TW200918503A - Oxime ester photoinitiators - Google Patents
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Description
200918503 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域3 本發明係有關於含有醯基化N -烷基咔唑之特別之绗酯 化合物,及其於可光聚合之組成物中作為光起始劑之用途。 5 【先前技術】 一般之肟酯化合物及其作為光起始劑之應用係籣,例 如,WO 02/100903、WO 04/050653、WO 06/018405、 WO 07/062963、WO 07/071797或WO 05/080337得知。 於光聚合反應技術,仍存在對於高反應性,易於製備, 10及易於處理光起始劑之需求。例如,於濾色器阻劑之應用, 經高度著色之阻劑對於高的顏色品質性質係需要。隨著色 料含量之增加’彩色阻劑之固化變得更困難。因此,具有 比現今起始系統更高敏感性之光起始劑係需求。此外,此 等新穎之光起始劑亦需符合產業上有關於諸如高的可溶 15性、熱安定性及貯存安定性之性質之高度要求。 t 明内3 驚人地,發現化學式I之化合物
R〗係選擇性經取代之CVCm烷氧基羰基烷基、Ci_C2g胺基烷 20基,或以一tR4取代之Crc2◦烷基; 〇-Rt 200918503 r2係cvq。烷基; R4及r5彼此獨立地係氫或crc2G烷基羰基;且 Ar係選擇性經取代之萘基或嘆吩基。 依據本發明,化學式I之化合物係作為乙烯不飽和化合 5 物或包含此化合物之混合物之光聚合反應之光起始齊j。 【實方式;3
CrC^o烷基包含線性、分支’或環狀,且係,例如, Ci-C18-、Q-Cm-、Ci-Cn-、CrCV、cvc^^c^-c^基。例 子係曱基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、異 1〇 丁基、第三丁基、戊基、己基、庚基、2,4,4-三甲基戊基、 2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十二院基、十四烧基、 十五院基、十六烧基、十八院基、二十烧基、環丙基環 丁基、環戊基、環己基、甲基環己基、乙基環己基、環戊 基曱基、環己基甲基、環己基乙基、降冰片基,或2_降冰 15 片烷曱基。 C2_C:25烯基係單取代或多取代之線性或分支或環狀且 係,例如,c2-c2。-、c2-c16-、c2-c10-、c2-c8-、c2-c6-、c2-c5- 或cvc:4烯基。例子係烯丙基、曱基烯丙基、乙烯基、u_ 二曱基烯基丙、1-丁浠基、3-丁烯基、2-丁烯基、1,3-戊二 20烯基、1_環己烯基、5_己烯基,或7-辛烯基,特別是烯丙基 或乙烯基。
Cs-C2。烷氧基羰基烷基係線性、分支,或環狀且係,例 如,甲氧基羰基甲基、甲氧基羰基丁基、乙氧基羰基甲基、 乙氧基羰基辛基、甲氧基羰基乙基、乙氧基羰基乙基丙氧 200918503 基&基乙基、正丁基氧幾基乙基丙氧基幾基甲基、正丁基 氧羰基曱基、異丁基氧錄甲基、u_:f基丙氧基幾基乙 基、戊基乳碳基乙基、己基氧幾基甲基、庚基氧幾基乙基、 辛基氧板基乙基、壬基氧叛基乙基、癸基氧幾基乙基 '十 …氧爹炭基甲基、四氫糠基幾基甲基、四氫祿基甲基幾 基乙基等,特別是甲氧基幾基甲基、甲氧基幾基乙基、乙 氧基幾基甲基、乙氧基幾基乙基。 C8_C2〇苯氧基羰基烷基坑ϊ-,其中,
Cl C|3炫基具有如上對於CrC2Q:^基所示之意義,至最高達 10 適當之C-原子數。 、·-τ取代之Cs-Cm苯氧基幾基烧基係,例如,經取代1至4 1 2,或3次,特別是2或3次。苯基環上之取代 基車乂佳係、於位置4或於苯基環上之3,4_、Ό_、、2,4_ 或2,4,6-結構’特別是於4_或34_結構。 】_CH)烷撐基係線性或分支之烷撐基,例如,甲撐基、 乙撐基、丙樓基、丨_曱基乙撐基、1,1-二甲基乙撐基、丁撐 基、i-甲基丙撐基、2-曱基-丙撐基、戊撐基、己撐基等。
Cl_C2()雜芳基烧基,例如,C2-C2〇-、c5-c2〇-、c6-c20雜 芳基烧基’係經由烷基鍵結之雜芳基。相對應之烷基係如 20上所定義。於本發明之内容中,雜芳基係意指包含一環或 多振系統’例如,稠合環系統。例子係噻吩基、苯并[b]噻 吩基、蔡并[2,3-b]噻吩基、噻蒽基、二苯并呋喃基、色烯 基、咕噸基、噻噸基、啡号噻、吡咯基、咪唑基、吡唑基、 200918503 吼°秦基、11密σ定基、噠嗪基、吲嗓σ秦基、異吲σ朵基、吲σ朶基、 吲哇基、嘌呤基、αΙ嗪基、異喧琳基、啥琳基、酞°秦基、 萘咬基、唾°惡琳基、啥。坐琳基、增琳基、蝶°定基、°卡°坐基、 β-°卡巴琳、菲咬基、吖咬基、伯咬基、菲羅琳基、吩嗓基、 5 異嗟嗤基、吩°塞嗪基、異11 惡峻基、σ夫咱基、吩嚼°秦基、7-菲 基、蒽醌-2-基(=9,10-二氧-9,10-二氫蒽-2-基)、3-苯并[b] 噻吩基、5-苯并[b]噻吩基、2-苯并[b]噻吩基、4-二苯并呋 喃基、4,7-二苯并呋喃基、4-甲基-7-二苯并呋喃基、2-咕噸 基、8-甲基-2-咕噸基、3-咕噸基、2-菲咢噻基、2,7-吩噁 10 噻基、2-吡咯基、3-吡咯基、5-曱基-3-吡咯基、2-咪唑基、 4-咪唑基、5-咪唑基、2-曱基-4-咪唑基、2-乙基-4-咪唑基、 2-乙基-5-咪唑基、1H-四唑-5-基、3-吡唑基、1-甲基-3-吡唑 基、1-丙基-4-17比11坐基、2-°比[7秦基、5,6-二甲基-2-11比°秦基、2-吲嵘嗪基、2-甲基-3-異吲哚基、2-甲基-1-異吲嵘基、1-甲 15 基-2-叫丨嵘基、1-甲基-3-。引哚基、1,5-二甲基-2-n引嵘基、1- 曱基-3-叫卜坐基、2,7-二甲基-8-嘌呤基、2-曱氧基-7-甲基-8-嘌呤基、2-啥°秦基、3-異喧琳基、6-異喧琳基、7-異啥琳 基、3-曱氧基-6-異喧琳基、2-哇琳基、6-喧琳基、7-啥琳基、 2-曱氧基-3-0查琳基、2-甲氧基-6-°!:琳基、6-酉太嗪基、7-面太 20 π秦基、1 -曱氧基-6-醜11秦基、1,4-二甲氧基-6-酉太σ秦基、1,8 -奈 。定-之-基^-啥嚼琳基乂-喧嗔淋基^一-二甲基^-啥噪淋基、 之一-二甲氧基^-啥嚼琳基^-啥嗯淋基〜了-喧嚼琳基〜之-二 曱基胺基-6-喹噁啉基、3-噌啉基、6-噌啉基、7-噌啉基、3-曱氧基-7-噌啉基、2-蝶啶基、6-蝶啶基、7-蝶啶基、6,7-二 200918503 曱氧基-2-蝶啶基、2-咔唑基、3-咔唑基、9-甲基-2-咔唑基、 9-甲基-3-咔唑基、β-咔巴啉-3-基、1-甲基-β-咔巴啉-3-基、 1 -甲基- β-0卡巴琳-6-基、3 -非σ定基、2 -0丫 σ定基、3 -α丫σ定基、 2-伯啶基、1-甲基-5-伯啶基、5-菲羅啉基、6-菲羅啉基、1-5 吩°秦基、2-吩嗪基、3-異嗔嗤基、4-異α塞嗤基、5-異11 塞α坐基、 f 2-吩°塞°秦基、3-吩°塞°秦基、10-甲基-3-吩'^塞唤基、3-異°惡唾 基、4-異噁唑基、5-異噁唑基、4-曱基-3-呋咱基、2吩噁嗪 基、10-甲基-2-吩噁嗪基等。 C1-C20雜方基氧幾基烧基,例如,C3-C20-、C5-C20-、 10 C6-C2〇雜芳基氧羰基烷基,表示另外載荷OCO-烷基-作為鍵 結基之如上定義之雜芳基,其中,烧基係最高達適當C-原 子數之如上所定義。例子係噻吩基-CO-烷基、呋喃基-CO-炫基-等。 匚1_匚2〇雜^基α塞烧基,例如 ’ C2-C20-、C5-C20-、C6-C20 15 雜芳基噻烷基,表示另外載荷S-烷基-作為鍵結基之如上定 1 義之雜芳基,其中,烷基係最高達適當之C-原子數之如上 I 所定義。例子係噻吩基-S-烷基、呋喃基-S-烷基-等。 C〇-C2〇胺基表不胺基-NRXRy ’其中’ Rx及Ry彼此獨立 地係氫或crc2()烷基,其中,烷基係如上所定義。例子 20 係-NH2、甲基胺基、乙基胺基、丙基胺基、丁基胺基、二 曱基胺基、二乙基胺基、二丙基胺基、二丁基胺基、甲基 乙基胺基、甲基丙基胺基、乙基丙基胺基等。 c 1-C2Q胺基烧基表示以如上定義之C〇-C2〇胺基取代之 如上定義之CrC2〇烷基:-CrC2。烷基-NRxRy。 9 200918503 CH:25烯基、CVC2。雜芳基烷基、c3_C2G烷氧基羰基烷 基、CVCm苯氧基羰基烷基、c6-C2〇雜芳基氧羰基烷基、 CVCm雜芳基硫烷基,及CVC2()胺基之適合取代基係,例 如,一或多個鹵素、CrC20院基、(VCu鹵烷基、crc20醯 5基、經基、CrQo烧氧基、C6-C2Q芳基氧、Q-C20醯基氧、 C2_C2〇烷氧基羰基、C7_C2()芳基氧羰基、Crc2()烷基胺基、 二(〇(:20烧基)胺基、c6-c20芳基胺基、二(c6-C2〇芳基)胺 基、c6-c20芳基、c5-c20雜芳基、c5-C2〇雜芳基-(CO)O、 C5-C2〇雜芳基-S、CN、N02、crc20烷基磺醯基、c6-c20芳 10基磺醯基、Ci-C2〇烷基胺基羰基、二(CrC2Q烷基)胺基羰基、 C6-C2〇芳基胺基羰基、二(cvC2〇芳基)胺基羰基、CVC20醯基 -(CrCioSi基氧)-胺基、CVC2。院基硫基,及c6_c2。芳基硫基。 鹵素係I、氣、漠,及峨,例如,氯、I,及溴,特 別是氯及氟。 15 C1_C12鹵烷基係以如上定義之鹵素取代之如上定義之 Q-C^2烷基。烷基係,例如,單或多鹵化,最高達全部H_ 原子以鹵素替換。其係,例如,cnHXHaly,其中,x+y = 2n+1 且Hal係鹵素,特別是F。特別例子係氣曱基、三氯甲基、 三氟甲基,或2-溴丙基,特別是三氟曱基,或三氯甲基。 ί〇 Cl_C2G醯基相對應於Ci-Qo烷醯基、C6-C2G芳基羰基, 或^-仏。雜芳基幾基,且係線性、分支,或環狀,且係,例 如,CrCu-、Cl-Cl4_、Cl_Ci2_、CrCV、Ci c6 或^ C4 醯基,或C4-C12-或c4-c8醯基。例子係甲醯基、乙醯基、丙 醯基、丁醯基、異丁酸基、戊醯基、己醯基、庚酿基、辛 10 200918503 醯基、壬醯基、癸醯基、十二烧醯基、十四烧酸基、十五 炫驢基、十六烧臨基、十八炫醯基、二十炫醯基、苯曱醯 基、2-甲苯醯基、4-曱苯醯基、4-甲氧基苯甲醯基、2-氯 苯甲醯基、2,4-二氯苯曱醯基、1-萘曱醯基、2-萘甲醯基、 5 2-呋喃基羰基、2-噻吩基羰基,較佳係乙醯基。 CVCm烷氧基係線性或分支或環狀,且係,例如, C「C18-、CVCm-、CVCu-、CrCV、CVC6-或CVC4-烷氧基。 例子係曱氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正丁基氧、 第二丁基氧、異丁基氧、第三丁基氧、戊基氧、己基氧、 10 庚基氧、2,4,4-三甲基戊基氧、2-乙基己基氧、四氫康基氧、 四氫糠基甲基氧、辛基氧、壬基氧、癸基氧、十二烷基氧、 十六烷基氧、十八烷基氧,或二十烷基氧,特別是甲氧基、 乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正丁基氧、第二丁基氧、異 丁基氧、第三丁基氧,特別是甲氧基。 15 c6-c20芳基氧表示CrC20芳基-0-,其中,c6-c20芳基係 如下所定義。例子係苯基氧、1-萘基氧,或2-萘基氧,特別 是苯基氧。 CVC20醯基氧表示CrC20醯基-Ο,其中,CVC20醯基係 如上所定義。 20 C2-C2Q烧氧基幾基係線性或分支或環狀,且係,例如, 甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正丁基氧羰基、 異丁基氧羰基、四氫糠基氧羰基、四氫糠基甲基氧羰基、 1,1-二甲基丙氧基羰基、戊基氧羰基、己基氧羰基、庚基氧 幾基、辛基氧幾基、壬基氧幾基、癸基氧叛基,或十二烧 11 200918503 基氧羰基,特別是甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、 正丁基氧羰基,或異丁基氧羰基,較佳係曱氧基羰基。 (:7-(:20芳基氧羰基表示c6-c20芳基-o-(co)-,其中, c6-c2〇芳基係如下所定義。 5 C6-C2Q芳基胺基及二(C6-C20方基)胺基之意義係相對應 於對於C〇-C2〇胺基基-NRxRy所示者,但此等基中之烧基係 以如下定義之芳基替代。
CrC2()烷基胺基羰基、二(CrC2()烷基)胺基羰基、Q-Cm 芳基胺基羰基,及二(CrC^芳基)胺基羰基係相對應於 10 與-CO-鍵結之如上定義之基。
C1-C20醯基-(C1-C20酉篮基oxy)-胺基係相對應於一N~RX 〇-Ry 基,其中,Rx及Ry係如上定義之CrCso醯基。 匚6_匸2〇方基係’例如’本基、奈基、恩基’或非基’特 別是苯基或萘基,較佳係苯基。 15 G-C20雜芳基之例子係如上於CrC2()雜芳基烷基之定 義内容中所示。 Q-C20雜芳基-(co)o&c1-c2〇雜芳基-S之定義係考量 對於雜芳基之定義而自行解釋。
Cl -C2Q^ 基續酿基係,例如 ’ C 1 -Cl 8_、C 1 -Ci2_、C 1 -Cl 〇-、 20 CVCV、CrC7-、CrC6-、CVC4-烷基磺醯基。其係CrC20烷 基-S03-,其中,烷基部份係如上所定義。例子係甲基磺醯 基、乙基磺醯基、丙基磺醯基、異丙基磺醯基、正丁基磺 醯基、第二丁基磺醯基、異丁基磺醯基、第三丁基磺醯基、 12 200918503 癸基磺醯基、十二烷基磺醯基、二十烷基磺醯基等。 CVQo芳基磺醯基係C6-C20芳基-S〇3-,其中,芳基部份 係如上所定義。
Cl-C2Q烷基硫基係線性或分支,且係,例如,Ci_Ci〇_、 5 CrCV、(^-(^-或心-匸4院基硫基。例子係甲基硫基、乙基硫 基、丙基硫基、異丙基硫基、正丁基硫基、第二丁基硫基、 異丁基硫基、第三丁基硫基、戊基硫基、己基硫基、庚基 硫基、2,4,4-二甲基戊基硫基、2_乙基己基硫基、辛基硫基、 壬基硫基、癸基硫基,或十二烷基硫基,特別是甲基硫基、 10乙基硫基、丙基硫基、異丙基硫基、正丁基硫基、第二丁 基硫基、異丁基硫基、第三丁基硫基,較佳係甲基硫基。 Cl-C2〇芳基硫基 若1^與咔唑環一起形成一環,鍵結基係選擇性經取代 之匸,-^烷撐基、-(CH=CH)n-,或,或其等之混 15 合物。 此鍵結基之選擇性取代基係一或多個齒素、烷基、 CkCuiS烧基、CVC2。醯基、cvc:2。烧氧基、Ci_c2。芳基氧、 CVC^o醯基氧、C丨-C2〇烷氧基羰基、CrC2〇芳基氧羰基、 CVCm烷基胺基 '二(CrC2。烷基)胺基、芳基胺基、二 20 (crc20芳基)胺基、Cl_c2o芳基、Ci_c2〇雜芳基、c]_C2〇雜 芳基-(co)o、Cl-C20雜芳基_s、CN、N〇2、C〗_C2戚基確醯 基Ci •基石基、(^-C^o院基胺基幾基、二 基)胺基縣、C1-C20芳基胺基幾基、冰心。芳基)胺基羰 13 200918503 基、醯基_(CrC2禮基氧)_胺基、
Cl-C20芳基硫基。 20烷基硫基、 若”心與咔唑環—起形 „ 战衣相對應結構之例子係
形成之環選擇性地以,例如,如上對於C2_C25稀基、 Cj-C2。雜芳基烷基、c c 10 15 20 成乳基《絲、c8_C2G苯氧基 厌土 U 2°雜芳基氧絲、C…雜芳基硫基烧 基Co C2〇胺基及Ci_c2〇胺基烧基所示之取代基取代。 秦基係1_萘基或2-萘基,較佳係1-秦基。 噻吩基係2-嗔吩基或3♦分基,較佳係H分基。 吱喃基係2·料基或南基,較佳❸咬喃基。 於本内容中之“及/或,,或“或/及,,之用辭係意指表示不 僅所定義之錢物(取代基)之—者可存在,心所定義之另 類物(取代基)讀者村—赫在類物(取代 基)之混合物。 例如,一或二或 “至少”一辭係意指定義一或多於一, 較佳係一或二。 選擇性經取代,,—辭意指所指之基係未經取代或經取 200918503 於此說明書及其下之申請專利範圍,除非内容有其它 需要’否則“包含,,(comprise)_辭,或變體(諸如“⑶咖似” 或“comprising”)被瞭解係暗指包含所述之整數或步驟或整 數或步驟之族群,但並未排除任何其它之整數或步驟或整 5 數或步驟之族群。
