KR20110003520A - 팔라듐 (하이드로겐)카보네이트와 아민 리간드의 착물의 제조 방법 - Google Patents
팔라듐 (하이드로겐)카보네이트와 아민 리간드의 착물의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20110003520A KR20110003520A KR1020107024857A KR20107024857A KR20110003520A KR 20110003520 A KR20110003520 A KR 20110003520A KR 1020107024857 A KR1020107024857 A KR 1020107024857A KR 20107024857 A KR20107024857 A KR 20107024857A KR 20110003520 A KR20110003520 A KR 20110003520A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- palladium
- solution
- tetraaminepalladium
- carbonate
- amine ligand
- Prior art date
Links
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 48
- 239000003446 ligand Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 title claims description 16
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 title claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 title 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 title 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 21
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- AQBOUNVXZQRXNP-UHFFFAOYSA-L azane;dichloropalladium Chemical compound N.N.N.N.Cl[Pd]Cl AQBOUNVXZQRXNP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- -1 palladium cation Chemical class 0.000 claims description 6
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N palladium(2+) Chemical compound [Pd+2] MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KSSJBGNOJJETTC-UHFFFAOYSA-N COC1=C(C=CC=C1)N(C1=CC=2C3(C4=CC(=CC=C4C=2C=C1)N(C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1)OC)C1=CC(=CC=C1C=1C=CC(=CC=13)N(C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1)OC)N(C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1)OC)C1=CC=C(C=C1)OC Chemical compound COC1=C(C=CC=C1)N(C1=CC=2C3(C4=CC(=CC=C4C=2C=C1)N(C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1)OC)C1=CC(=CC=C1C=1C=CC(=CC=13)N(C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1)OC)N(C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1)OC)C1=CC=C(C=C1)OC KSSJBGNOJJETTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 claims description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 2
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- RFLFDJSIZCCYIP-UHFFFAOYSA-L palladium(2+);sulfate Chemical compound [Pd+2].[O-]S([O-])(=O)=O RFLFDJSIZCCYIP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000364 palladium(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- YTXAYGAYACWVGD-UHFFFAOYSA-N palladium;hydrate Chemical compound O.[Pd] YTXAYGAYACWVGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010517 secondary reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
- C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
- C07F15/006—Palladium compounds
- C07F15/0066—Palladium compounds without a metal-carbon linkage
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
본 발명은 팔라듐 착물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 팔라듐 (하이드로겐)카보네이트의 암모니아성 착물을 올리고아민 리간드와의 착물로 전환시키는 방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 팔라듐 착물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 팔라듐 (하이드로겐)카보네이트의 암모니아 착물을 아민과의 착물로 전환시키는 방법에 관한 것이다.
통상의 팔라듐-니켈 전해액은 암모니아 및 염화물을 함유하므로, 작업자의 건강에 잠재적으로 유해하고 플랜트 재료의 부식 측면에서 피해를 입는다. 종래 기술에 따르는 통상의 알칼리-암모니아 방법은 팔라듐 또는 팔라듐 합금의 침착을 위한 팔라듐 화합물로서 테트라아민팔라듐(II) 클로라이드 [(NH3)4Pd]Cl2 또는 디아민팔라듐(II) 디니트라이트 [(NH3)2Pd](NO2)2를 사용한다. 존재하는 무염화물 방법에서는, 염화물 화합물 대신에 테트라아민팔라듐(II) 설페이트 [(NH3)4Pd]SO4가 사용된다(참조: Galvanotechnik 3 (2007), p. 677). 이들 방법에서, 부식성 염화물이 생략되며, 즉, 결과적으로 플랜트 재료에 대한 공격이 현저히 감소된다. 그러나, 발생되는 암모니아 증기로 인한 인체의 건강에 대한 유해성은 유지된다.
이미 1986년에, 라우브(Raub) 및 왈츠(Walz)는 에틸렌디아민을 기재로 하는 전해액으로부터의 팔라듐-니켈 피복물의 전기화학적 침착을 기술하였다(참조: Metalloberflache 40 (1986) 5, p. 199-203, D. Walz and Ch. J. Raub, "Die galvanische Palladium-Nickel-Abscheidung aus ammoniakfreien Grundelektrolyten mit Ethylendiamin als Komplexbildner"). 상기 문헌에는, 합금의 침착이 가능해지도록 서로 충분히 근접한 2가지 금속의 침착 포텐셜을 변화시키기 위해서는 착화제 에틸렌디아민이 이상적인 것으로 설명되었다. 상기 전해액에서는, [Pd(EDA)2]X가 팔라듐 착물로서 사용되었다(여기서, X는 음이온(들)이다). 염화물, 브롬화물, 황산염 및 설파인산염이 음이온으로서 사용되었다.
