppenmetalle |
CN108864200B (zh) * | 2018-08-06 | 2020-12-11 | 金川集团股份有限公司 | 电镀用硫酸乙二胺钯的一步制备方法 |
CN108706642B (zh) * | 2018-08-06 | 2019-06-25 | 金川集团股份有限公司 | 一种四氨合碳酸氢钯的制备方法 |
CN109183093B (zh) * | 2018-09-14 | 2020-07-03 | 金川集团股份有限公司 | 一种碳酸氢四氨合钯化合物的制备方法 |
CN109897070B (zh) * | 2019-02-28 | 2021-06-18 | 徐州浩通新材料科技股份有限公司 | 一种醋酸四氨钯(ⅱ)的制备方法 |
CN112939100B (zh) * | 2021-03-15 | 2021-11-09 | 徐州浩通新材料科技股份有限公司 | 一种碳酸氢四氨钯(ⅱ)的制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000251676A (ja) * | 1999-02-25 | 2000-09-14 | Canon Inc | 電子放出素子製造用金属含有水溶液、該金属含有水溶液を用いた電子放出素子、電子源、画像形成装置、及びこれらの製造方法 |
FR2807422B1 (fr) * | 2000-04-06 | 2002-07-05 | Engelhard Clal Sas | Sel complexe de palladium et son utilisation pour ajuster la concentration en palladium d'un bain electrolytique destine au depot de palladium ou d'un de ses alliages |
FR2807450B1 (fr) | 2000-04-06 | 2002-07-05 | Engelhard Clal Sas | Bain electrolytique destine au depot electrochimique du palladium ou de ses alliages |
GB0517986D0 (en) * | 2005-09-05 | 2005-10-12 | Johnson Matthey Plc | Preparation of metal chelate |
GB0607494D0 (en) * | 2006-04-13 | 2006-05-24 | Lucite Int Uk Ltd | Metal complexes |
-
2008
- 2008-05-07 EP EP08008573A patent/EP2116550B1/de active Active
- 2008-05-07 DE DE502008000944T patent/DE502008000944D1/de active Active
- 2008-05-07 AT AT08008573T patent/ATE473991T1/de active
-
2009
- 2009-04-29 TW TW098114191A patent/TW201008950A/zh unknown
- 2009-05-07 WO PCT/EP2009/003251 patent/WO2009135668A1/en active Application Filing
- 2009-05-07 JP JP2011507833A patent/JP5523445B2/ja active Active
- 2009-05-07 KR KR1020107024857A patent/KR101598005B1/ko active IP Right Grant
- 2009-05-07 US US12/991,214 patent/US8273909B2/en active Active
- 2009-05-07 CN CN200980116196.8A patent/CN102015744B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2116550B1 (de) | 2010-07-14 |
JP5523445B2 (ja) | 2014-06-18 |
KR20110003520A (ko) | 2011-01-12 |
EP2116550A1 (de) | 2009-11-11 |
DE502008000944D1 (de) | 2010-08-26 |
WO2009135668A1 (en) | 2009-11-12 |
CN102015744A (zh) | 2011-04-13 |
KR101598005B1 (ko) | 2016-02-26 |
CN102015744B (zh) | 2014-10-29 |
US8273909B2 (en) | 2012-09-25 |
JP2011519885A (ja) | 2011-07-14 |
US20110060154A1 (en) | 2011-03-10 |
ATE473991T1 (de) | 2010-07-15 |
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