Ar較佳係萘基或噻吩基,特別是丨_萘基或孓噻吩基。 R!特別係,例如’(^七扣烷氧基羰基烷基,或以―广巳 〇-R5 取代之C1-C2G烧基。 R2如Ci_C2〇燒基較佳係Ci-Cs烧基,特別是(^_(^4烧基, 10即’曱基或乙基,特別是乙基。 以—取代之Cl_C20烷基中之尺4及仏較佳係相同,且 表示CrCs烷基羰基,特別是CrC4烷基羰基,即,乙醯基或 丙醯基,特別是乙醯基。 進一步感興趣者係化學式I之化合物,其中, 15 Ri係C2_C25稀基、(^-(^。雜^基貌基、(^3-〇20炫1氧美罗炭 基院基、Cg-C^o苯氧基炭基炫基、C丨-C:2〇雜芳基氧幾基烧 基、crC2◦雜芳基硫基烷基、ο;胺基,或Ci_C2〇胺基烧 基,其等之所有者係未經取代或經取代;或R!係以_γ ~取 0-R: 代之C I -C2G烧基; 20 或R1係經由選擇性經取代之CrC1G炫撐基、 -(CH=CH)n-、-(C ξ C)n-或其等之混合物作為鍵結基與咔唑 15 200918503 環一起形成一環;其中,該形成之環係未經取代或經取代; η係0至3之整數; R2係C1-C2Q烧基, R_4及R5彼此獨立地係鼠或C 1 -C2G烧基姨基, 5 Ar係選擇性經取代之萘基、噻吩基,或呋喃基;特別 是滿足如上所述之需求。 化學式I之其它較佳化合物係其中
Rl係C3-C2Q烧氧基叛基烧基或以_f^J-R4取代之Ci -C20烧 〇-r5 基; 10 R>2係乙基, R4及R5彼此獨立地係乙醯基;且 Ar係選擇性經取代之萘基或噻吩基。 依據本發明之化合物之特別例子係
15
Ar r2 Ri C1 1 -秦基 乙基 -ch2ch2co2c2h5 C2 1 -秦基 乙基 -ch2co2ch3 C3 1 -秦基 乙基 -C(CH3)=CH2 C4 1 -秦基 乙基 -ch=chch3 C5 1-萘基 乙基 H 9 —C-C-N-C-CH, H2 C O-C-CH3 h3 ΰ C6 1-萘基 乙基 H 9 _c_c-n-c-ch3 S 2〇-ir-CH3 3 〇 16 200918503
Ar r2 Ri C7 1 -秦基 乙基 -CH2CH(CH3)-1形成一環 C8 1 -秦基 乙基 -CH(CH3)CH2-n形成一環 C9 1-秦基 乙基 -CH=C(CH3)-3形成一環 CIO 4-曱基-1-秦基 乙基 -ch2ch2co2c2h5 Cll 2-乙氧基-1 -秦 基 乙基 Η兄 —C-C-N-C-CK H2 C 6-C-CH3 H3 3 C12 5 - >臭-1 -秦基 乙基 -ch2ch2co2c2h5 C13 4-氟-1-萘基 乙基 Η 11 —C-C-N-C-CH, C O-C-CH3 h3 6 C14 4-氣-1 -秦基 乙基 -ch2ch2co2c2h5 C15 6-曱氧基-1-萘 基 乙基 H 1? -c-c-n-c-ch3 2 C O-C-CH, H3 6 C16 2-萘基 乙基 -ch2ch2co2c2h5 C17 2-萘基 乙基 H 1? —C-C-N-C-CH3 H2 c o-c-ch, H3 6 C18 2-萘基 乙基 -CH2CH(CH3)-*形成一環 C19 1-嗜吩基 乙基 -ch2ch2co2c2h5 C20 1-嗔吩基 乙基 Η 11 —C-C-N-C-CH, H2 C O-C-CH3 H3 ΰ C21 1-嗔吩基 乙基 -CH2CH(CH3)-*形成一環 C22 2-嗔吩基 乙基 ch2ch2co2c2h5 C23 3-曱基-2-噻吩 基 乙基 -ch2ch2co2c2h5 C24 2-嘴吩基 乙基 H 1? 一?tC_CH3 2 C 0-C-CH7 H3 ΰ C25 2-嗔吩基 乙基 -CH2CH(CH3)-*形成一環 C26 1 -咬喃基 乙基 -ch2ch2co2c2h5 17 200918503 *1 ~〜----- 一__Ar r2 R. C27 -·—— _ κ呋喃基 --—~~~ 乙基 H 1? m_c_CH3 n2 C O-C-CH, H3 6 C28 Ν呋喃基 乙基 -CH2CH(CH3)-*形成一環 C29 . 2^喃基 乙基 -ch2ch2co2c2h, C30 2-呋喃基 乙基 H 9 —C-C-N-C-CH, H? c o-c-ch3 H3 6 C31 2_呋喃基 乙基 CH2CH(CH3)-*形成一環 *2
*3
化學式I之肟酯8係自相對應之肟藉由文獻中所述之方 製備例如,藉由使相對應之肟與醯基鹵化物(特別是氯 化物)或酐與惰性溶劑(諸如,二乙基醚、第三丁基曱基喊、 四氫呋喃(THF)'乙酸乙酯、甲苯、二甲苯、丙酮、甲基乙 基酮、二氣曱烷、氣仿、氯苯 '二甲基乙醯胺,或二甲基 曱醯胺)中’於驗(例如,三乙基胺、二異丙基乙基胺、氮氧 化鉀、氫氧化鈉、氫化納、2,6-盧咬或心定)存在中,或於 鹼性溶劑(諸如,吡啶)中反應。例如: 0 Hal-0-CH3
及Ar係如上所定義。Hal意指鹵素原子,特別是α。 此等反應係熟習此項技藝者所知,且—般係於15至 18 200918503 +50°C ’較佳係〇至25°C,之溫度實行。 因此,本發明之標的係一種製備如上所述之化學式I之 化合物之方法,其係藉由於鹼或鹼混合物存在中使化學式 la之肟化合物
及Ar係如上所定義; f 與化學式V或VI之醯基i化物或酐反應
Hal-C-CH3 (V) 0 0
II II /T rxN H3C-C-0-C-CH3 (VI), 其中,Hal表示鹵素原子。 10 本發明之標的進一步係如上所定義之化學式la之化合 物。 本發明之另一標的係一種如上所述之方法,其中’化 學式la,仏係以-NHOH取代之CVC20烷基。 作為起始材料所需之肟可藉由標準化學教科書(例 15 如,J. March, Advanced Organic Chemistry,第 4版 ’ Wiley Interscience, 1992)或專門之專題論作(例如 ’ S.R. Sandler & W. Karo, Organic functional group preparations ’ 第 3冊’
Academic Press)中所述之各種方法獲得。 最方便方法之一係’例如,使醛或酮與羥基胺或其鹽 20 於諸如二甲基甲醯胺(DMF)、二甲基乙醯胺(DMA)、N-甲 基吡咯烷酮(NMP)、二甲基亞砜(DMSO)、甲醇、乙醇、異 19 200918503 丙醇、乙二醇、乙酸乙酯、第三丁基曱基醚、二甘醇二曱 基醚、曱笨、氣苯、二氣苯等之溶劑中反應。此等溶劑之 混合物亦適於此反應。諸如乙酸鈉或°比咬之驗被添加以控 制反應混合物之pH。已知反應速率係依pH而定,且鹼係於 5 開始時或此反應期間連續添加。水被添加至反應混合物以 使無機試劑溶解。諸如。比°定之驗性溶劑亦可作為驗及/或溶 劑或共溶劑。反應溫度一般係室溫至混合物之迴流溫度, 一般係約20-120°C。羰基可藉由控制反應溫度或藉由選擇 溶劑而選擇性地被轉換成肟,因為反應速率係依此等而 10 定。一般’醛係最具反應性,其後係二烷基鋼I、烷基芳基 酮,且二芳基酮係較不具反應性。 當α ,/S-不飽和羰基與羥基胺或其鹽於上述條件下反 應時,羥基胺基可被引至羰基之点位置上。如Bulletin des
Societes Chimiques Beiges (1987),96(4),293-302及Acta 15 Chimica Hungarica (1989), 126(6),813-20 中所述,$ _羥基 胺基-肟可自相對應之α,/3 -不飽和酮藉由使用羥基胺或其 鹽而合成。反應條件之調整對於係羰基選擇性轉換成肟係 必要。—gU基可’例如,藉由使經基胺基與醯基氣化物 U Μ Ο [RCOC1]或酐[(RCO)2〇]於如上所述之鹼性條件下反應而製 20 備。 因此,本發明之標的亦係一種用以製備如上定義之化 學式la之化合物之方法,其中,R,係以-NHOH取代之crC2() 烷基,其係藉由使化學式lb之酮化合物 20 200918503
Ri係未經取代或經取代烯其, R·2及Ar係如上所定義; 與羥基胺或其鹽反應。 特別較佳係-種如上所述之方法,其中,化學式化之 f
其與羥基胺或其鹽反應產生化合
Ar及&係如上所定義。 相對應之酮中間產物係,例如,藉由文獻(例如, W〇20〇5_〇8〇337A1)中所述之方法製備。此等反應係熟習此 10 項技藝者所知。 肟之另一方便之合成係“活性,,甲撐基與亞硝酸或烷基 亞硝酸鹽之亞硝化反應。鹼性條件(例如,於0rganic Syntheses coll. Vol. VI (J. Wiley & S〇ns, New York, 1988) > 199及840所述)及酸性條件(例如,於㈣抓化加出⑹複 15 vol V’32 及 373 頁 ’col]. ν〇1. ΙΠ,第 191 及 513 頁,c〇n ν〇1π, 第202、204及363頁)皆適於製備作為本發明之起始材料之 將。亞石肖酸-般係自亞硝酸鈉產生。貌基亞石肖酸鹽可為, 例如’甲基亞石肖酸鹽、乙基亞確酸鹽、異丙基亞确酸鹽、 21 200918503 丁基亞硝酸鹽,或異戊基亞硝酸鹽。 、母一㈣基m結構’(z)綱,存在。可藉由傳統 方法分離此料構物,但亦可使用異構物混合物作為光起 始劑物種。因此,本發明亦係有關於化學幻之化合物之結 構異構物之混合物。 化學式1之化合物係適於作為基光起始劑。 因此,本發明之另—標的係一種可光聚合之!且成物, 包含 (a)至少-乙稀不飽和之可光聚合之化合物,及 10 ⑻作為光起始劑之至少_如上所定義之化學式【之化 合物。 此組成物除光起始劑(b)外可另外包含至少一另外之光 起始劑(c),及/或其它添加劑(句。 不飽和化合物(a)可包含一或多個烯烴雙鍵。其可為低 15 (單體)或高(募聚物)之分子質量。含一個雙鍵之單體之例子 係烷基、羥基烷基、環烷基(選擇性地以〇間斷)或胺基之丙 稀酸自曰,或烧基、輕基烧基、環烧基(選擇性地以〇間斷)或 胺基之甲基丙烯酸S旨,例如,甲基、乙基、丁基、2_乙基 己基或2-¾基乙基之丙烯酸醋、丙稀酸四氫糠自旨、丙稀酸 20異冰片酯、曱基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸環己酯,或甲基 丙稀酸乙S旨。碎嗣丙稀酸S旨亦係有利。其它例子係两稀猜、 丙烯醯胺、曱基丙烯醯胺、N-取代之(曱基)丙烯醯胺,乙烯 基酯(諸如,乙酸乙烯酯)、乙烯基醚(諸如,異丁基乙婦基 醚)、笨乙烯、烷基及鹵苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷_、氯乙 22 200918503 稀’或氣亞乙烯。 合有二或更多個雙鍵之單體之例子係乙二醇、丙二 醇新戊基二醇、雙酚A之六甲撐基二醇,及4,4,-雙(2-丙埤 基氧乙氧基)二苯基丙烧之二丙烯酸酯、三甲基醇丙燒三 丙歸酸略、季戊四醇之三丙烯酸酯或四丙烯酸酯、丙烯酸 9、一乙烯基苯、二乙稀基琥珀酸酯、二烯丙基秋酸 二烯丙基磷酸酯、三烯丙基異氰脲酸酯,或三(2-丙烯 醯基乙基)異氰脲酸酯。 相對較高分子質量之聚不飽和化合物(寡聚物)之例 0 係(¾、说酿& 1S曰化之環氧樹脂、含有丙稀酸醋、乙稀基鱗或王裏 氧基之聚酯,及聚胺甲酸酯及聚醚。不飽和募聚物之進〜 步例子係一般係自馬來酸、酞酸及一或多種之二醇製備且 具有約500至3000之分子量之不飽和聚酯樹脂。此外,亦可 使用乙烯基醚單體及寡聚物,及具聚酯、聚胺甲酸酯、聚 15 喊、聚乙烯基醚及環氧主鏈之以馬來酸酯終結之寡聚物。 特別適合係載荷乙烯基醚基之寡聚物及如WO 90/01512中 所述之聚合物之混合物。但是,乙烯基醚及馬來酸官能化 單體之共聚物亦適合。此種不飽和寡聚物亦可稱為預聚物。 特別適合之例子係乙烯不飽和叛酸及多元醇或聚環氧 20化物之I旨,及於鏈或側基具有乙稀不飽和基之聚合物,例 如,不飽和聚酯、聚醯胺’及聚胺甲酸醋及其共聚物’於 倒鏈含有(甲基)丙烯基之聚合物及共聚物,及一或多種此等 聚合物之混合物。 不飽和敌酸之例子係丙稀酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、 23 200918503 衣康酸、肉桂酸,及不飽和脂肪酸(諸如,亞麻酸或油酸)。 丙烯酸及甲基丙烯酸係較佳。 適合之多元醇係芳香族及,特別是,脂族及環脂族之 多元醇。芳香族多元醇之例子係醌酮、4,4’-二羥基聯苯、 5 2,2-二(4-羥基苯基)丙烷,及酚醛清漆樹脂及酚醛樹脂。聚 環氧化物之例子係以上述多元醇(特別是芳香族多元醇,及 表氣醇)為主者。其它適合之多元醇係於聚合物鏈或於側基 含有羥基之聚合物及共聚物,例子係聚乙烯基醇及其共聚 物,或聚羥基烷基甲基丙烯酸酯或其共聚物。適合之另外 10 多元醇係具有羥基端基之寡聚酯。 脂族及環脂族之多元醇之例子係較佳具有2至12個C原 子之烷撐基二醇,諸如,乙二醇、1,2-或1,3-丙二醇、1,2-、 1,3-或1,4-丁二醇、戊二醇、己二醇、辛二醇、十二烷二醇、 二甘醇、三甘醇、具有較佳為200至1500之分子量之聚乙二 15 醇、1,3-環戊二醇、1,2-、1,3-或1,4-環己二醇、1,4-二羥基 甲基環己烷、丙三醇、三(β-羥基乙基)胺、三甲基醇乙烷、 三甲基醇丙烷、季戊四醇、二季戊四醇,及山梨糖醇。 多元醇可以一羧酸或不同之不飽和羧酸部份或完全地 酯化,且於部份之酯,游離之羥基可被改質,例如,以其 20 它羧酸醚化或酯化。 西旨之例子係: 三甲基醇丙烷三丙烯酸酯、三甲基醇乙烷三丙烯酸酯、三 甲基醇丙烷三曱基丙烯酸酯、三曱基醇乙烷三甲基丙烯酸 酯、四曱撐基二醇二甲基丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸 24 200918503 酉旨、四甘醇二丙稀酸s旨、季戊四醇二丙烯酸醋、季戊四醇 三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸 酯、二季戊四醇三丙稀酸酯、二季戊四醇四丙浠酸酯、二 季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三季戊四 5 醇八丙烯酸酯、季戊四醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三曱 基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇四 曱基丙烯酸酯、三季戊四醇八甲基丙烯酸酯、季戊四醇二 衣康酸酯、二季戊四醇三衣康酸酯、二季戊四醇五衣康酸 酯、二季戊四醇六衣康酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二 10 醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二曱基丙烯酸酯、1,4-丁二醇二 衣康酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、 季戊四醇改質之三丙烯酸酯、山梨糖醇四甲基丙烯酸酯、 山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯。寡聚酯之丙 稀酸S旨及甲基丙稀酸自旨s、丙三醇之二丙烯酸S旨及三丙稀酸 15 酯、1,4-環己烷二丙烯酸酯、具有200至1500之分子量之聚 乙二醇之雙丙烯酸酯及雙甲基丙烯酸酯,或其等之混合物。 亦適於作為組份(a)係相同或不同之不飽和羧酸與較佳 具有2至6(特別是2至4)個胺基之芳香族、環脂族及脂族之聚 胺之醯胺。此等聚胺之例子係乙二胺、1,2-或1,3-丙二胺、 20 1,2-、1,3-或 1,4-丁二胺、1,5-戊二胺、1,6-己二胺、辛二胺、 十二烷二胺、1,4-二胺基環己烷、異佛爾酮二胺、苯二胺、 雙本一胺、二-β-胺基乙基謎、二乙擇基二胺、二乙撐基四 胺、二(β-胺基乙氧基)-或二(β-胺基丙氧基)乙烧。其它適合 之聚胺係較佳於側鏈具有另外之胺基之聚合物及共聚物, 25 200918503 及具有胺基端基之寡聚醯胺。此等不飽和醯胺之例子係甲 撐基雙丙烯醯胺、1,6-六甲撐基雙丙烯醯胺、二乙撐基三胺 三甲基丙烯醯胺、雙(甲基丙烯醯胺基丙氧基)乙烷、β-甲基 丙烯醯胺基乙基甲基丙烯酸酯,及Ν-[(β-羥基乙氧基)乙基] 5 丙稀醯胺。 適合之不飽和聚S旨及聚醯胺係自,例如,馬來酸及自 二醇或二胺衍生。某些馬來酸可以其它二羧酸替代。其可 與乙烯不飽和共單體(例如,苯乙烯)使用。聚酯及聚醯胺亦 可自二羧酸及自乙烯不飽和二醇或二胺(特別自具有,例 10 如,6至20個C原子之相對較長之鏈者)衍生。聚胺曱酸酯之 例子係由飽和或不飽和之二異氰酸目旨及不飽和,或個別 地,飽和二醇所組成者。 於側鏈具有(甲基)丙烯酸酯基之聚合物同樣地係已 知。其可為,例如,以酚醛清漆樹脂為主之環氧樹脂與(甲 15 基)丙烯酸之反應產物,或可為以(甲基)丙烯酸酯化之乙烯 基醇或其羥基烷基衍生物之均聚物或共聚物,或可為以羥 基烷基(甲基)丙烯酸酯酯化之(曱基)丙烯酸酯之均聚物及 共聚物。 