미국 특허 제6743346호로부터의 방법은 또한 착화제로서 에틸렌디아민을 사용하고, 팔라듐 황산염과 에틸렌디아민의 고체 화합물의 형태로 팔라듐을 도입한다. 상기 염은 31 내지 41%의 팔라듐을 함유한다([SO4]:[Pd]의 몰 비 0.9 내지 1.15 및 [에틸렌디아민]:[Pd]의 몰 비 0.8 내지 1.2). 이는 수용성이 아니지만, 과량의 에틸렌디아민의 존재하에 전해액에 용해된다. 상기 염은 팔라듐을 감소된 양의 에틸렌디아민과 함께 도입시키는 것을 가능하게 하지만, 증가된 황산염 함량은 전해액 중에서의 염의 증가된 수준을 유도하여, 배쓰의 수명의 감소를 유도한다.
테트라아민팔라듐(II) 할라이드 또는 테트라아민팔라듐(II) 설페이트의 제조에서, 팔라듐(II) 염화물 또는 브롬화물 또는 요오드화물 또는 팔라듐(II) 황산염과 같은 상응하는 단순 팔라듐염이 출발물질로서 사용되며, 이들은 4부(4part)의 암모니아와 반응한다. 이는 수용성 착물 [(NH3)4Pd]X2(여기서, X는 Cl, Br, I이다) 또는 [(NH3)4Pd]SO4를 생성시킨다. 유사한 하이드로겐카보네이트 [Pd(EDA)2](HCO3)2는 상응하는 Pd(II) 디하이드로겐카보네이트 Pd(HCO3)2가 존재하지 않거나 상용되지 않으므로 현재 상기 합성 경로에 의해 제조될 수 없다.
따라서, 본 발명의 목적은 팔라듐(II) 카보네이트 또는 하이드로겐카보네이트의 아민 리간드와의 착물을 제조하는 방법을 제공하는 데에 있다. 이는 단순 방법으로 생태학적으로 또는 경제적으로 유용한 방식으로 바람직한 화합물이 제조되도록 해야 한다.
상기 목적은 특허청구의 범위에 기술된 바와 같이 달성된다.
2가 팔라듐 양이온, 하나 이상의 아민 리간드 및 하나의 카보네이트 음이온 또는 2개의 하이드로겐카보네이트 음이온 또는 이들의 혼합물을 포함하는 팔라듐 착물의 제조방법으로서, 해리되는 암모니아가 제거될 수 있는 조건하에, 상응하는 테트라아민팔라듐(II) 디하이드로겐카보네이트 또는 테트라아민팔라듐(II) 카보네이트를 용액 중에서 아민 리간드와 반응시키는 방법은, 완전히 놀랍게도, 그러나 그럼에도 불구하고, 유리하게는 규정된 목적의 달성을 유도한다. 상기 방법은 목적하는 화합물을 매우 높은 순도로 고수율로 제조되도록 하여, 상기 화합물이 개요된 장점을 갖는 팔라듐의 전기화학적 침착을 위해 사용될 수 있게 한다.
원칙적으로, 당업자는 사용하려는 아민 리간드를 자유롭게 선택할 수 있다. 상기 선택은 이용 가능한 리간드에 의해 안내될 것이고, 상업적으로 또는 제조적으로 용이하게 수득될 수 있다. 하나 이상의 두자리, 세자리 또는 네자리 리간드, 예를 들어 디아민, 트리아민 또는 테트라아민을 기본으로 하는 리간드를 사용하는 것이 유리하다. 2 내지 11개의 탄소 원자를 갖는 것이 특히 바람직하다. 에틸렌디아민, 트리메틸렌디아민, 테트라메틸렌디아민, 펜타메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 1,2-프로필렌디아민, 트리메틸렌테트라민, 헥사메틸렌테트라민으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 리간드를 사용하는 것이 매우 특히 바람직하다. 문맥상 에틸렌디아민(EDA)이 특히 바람직하다.
상기 아민 리간드가 단일자리 또는 다중자리 리간드인 지에 의존하여, 아민 리간드는 테트라아민팔라듐(II) 염에 대해 상이한 화학양론적 비로 사용된다. 테트라아민팔라듐(II) 염은 아민 리간드와 1:1.0 내지 4.5, 바람직하게는 1:1.0 내지 3.0, 특히 바람직하게는 1:1.0 내지 2.5의 몰 비로 반응하는 것이 바람직하다. 두자리 리간드, 특히 에틸렌디아민의 경우에, 상기 비는 1:1.0 내지 3.0, 바람직하게는 1:1.5 내지 2.5, 특히 바람직하게는 1:2.0 내지 2.1이다.
상기 반응 중의 온도는 당업자에 의해 자유롭게 선택될 수 있다. 상기 선택은, 바람직하게는 이차 반응을 전체적으로 억제하면서 매우 완전한 전환을 달성하는 바람직함(desirability)에 의해 안내될 것이다. 반응 동안의 온도는 바람직하게는 20 내지 100℃이다. 상기 온도는 특히 바람직하게는 40 내지 90℃, 매우 특히 바람직하게는 60 내지 8O℃이다.
상기 착물로부터의 암모니아의 제거를 완결시키기 위해, 당업자는 상기 용도를 위해 이용할 수 있는 방법들을 선택할 것이다. 리간드 교환 동안의 진공을 적용하는 것이 유리한 것으로 여겨진다. 결과적으로, 상기 반응은 평형의 거듭되는 장애(disturbance)에 의해 1개 방향으로 유도된다. 생성되는 암모니아를, 불활성 기체 내로 통과시킴으로써 상기 용액으로부터 제거하는 양태가 또한 유리한 것으로 밝혀졌다. 2개 방법은 둘 다 평형으로부터 암모니아를 제거하는 데에 도움을 주며, 반응 동안 사용되는 온도가 감소되면서 충분한 반응 속도가 수득된다.
본 발명에 따르는 반응은 당업자들에 의해 적합한 것으로 고려되는 모든 용매 중에서 수행될 수 있다. 이들 용매는, 바람직하게는 반응에 대해서는 불활성이지만 충분한 정도로 상기 물질들을 용해시키는 용매이다. 예를 들어, 수용액이 사용될 수 있다. 이들은 수용성 유기 용매 이외에도 50중량%의 물을 포함한다. 용매로서 물을 독점적으로 사용하는 것이 바람직하다. 용액의 pH는 암모니아가 상기 반응 혼합물로부터 제거될 수 있도록 설정된다. pH는 유리하게는 알칼리성 범위 내에 있다. 7 내지 14, 더욱 바람직하게는 8 내지 13, 특히 바람직하게는 9 내지 12의 범위가 바람직하다. 특히 상응하는 하이드로겐카보네이트의 제조를 위해 pH 9 내지 11이 특히 바람직하다.
당업자는 반응물의 첨가 순서를 선택할 수 있다. 그러나, 바람직한 구현에서는, 아민 리간드가 초기에 용액에 충전되고, 테트라아민팔라듐(II) 염이 후속적으로 첨가된다.
예를 들어, 팔라듐-에틸렌디아민 화합물의 제조는 테트라아민팔라듐(II) 디하이드로겐카보네이트[Alfa Aesar cat.- No. 45082]를 에틸렌디아민과 반응시킴으로써 수행될 수 있다. 실시예에 기술된 바와 같이, 에틸렌디아민이 초기에 물에 충전되고, 테트라아민팔라듐(II) 디하이드로겐카보네이트가 격렬한 교반하에 후속적으로 한번에 소량씩 첨가된다. 마찬가지로, 출발 물질들을 역순서로 첨가할 수 있다. 이를 위해, 테트라아민팔라듐(II) 디하이드로겐카보네이트는 예를 들어 물 중에서 슬러리화되고, 에틸렌디아민이 격렬한 교반하에 적하 깔때기를 통해 첨가될 수 있다. 환류하에 100℃ 이하에서 약 1시간의 후속 반응 동안, 생성물 비스(에틸렌디아민)팔라듐(II) 디하이드로겐카보네이트가 생성된다.