於側鏈具有丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯之其它適合聚合 20 物係,例如,溶劑可溶或驗可溶之聚醯亞胺先質,例如, 於分子内具有與主幹或酯基附接之可光聚合之側基之聚 (醯胺酸酯)化合物,即,依據ΕΡ 624826。此等寡聚物或聚 合物可與新的光起始劑及選擇性之反應性稀釋劑(如,多官 能性之(曱基)丙烯酸酯)配製以製備高敏感性之聚醯亞胺先 26 200918503 質阻劑。 可光聚合之化合物可單獨或以任何所欲之混合物使 用。較佳係使用多元醇(甲基)丙烯酸醋之混合物。 組份(a)之例子亦係於分子結構内具有至少二乙烯不飽 5 和基及至少一羧基官能性之聚合物或寡聚物,諸如,藉由 飽和或不飽和之多元酸酐與環氧化合物及不飽和單叛酸之 反應產物反應而獲得之樹脂,例如,JP 6-1638及JP 10301276 中所述之光敏性化合物,及諸如EB9696,UCB Chemicals ; KAYARAD TCR1025, Nippon Kayaku Co.,LTD.之商業上之 i〇 產物,或含羧基之樹脂及具有α,β-不飽和雙鍵及環氧基之 不飽和化合物間形成之加成產物(例如,ACA200M, Daicel Industries, Ltd.)。 作為稀釋劑,單或多官能性之乙稀不飽和化合物,或 數種該等化合物之混合物,可以最高達70重量%(其係以組 15 成物之固體部份為基準計)包含於上述組成物内。 本發明之標的亦係一種如上所述之可光聚合之組成 物,其中’組份(a)係藉由飽和或不飽和之多元酸酐與環氧 樹脂及不飽和單羧酸之反應產物反應而獲得之樹脂。 此等組份係,例如,描述於JP06-1938、JP08-278629、 20 JP08-278630 、 JP10-301276 、 JP2001-40022 、 JP10-221843 、 JP11-231523、JP2002-206014-A或JP2006-53569-A,其等之 揭露内容在此被併入以供參考之用。 不飽和之化合物(a)亦可以與不可光聚合之形成膜之組 份之混合物使用。此等可為,例如,物理性乾燥之聚合物 27 200918503 或其於有機溶劑内之溶液,例如,硝基纖維素或纖維素乙 醯基丁酸酯《但是,其等亦可為可化學及/或熱固化(可熱固 化)之樹知,例子係聚異氰酸醋、聚環氧化物,及密胺樹脂, 與聚醯亞胺先質。同時使用可熱固化之樹脂對於稱為混雜 5系統(其於第一階段係光聚合,且於第二階段係藉由熱後處 理交聯)之系統中之使用係重要。 本發明亦提供包含作為組份(a)之於水中乳化或溶解之 至少一乙烯不飽和可光聚合之化合物之組成物。 此等可以輻射固化之水性預聚物分散液之各種變體係 10可購得。預聚物之分散液被認為係水及分散於其間之至少 一預聚物之分散液。於此等系統内之水的濃度係,例如,5 至80重量%,特別是30至60重量%。可以輻射固化之預聚物 或預聚物混合物之濃度係,例如,95至2〇重量%,特別是 70至40重篁%。於此等組成物,水及預聚物所示之百分率 15之總和於每-情況係100,且輔助劑及添加劑可依所欲用途 而定以不同量添加。 分散於水中且經常亦溶解之可以輕射固化之形成膜之 預聚物係本身係已知,可藉由自由基起始,且具有,例如, 每100克預聚物為0·01至1.0莫耳之含量之可聚合之雙鍵 20及,例如’至少400,特別是5〇〇至1〇,〇〇〇,之平均分子量 之單或多官能性之乙烯不飽和預聚物之水性預聚物分散 液。但疋’具有更南分子量之預聚物依所欲應用而定亦可 被考ΐ。使用者係’例如,含有可聚合之c_c雙鍵且具有不 多於K)之酸數之«,含有可聚合之c_c雙鍵之聚鍵,每分 28 200918503 子含有至少二環氧化物基之聚環氣化物與至少一 α,β-乙嫦 基不飽和叛酸之含經基之反應產物,聚胺甲酸醋(曱基)丙稀 酸酯,及含有α,β-乙浠不飽和丙烯基之丙烯共聚物,如於 ΕΡ 12339中所述者。此等預聚物之混合物同樣地可被使 5 用。亦適合者係ΕΡ 33896中所述之可聚合之預聚物,其係 具有至少600之平均分子量,〇.2至15%之羧基含量,及每100 克之預聚物為0.01至0.8莫耳含量之可聚合之C-C雙鍵之可 聚合之預聚物之硫醚加成物。其它適合之以特定之烷基(甲 基)丙烯酸酯聚合物為主之水性分散液係描述於ΕΡ 41125, 10 且胺基甲酸酯丙烯酸酯之適合之水可分散可以輻射固化之 預聚物可於DE 2936039中發現。 可被包含於此等可以輻射固化之水性預聚物分散液内 之另外添加劑係分散輔助劑、乳化劑、抗氧化劑(例如,2,2-硫基雙(4-甲基-6-第三丁基酚)或2,6-二-第三丁基酚)、光安 15定劑、染料、色料、填料(諸如,玻璃或氧化鋁’例如,滑 石、石膏、矽酸、金紅石、碳黑、氧化鋅、氧化鐵)、反應 加速劑、勻化劑、潤滑劑、濕潤劑、增稠劑、消光劑、抗 發泡劑,及於塗料技術中慣用之其它輔助劑。適合之分散 輔助劑係具高分子質量且含有極性基之水溶性有機化合 20 物,例子係聚乙烯基醇、聚乙烯基吼咯烷酮,或纖維素鍵。 可使用之乳化劑係非離子性之乳化劑,且若要的話,亦可 為離子性乳化劑。 於某些情況,可有利地使用二或更多種新穎光起始劑 之混合物。當然亦可使用與已知光起始劑(c)而成之現合 29 200918503 物,例如,與樟腦醌;苯并醯苯、苯并醯苯衍生物,諸如, 2,4,6-三曱基苯并醯苯、2-曱基苯并醯苯、3-甲基苯并醯苯、 4-甲基苯并醯苯、2-曱氧基羰基苯并醯苯、4,4’-雙(氯曱基)苯 并醯苯、4-氯苯并醯苯、4-苯基苯并醯苯、3,3’-二甲基-4-5 甲氧基-苯并醯苯、[4(4-甲基苯基硫基)苯基]-苯基甲酮、甲 基-2-苯甲醯基苯甲酸酯、3-甲基-4’苯基苯并醯苯、2,4,6-三曱基-4’-苯基苯并醯苯、4,4’-雙(二甲基胺基)苯并醯苯、4,4’-雙(二乙基胺基)苯并醯苯;縮酮化合物,例如,聯苯醯二曱基 縮酮(IRGACURE® 651);乙醯苯、乙醯苯衍生物,例如, 10 α-羥基環烷基苯基酮,例如,2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙酮 (DAROCUR® 1173)、1-羥基-環己基-苯基-酮 (IRGACURE® 184) ; 1-[4-(2羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙-1-酮(IRGACURE®2959) ; 2-羥基-l-{4-[4-(2-羥基 -2-甲基-丙醯基)-苯甲基]-苯基}-2-甲基-丙-1-酮 15 (IRGACURE®127) ; 2-經基-1·{4·[4-(2經基-2-甲基-丙醯 基)-苯氧基]-苯基}-2-甲基-丙-1-酮;二烷氧基乙醯苯、α-羥基-或α-胺基乙醯苯,例如,(4-甲基硫基苯曱醯基)-1-甲基-1-嗎啉基乙烷(IRGACURE® 907)、(4-嗎啉基苯甲醯 基)-1-苯甲基-1-二甲基胺基丙烷(IRGACURE® 369)、,(4-20 嗎啉基苯甲醯基)-1-(4-甲基苯甲基)-1-二甲基胺基丙 烷(IRGACURE® 379)、(4-(2-羥基乙基)胺基苯曱醯基)-1-苯曱基-1-二甲基胺基丙烷)、2-苯甲基-2-二甲基胺基 -1-(3,4-二曱氧基苯基)丁-1-酮;4-丙烯醯基-1,3-二噁烷、 安息香烷基醚,及聯苯醯縮酮、苯基乙醛酸酯,及其衍生 30 200918503 物,例如,氧-苯基-乙基2_(2-羥基-乙氧基)-乙基酯、二聚 苯基乙醛酸酯,例如,氧-苯基-乙酸丨-甲基-2-[2-(2-氧-2-苯 基-乙醯氧基)-丙氧基]-乙基酯(IRGACURE® 754);另外之 肟酯,例如,1,2-辛二酮丨-[4-(苯基硫基)苯基]2-(0-苯甲醯 5基肟)(IRGACURE® OXE01)、乙酮1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲 醯基)-9H 咔唑-3-基]-l-(0-乙醯基 肟 XIRGACURE® OXE02)、9H-硫基咕噸-2-曱醛 9-氧 -2-(0-乙醯基肟)、WO 07/062963、WO 07/071797及 WO 05/080337中所述之將酯;過酸酯’例如’於,例如,EP126541 10 中所述之苯并醯苯四叛酸過酸酯,單醯基膦氧化物,例如, (2,4,6-二甲基本曱酿基)·一本基鱗氧化物 (DAROCUR® TPO),雙酸基膦氧化物,例如,雙(2,6-二曱 氧基-苯曱醯基)-(2,4,4-三曱基-戊基)膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯曱醯基)苯基膦氧化物(IRGACURE® 819)、雙 15 (2,4,6-三曱基苯甲醯基)-2,4-二戊氧基苯基膦氧化物、三醯 基膦氧化物、齒甲基三嗪,例如,2-[2-(4-甲氧基苯基)-乙 烯基]-4,6-雙-三氣曱基_[1,3,5]三嗪、2-(4-甲氧基-苯基)_4,6-雙-三氣甲基-[1,3,5]三嗪、2-(3,4-二甲氧基-苯基)·4,6-雙-三 氣甲基-[1,3,5]三嗪、2甲基-4,6-雙-三氣曱基-[1,3,5]三嗪、 20六芳基雙咪唑/共起始劑系統,例如,與2-酼基苯并嗟唑混 合之鄰-氣六苯基-雙咪唑,及4,4,_雙(二乙基胺基)笨并醯苯 二茂鐵化合物,或二茂鈦,例如,雙(環戊二烯基)-雙(2,6-二氟_3_吡咯基-笨基)鈦(IRGACURE®784)之混合物。再 土,硼酸鹽化合物可作為起始劑。 31 200918503 若新穎之光起始劑系統被用於混雜系統,除新穎之自 由基硬化劑外’係另外使用陽離子性之光起始劑、過氧化 物化合物’諸如,苯甲醯基過氧化物(其它適合之過氧化物 係描述於美國專利第4950581號案,第19欄,第17-25行), 5 10 15 20 例如,於US495〇581,第18欄,第60行至第19欄,第1〇行所 述之芳香族錡、鎮,或碘鏽鹽,或環戊二烯基芳烴_鐵(11) 錯合物鹽,例如,(肀_異_丙基苯)(η5_環戊二烯基)鐵⑴)六氟 磷酸鹽,與肟磺酸酯,例如,於ΕΡ780729中所述者。再者, 例如於£1>497531及ΕΡ 441232中所述之吡啶鏽及(異)嗪琳 鏽鹽可與新穎之光起始劑混合使用。 單蜀或/ w、匕已知之光起始劑及敏化劑混合之新賴光 起始磐可以於水巾之分散液或乳化《水性溶液之型式 使用右化合物^以乳化液或分散液使用時,方便之慣用 刀政戲札化劑被添加以製備安定之乳化液或分散液。相 對應之適合添加劑係熟習此項技藝者所知。 可光聚。之組成物—般包含〇 〇5至25重量% _至難量%,特別是_至5重量%之光起始劑,% 固體組成物為基準舛 ,、你以 寸。右起始劑之混合物被使用時此含量 ’、曰 之光起始劑之總和。因此,此含量係指光 始劑㈨或光起始劑(b)+(e)。 A先起 .it::::光聚合之混合物可包含各種添加劑 反應,例〜,'抑制劑,其係、意欲避免過早之聚合化 心 ’'氧喊、氣酉昆衍生物、對-甲氧基紛、β-萃盼或 位阻酚,諸如,2 6__ — _ π'呀或 ,—-第二丁基-對-甲紛。為增加於黑暗中 32 200918503 之貯存安定性,可,例如,使用銅化合物,諸如,銅之環 烷酸鹽、硬脂酸鹽,或辛酸鹽,磷化合物,例如,三苯基 膦、三丁基膦、三乙基膦、三苯基膦,或三苯甲基亞磷酸 鹽,季銨化合物,例如,四曱基銨氯化物或三曱基苯甲基 5 銨氯化物,或羥基胺衍生物,例如,N-二乙基羥基胺。為 排除聚合反應期間大氣之氧,可添加石蠟或相似之蠟狀物 質,其於聚合物内具有不適當之可溶性,於聚合反應開始 時遷移至表面,且形成透明表面層,而避免空氣進入。亦 可於塗層表面上塗敷氧不可滲透之層,例如,聚(乙烯基醇 10 -共-乙酸乙烯酯)。可以小量添加之光安定劑係UV吸收劑, 例如,羥基苯基苯并三唑、羥基苯基-苯并醯苯、草醯胺或 羥基苯基-s-三嗪型式者。此等化合物可個別或以混合物, 且具有或不具有位阻胺(HALS)而使用。 此等UV吸收劑及光安定劑之例子係 15 1. 2-(2^羥基笨基)苯并三唑,例如,2-(2’-羥基-5’-甲基苯基) 苯并三唑、2-(3',5'-二-第三丁基-2’-羥基苯基)苯并三唑、 2-(5’-第三丁基-2’-羥基苯基)苯并三唑、2-(2·-羥基 -5’-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯基)苯并三唑、2-(3,,5,-二第三丁 基-2’-羥基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3’-第三丁基-2’-羥基-5’-20 甲基苯基)-5-氣苯并三唑、2-(3’-第二丁基-5'-第三丁基-2'-羥基笨基)笨并三唑、2-(2’羥基-4'-辛氧基苯基)苯并三唑、 2-(3',5'-二第三戊基-2·-羥基苯基)苯并三唑、2-(3’,5’-雙 -(α,α-二甲基苯曱基)-2’-羥基苯基)-苯并三唑,2-(3’-第三丁 基2'-羥基-5’-(2-辛基氧羰基乙基)苯基)-5-氯苯并三唑、 33 200918503 2-(3’-第三丁基-5’-[2-(2-乙基-己基-氧)羰基乙基]-2’-羥基苯 基)-5-氯苯并三唑、2-(3’-第三丁基-2’-羥基-5’-(2-甲氧基羰 基乙基)苯基)-5-氣苯并三唑、2-(3’-第三丁基-2’-羥基5’-(2-甲氧基羰基乙基)苯基)-苯并三唑、2-(3’-第三丁基-2’-羥基 5 -5’-(2-辛基氧羰基乙基)苯基)苯并三唑、2-(3’-第三丁基 -5’-[2-(2-乙基己基氧)羰基乙基]-2'羥基苯基)苯并三唑、 2-(3’-十二烷基-2'-羥基-5’-甲基苯基)苯并三唑,及2(3’-第三 丁基-2’-羥基-5’-(2-異辛基氧羰基乙基)苯基苯并三唑之混 合物、2,2’-甲撐基雙[4-(1,1,3,3-四曱基丁基)-6-苯并三唑-2-10 基-酚];2[3’-第三丁基-5’-(2-甲氧基羰基乙基)-2’-羥基-苯 基]-苯并三唑與聚乙二醇300之轉酯化產物; [R-CH2CH2-COO(CH2)3]2-,其中,R = 3’-第三丁基-4’-羥基 -5’-2H-苯并三唑-2-基-苯基。 2. 2-羥基笨并醯笨,例如,4-羥基-、4-甲氧基-、4-辛氧基-、 15 4-癸氧基-、4-十二烷基氧-、4-苯甲基氧-、4,2’,4’-三羥基- 及2’-羥基-4,4’-二甲氧基衍生物。 3. 經取代或未經取代之笨甲酸酯之酯,例如,4-第三丁基 苯基水楊酸I旨、苯基水楊酸S旨、辛基苯基水楊酸S旨、二苯 曱醯基間苯二酚、雙(4-第三丁基苯甲醯基)間苯二酚、苯甲 20 醯基間苯二酚、2,4-二-第三丁基苯基3,5-二-第三丁基-4-羥 基苯甲酸酯、十六烷基3,5-二-第三丁基-4-羥基苯甲酸酯、 十八烷基3,5-二-第三丁基-4-羥基苯曱酸酯,及2-甲基-4,6-二-第三丁基苯基3,5-二-第三丁基-4-羥基苯甲酸酯。 4. 丙烯酸酯,例如,異辛基或乙基α-氰基-β,β-二苯基丙烯 34 200918503 酸酯、甲基α-碳甲氧基肉桂酸酯、丁基或曱基α_氰基_β_ 甲基-對-甲氧基肉桂酸酯、甲基α-羧基甲氧基-對-甲氧基肉 桂酸酯,及Ν-(β-碳曱氧基-β-氰基乙烯基)_2_甲基吲哚啉。 5.位阻胺,例如’雙(2,2,6,6-四甲基旅咬基)癸二酸酯、雙 5 (2,2,6,6-四甲基哌啶基)琥珀酸酯、雙(1,2,2,6,6-五甲基哌啶 基)癸二酸酯、雙(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)正丁基_3,5_二_第 三丁基-4-羥基苯甲基丙二酸酯、1·經基乙基_2,2,6,6-四甲基 -4-經基。底咬及琥珀酸之縮合產物、ν,Ν’-雙-(2,2,6,6-四甲基 -4-旅啶基)六-甲二胺及4-第三辛基胺基-2,6-二氯_1,3,5-8-三 10 °秦之縮合產物、三-(2,2,6,6-四甲基-4-α辰咬基)腈基三乙酸 酯、四-(2,2,6,6-四曱基-4-哌啶基)-1,2,3,4-丁烷四酸酯、 1,1'-(1,2-乙烧二基)-雙(3,3,5,5-四曱基-派嗅酮)、4-苯甲醯基 -2,2,6,6-四甲基〇辰〇定、4-硬月旨基氧基-2,2,6,6-四曱基〇底咬、 雙-(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)2-正丁基-2-(2-羥基3,5-二-第 15三丁基苯甲基)丙二酸酯、3-正辛基-7,7,9,9-四甲基-i,3,8-二氮雜螺旋-[4·5]癸烧2,4-二酮、雙-(1-辛基氧_2,2,6,6-四曱 基0底°定基)癸一酸S旨、雙-(1-辛基氧-2,2,6,6四甲基u底。