암모니아와 에틸렌디아민의 리간드 교환이 하기의 반응식에 따라 수행된다:
[(NH3)4Pd](HCO3)2 + 2H2N-CH2-CH2-NH2 -> [(H2N-CH2-CH2-NH2)2Pd](HCO3)2 + 4NH3
해리된 암모니아는 용액으로부터 부분적으로 즉시 발산되거나 후속적으로 스트립핑 기체, 예를 들어 공기 또는 질소를 취입시킴으로써 제거된다. 암모니아의 이러한 제거를 촉진시키기 위해, 부가적으로 진공이 적용될 수 있다. 수득되는 용액은 황색이며 투명하고 pH가 9.5 내지 10이다.
상기 착물은, 적절한 경우 감압하에, 용액의 증발에 의해 또는 용매의 제거에 의해 순수 고체로서 수득될 수 있다. 이는 상응하는 전해조 중에서 고체 형태로 또는 용액으로서 사용되는 것이 유리할 수 있으며, 소모된 팔라듐이 (하이드로겐)카보네이트의 형태로 팔라듐을 배쓰에 첨가함으로써 보충되는 경우에, 배쓰의 고체 함량의 증가를 방지하는 데에 도움을 준다.
실시예 - 에틸렌디아민(EDA)과의 리간드 교환에 의한 테트라아민팔라듐(II) 디하이드로겐카보네이트의 에틸렌디아민과의 반응
장치:
3구 플라스크, 교반기, 가열기, 온도계, 환류 응축기, pH 전극
출발 물질:
* 277g의 테트라아민팔라듐(II) 디하이드로겐카보네이트 TAPHC (36%의 Pd)
Pd:EDA의 몰 비 = 1:2.07
사용되는 화학물질의 품질:
알파 에이사(Alfa Aesar)로부터의 테트라아민팔라듐(II) 디하이드로겐카보네이트 (제품 번호 45082)
에틸렌디아민, 99%, 합성 시약 (예를 들어, Merck No. 800947)
100g의 Pd를 함유하는 1ℓ 최종 부피를 위한 방법:
1. 500㎖의 탈이온수의 물을 반응 용기에 넣는다.
2. 에틸렌디아민을 물에 첨가한다 (pH 11.5 내지 12).
3. 테트라아민팔라듐(II) 하이드로겐카보네이트를 한번에 소량씩 첨가하고, 온도를 50℃보다 높게 승온시킨다. 황금색 용액이 생성된다. 충분한 양의 팔라듐염을 첨가한 후에, pH는 약 10.5이다.
4. 80℃까지 가열하고, 1시간 동안 반응시킨다. 가열 시에, 상기 용액의 색이 황금색으로부터 녹황색으로 변한다. 흑색 입자들로 인해 약간의 혼탁도가 수득된다.
5. 상기 혼합물을 5O℃까지 냉각시킨다.
6. 상기 혼합물을 No. 6 유리섬유 필터를 통과시켜 여과시키고, 상기 필터 상에 소량의 흑색 잔류물, 강한 암모니아 냄새가 나는 담황색 용액이 잔류된다.
7. 상기 용액에 압축 공기를 통과시켜서 상기 암모니아 농도를 감소시킨다.
8. 탈이온수를 사용하여 최종 부피로 만든다.
Claims (8)
- 2가 팔라듐 양이온, 하나 이상의 아민 리간드 및 하나의 카보네이트 음이온 또는 2개의 하이드로겐카보네이트 음이온 또는 이들의 혼합물을 포함하는 팔라듐 착물의 제조방법으로서, 해리되는 암모니아가 제거될 수 있는 조건하에, 상응하는 테트라아민팔라듐(II) 디하이드로겐카보네이트 또는 테트라아민팔라듐(II) 카보네이트를 용액 중에서 아민 리간드와 반응시키는 방법.
- 제1항에 있어서, 아민 리간드가 에틸렌디아민, 트리메틸렌디아민, 테트라메틸렌디아민, 펜타메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 1,2-프로필렌디아민, 트리메틸렌테트라민 및 헥사메틸렌테트라민으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는, 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 테트라아민팔라듐(II) 염이 상기 아민 리간드와 1:1.0 내지 4.5의 몰 비로 반응하는, 방법.
- 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 반응 동안의 온도가 20 내지 100℃인, 방법.
- 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 방법이 진공의 적용하에 수행되는, 방법.
- 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 생성되는 상기 암모니아가, 불활성 기체를 상기 용액 내로 통과시킴으로써 추가로 상기 용액으로부터 제거되는, 방법.