定基)破 珀酸酯、N,N’-雙-(2,2,6,6-四甲基-4哌啶基)六甲撐基二胺及 4-嗎啉基-2,6-二氯-1,3,5-三嗪之縮合產物、2-氣-4,6-二-(4-20正丁基胺基-2,2,6,6-四甲基π辰咬基)-1,3,5-三唤及1,2雙-(3-胺基丙基-胺基)乙烷之縮合產物、2-氣-4,6-二-(4-正丁基胺 基1,2,2,6,6-五甲基α底咬基)_ι,3,5-三嗪及1,2-雙-(3-胺基丙基 胺基)乙烧之縮合產物、8乙醯基-3-十二烧基-7,7,9,9-四曱基 -1,3,8-三氮雜螺旋[4_5]癸烧-2,4-二酮、3-十二烧基_ι· 35 200918503 (2,2,6,6-四曱基-4-哌啶基)吡咯烷_25_二酮,及3_十二烷基 -1-(1,2,2,6,6-五甲基-4-娘η定基)_π比略烧二酮。 草酿胺,例如,4,4'·二辛基氧草醯替苯胺、2,2,-二乙氧 基草酸替苯胺、2,2’·二辛基氧_5,5,_二·第三丁基草酿替苯 5胺、2,2’_二-十二烷基氧-5,5’二-第三丁基草醯替苯胺、2-乙 氧基-2'-乙基草醯替苯胺、':^_雙_(3_出曱基胺基丙基)草醯 月女、2-乙乳基-5-第二丁基-2'-乙基草醯替苯胺,及其與2_乙 氧基-2 -乙基-5,4’-一-第二丁基草酸替苯胺之混合物 '鄰-及 對-甲氧基-及鄰-及對-乙氧基二取代之草醯替苯胺之混合 10 物。 7. 2-(2-經基苯基)-1,3,5-三嗔,例如,2,4,6-三(2-經基-4-辛 基氧苯基)1,3,5-三嗪、2-(2-經基-4-辛基氧苯基)-4,6-雙-(2,4--一甲基本基)_ 1,3,5-二唤、2(2,4-二罗莖基苯基)-4,6-雙(2,4-二 甲基苯基)-1,3,5-三嗓、2,4-雙(2-經基-4-丙基氧-苯 15基)-6-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三°秦、2-(2-經基-4-辛基氧苯 基)-4,6-雙(4甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-(2-羥基-4-十二烷基氧 苯基)-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)1,3,5-三嗪、2-[2-羥基-4-(2-羥基-3- 丁基氧-丙基氧)苯基]-4,6-雙(2,4-二曱基苯 基)-1,3,5-三嗪、2-[2-羥基-4-(2-羥基-3-辛基氧-丙基氧)苯 20 基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪、2-[4-十二烷基/十三 烷基-氧-(2-羥基丙基)氧-2-羥基-苯基]-4,6-雙(2,4-二曱基苯 基)-1,3,5-三嗪。 8. 凸碰酸鹽及亞膦酸鹽,例如,三苯基亞磷酸鹽、二苯基 烷基亞磷酸鹽、苯基二烷基亞磷酸鹽、三(壬基苯基)亞磷酸 36 200918503 鹽、三月桂基亞構酸鹽 '三-十八烧基亞石粦酸鹽、二硬脂基 季戊四醇基二亞_鹽、三_(2,4·二第三τ基苯基)亞填酸 鹽、二異癸基季戊四醇基二亞磷酸鹽、雙_(2,4_二-第三丁基 苯基)季戊四醇基二亞磷酸鹽、雙_(2,6_二_第三丁基_4•曱基 5苯基)季戊四醇基二亞磷酸鹽、雙-異癸基氧季戊四醇基二亞 構酸鹽、雙-(2,4-二第三丁基_6_甲基笨基)季戊四醇基二亞 磷酸鹽、雙(2,4,6-三-第三丁基苯基)季戊四醇基二亞磷酸 鹽、二硬月曰基山架基二亞鱗酸鹽、四(2,4_二-第二丁其苯 基)_4,4’-聯苯撐基二亞膦酸鹽、6_異辛基氧_2,481〇_四-第 10三丁基·12Η_二苯并[dent二噁磷星 (dioxaphosphocine)、6-氟-2,4,8,10-四-第三丁基_12_ 曱其 _ 苯并[d,g]-l,3,2-二噁磷星、雙_(2 4_二_第三丁基·6_甲基苯基) 曱基亞磷酸鹽,及雙(2,4-二-第三丁基_6_曱基苯基)乙基 亞磷酸鹽。 15 為加速光聚合反應,可添加胺作為組份(d),例如,三 乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、乙基_對_二甲基胺基苯甲酸酯、 2-(二甲基胺基)乙基苯甲酸酯、2-乙基己基-對-二甲基胺基 苯甲酸酯、辛基-對-N,N-二甲基胺基苯甲酸酯、N_(2_羥基 乙基)-N-甲基-對-甲苯胺,或米歇勒(Michler)酮。胺之作用 20 可藉由添加苯并醯苯型之芳香族酮而強化。可作為氧去除 劑之胺之例子係經取代之N,N-二烷基苯胺,如於EP339841 中所述者。其它之加速劑、共起始劑,及自動氧化劑係硫 醇、硫醚、二硫化物、鱗鹽、膦氧化物或膦,例如,於 EP438123、GB2180358 及 JPKokai Hei 6-68309 中所述者。 37 200918503 進-步可添加此項技藝中普遍之鏈轉移劑至依據本發 明之組成物作為組份⑷。例子係硫醇、胺,及苯并嗟唾。 光聚合反應亦可添加另外之光敏化劑或共起始劑(作 為組份⑷)而加速,其係使光譜敏感性位移或變寬。此等特 5別係芳香族化合物’例如,苯并酿苯及其衍生物、嗟侧 及其衍生物、蒽酿及其衍生物、香豆素及吩鱗及其衍生 物,及3-(芳醯基甲撐基)噻唑啉、若丹寧、樟腦醌、及曙紅、 羅丹明、赤蘚紅、氧雜蒽、硫蒽、吖啶,例如,9_苯基吖 啶、1,7-雙(9-吖啶基)庚烷、丨,5-雙(9-吖啶基)戊烷,菁,及 10部花菁染料。 此等化合物之特別例子係 1.噻噸酮 嘍α頓酮' 2-異丙基嗟嘲嗣、2-氣售嘲綱、1-氯-4-丙氧基喧嘲 _、2_十二烷基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二甲基。塞 15噸酮、1-甲氧基羰基噻噸酮、2-乙氧基羰基噻噸酮、3_(2_ 曱氧基乙氧基羰基)-噻噸酮、4-丁氧基羰基噻噸酮、3-丁氧 基羰基-7-甲基噻噸酮、1-氰基-3氣噻噸酮、1-乙氧基羰基_3_ 氣噻噸酮、1-乙氧基羰基-3-乙氧基噻噸酮、1-乙氧基羰基-3-胺基噻噸酮、1-乙氧基羰基-3-苯基硫醯基噻噸酮、3,4-二 20 _[2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基羰基]-噻噸酮、1,3-二甲基-2- 羥基-9Η噻噸-9-酮2-乙基己基醚、卜乙氧基羰基-3-(1-甲基 -1-嗎啉基乙基)-噻噸酮、2-甲基-6-二甲氧基曱基-噻噸 酮、2-甲基-6-(1,1-二甲氧基苯甲基)-噻噸酮、2-嗎啉基曱基 噻噸酮、2-曱基-6-嗎啉基曱基噻噸酮、N-烯丙基噻噸酮-3,4- 38 200918503 二甲醯亞胺、N-辛基噻噸酮-3,4-二曱醯亞胺、N-(l, 1,3,3-四甲基丁基)-噻噸酮-3,4-二甲醯亞胺、1-苯氧基噻噸酮、6-乙氧基羰基-2甲氧基噻噸酮、6-乙氧基羰基-2-曱基噻噸 酮、噻噸酮-2-羧酸聚乙二醇酯、2-羥基-3-(3,4-二甲基-9-氧 5 -9H-噻噸酮-2-基氧)N,N,N-三甲基-1-丙銨氯化物; 2.笨并醯笨 苯并醯苯、4-苯基苯并醯苯、4-甲氧基苯并醯苯、4,4’-二甲 氧基苯并醯苯、4,4’-二甲基苯并醯苯、4,4’-二氣苯并醯苯 4,4’-雙(二甲基胺基)苯并醯苯、4,4’-雙(二乙基胺基)苯并醯 10 苯、4,4’-雙(甲基乙基胺基)苯并醯苯、4,4’-雙(對-異丙基苯 氧基)苯并醯苯、4-甲基苯并醯苯、2,4,6-三曱基苯并醯苯、 4-(4-甲基硫基苯基)-苯并醯苯、3,3’-二曱基-4-曱氧基苯 并醯苯、甲基-2-苯甲醯基苯甲酸酯、4-(2-羥基乙基硫基)-苯并醯苯、4-(4-曱苯基硫基)苯并醯苯、1-[4-(4-苯甲醯基-15 苯基硫烷基)-苯基]-2-曱基-2-(甲苯-4-磺醯基)-丙-1-酮、4- 苯甲醯基-N,N,N-三曱基苯甲銨氯化物、2-羥基-3-(4-苯曱醯 基苯氧基)-N,N,N-三甲基-1-丙銨氣化物單水合物、4-(13-丙烯醯基1,4,7,10,13-五噁十三烷基)-苯并醯苯、4-苯甲醯基 -N,N-二曱基-N-[2-(l-氧-2-丙烯基)氧]乙基-苯曱銨氣化物; 20 3.香豆素 香豆素1、香豆素2、香豆素6、香豆素7、香豆素30、香豆 素102、香豆素106、香豆素138、香豆素152、香豆素153、 香豆素307、香豆素314、香豆素314T、香豆素334、香豆素 337、香豆素500、3-苯曱醯基香豆素、3-苯甲醯基-7-甲氧 39 200918503 基香豆素、3-苯曱醯基-5,7-二甲氧基香豆素、3-苯曱醯基 -5,7-二丙氧基香豆素、3-苯甲醯基-6,8-二氯香豆素、3-苯甲 醯基-6-氯-香豆素、3,3’-羰基-雙[5,7-二(丙氧基)香豆素]、 3,3’-羰基-雙(7-曱氧基香豆素)、3,3’-羰基-雙(7-二乙基胺基 5 -香豆素)、3-異丁醯基香豆素、3-苯曱醯基-5,7-二曱氧基- 香豆素、3-苯甲醯基-5,7-二乙氧基-香豆素、3-苯甲醯基-5,7-二丁氧基香豆素、3-苯甲醯基-5,7-二(甲氧基乙氧基)-香豆 素、3-苯曱醯基-5,7-二(烯丙基氧)香豆素、3-苯曱醯基-7-二甲基胺基香豆素、3-苯甲醯基-7-二乙基胺基香豆素、3-10 異丁醯基-7-二曱基胺基香豆素、5,7-二甲氧基-3-(1-萘基)-香豆素、5,7-二乙氧基-3-(1-萘醯基)-香豆素、3-苯曱醯基苯 并[f]香豆素、7-二乙基胺基-3-噻吩醯基香豆素、3-(4-氰基 苯甲醯基)-5,7-二甲氧基香豆素、3-(4-氰基苯甲醯基)-5,7-二丙氧基香豆素、7-二甲基胺基-3-苯基香豆素、7-二乙基 15 胺基-3-苯基香豆素、JP 09-179299-A及JP 09-325209-A揭示 之香丑素衍生物’例如’ 7-[{4-氣-6-(二乙基胺基)-S-二σ秦 -2-基}胺基]-3-苯基香丑素, 4. 3-(若醯某甲撐基)-噻唑啉 3- 曱基-2-苯曱醯基曱撐基-萘并噻唑啉、3-曱基-2-苯曱醯基 20 甲撐基-苯并噻唑啉、3-乙基-2-丙醯基甲撐基-萘并噻唑啉; 5. 若丹寧 4- 二曱基胺基亞苯甲基若丹寧、4-二乙基胺基亞苯甲基若丹 寧、3-乙基-5-(3-辛基-2-苯并亞噻唑啉基)-若丹寧,若丹寧 衍生物,JP 08-305019A揭示之化學式[1]、[2]、[7]; 40 200918503 6.其它化合物 乙醯苯、3-甲氧基乙醯苯、4-苯基乙醯苯、聯苯醯、4,4,-雙(二甲基胺基)聯苯醯、2-乙醯基萘、2-萘醛、丹磺酸衍生 物、9,10-蒽醌、蒽、芘、胺基芘、茈、菲、菲醌、9-芴酮、 5 二苯并軟木酮、薑黃素、咕3頓酮、硫代米歇勒_、α-(4-二 甲基胺基亞苯甲基)酮,例如,2,5-雙(4-一乙基胺基亞苯曱 基)環戊酮、2-(4-二甲基胺基-亞苯甲基)_茚-1-酮、3-(4-二甲 基胺基-笨基)-1-茚-5-基-丙烯酮,3-苯基噻酞醯亞胺、N-甲 基-3,5-二(乙基硫基)-酞醯亞胺、N-甲基-3,5-二(乙基硫基) 10 酞醯亞胺、吩噻嗪、甲基吩噻嗪、胺,例如’ N-笨基甘胺 酸、乙基4-二曱基胺基笨甲酸酯、丁氧基乙基4-二曱基胺 基苯甲酸酯、4-二甲基胺基乙醯苯、三乙醇胺、甲基二乙 醇胺、二甲基胺基乙醇、2-(二甲基胺基)乙基笨甲酸酯、聚 (丙二醇)-4-(二曱基胺基)苯甲酸酯。 15 包含作為另外之添加劑(d)之選自苯并醯笨及其衍生 物、噻噸酮及其衍生物、蒽醌及其衍生物,或香豆素衍生 物所組成族群之光敏化劑化合物之可光聚合之組成物係較 佳。 固化方法可藉由添加光敏化劑,特別是於經著色(例 20如,以二氧化鈦)之組成物,且亦可藉由添加於熱條件下开4 成自由基之組份(例如,偶氮化合物,諸如,2,2,,偶氣雙 甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、三氮烯、疊氮硫化物、五氮二烯 或過氧化合物(例如,過氧化氮或過氧碳酸鹽,例如第 丁基過氧化氫,例如,於EP245639中所述者)而補助。 200918503 依據本發明之組成物可包含作為另外添加劑(d)之可光 還原之染料,例如,咕噸-、苯并咕噸-、苯并噻噸、噻嗪-、 吡羅紅-、卟啉-或吖啶染料,及/或三鹵素甲基化合物, 其可藉由照射而裂解。相似之組成物係,例如,於EP445624 5 中所描述。 此項技藝所知之另外添加劑可被添加作為組份(d),例 如,流動改良劑,諸如,乙烯基三曱氧基矽烷、乙烯基三 乙氧基砍烧、乙稀基三(2-甲氧基乙氧基)石夕烧、N-(2-胺基 乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)3-胺 10 基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘 油醚氧丙基三曱氧基矽烷、3-縮水甘油醚氧丙基甲基二曱 氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三曱氧基矽烷、3-氯丙 基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙 稀氧基丙基三甲氧基碎烧5及3 -巍基丙基三甲氧基碎烧。 15 表面活性劑、光亮劑、色料、染料、濕潤劑、勻化助劑、 分散劑、防聚結劑、抗氧化劑,或填料係添加劑(d)之另外 例子。 為固化厚且經著色之塗層,適合地係添加玻璃微球或 粉狀玻璃纖維,例如,US 5013768中所述者。 20 另外適合之組份(d),如上所述般,係表面活性劑及分 散劑及其它組份,特別是用以支持色料或著色劑於配方物 内之應用。 較佳係對色料施加表面處理,以使色料易於分散及使 形成之色料分散液安定。表面處理之試劑係,例如,表面 42 200918503 活性劑、聚合物分散劑、一般之質地改良劑、色料衍生物, 及其等之混合物。當依據本發明之著色劑組成物包含至少 一聚合物分散劑及/或至少一色料衍生物時係特別佳。 適合之表面活性劑包含陰離子性表面活性劑,諸如, 5烷基苯或烷基萘_磺酸鹽、烷基磺基琥珀酸鹽,或萘曱醛磺 酸鹽;陽離子性表面活性劑,例如,季鹽,諸如,笨甲其 二丁基銨氣化物,非離子性或兩性之表面活性劑,個別係, 諸如,聚氧乙烯表面活性劑及烷基-或醯胺基丙基甜菜。 表面活性劑之例示例子包含聚氧乙烯烷基醚,諸如, 10聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚,及聚氧乙烯油基 醚,聚氧乙烯烧基苯基_,諸如,聚氧乙浠辛基笨基醚, 及1氧乙細壬基本基謎,聚乙二醇二醋,諸如,聚乙二醇 二月桂酸酯,及聚乙二醇二硬脂酸酯;失水山梨醇脂肪酸 酯;脂肪酸改質之聚酯;三級胺改質之聚胺甲酸酯;聚乙 15 二亞胺;以商標名 KP(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd之產 品)、Polyflow(KYOEISHA CHEMICAL Co_, Ltd之產品)、 F-Top(Tochem Products Co., Ltd 之產品)、 MEGAFAC(Dainippon Ink & Chemicals, Inc.之產品)、 Fluorad(Sumitomo 3M Ltd 之產品)、Asahi Guard 及 20 Surflon(Asahi Glass Co·, Ltd之產品)等可獲得者。 此等表面活性劑可單獨或以二或更多者之混合物使 用。 表面活性劑一般係以50重量份或更少,較佳係〇至30 重量份(其係以1〇〇重量份之著色劑組成物為基準計)之量使 43 200918503 用。 聚合物分散劑包含具色料親和基之高分子量聚合物。 例子係:包含,例如,苯乙烯衍生物、(甲基)丙烯酸酯,及 (曱基)丙烯醯胺之統計共聚物,及以後改質方式改質之此等 5 統計共聚物;包含,例如,苯乙烯衍生物、(曱基)丙稀酸醋, 及(甲基)丙烯醯胺之嵌段共聚物及/或梳型聚合物,及以後 改質方式改質之此等嵌段共聚物及/或梳型聚合物;以,例 如,聚酯精製之聚乙二亞胺;以,例如’聚酯精製之聚胺; 及許多種類之(經改質之)聚胺曱酸酯。 10 聚合物分散劑亦可被使用。適合之聚合物分散劑係, 例如,BYK之DISPERBYK® 101、115、130、140、160、 161 、 162 、 163 、 164 、 166 、 168 、 169 、 170 、 171 、 180 、 182、2000、20(M、2020、2050、2090、209 卜 2095、2096、 2150,Ciba Specialty Chemicals之 Ciba® EFKA® 4008、 15 4009、4010、4015、4046、4047、4050、4055、4060、4080、 4300、4330、4340、4400、44(H、4402、4403、4406、4500、 4510、4520、4530、4540、4550、4560,Ajinomoto Fine Techno 之 PB®711、821、822、823、824、827,Lubrizol 之 SOLSPERSE® 1320、13940、17000、20000、21000、24000、 20 26000、27000、28000、31845、32500、32550、32600、33500、 34750 ' 36000 、 36600 、 37500 、 39000 、 41090 、 44000 、 53095,及其等之混合物。 較佳係使用 Ciba® EFKA® 4046、4047、4060、4300、 4330、4340,DISPERBYK® 161、162、163、164、165、 44 200918503 166 、 168 、 169 、 170 、 2000 、 2001 、 2020 、 2050 、 2090 、 209卜 2095、2096、2105、2150,PB®7U、82卜 822、823、 824、827,SOLSPERSE® 24000、31845、32500、32550、 32600、33500、34750、36000、36600、37500、39000、41090、 5 44000、53095,及其等之混合物作為分散劑。 適合質地改良劑係,例如,脂肪酸,諸如,硬脂酸或 山俞酸,及脂肪胺,諸如,月桂胺及硬脂胺。此外,脂肪 醇或乙氧基化之脂肪醇多元醇,諸如,脂族1,2-二醇,或環 氧化黃豆油、蠟、樹脂酸,及樹脂酸鹽可用於此目的。 10 適合之色料衍生物係,例如,醜菁銅衍生物,諸如,
Ciba Specialty Chemicals之Ciba® EFKA® 6745、Lubrizol 之SOLSPERSE® 5000、12000,BYK之SYNERGIST 2100, 及偶氮衍生物,諸如,Ciba® EFKA® 6750、SOLSPERSE® 22000及SYNERGIST 2105。 15 上述之用於色料之分散劑及表面活性劑係,例如,被 用於作為阻劑組成物(特別是滤色器組成物)之本發明組成 物。 本發明之標的亦係一種包含作為另外添加劑(d)之分散 劑或分散劑之混合物之如上所述之可光聚合之組成物,與 2〇 包含作為另外組份(d)之色料或色料之混合物之如上所述之 可光聚合之組成物。 添加劑(d)之選擇係依應用領域及此領域所需之性質而 定。上述之添加劑係此項技藝中慣用,因此,係以一般於 個別應用之量添加。 45 200918503 結合劑(e)亦可被添加至此新穎組成物。此於可光聚合 之化合物係液體或黏铜物質時特別適宜。結合劑之量可 為,例如,2-98重量% ’較佳係5-95重量%,且特別是20-90 重量% ’其係相對於整體固體含量而計。結合劑之選擇係 5 依應用領域及此領域所需之性質(諸如,於水性及有機溶劑 系統中之展開能力、與基材之黏著性,及對氧之敏感性)而 定。 適合結合劑之例子係具有約2’000至2’000’ 000,較佳係 3’000至1 ’000’000之分子量之聚合物。驗性可展開之結合劑 10 之例子係具有羧酸官能基作為側基之丙稀聚合物,諸如, 傳統上已知之藉由乙烯不飽和羧酸(諸如,(曱基)丙烯酸、 2-羧乙基(甲基)丙烯酸、2_羧丙基(曱基)丙烯酸、衣康酸、 巴豆酸、馬來酸、福馬酸,及羧基聚己内酯單(甲基)丙 烯酸酯)與一或多種之選自(甲基)丙烯酸之酯(諸如,甲基(甲 15 基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、丙基(甲基)丙烯酸酯、 丁基(甲基)丙烯酸酯、苯曱基(曱基)丙烯酸酯、2-乙基己基 (甲基)丙烯酸酯、羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、羥基丙基(甲基) 丙烯酸酯、甘油單(曱基)丙烯酸酯、三環[5.2.1.02’6]癸_8-基 (甲基)丙烯酸酯、縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯、2-曱基縮水 20 甘油基(甲基)丙烯酸醋、3,4-環氧丁基(曱基)丙稀酸酿、6,7_ 環氧庚基(甲基)丙烯酸酯);乙烯基芳香族化合物(諸如,苯 乙稀、α -曱基苯乙烯、乙烯基甲苯、對-氯苯乙烯' 乙稀基 苯甲基縮水甘油基醚);醯胺型不飽和化合物、(甲基)丙婦 醯胺二丙酮丙烯醯胺、Ν-甲基醇丙烯醯胺、Ν-丁氧基甲基 46 200918503 丙烯醯胺;及聚烯烴型化合物(諸如,丁二烯、異戊二烯、 氣丁二烯等);甲基丙烯腈、甲基異丙烯基酮、單-2-[(曱基) 丙烯醯基氧]乙基琥珀酸酯、N-苯基馬來醯亞胺、馬來酸 酐、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、戊酸乙烯酯、聚苯乙烯巨 5 單體,或聚甲基(甲基)丙烯酸酯巨單體之單體共聚合而獲得 之共聚物。共聚物之例子係丙烯酸酯及曱基丙烯酸酯與丙 烯酸或甲基丙烯酸及與苯乙烯或經取代之苯乙烯之共聚 物、盼醒·樹脂(例如,紛酸·清漆樹脂)、(聚)經基苯乙稀,及 羥基苯乙烯與烷基丙烯酸酯、丙烯酸及/或甲基丙烯酸之共 10 聚物。共聚物之較佳例子係甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸之 共聚物、甲基丙稀酸苯曱酯/甲基丙烯酸之共聚物、甲基丙 烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸之共聚物、曱基丙烯酸苯 曱酯/曱基丙烯酸/苯乙烯之共聚物、甲基丙烯酸苯甲酯/曱 基丙烯酸/曱基丙烯酸羥基乙酯之共聚物、曱基丙烯酸甲酯 15 /甲基丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸/苯乙烯之共聚物、甲基丙烯 酸曱酯/甲基丙烯酸苯甲酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸羥基苯 酯之共聚物。溶劑可展開之結合劑聚合物之例子係聚(烷基 甲基丙烯酸酯)、聚(烷基丙浠酸酯s)、聚(甲基丙稀酸苯甲 酿-共-甲基丙烯酸羥基乙酯-共-甲基丙烯酸)、聚(甲基丙烯 20 酸苯甲S旨-共-曱基丙烯酸);纖維素酿及纖維素醚s,諸如, 纖維素乙酸酯、纖維素乙醯丁酸酯、甲基纖維素、乙基纖 維素;聚乙烯基丁縮醛、聚乙烯基曱縮醛、環化橡膠、聚 醚,諸如,聚乙烯氧、聚丙烯氧,及聚四氫呋喃;聚苯乙 烯、聚碳酸酯、聚胺曱酸酯、氯化聚烯烴、聚氣乙烯、氣 47 200918503 乙烯/亞乙烯之共聚物、氣亞乙烯與丙烯腈、甲基丙烯酸甲 酯及乙酸乙烯酯之共聚物、聚乙酸乙烯酯、共聚(乙烯/乙酸 乙烯酯)、諸如聚己内醯胺及聚(六曱撐基己二醯胺)之聚合 物,及諸如聚(乙二醇對苯二曱酸酯)及聚(六甲撐基二醇琥 5 Ϊ0酸醋)之聚自旨,及聚酿亞胺結合劑樹脂。 本發明之聚醯亞胺結合劑樹脂可為溶劑可溶之聚醯亞 胺或聚醯亞胺先質(例如,聚(醯胺酸))。 較佳係包含作為結合劑聚合物(e)之曱基丙烯酸酯及甲 基丙稀酸之共聚物之可光聚合之組成物。 10 進一步感興趣者係,例如,於JP 10-171119-A中所述之 聚合物結合劑組份,特別是用於濾色器。 可光聚合之組成物可用於各種目的,例如,作為印刷 墨水,例如,網版印刷之墨水、用於膠印或輪轉印刷之墨 水,作為透明整理劑,作為白色或具經上色之整理劑,例 15 如,用於木材或金屬,作為粉末塗覆物,作為用於紙張、 木材、金屬或塑料等之塗覆材料,作為用於建築物及道路 之標記之日光可固化之塗料,用於照相複製技術,用於全 息攝影記錄之材料,用於圖像記錄之技術或生產可以有機 溶劑或水性鹼顯影之印刷板,用於生產用於網版印刷之遮 20 罩,作為牙齒填充組成物,作為黏著劑,作為壓敏性黏著 劑,作為層合用樹脂,作為蝕刻之阻劑,焊接阻劑,電鍍 阻劑,或永久性阻劑(液體及乾燥膜,作為可光建構之介電 質,用於印刷電路板及電子電路,作為製造用於各種顯示 應用之濾色器或於電漿顯示面板及電致發光顯示器之製造 48 200918503 方法中產生結構之阻劑,(例如,於US5853446、EP863534、 JP 09-244230-A、JP10-62980-A、JP08-171863-A、 US5840465、EP855731、JP05-271576-A、JP 05-67405-A中 所述)用於製造全息攝影資料貯存(HDS)之材料’用於製造 5光學開關,光學晶格(干擾晶格),光電路’用於藉由本體固 化(於透明模具内之UV固化)或藉由立體微影術製造三維物 件,例如,於US4575330中所述,製造複合材料(例如,笨 乙烯聚酯,其若要的話,可含有玻璃絍維及/或纖維及其它 輔助劑)及其它厚層之組成物,用於塗覆或密封之電子組份 10 及積體電路,或作為光學纖維之塗料,或用於製造光學鏡 片,例如,隱形眼鏡或夫湼爾透鏡。依據本發明之組成物 係進一步適於製造醫學設備、輔助劑,或移植物。再者, 依據本發明係適於製備具熱致性質之凝膠,例如,於 DE19700064及 EP678534 中所述者。 15 新穎之光起始劑可另外作為乳化聚合反應、成珠聚合 反應,或懸浮聚合反應之起始劑,作為液晶單體及寡聚物 之固定順序狀態之聚合反應起始劑,或作為使染料固定於 有機材料上之起始劑。 於塗覆材料,一般係以預聚物及聚不飽和單體(其亦可 20另外包含單飽和單體)之混合物使用。此間之預聚物主要係 指不塗t膜之性質,且藉由使其改變,熟習此項技藝者能 影響固化膜之性質。料飽和單體作為使此膜呈不可溶之 父聯劑。單不飽和單體作為反應性稀釋劑,其係用以於無 需使用溶劑下降低黏度。 49 200918503 不飽和聚酯樹脂一般係用於與單不飽和單體(較佳係 與苯乙稀)一起之一組份系統。對於光阻劑,特別之一組份 系統經常被使用,例如,聚馬來醯亞胺、聚查爾酮或聚醯 亞胺,如DE 2308830所述者。 5 新穎之光起始劑亦可用於可以輻射固化之粉末塗料之 聚合反應。粉末塗料可以含有反應性雙鍵之固體樹脂及單 體為主,例如’馬來酸酯、乙烯基醚、丙烯酸酯、丙烯醯 胺’及其等之混合物。自由基之UV可固化之粉末塗料可藉 由使不飽和聚酯樹脂與固體丙烯醯胺(例如,甲基丙稀醯胺 10 基乙醇酸甲醋)及新賴之自由基光起始劑混合而配製,此等 配製物係描述於’例如,論文"Radiation Curing of Powder Coating", Conference Proceedings, Radtech Europe 1993 > M. Wittig及Th. Gohmann。粉末塗料亦可含有,例如,於 DE 4228514及EP 636669中所述之結合劑。自由基uv可固 15 化之粉末塗料亦可藉由使不飽和聚酯樹脂與固體丙稀酸 酯、甲基丙稀酸酯或乙晞基醚及與新穎之光起始劑(或光起 始劑混合物)混合而配製。粉末塗料亦可包含,例如,於 DE 4228514及EP 636669中所述之結合劑。UV可固化之粉 末塗料可另外包含白色或經著色之色料。例如,較佳地, 20 金紅石二氧化鈦可以最高達50重量%之濃度使用,以產生 具良好遮蔽力之固化粉末塗層。此程序一般包含使粉末以 靜電或摩擦靜電喷灑至基材(例如,金屬或木材)上,藉由加 熱使粉末熔融,及於形成平滑膜後,使用,例如,中度壓 力之汞燈、金屬鹵化物燈或氙氣燈,以紫外線及/或可光見 50 200918503 輻射固化此塗層。可以輕射固化之粉末塗料優於其可以執 固化之對兆物之特別優點係粉末顆粒溶融後之流動時間可 被延遲以碟保平滑高光澤之塗層形成。與熱可固化之系統 相反,可以輻射固化之粉末塗料可被配製成於較低溫度炫 5融,而無縮短其壽命之不要的作用。因此,其亦適於作為 用於熱敏性基材(例如,木材或塑料)之塗料。除新穎之光起 始劑系統外,粉末塗料組成物亦可包含uv吸收劑。適合之 例子係於上列示於1 .-8段落。 新穎之可光聚合之組成物係適於,例如,作為用於所 1〇有種類之基材(例如,木材、織物、紙張、陶£、玻璃、塑 料,諸如,《、聚對苯二甲酸乙二酿、聚烯烴,或纖維 素乙酸酿,特別是膜型式,及諸如,A1、以、&、以、&、 M“c。之金屬及GaAs、Si或Si〇2,其絲欲塗敷保護層或 藉由影像式曝光產生圖像)之塗覆材料。 15 腳之輕射敏化性組成物進1發現作為負型阻劑之 應用,其對光線具有極高之敏感性,且能於水性驗介質中 顯影而不會膨脹。其係適於生產用於凸紋印刷、平版印刷、 凹版印刷之印刷型式或網版印刷型式,用於生蓋凸紋複製 物,例如,用於生產點字文章鄉用於生產壓印物,用於化 2〇學研磨或生產積體電路之微阻齊卜版成物進一步可作為可 臟相圖案之介電層或塗層,生產電腦晶片之包封材料 及隔離塗層,印刷板,及其它電或電子組件。可能之層擇 體,及塗覆基材之處理條件可被改變。 新穎組成物亦係有關於-種先敏性熱固化樹脂組成 51 200918503 勿及藉由其使用形成焊接阻劑圖案之方法,且更特別地 係有關於—種作為用以生產印刷電路板'精密製造金屬物 j牛、 、坡螭及石材物件之蝕刻,塑料物件之凸紋,及製備印 刷板之新穎之光敏性熱固化樹脂組成物,且特別是作為印 刷兒路板之焊接阻劑,及藉由使此樹脂組成物選擇性地曝 光於鉍由具有圖案之光罩之光化射線,及使此層之未被曝 光°卩份顯影之步驟形成焊接阻劑圖案之方法。 焊接阻劑係一種於使特定部份焊接至印刷電路板期間 使用之物質,其係用於避免熔融之焊料與不相關部份黏著 1〇及用於保護電路。因此,需擁有諸如高黏著性、絕緣抗性、 耐焊接溫度、耐熔劑性、耐鹼性、埘酸性及耐電鍍性之性 質。 因為依據本發明之可光固化之組成物具有良好之熱安 定性且能充份抵抗藉由氧之抑制作用,而係特別適於生產 15濾色器或彩色馬賽克系統,例如,於EP 320 264所述者。濾 色器經常用於製造平面顯示器,諸如,LCD、PDP(電聚平 面顯示器)、EL(電致發光)顯示器,及投影系統、圖像感應 器、CCD(電荷偶合器)’及用於掃瞄器、數位相機及攝影機 之CMOS(互補金屬氧化物半導體)感應器。 20 濾色器一般係藉由於玻螭基材上形成紅、綠,及藍色 之晝素及黑色畫素而製造。於此等方法,依據本發明之可 光固化之組成物可被使用。特別較佳之使用方法包含添加 紅、綠及藍色之著色物料、染料及色料至本發明之光敏性 樹脂組成物,以此組成物塗覆基材,以短的熱處理使塗層 52 200918503 乾燥,使圖層以圖案式曝光於光化輕射,及其後於驗顯影 劑水溶液中使圖案顯影,及選擇性之熱處理。因此,藉由 以任何順序以此方法於彼此之頂面上依序塗敷紅、綠及藍 色之著色塗料’具有紅、綠及藍色晝素之濾、色層可被製造。 5 _影係藉由以適合之鹼性顯影溶液洗掉未被聚合之區 域而完成。此方法被重複㈣成具有數種顏色之圖像。 於本發明之光敏性樹脂組成物,藉由一種其間至少— 或更多之圖案元素於透明基材上形成,然後,自於上未形 成上述圖案元素之透明基材之一側曝光之方法,上述之圖 1〇案7L素可作為遮光罩。於此情況,例如,被賦予全部曝光 之情況’遮罩之位置調整變不需要,且有關於其位置滑動 之顧慮被移除。而且,可固化其上未形成上述圖案元素之 所有部份。再土,於此情況,亦可藉由部份使用遮光罩而 顯影及移除其上未形成上述圖案元素之部份之一部份。 15 因為於任一情況,事先形成及較後形成之圖案元素間 未形成間隙,本發明之組成物係適於,例如,濾色器之形 成材料。具體地,紅、綠及藍色之著色物料、染料及色料 添加至本發明之光敏性樹脂組成物,且形成圖像之方法被 重複而形成紅、綠及藍色之圖案元素。然後,添加,例如, 20黑色材料、染料及色料之光敏性樹脂組成物係提供於整個 表面上。整體曝光(或經由遮光罩之部份曝光)可於其上提供 而於紅、綠及藍色之圖案元素間之所有間隔上(或除遮光罩 之部份區域外之所有者)形成黑色之圖案元素。 除其間光敏性樹脂組成物被塗覆於基材上且被乾燥之 53 200918503 方法外,本發明之光敏性樹脂組成物亦可用於層轉移材 料。即,此光敏性樹脂組成物係層狀式直接提供於暫時性 之撐體上,較佳係於聚對苯二甲酸乙二酯膜上,或於其上 提供遮氧層及剝離層或剝離層及遮氧層之聚對苯二甲酸乙 5二酯膜上。一般,由合成樹脂製成之可移除式之覆蓋片材 被層合於其上以供處理時之保護。再者,亦可塗敷一其間 一鹼可溶之熱塑性樹脂層及一中間層被提供於暫時性撐體 上且另外之光敏性樹脂組成物被提供於其上之層結構 (JP 5-173320-A)。 1〇 '述之覆以材於使㈣被移除,且光祕樹脂组成 物層被層合於永久性撐體上。其後,當遮氧層及剝離層被 提供時’剝離於此等層及暫時性撐體間實行,當剝離層及 遮氧層被提供時係於剝離層及遮氧層間實行,且當剝:層 或遮氧層未被提供時係於暫時性撐體及光敏性樹月旨組賴 15層間實行,且暫時性撐體被移除。 金屬撐體' 玻璃、 之撐體。透明且具有優 膜係特別佳。 陶竟,及合賴脂膜可作為濾色器 異之尺寸安糧之料及合成樹脂 20 光敏性樹脂組成物層之厚度通常係〇1至5〇 是0.5至5微米。 