- 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 방법이 수용액 중에서 수행되는, 방법.
- 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 아민 리간드가 초기에 상기 용액에 충전되고, 상기 테트라아민팔라듐(II) 염이 후속적으로 첨가되는, 방법.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP08008573A EP2116550B1 (de) | 2008-05-07 | 2008-05-07 | Verfahren zur Herstellung von Komplexen des Palladium(hydrogen) carbonats mit Aminliganden |
| EP08008573.1 | 2008-05-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20110003520A true KR20110003520A (ko) | 2011-01-12 |
| KR101598005B1 KR101598005B1 (ko) | 2016-02-26 |
Family
ID=39768491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020107024857A KR101598005B1 (ko) | 2008-05-07 | 2009-05-07 | 팔라듐 (하이드로겐)카보네이트와 아민 리간드의 착물의 제조 방법 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8273909B2 (ko) |
| EP (1) | EP2116550B1 (ko) |
| JP (1) | JP5523445B2 (ko) |
| KR (1) | KR101598005B1 (ko) |
| CN (1) | CN102015744B (ko) |
| AT (1) | ATE473991T1 (ko) |
| DE (1) | DE502008000944D1 (ko) |
| TW (1) | TW201008950A (ko) |
| WO (1) | WO2009135668A1 (ko) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2743273A1 (de) | 2012-12-12 | 2014-06-18 | Umicore AG & Co. KG | Verfahren zur Herstellung wasserhaltiger Zubereitungen von Komplexen der Platingruppenmetalle |
| CN108864200B (zh) * | 2018-08-06 | 2020-12-11 | 金川集团股份有限公司 | 电镀用硫酸乙二胺钯的一步制备方法 |
| CN108706642B (zh) * | 2018-08-06 | 2019-06-25 | 金川集团股份有限公司 | 一种四氨合碳酸氢钯的制备方法 |
| CN109183093B (zh) * | 2018-09-14 | 2020-07-03 | 金川集团股份有限公司 | 一种碳酸氢四氨合钯化合物的制备方法 |
| CN109897070B (zh) * | 2019-02-28 | 2021-06-18 | 徐州浩通新材料科技股份有限公司 | 一种醋酸四氨钯(ⅱ)的制备方法 |
| CN112939100B (zh) * | 2021-03-15 | 2021-11-09 | 徐州浩通新材料科技股份有限公司 | 一种碳酸氢四氨钯（ⅱ）的制备方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003530371A (ja) * | 2000-04-06 | 2003-10-14 | メタロール テクノロジー フランス エス アー エス | パラジウム錯塩及びパラジウム又はその合金の一つを析出させる電解浴のパラジウム濃度を調節するためのその使用 |
| WO2007029031A1 (en) * | 2005-09-05 | 2007-03-15 | Johnson Matthey Plc | Metal compound and preparation method therefor |
| WO2007119079A1 (en) * | 2006-04-13 | 2007-10-25 | Lucite International Uk Limited | Metal complexes for use in the carbonylation of ethylenically unsaturated compounds |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000251676A (ja) * | 1999-02-25 | 2000-09-14 | Canon Inc | 電子放出素子製造用金属含有水溶液、該金属含有水溶液を用いた電子放出素子、電子源、画像形成装置、及びこれらの製造方法 |
| FR2807450B1 (fr) | 2000-04-06 | 2002-07-05 | Engelhard Clal Sas | Bain electrolytique destine au depot electrochimique du palladium ou de ses alliages |
-
2008
- 2008-05-07 EP EP08008573A patent/EP2116550B1/de active Active
- 2008-05-07 AT AT08008573T patent/ATE473991T1/de active
- 2008-05-07 DE DE502008000944T patent/DE502008000944D1/de active Active
-
2009
- 2009-04-29 TW TW098114191A patent/TW201008950A/zh unknown
- 2009-05-07 WO PCT/EP2009/003251 patent/WO2009135668A1/en active Application Filing
- 2009-05-07 CN CN200980116196.8A patent/CN102015744B/zh active Active
- 2009-05-07 KR KR1020107024857A patent/KR101598005B1/ko active IP Right Grant
- 2009-05-07 JP JP2011507833A patent/JP5523445B2/ja active Active