微米,特別 若組成物含有鹼可溶之樹脂或鹼可溶 . 干暇或寡聚物 時,經稀釋之驗性物質水溶液可作為本發明 組成物之顯影溶液,且另外,藉由添加小量之^ =樹脂 有機溶劑而製備之顯影劑溶液亦可被包含。°冷’昆之 54 200918503 適合之驗性材料之例子包含驗金屬氫氧化物(例如,氫 氧化鈉及氫氧化鉀)、驗金屬破酸鹽(例如,破酸鈉及破酸 鉀)、驗金屬碳_酸氫鹽(例如,碳_酸氫納及碳酸氫鉀)、驗金 屬石夕酸鹽(例如,石夕酸鈉及石夕酸鉀)、驗金屬偏石夕酸鹽(例如, — 5 偏矽酸鈉及偏矽酸鉀)、三乙醇胺、二乙醇胺、單乙醇胺、 - 嗎琳、四烧基銨氫氧化物(例如,四曱基銨氫氧化物),或石粦 酸三鈉。鹼性物質之濃度係0.01至30重量%,且pH較佳係8 至14。 f 可與水溶混之適合有機溶劑包含曱醇、乙醇、2-丙醇、 10 1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙 基醚、乙二醇單正丁基醚、二甘醇二甲基醚、丙二醇單曱 基醚乙酸酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、甲基-3-甲氧基丙酸 酯、乙酸正丁酯、苯甲基醇、丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、 環己酮、2-庚酮、2-戊酮、έ -己内酯、r 丁内酯、二曱基 15 甲醯胺、二曱基乙醯胺' 六曱基磷醯胺、乳酸乙酯、乳酸 曱酯、ε -己内醯胺,及N-甲基-吡咯烷酮。可與水溶混之有 (; 機溶劑之濃度係0.1至30重量%。 再者,公眾已知之表面活性劑可被添加。表面活性劑 之濃度較佳係0.001至1〇重量%。 20 本發明之光敏性樹脂組成物亦可以有機溶劑顯影,其 包含二或更多種之溶劑(不包含驗性化合物)之摻合物。適合 之溶劑包含甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、 乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單正丁基醚、 二甘醇二曱基醚、丙二醇單曱基醚乙酸酯、乙基-3-乙氧基 55 200918503 丙酸酯、曱基_3_曱氧基 叼馱酯、乙酸正丁酯、笨曱基醢 丙酮、曱基乙基酮、環_]、P 知、 3 J壌已酮、2-庚酮、2-戊_、^ 己内酯、7_丁内酯、二甲 _ 甘丄 甲醯胺、二甲基乙醯胺、‘审 基磷醯胺、乳酸乙酯、乳酸 /、甲 曱略、ε -己内醯胺’及N-甲罝 吡口各烷酮。選擇性地,水 土 _ Κ了添加至此等溶劑内至最高達仍 獲W容液且光敏性組成物之未被曝光區域之可溶性 被維持之程度。 合14 顯影劑溶液可以熟習此項技藝者所知之所有型式使 用,例如’以浴溶液、膠泥,或喷灑溶液之型式。為移除 1〇光敏性樹脂組成物層之未固化部份,此等方法可被結合, 諸如以旋轉刷擦拭及以濕海棉擦拭。一般,顯影溶液之溫 度較佳係於或約室溫至4〇。(:。顯影時間可依特定種類之光 敏性樹脂組成物、顯影溶液之鹼性及溫度,及有機溶劑(於 其被添加之情況)之種類及濃度而改變。一般,係1〇秒至2 15 分鐘。可於顯影處理後進行沖洗步驟。 最後之熱處理較佳係於顯影處理後實行。因此,具有 藉由曝光而光聚合之層(其後稱為光固化層;)之撐體於電爐 及乾燥器内加熱,或光固化層以紅外線燈照射或於加熱板 上加熱。加熱之溫度及時間依使用之組成物及形成層之厚 20 度而定。一般’加熱較佳係於約120。(:至約250。(:施行約5 至約60分鐘。 可被包含於依據本發明之組成物(包含經著色之濾色 器阻劑組成物)内之色料較佳係,例如,藉由粉末狀或糊狀 之產物,藉由使色料細微地分散於至少一選自丙烯樹脂' 56 200918503 氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、馬來酸樹脂,及乙基纖維素樹 脂所組成族群之樹脂内而製備之經處理之色料。 紅色色料包含,例如’單獨之蒽8昆型色料、單獨之二 酮吡咯并。比咯型色料、其等之混合物,或由其等之至少一 5 者及重氮型黃色色料或異α引σ朶#型黃色色料所組成物之混 合物,特別是單獨之C· I.色料紅177、單獨C. I.色料紅254、 C. I.色料紅177及C· I·色料紅254之混合物,或由C. I.色料 紅177及C. I.色料紅254之至少一成員及C. I.色料黃83或C. I.色料黃139所組成之混合物係指熟習此項技藝者 10 所知且係可公開獲得顏色指數)。 此色料之進一步適合之例子係C.I.色料紅9、97、105、 122 、 123 、 144 、 149 、 168 、 176 、 179 、 180 、 185 、 202 、 207、209、214、222、242、244、255、264、272,及c.i 色料黃 12、13、14、17、20、24、31、53、55、93、95、 15 109、110、128、129、138、139、150、153、154、55、166、 168、185、199、213 ’ 及C_I.色料橙43。 紅色染料之例子係C. I.溶劑紅25、27、30、35、49、 83、89、100、122、138、149、150、160、179、218、230, C. I.直接紅20、37、39、44,及C. I.酸紅6、8、9、13、14、 20 18、26、27、51、52、87、88、89 ' 92、94、97、111、114、 115 、 134 、 145 、 151 、 154 、 180 、 183 、 184 、 186 、 198 , C. I.鹼性紅12、13,C. I.分散紅5、7、13、17及58。紅色 染料可與黃色及/或橙色染料混合使用。 綠色色料包含,例如,單獨之鹵化酞菁型色料,或與 57 200918503 與重氮型黃色色料、喹酞酮型黃色色料或金屬錯合物之混 合物,特別是單獨之C. I.色料綠7、單獨之C. I.色料綠36, 或由C. I.色料綠7、C. I.色料綠36及C. I.色料黃83之至少 一成員、C. I.色料黃138或C. I.色料黃150所組成之混合 5 物。其它適合之綠色色料係C.I.色料綠15、25及37。 適合綠色染料之例子係C. 1_酸綠3、9、16,C. I.鹼綠1 及4。 適合之藍色色料之例子係單獨或與二噁嗪型紫色色料 混合使用之酞菁型色料,例如,單獨之C, I.色料藍15:6、 10 C. I.色料藍15:6及C. I.色料紫23之混合物。藍色色料之進 一步例子係C. I.色料藍15:3、15:4、16、22、28及60。其 它適合之色料係C.I.色料紫14、19、23、29、32、37、177, 及C. I.橙73。 適合之藍色染料之例子係C. I.溶劑藍25、49、68、78、 15 94,C. I.直接藍25、86、90、108,C_ I.酸藍卜 7、9、15、 103、104、158、16卜 C. I.鹼藍1、3、9、25,及C. I.分散 藍 198。 用於黑色基質之光聚合組成物之色料包含至少一選自 碳黑、鈦黑,及氧化鐵所組成族群之成員。但是,全體產 20 生黑色外觀之其它色料之混合物亦可被使用。.例如,C. I. 色料黑1、7及31可單獨或混合使用。 用於濾色器之染料之其它例子係C. I.溶劑黃2、5、14、 15 、 16 、 19 、 2卜 33 、 56 、 62 、 77 、 83 、 93 、 162 、 104 、 105、114、129、130、162,C. I·分散黃3、4、7、3卜 54、 58 200918503 61、201,C. I.直接黃1、11、12、28,C. I.酸黃1、3、11、 17、23、38、40、42、76、98,C. I.鹼黃卜 C. I.溶劑紫 13、 33、45、46,C. I.分散紫22、24、26、28,C. I.酸紫49、 C. Ι_鹼紫2、7、10,C. I.溶劑橙卜 2、5、6、37、45、62、 5 99,C. I.酸橙卜 7、8、10、20、24、28、33、56、74,C. I. 直接橙 1,C. I.分散橙5,C. I.直接棕6、58、95、101、173, C. I.酸棕 14,C. I.溶劑黑3、5、7、27、28、29、35、45, 及46。 於製造濾色器之某些特別情況,互補之顏色,黃色、 10 紫紅色、藍綠色,及選擇性之綠色,可被使用以替代紅色、 綠色,及藍色。當黃色用於此種濾色器時,傳統之黃色色 料及染料可被使用。適於紫紅色之著色劑之例子係C.I.色 料紅 122、144、146、169、177,C. I.色料紫 19及 23。藍 綠色之例子S太菁铭色料、酜菁鈦色料、献菁鉻色料,酜菁 15 錫色料。 對於任何顏色,多於二種色料之混合物亦可被使用。 特別適於濾色器應用係藉由使上述色料細微分散於樹脂而 製備之經粉末處理之色料。 總固體組份(各種顏色之色料及樹脂)内之色料之濃度 20 係,例如,5至80重量%之範圍,特別是20至45重量%之範 圍。 濾色器阻劑組成物中之色料較佳係具有小於可見光波 長(400 nm至700 nm)之平均顆粒直徑。特別佳係< 100 nm之 平均色料直徑。 59 200918503 若需要,色料可於光敏性組成物中藉由使色料以分散 劑預處理而改善色料於液體配製物内之分散安定性而安定 化。適合之添加劑係如上所述。 較佳地,依據本發明之濾色器阻劑組成物另外含有至 5 少一可加成聚合之單體化合物作為組份(a)。 乙烯不飽和化合物(a)包含一或多個烯烴雙鍵。其可具 有低(單體)或高(寡聚物)分子質量。含有雙鍵之化合物之例 子係(曱基)丙烯酸、烷基、羥基烷基或胺基烷基(甲基)丙烯 酸酯,例如,甲基、乙基、正丁基、異丁基、第三丁基、 10 正丙基、異丙基、正己基、環己基、2-乙基己基、異冰片 基、苯曱基、2-羥基乙基、2-羥基丙基、曱氧基乙基、乙氧 基乙基、甘油、苯氧基乙基、甲氧基二甘醇、乙氧基二甘 醇、聚乙二醇、聚丙二醇、縮水甘油基、N,N-二甲基胺基 乙基,及N, N-二乙基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯s。其它例子 15 係(甲基)丙烯腈、(曱基)丙烯醯胺、N-取代之(甲基)丙烯醯 胺,諸如,N,N-二甲基(曱基)丙烯醯胺、N, N-二乙基(甲基) 丙烯醯胺、N, N-二丁基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基(甲基) 丙烯醯胺' N-乙基(曱基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯 胺,及N-(甲基)丙烯醯基嗎啉、乙烯基酯s,諸如,乙酸乙 20 烯酯,乙烯基醚,諸如,異丁基乙烯基醚,苯乙烯、烷基 -、羥基-,及鹵苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己 内醯胺、N-乙烯基乙醯胺、N-乙烯基甲醯胺、氯乙烯,及 氯亞乙稀。 相對較高分子質量之聚不飽和化合物(寡聚物)之例子 60 200918503 係含有乙烯不飽和羧酸酯之聚酯、聚胺甲酸酯、聚醚,及 聚醯胺。 特別適合之例子係乙烯不飽和羧酸與多元醇或聚環氧 化物之酉旨。 5 不飽和羧酸之例子係丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、 衣康酸、肉桂酸,及不飽和脂肪酸,諸如,亞麻酸或油酸。 丙烯酸及甲基丙烯酸係較佳。 適合之多元醇係芳香族,特別是,脂族及環脂族之多 元醇。芳香族多元醇之例子係氫醌、4,4’-二羥基聯苯、2,2-10 雙(4-羥基苯基)曱烷、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基苯基)六氟丙烷、9,9-雙(4羥基苯基)芴、酚醛清漆樹脂 及甲階酚醛樹脂。脂族及環脂族多元醇之例子係較佳係具 有2至12個碳原子之烷撐二醇,諸如,乙二醇、1,2-或1,3-丙二醇、1,2-、1,3-或1,4-丁二醇、戊二醇、己二醇、辛二 15 醇、十二烷二醇、二甘醇、三甘醇、具有較佳係200至1500 之分子量之聚乙二稀、1,3-環戊二醇、1,2-、1,3-或1,4-環己 二醇、1,4-二羥基曱基環己烷、甘油、三乙醇胺、三曱醇乙 烷、三甲醇丙烷、季戊四醇、季戊四醇單草酸酯、二季戊 四醇、季戊四醇與乙二醇或丙基二醇之醚、二季戊四醇與 20 乙二醇或丙二醇之醚、山梨糖醇、2,2-雙[4-(2-羥基乙氧基) 苯基]甲烷、2,2-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷,及9,9-雙 [4-(2-羥基乙氧基)苯基]芴。其它適合之多元醇係於聚合物 鏈或於側基含有羥基之聚合物與共聚物,例子係包含乙烯 基醇或包含羥基烷基(曱基)丙烯酸酯之均聚物或共聚物。適 61 200918503 合之另外之多元醇係具有羥端基之酯及胺甲酸酿。 多元醇玎以一不飽和羧酸或以不同之不飽和缓酸部份 或完全醋化,且於部份之醋’自由經基可被改質’例如 以其它羧酸醚化或酯化。 5 以多元醇為主之酯之例子係三曱基醇丙烷三(甲基)丙 烯酸酯、三甲基醇丙烷三(丙烯醯基氧丙基)醚、三甲基醇乙 烧三(甲基)丙稀酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇一 (曱基)丙烯酸酯、三甘醇二(曱基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基) 丙烯酸酯、四甲撐基二醇二(曱基)丙烯酸酯、新戊基二醇二 1〇 (甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二 (甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙稀酸酯、季戊四醇二 (甲基)丙烯酸酯單草酸酯、二季戊四酵二(甲基)丙烯酸酯、 二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯' 二季戊四醇四(甲基)丙烯酸 酯、二季戊四醇五(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙 15烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯單(2-羥基乙基)醚、 三季戊四醇八(甲基)丙浠酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸 酯、1,4-丁二醇二衣康酸酯、己二醇二(曱基)丙烯酸酯、丨,4-環己二醇二(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇三(甲基)丙烯酸酯、 山梨糖醇四(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇五(甲基)丙烯酸酯、 2〇 山梨糖醇六(甲基)丙稀酸酯、寡聚酯(曱基)丙烯酸酯、甘油 二(甲基)丙烯酸酷,及三(甲基)丙烯酸酯、具200至1500之 分子量之聚乙二醇之二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二衣康酸 酯、二季戊四醇三衣康酸酯、二季戊四醇五衣康酸酯、二 季戊四醇六衣康酸酯、乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康 62 200918503 酸酯、1,3-丁二醇二衣康酸酯、1,4-丁二醇二衣康酸酯、四 甲撐基二醇二衣康酸酯、山梨糖醇四衣康酸酯、乙二醇二 巴豆酸酯、四甲撐基二醇二巴豆酸酯、季戊四醇二巴豆酸 酯、乙二醇二馬來酸酯、三甘醇二馬來酸酯、季戍四醇二 ' 5 馬來酸酯、山梨糖醇四馬來酸酯,或其等之混合物。 ' 其它例子係於下之化學式(XII)及(XIII)所示之季戊四 醇及二季戊四醇之衍生物:
Rioo-iM^p-o-c^ ?h2-〇—(Mi)p_Ri〇〇 f . Ri00~(Mi)p-〇-CHr9'CH2°"CHr9~cHj〇-(M1)rR100 (XII) ( R100—(M1)P—0_CH2 CHfO-iMHoo μ、 ?H2-〇-(Ml)q-R1〇〇 R100_(Ml)r_〇_CH2'9~CH2'O_(Ml)q~R100 (XIII),其中, CH2-〇-(Ml)q-R100 ^ 10 mhmch2ch2o)-或-[ch2ch(ch3)0]-,
Rioo 係-coch=ch2 或-coc(ch3)=ch2, p係0至6(p之總數:3 - 24) ’且q係0至6(q之總數:2 _ 16)。 聚環氧化物之例子係以前述多元醇及表氯醇為主者。 典型上之例子係雙(4-縮水甘油基氧苯基)曱炫、2,2_雙(4_縮 15水甘油基氧苯基)丙提、2,2_雙(4、缩水甘油基氧笨基)六氣丙 烷、9,9_雙(4_縮水甘油基氧苯基)苟、雙[4-(2-縮水甘油基氧 乙氧基)苯基]甲⑥、2,2-雙[4_(2'缩水甘油基氧乙氧基)苯基] 丙烧、2,2-雙[4-(2-縮水甘油基氧乙氧基)苯基]六氣丙烧、 9,9-雙[4-(2-縮水甘油基氧乙氧基)笨基]苟、雙[4_(2縮水甘 2〇油基氧丙氧基)笨基]甲燒、2,2_雙[4_(2_縮水甘油基氧丙氧基) 苯基]丙烧、2,2-雙[4-(2-縮水甘油基氧丙氧基)苯基]六氟丙 烷、9,9-雙[4-(2-縮水甘油基氧丙氧基)苯基]场,及酚及甲酚 63 200918503 盼酸清漆樹脂之縮水甘油謎。 以聚環氧化物為主之組份⑻之典型例子係2,2-雙 [4-{(2-經基-3-丙烯基氧)丙氧基}苯基]丙烷、22雙[4__{(2_ 經基-3-丙烯基氧)丙氧基乙氧基}苯基]丙烷、9,9雙[4_{(2_ 羥基-3_丙烯基氧)丙氧基}苯基]芴、9,9-雙[4-{(2-羥基-3-丙 烯基氧)丙氧基乙氧基}苯基]氟,及以酚醛清漆樹脂為主之 環氧樹脂與(甲基)丙烯酸之反應產物。 上述多元醇或聚環氧化物與具羥基之不飽和化合物 (諸如,2_羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、乙烯基醇)反應而獲得 10之聚喊亦可作為組份(a)。 亦適於作為組份(a)係相同或不同之不餘和欵酸與較佳 係具有2至6(特別是2至4)個胺基之芳香族、環脂族,及腊埃 之聚胺之醯胺。此等聚胺之例子係乙二胺、^―或丨,3丙_ 胺、1,2-、1,3-或 1,4-丁二胺、1,5-戊二胺、1,6-己二胺、辛 15 20 二胺、十二烷基二胺、丨,4_二胺基環己烷、異佛爾_二胺、 本一胺、雙本·一胺、二-β-胺基乙基驗、二乙撐基三胺、二^ 二 〇 擇基四胺、二(β-胺基乙氧基)-或二(β-胺基丙氧基)乙燒。其 它適合之聚胺係較佳於側鏈具有另外之胺基之聚合物及共 聚物,及具有胺端基之寡聚醯胺。此等不飽和醯胺之例子 係曱撐基雙丙烯醯胺、1,6-六曱撐基雙丙烯醯胺、二乙樓式 三胺三曱基丙烯醯胺、雙(甲基丙烯基醯胺基丙氡基)乙烷、 β-甲基丙烯基醯胺基乙基曱基丙烯酸酯,及Ν[(β_羥基乙氧 基)乙基]丙稀醯胺。 其它例子係自聚異氰酸酯及具有羥基之不飽和化合物 64 200918503 或自聚異氰酸酯、多元醇,具有經基之不飽和化合物衍生 之不飽和胺曱酸酯。 其它例子係於鏈中具有乙烯不飽和基之聚酯、聚醯 胺或聚胺曱酸酯。適合之不飽和聚酯及聚醯胺亦係衍生 5自’例如,馬來酸酐及二醇或二胺。某些馬來酸可以其它 一緩酸替代。聚酯及聚醯胺亦可衍生自二羧酸及乙烯不飽 和之二醇或二胺,特別是自具有,例如,6至20個C原子之 相對較長鏈者。聚胺甲酸酯之例子係由飽和或不飽和之二 異氰酸酯及不飽和或個別之飽和二醇所組成。 10 其它適合之於側鏈具有丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯基之 聚合物係’例如’溶劑可溶或鹼可溶之聚醯亞胺先質,例 如’於分子内具有與主幹或酯基附接之可光聚合之側基之 聚(酿胺酸酯)化合物,即,依據EP 624826者。此等寡聚物 或聚合物可選擇性地與反應性稀釋劑(如,多官能性之(甲基) 15丙稀酸酯)配製以便製備高敏感性之聚醯亞胺先質阻劑。 組份a)之進一步例子亦係於分子結構内具有至少一羧 基基及至少一乙稀不飽和基之聚合物或寡聚物,諸 如’樹脂藉由飽和或不飽和之多元酸酐與酚或甲酚酚醛清 漆環氧樹脂及不飽和單羧酸之反應產物(例如,諸如eb9696, 20 UCB Chemicals ; KAYARAD TCR1025, Nippon Kayaku Co·,LTD之可購得之產物)反應而獲得之樹脂,多元酸酐之 例子係馬來酸酐、琥珀酸酐、衣康酸酐、酞酸酐、四氫酞 酸酐、六氫酞酸酐、甲基四氫酞酸酐、戊二酸酐、戊烯二 酸酐、檸康酸酐、二甘醇酸酐、亞胺基二乙酸酐、-環戊 65 200918503 烷二乙酸酐、3,3-二甲基戊二酸酐、3-乙基-3-甲基戊二酸 酐、2-苯基戊二酸酐、高酞酸酐、偏苯三酸酐、氯茵醆酐、 均苯四酸二酐、苯并醯苯四羧酸二酐、二苯基四羧酸二酐, 及二苯基醚四缓酸二酐。 其它例子係自化學式(XIV)之化合物與一或多種之上 述多元酸酐之聚縮合反應及/或加成反應之產物。
10 R>200係氫或甲基, R·及R·彼此獨立地係氫、甲基、C1,或Br,M2係具有1 至10個碳原子之經取代或未經取代之烧撐基,X係0至5,且 y係1至10。作為組份(a)之此等化合物之例子係描述於 JP2002-206014A 、 JP2004-69754A 、 JP2004-302245A 、 15 JP2005-77451A 、 JP2005-316449A 、 JP2005-338328A 及 JP3754065B2 。 如上所述之聚合物或募聚物具有,例如,約Γ000至 ΓΟΟΟ’ΟΟΟ,較佳係2’000至200’000,之分子量,及約10至 200毫克ΚΟΗ/克,較佳係20至180毫克ΚΟΗ/克,之酸值。 20 較佳之可光聚合之組成物包含作為組份(a)之於分子内 具有至少二乙烯不飽和鍵及至少一羧酸基之化合物,特別 是藉由添加含環氧基之不飽和化合物至含羧酸基之聚合物 66 200918503 之一部份羧基而獲得之反應產物,或如下所示化合物與一 或更多種之多元酸酐之反應產物。進一步較佳之組份(約包 含自化學式XIV之化合物與一或更多種之多元酸酐反應而 獲得之化合物。 5 進一步例子係藉由添加含有環氧基之不飽和化合物至 含羧酸基之聚合物之一部份羧基而獲得之反應產物。作為 含有羧酸之聚合物,自不飽和羧酸化合物與一或多種之可 聚合之化合物反應形成之上述結合劑聚合物,例如,(甲基)
丙烯酸、苯甲基(曱基)丙烯酸酯、苯乙烯及2-羥基乙基(甲 1〇基)丙烯酸酯,之共聚物,(甲基)丙烯酸、苯乙烯及α-甲基苯 乙烯之共聚物,(曱基)丙烯酸、Ν-苯基馬來醯亞胺、苯乙烯 及苯甲基(甲基)丙烯酸酯之共聚物,(甲基)丙烯酸及苯乙烯 之八聚物,(甲基)丙烯酸及苯甲基(曱基)丙烯酸酯之共聚 物四氧呋喃基(甲基)丙烯酸酯、笨乙烯及(甲基)丙烯酸之 15共聚物等。 具有環氧基之不飽和化合物之例子係如下以(ν-1)— (V]5)所示;
CH: (V-5) 〒50 C- C-0- ^50 0 CH^c-c-O-Mjn-rv〇 (V-6)
67 20 200918503
^50 〇 Ο ^50 〇 CH = C-C-〇-M3-r^N-CH—o-c-^^ CH = C-C-〇-M3'CH-r/X]\ (V-10) HO乂」 (V-11) OH
?50 9 CH = C-C-0 (V-12) H〇- 5 ^50 ° J CH = C-C- (V-14) 其中,r5〇係氫或甲基,m3係經取代或未經取代之具有1 至10個碳原子之烷撐基。 此等化合物中,具有脂環狀之環氧基之化合物係特別 佳,因為此等化合物與含羧基之樹脂具有高反應性,因此, 10 反應時間可被縮短。此等化合物進一步於反應處理中不會 造成膠凝,且能安定地實行此反應。另一方面,丙烯酸縮 水甘油S旨及甲基丙稀酸縮水甘油自旨由敏感性及对熱性之觀 點係有利,因為其等具有低分子量且可賦予高的酯化轉化。 上述化合物之具體例子係,例如,苯乙烯、α-甲基苯 15 乙烯及丙烯酸之共聚物或甲基丙烯酸甲酯及丙烯酸之共聚 物與3,4-環氧環己基甲基(甲基)丙烯酸酯之反應產物。 具有羧基之不飽和化合物(諸如,2-羥基乙基(甲基)丙 烯酸酯及甘油單(曱基)丙烯酸酯)可用以替代上述之含環氧 基之不飽和化合物而作為含羧酸基之聚合物之反應物。 68 200918503 其它例子係含酐之聚合物之半酯,例如,馬來酸酐及 一或多種其它可聚合之化合物之共聚物與具有醇羥基之 (甲基)丙烯酸酯(諸如,2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯)或具有 環氧基者(例如,化學式(V-l) - (V-15)所述之化合物)之反應 5 產物。 具有醇羥基之聚合物(諸如,2-羥基乙基(甲基)丙烯酸 酯、(甲基)丙烯酸、曱基丙烯酸苯曱酯,及苯乙烯之共聚物) 與(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯氣之反應產物亦可作為組份 ⑻。 10 其它例子係具終端不飽和基之聚酯,其係自二元酸酐 及具有至少二環氧基之化合物反應及其後與不飽和化合 物,與多元酸酐反應而獲得。 進一步例子係藉由飽和或不飽和之多元酸酐與藉由添 加含環氧基之(甲基)丙烯化合物至如上所述之含有羧酸之 15 聚合物之所有羧基而獲得之反應產物反應而獲得之樹脂。 可光聚合之化合物可單獨或以任何所欲混合物使用。 於濾、色器阻劑組成物,可光聚合之組成物中所含之單 體總量係5至80重量%,特別是10至70重量%,其係以組成 物之全部固體含量(即,無溶劑之所有組份之量)為基準計。 20 作為用於可溶於鹼性水溶液且不溶於水之濾色器阻劑 組成物中之結合劑,例如,於分子内具有一或多個酸基或 一或多個可聚合之不飽和鍵之可聚合之化合物之均聚物, 或其二或更多種之共聚物,及一或多種之具有一或多個可 與此等化合物共聚合之不飽和雙鍵且不含有酸基之可聚合 69 200918503
化合物之共聚物可被使用。此等化合物可藉由使一或多種 之於分子内具有一或多個酸基及一或多個可聚合之不飽和 鍵之低分子量化合物與一或多種之具有一或多個可與此等 化合物共聚合之不飽和鍵且不含有酸基之可聚合之化a物 5 共聚合而獲得。酸基之例子係-COOH基、_s〇3H
基、-SO2NHCO-基、紛經基、-S02NH-基,及_c〇_nh-CO 基。其間,具有-COOH基之高分子化合物係特別佳。 較佳地,濾色器阻劑組成物中之有機聚合物結合劑包 含驗可溶之共聚物,其包含作為可加成聚合之單體單元之 10 至少一不飽和有機酸化合物,諸如,丙烯酸、甲基丙缚酸 等。較佳係使用不飽和之有機酸酯化合物(諸如,丙浠酸甲 酯、(曱基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯 '苯乙烯等) 作為聚合物結合劑之另外共單體,以平衡諸如,鹼可溶劑、 黏著剛性、耐化學性等之性質。 15 有機聚合物結合劑可為,例如,於US 5368976中所述 之無規共聚物或嵌段共聚物。 於分子内具有一或多個酸基及一或多個可聚合之不飽 和鍵之可聚合之化合物包含下列化合物: 於分子内具有一或多個-COOH基及一或多個可聚合不 20 飽和鍵之可聚合之化合物之例子係係(甲基)丙烯酸、2-羧基 乙基(甲基)丙烯酸、2-羧基丙基(曱基)丙烯酸、巴豆酸、肉 桂酸、單[2-(甲基)丙烯醯基氧乙基]琥珀酸酯、單[2-(甲基) 丙烯醯基氧乙基]己二酸酯、單(曱基)丙烯醯基氧乙基] 酞酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧乙基]六氫酞酸酯、單[2-(甲 70 200918503 基)丙烯醯基氧乙基]馬來酸酯、單(甲基)丙烯醯基氧丙基] 號站酸s旨、單[2-(曱基)丙烯醯基氧丙基]己二酸酯、單[2-(曱 基)丙烯醯基氧丙基]酞酸酯、單(甲基)丙烯醯基氧丙基] 六氫醜酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧丙基]馬來酸酯、單 5 [2~(曱基)丙烯醯基氧丁基]琥珀酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基 氧丁基]己二酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯基氧丁基]酞酸酯、單 [2-(甲基)丙烯醯基氧丁基]六氫酞酸酯、單[2-(甲基)丙烯醯 基氧丁基]馬來酸酯、3-(烧基氨基甲醯基)丙烯酸、α-氯丙 稀酸、馬來酸、單g旨化馬來酸、福馬酸、衣康酸、巴立酸、 10 中康酸、馬來酸酐,及ω-羧基聚己内酯單(甲基)丙烯酸酯。 乙烯基苯磺酸及2-(甲基)丙烯醯胺-2-曱基丙烷磺酸係 具有一或多個-S03H基及一或多個可聚合之不飽和鍵之可 聚合化合物之例子。 N-曱基磺醢基(曱基)丙烯醯胺、N-乙基磺醯基(甲基) 15 丙烯醯胺、N-苯基磺醯基(曱基)丙烯醯胺,及N-(對-甲基苯 基磺醯基)(甲基)丙烯醯胺係具有一或多個-S02NHC0-基及 一或多個可聚合不飽和鍵之可聚合化合物之例子。 於分子内具有一或多個酚羥基及一或多個可聚合不飽 和鍵之可聚合化合物之例子包含羥基苯基(甲基)丙烯醯 2〇 胺、二羥基笨基(甲基)丙烯醯胺、羥基苯基-羰基氧乙基(甲 基)丙烯酸酯、羥基苯基氧乙基(甲基)丙烯酸酯、羥基苯基 硫基乙基(甲基)丙烯酸酯、二羥基苯基羰基氧乙基(甲基)丙 烯酸酯、二羥基苯基氧乙基(甲基)丙烯酸酯,及二羥基-苯 基硫基乙基(曱基)丙烯酸酯。 71 200918503 於分子内具有一或多個-so2nh-基及一或多個可聚合 不飽和鍵之可聚合化合物之例子包含以化學式(a)或(b)表 示之化合物: CH2= CHAi_Yi-A2-S02-NH-A3 (a) 5 CH2 = chA4-Y2-A5-NH-S02-A6 (b) 其中,1及1每一者代表-COO-、-CONA7-,或單鍵;Ai 及八4每一者代表H4CH3;八2及八5每一者代表選擇性具有一 取代基之Crcl2烷撐基、環烷撐基、芳撐基,或芳烷撐基, 或其間插入醚基或硫醚之C2_Ci2烷撐基、環烷撐基、芳撐 1°基,或芳烷撐基;八3及八6每一者代表Η、選擇性具有一取 代基之Cl-Ci2烷基、環烷基、芳基、芳烷基;且八7代表Η、 選擇性具有一取代基iQ-C,2烷基、環烷基、芳基,或芳烷 基。 具有一或多個-CO-NH-CO-基及一或多個可聚合不飽 I5和鍵之可聚合化合物包含馬來醯亞胺及N-丙烯醯基-丙烯 醯胺。此等可聚合化合物變成包含-C0-NH-C0-基之高分子 化合物,其中環係與主要鏈一起藉由聚合反應形成。 再者,每一者具有_c〇_NH_c〇_基之甲基丙烯酸衍生物及丙 蛾酸衍生物亦可被使用。此等甲基丙烯酸衍生物及丙稀酸 2〇衍生物包含,例如,甲基丙烯醯胺衍生物,諸如,N_乙醯 基甲基丙烯醯胺、N-丙醯基曱基丙烯醯胺、N_丁醯基曱基 丙烯醯胺、Ν·五酿基甲基丙烯酸胺、N-癸酿基甲基丙稀醯 胺、Ν-十二烷醯基甲基丙烯醯胺、Ν_苯曱醯基甲基丙烯醯 胺、Ν-(對-甲基笨甲醯基)甲基丙烯基_醯胺、ν_(對-氣笨甲 72 200918503 醯基)甲基丙烯醯胺、N_(萘基_羰基)甲基丙烯醯胺、N_(苯 基乙酿基)-曱基丙烯基_醯胺,及4_甲基丙烯醯基胺基酞醯 亞胺’及具有與此等相同之取代基之丙烯酿胺衍生物。此 等可聚合之化合物聚合成於側鏈具有-CO-NH-CO-基之化 5 合物。 