- 2009-05-07 US US12/991,214 patent/US8273909B2/en active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003530371A (ja) * | 2000-04-06 | 2003-10-14 | メタロール テクノロジー フランス エス アー エス | パラジウム錯塩及びパラジウム又はその合金の一つを析出させる電解浴のパラジウム濃度を調節するためのその使用 |
| WO2007029031A1 (en) * | 2005-09-05 | 2007-03-15 | Johnson Matthey Plc | Metal compound and preparation method therefor |
| WO2007119079A1 (en) * | 2006-04-13 | 2007-10-25 | Lucite International Uk Limited | Metal complexes for use in the carbonylation of ethylenically unsaturated compounds |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE502008000944D1 (de) | 2010-08-26 |
| JP2011519885A (ja) | 2011-07-14 |
| KR101598005B1 (ko) | 2016-02-26 |
| ATE473991T1 (de) | 2010-07-15 |
| JP5523445B2 (ja) | 2014-06-18 |
| CN102015744B (zh) | 2014-10-29 |
| US20110060154A1 (en) | 2011-03-10 |
| US8273909B2 (en) | 2012-09-25 |
| WO2009135668A1 (en) | 2009-11-12 |
| TW201008950A (en) | 2010-03-01 |
| CN102015744A (zh) | 2011-04-13 |
| EP2116550B1 (de) | 2010-07-14 |
| EP2116550A1 (de) | 2009-11-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Sun et al. | Simultaneous self-assembly of a cage-like silver (I) complex encapsulating an Ag 6 neutral cluster core and carbon dioxide fixation | |
| KR101598005B1 (ko) | 팔라듐 (하이드로겐)카보네이트와 아민 리간드의 착물의 제조 방법 | |
| Dutta et al. | Facile synthesis of a new Cu (ii) complex with an unsymmetrical ligand and its use as an O 3 donor metalloligand in the synthesis of Cu (ii)–Mn (ii) complexes: structures, magnetic properties, and catalytic oxidase activities | |
| JP7105692B2 (ja) | ポリ有機官能基修飾シリカ、その製造方法、及びその使用 | |
| CN106831850B (zh) | 一种硅氢加成反应 | |
| Mahapatra et al. | Competitive coordination aggregation for V-shaped [Co 3] and disc-like [Co 7] complexes: synthesis, magnetic properties and catechol oxidase activity | |
| CN104854120B (zh) | 用于生产铂族金属的络合物的水性制品的方法 | |
| EP2597099B1 (en) | Deep eutectic solvent and method for its preparation | |
| CN101362781B (zh) | 草酸四氨合钯(ⅱ)的合成方法 | |
| JP4822253B2 (ja) | 二酸化炭素と水素からギ酸塩の製造方法 | |
| TW202216277A (zh) | 甲酸鹽之製造方法、甲酸之製造方法、及防凍劑之製造方法 | |
| Harrowfield et al. | Reactions of coordinated nucleophiles. Intramolecular imine formation | |
| CN102718786A (zh) | 二甲胺硼烷的制备方法 | |
| CN105836814B (zh) | 一种合成硫酸四氨合钯(ⅱ)的方法 | |
| CN102099294A (zh) | 制备包含内消旋酒石酸的组合物的方法 | |
| Il'yasov et al. | Chemistry of urea nitro derivatives: III. Reactions of N, N'-dinitrourea with bases | |
| US20070155992A1 (en) | Catalytic conversion of liquid alcohols and other reactants to products | |
| Qian et al. | A mononuclear manganese (III) complex of an asymmetric macrocyclic ligand with a ring contraction [MnHL2 (ClO4)](ClO4)· 2.5 H2O | |
| Drew et al. | A monoaqua zinc complex. Unique acid dissociation behaviour | |
| JP2020090430A (ja) | 無機白金化合物の製造方法 | |
| CN109592722A (zh) | 一种硝酸钯的制备方法 | |
| Zheng et al. | Synthesis of CF3NBr2 and CF3NBrCl. Novel metal fluoride promoted conversion of nitrogen-chlorine bonds to nitrogen-bromine bonds | |
| CN104926843A (zh) | 氮杂环卡宾三核金属银配合物及其制备方法与应用 | |
| Goel et al. | Synthesis, characterization, and some reactions of bis (tri-tert-butylarsine) hydridoplatinum (II) complexes | |
| CN106831399A (zh) | 一种2‑乙基己酸铑（ⅱ）的合成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190129 Year of fee payment: 4 |