具有一或多個可聚合不飽和鍵且不含有酸基之可聚合 化合物之例子包含選自下述之具有可聚合不飽和鍵之化合 物’(甲基)丙烯酸之酯,諸如,(甲基)丙烯酸曱酯、(甲基) 丙稀酸乙醋、(曱基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、四氫 糖基(曱基)丙歸酸醒、(甲基)丙稀酸苯甲酯、2_乙基己基(甲 基)丙稀酸酿、羥基乙基(曱基)丙烯酸酯、羥基丙基(曱基) 丙烯酸醋、經基丁基(甲基)丙烯酸酯、甘油單(甲基)丙稀酸 酷、二經基丙基(甲基)丙烯酸酯、(曱基)丙烯酸烯丙酯、(甲 基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯、甲氧基苯基(曱基) 15丙烯酸酯、甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(曱基) 丙烯酸酯、甲氧基二甘醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三甘醇(甲 基)丙烯酸酯、曱氧基丙基(甲基)丙浠酸酯、曱氧基二丙甘 醇(曱基)丙烯酸酯、異冰片基甲基(丙烯酸酯)、二環戊二烯 基(甲基)丙烯酸酯、2-經基-3-苯氧基丙基(甲基)丙稀酸酯、 20 三環[5_2·1·02’6]癸-8-基(甲基)丙烯酸酯、胺基乙基(甲基)丙 烯酸酯、Ν, Ν-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、胺基丙基 (甲基)丙烯酸酿、Ν, Ν-二甲基胺基丙基(甲基)丙稀酸g旨、(甲 基)丙烯酸縮水甘油酯、2-甲基縮水甘油基(甲基)丙烯酸 酯、3,4-環氧丁基(甲基)丙烯酸酯、6,7-環氧庚基(甲基)丙烯 73 200918503 酸酯;乙烯基芳香族化合物,諸如,苯乙烯、α-曱基苯乙 烯、乙烯基曱苯、對-氯苯乙烯、聚氯苯乙烯、氟苯乙烯、 溴苯乙烯、乙氧基曱基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、4-曱氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯、乙烯基苯甲基甲基醚、乙 5 烯基苯曱基縮水甘油基醚、茚、1-曱基茚;乙烯基或烯丙 基酯,諸如,乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、戊 酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、乙烯基三甲基乙酸酯、乙烯基 二乙基乙酸酯、硼酸乙烯酯、己酸乙烯酯、乙烯基氣乙酸 酯、乙烯基二氯乙酸酯、乙烯基曱氧基乙酸酯、乙烯基丁 10 氧基乙酸酯、乙烯基苯基乙酸酯、乙酸乙烯酯、乙烯基乙 醯乙酸酯、乳酸乙烯酯、乙烯基苯基丁酸酯、乙烯基環己 基羧酸酯、水楊酸乙烯酯、乙烯基氯苯甲酸酯、乙烯基四 氣苯曱酸酯、萘酸乙烯酯、乙酸烯丙酯、丙酸烯丙酯、丁 酸烯丙酯、戊酸烯丙酯、苯甲酸烯丙酯、己酸烯丙酯、硬 15 脂酸烯丙酯、烯丙基乙醯乙酸酯、乳酸烯丙酯;乙烯基或 烯丙基醚,諸如,乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚、乙烯基 己基醚、乙烯基辛基醚、乙烯基乙基己基醚、乙烯基甲氧 基乙基醚、乙烯基乙氧基乙基醚、乙烯基氯乙基醚、乙烯 基羥基乙基醚、乙烯基乙基丁基醚、乙烯基羥基乙氧基乙 20 基醚、乙烯基二甲基胺基乙基醚、乙烯基二乙基胺基乙基 醚、乙烯基丁基胺基乙基醚、乙烯基苯曱基醚、乙烯基四 氫糠基醚、乙烯基苯基醚、乙烯基甲苯基醚、乙烯基氣苯 基醚、乙烯基氯乙基醚、乙烯基二氯苯基醚、乙烯基萘基 醚、乙烯基蒽基醚、烯丙基縮水甘油基醚;醯胺型不飽和 74 200918503 化合物,諸如,(甲基)丙烯醯胺、N,N_二甲基(甲基)丙烯醯 胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丁基(甲基)丙晞 醯胺、N,N-二乙基己基(曱基)丙烯醯胺、N,N-二環己基(甲 基)丙烯醯胺、N,N-二苯基(甲基)丙稀醯胺、N_甲基_N_苯 5基(曱基)丙烯醯胺、N-羥基乙基-N-甲基(甲基)丙烯醯胺、 N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N_乙基(曱基)丙烯醯胺、N_丙基(甲 基)丙稀酿胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基乙基(曱基)丙 烯醯胺、N-庚基(甲基)丙烯醯胺、N-辛基(曱基)丙烯醯胺、 N-乙基己基(甲基)丙烯醯胺、Ν_·基乙基(甲基)丙烯醯胺環 10己基、N-苯甲基(甲基)丙烯醯胺、N_苯基(甲基)丙烯醯胺、 N-甲苯基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基苯基(曱基)丙烯醯胺、N-萘基(曱基)丙烯醯胺、N-苯基磺醯基(甲基)丙烯醯胺、N-曱基苯基磺醯基(甲基)丙烯醯胺,及N-(甲基)丙烯醯基嗎 啉、二丙酮丙烯醯胺' N-甲基醇丙烯醯胺、N-丁氧基丙烯 15 醯胺;聚烯烴型化合物,諸如,丁二烯、異戊二烯、氣丁 二烯等;(甲基)丙烯腈、甲基異丙烯基酮、馬來醯亞胺、 N-苯基馬來醯亞胺、N-甲基苯基馬來醯亞胺、N_甲氧基苯 基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺、N-烷基馬來醯亞胺、 馬來酸酐、聚苯乙烯巨單體、聚(甲基)丙烯酸甲酯巨單體、 2〇 聚(甲基)丙烯酸丁酯聚單體;巴豆酸酯,諸如,巴豆酸丁酯、 巴豆酸己酯、甘油單巴豆酸酯;及衣康酸酯,諸如,农康 酸二曱酯、衣康酸二乙酯、衣康酸二丁酯;及馬來酸酯或 福馬酸酯,諸如,馬來酸二甲酯、福馬酸二丁酯。 共聚物之較佳例子係(甲基)丙烯酸甲酯及(甲基)丙烯 75 200918503 酸之共聚物、(甲基)丙烯酸苯曱酯及(甲基)丙烯酸之共聚 物 '(曱基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯及(甲基)丙烯酸 之共聚物、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸及苯乙烯之 共聚物、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(曱基)丙烯酸及2_羥基乙基 5 (甲基)丙烯酸酯之共聚物、(曱基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯 酸丁酯、(甲基)丙烯酸及苯乙烯之共聚物、(甲基)丙烯酸甲 酯、(甲基)丙烯酸笨甲酯、(甲基)丙烯酸及羥基苯基(甲基) 丙烯酸酯之共聚物、(甲基)丙烯酸曱酯、(甲基)丙烯酸及聚 (甲基)丙稀酸曱醋巨單體之共聚物、(甲基)丙稀酸本甲酿、 10 (甲基)丙烯酸及聚(甲基)丙烯酸甲酯巨單體之共聚物、四氫 糠基(曱基)丙烯酸酯、苯乙烯及(曱基)丙烯酸之共聚物、(甲 基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸及聚苯乙烯巨單體之共聚 物、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸及聚苯乙烯巨單體 之共聚物、(甲基)丙烯酸苯曱酯、(曱基)丙烯酸、2-羥基乙 15 基(甲基)丙烯酸酯及聚苯乙烯巨單體之共聚物、(甲基)丙烯 酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯及聚 苯乙烯巨單體之共聚物、(曱基)丙烯酸苯曱酯、(曱基)丙烯 酸、2-羥基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯及聚(甲基)丙稀酸 甲酯巨單體之共聚物、(甲基)丙烯酸曱酯、(曱基)丙烯酸、 2〇 2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯及聚苯乙烯巨單體之共聚物、 (甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸、2-羥基乙基(曱基)丙 烯酸酯及聚(甲基)丙烯酸甲酯巨單體之共聚物、N-苯基馬來 醯亞胺、(甲基)丙烯酸苯曱酯、(甲基)丙烯酸及苯乙烯之共 聚物、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸、N-苯基馬來醯 76 200918503 亞胺、單-[2-(甲基)丙烯醯基氧乙基]琥珀酸酯及笨乙烯之共 聚物、(甲基)丙稀酸烯丙醋、(甲基)丙烯酸、N-笨基馬來醢 亞胺、單42-(甲基)丙烯醯基氧乙基]琥珀酸酯及苯乙烯之共 聚物、(甲基)丙烯酸苯曱酯、(甲基)丙烯酸、N-苯基馬來醯 5 亞胺、甘油單(甲基)丙烯酸酯及苯乙烯之共聚物、(甲基)丙 烯酸苯甲酯、ω-羧基聚己内酯單(甲基)丙烯酸酯、(甲基) 丙稀酸、Ν-苯基馬來醯亞胺、甘油單(甲基)丙烯酸酯及苯乙 烯之共聚物,及(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸、Ν-私己基馬來酿亞胺及本乙婦之共聚物。 本申请案内容中之“(甲基)丙烯酸醋”一辭意指丙稀酸 酯與相對應之曱基丙烯酸酯。 亦可被使用係羥基苯乙烯均聚物或共聚物或酚醛清漆 型之酚樹脂,例如,聚(羥基笨乙烯)及聚(羥基苯乙烯-共-乙細基ί衣己醉)、酌·私清漆樹脂、曱紛紛醒·清漆樹月曰’及 15 齒化酚酚醛清漆樹脂。更特別地,其包含,例如,甲基丙 稀酸共聚物、丙稀酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚 物、馬來酸酐共聚物,例如,以苯乙烯作為共單體,及馬 來酸共聚物,及部份酯化之馬來酸共聚物,每一者係描述 於,例如,JP 59-44615-B4(JP-B4”一辭於此使用時係指經審 20 查之日本專利公告案)、JP 54-34327-B4、JP 58-12577-B4, 及 JP 54-25957-B4、JP 59-53836-A、JP 59-71048-A、JP 60-159743-A、JP 60-258539-A、JP 1-152449-A、JP 2-199403-A ’及JP 2-199404-A,且此等共聚物可進一步與 胺反應,如US5650263中所揭示者,另外,於側鍵具有叛基 77 200918503 之纖維素衍生物可被使用,且特別佳係(甲基)丙烯酸苯甲酯 與(甲基)丙烯酸之共聚物,及(甲基)丙烯酸苯曱酯、(曱基) 丙烯酸及其它單體之共聚物,例如,於US 4139391、JP 59-44615-B4、JP 60-159743-A及JP 60-258539-A 中所述者。 5 有關於於如上之有機結合劑聚合物中具有羧酸基者, 可能使一些或全部之羧酸基與(曱基)丙烯酸縮水甘油酯或 環氧(甲基)丙烯酸酯反應而獲得可光聚合之有機結合劑聚 合物,以改良光敏性、塗覆膜強度、塗層之溶劑及化學抗 性,及與基材之黏著性。例子係揭示於JP 50-34443-B4及JP 10 50-34444-B4,US5153095,T. Kudo等人,於J_ Appl. Phys.,
Vol. 37 (1998),3594-3603 頁,US5677385,及US5650233。 結合劑之重量平均分子量較佳係500至ΓΟΟΟ’ΟΟΟ,例 如,3,000至 1’000,000,更佳係5’000至400’000。 此等化合物可單獨或以二或更多種之混合物使用。光 15 敏性樹脂組成物之結合劑之量較佳係丨〇至95重量%,更佳 係15至90重量%,其係以全部固體物料為基準計。 再者,於濾色器中,每一顏色之總固體組份可含有離 子性雜質清除劑,例如’具有環氧基之有機化合物。總固 體組份内之離子性雜質清除劑之濃度—般係〇. 1重量%至1 〇 20 重量%之範圍。 濾色器之例子,特別是有關於上述色料及離子性雜質 清除劑之混合物,係示於EP 320264 °需瞭解依據本發明之 光起始劑’即,EP 320264中所述之滤色器配方物中之化學 式I及II之化合物,可以三嗪起始劑化合物替代。 78 200918503 依據本發明之組成物可另外包含藉由酸活化之交聯劑 (例如,於JP 10-221843A中所述者)’及熱或藉由光化輕射 產生酸且活化交聯反應之化合物。 依據本發明之組成物亦可包含潛色料,其於含有潛色 • 5料之光敏性圖案或塗層熱處理期間轉化成細微分散之色 • 料。熱處理可於含有潛色料之可光形成圖像之層曝光後或 顯影後實施。此等潛色料係可溶性之色料先質,其藉由, 例如,於US5879855中所述之化學、熱、光解或輻射誘發之 ( 方法轉成化不可溶之色料。.此等潛色料之轉化可藉由添加 10 於光化曝光產生酸之化合物或藉由添加酸性化合物至此組 成物而促進。因此,於依據本發明之組成物内包含潛色料 之濾色器阻劑亦可被製備。
Examples for濾色器阻劑之例子、此等阻劑之組成, 及處理條件係由T. Kudo等人,Jpn. J_ Appl. Phys.第37冊 15 (1998) 3594 ; T. Kudo等人,J· Photopolym. Sci. Technol. 第 9冊(1996) 109 ; K_ Kobayashi,Solid State Technol. Nov. I 1992, S15-S18頁;US5368976 ; US5800952 ; US5882843 ; US5879855 ; US5866298 ; US5863678 ; JP 06-230212A ; EP320264 ; JP 09-269410A ; JP 10-221843 A ; 20 JP 01-090516A ; JP UM71119A,US5821016,US5847015, US5882843,US5719008,EP881541,或EP902327中示之。 本發明之光起始劑可用於濾色器阻劑,諸如,上述例 子所示者,或可部份或完全替代此等阻劑中之已知光起始 劑。熟習此項技藝者瞭解本發明之新穎光起始劑之使用並 79 200918503 不限於特定之結合劑樹脂、交聯劑,及如前所示濾色器阻 劑例子之配方物,而係可與和染料或顏色色料或潛色料混 合之任何之基可聚合之組份結合使用形成光敏性之濾色器 墨水或濾、色器阻劑。 5 因此,本發明之標的亦係一種藉由於一透明基材上提 供紅、綠及藍(RGB)之顏色元素及選擇性之黑色基質(其所 有者皆包含光敏性樹脂及色料),且於基材之表面上或於濾 色器層之表面上提供一透明電極而製備之濾、色器,其中, 該光敏性樹脂包含多官能性之丙烯酸酯單體、有機聚合物 10結合劑,及如上所述之化學式I之光聚合反應起始劑。單體 及結合劑組份與適合之色料係如上所述。於據色器之製 造,透明電極層可被塗敷於透明基材之表面上或可被提供 於紅、綠及藍色圖案元素及黑色基質之表面上。透明美材 係’例如,玻璃基材,其可另外於其表面上具有—
良濾色器之對比。 如上所述,本發明之光敏性組成物亦適於 之黑色基質。此等黑色基質之組成包含,例如 -如上所述之本發明之化學式I或π之光起始劑 製備濾色器 據本發明之化學式I或II之化合物或化學式J,或⑴ 化合物,或依 之光起始劑混合物, 之化合物 酸酯樹脂之有 -有機結合劑’特別是係具有羧基之環氧丙歸 機結合劑, -黑色物料’ 200918503 _聚合物分散劑,特別是含有鹼性官能基之聚合物分散劑。 熟習此項技藝者係熟悉此等配製物。如上所述之適人 之黑色基質組成物及組份(除光起始劑外者)係示於日本專 利第375065號案,其揭示内容在此被併入以供參考之用。 5 替代使用光敏性組成物形成黑色基質及藉由圖案式曝 光(即,經由適合之遮罩)以光微影術使黑色光敏性組成物形 成圖案而於透明基材上形成分隔紅、綠及藍色區域之専色 圖案,可另外使用無機黑色基質。此一無機黑色基質可自 透明基材上之沈積(即,經喷濺)金屬(即,鉻)瞑藉由適當之 10形成圖案之方法开》成,例如,使用藉由蚀刻阻劑之光微影 術形成圖案,蝕刻未受蝕刻阻劑保護之區域内之無機層, 然後移除剩餘之钱刻阻劑。 有已知於;慮色製造方法中如何及於何步驟塗敷黑色 基質之不同方法。其可如上所述般於形成紅、綠及藍(RGB) 15濾色器前直接塗敷於透明基材上,或可於RGB濾色器於基 材上形成後塗敷。 於用於液晶顯示器之濾色器之不同實施例,依據 US626796,黑色基材亦可塗敷於與藉由液晶層與其分隔之 載荷RGB濾色器元件之基材相反之基材上。 20 若透明電極層於塗敷RGB濾色器元件及選擇性之黑色 基質後沈積,如US 5650263所述,作為保護層之額外之外 護膜可於沈積電極層前塗敷於濾色器層上。 為形成據色器之外護層’光敏性樹脂或熱固性樹脂組 成物被使用。本發明之光敏性組成物亦可用以形成此等外 81 200918503 護層,因為此組成物之固化膜於平坦性、硬度、耐化學性 及耐熱性、透明度(特別是於可見光區域)、與基材之黏著 性’及於其上形成透明導電膜(例如,IT〇膜)之適當性係優 異。於保護層之製造,如JP57_42009A、及 5 JP1_134306A中所述,需使保護層之不必要部份,例如,於 用以切割基材之劃線上及固體圖像感應器上之結合墊上, 需自基材移除。關於此,係難以使用上述熱固性樹脂選擇 性地形成具良好精準性之保護層。但是,光敏性組成物能 藉由光微影術輕易地移除保護層之不必要部份。 1〇 對熟習此項技藝者明顯的是本發明之光敏性組成物可 用於產生紅、綠及藍色像素及黑色基材,用於製造淚色器, 而無論上述之於加工處理上之差異,無論可被塗敷之另外 層,及無論於濾色器設計上之差異。使用依據本發明之組 成物形成具顏色之元件不應受此專渡色器之不同設計及製 15 造方法而限制。 本發明之光敏性組成物可適用於形成濾色器,但不受 限於此應用。其亦可用於記錄材料、阻劑材料、保護声、 介電層,於顯示器應用及顯示器元件、塗料及印刷墨水。 依據本發明之光敏性組成物亦適於製造層間之絕緣層 20或液晶顯示器之介電層,且更特別係於反射型液晶顯示 器,包含具有薄膜電晶體(TFT)作為開關|置之活性基質型 式之顯示器,及無開關裝置之鈍性基質型式。 近年來,液晶顯示器由於其厚度小及重量輕已,例如, 已廣泛用於口袋型電視機及通訊用之終端裝置。無需使用 82 200918503 黑色光之反射型液晶顯示器係特別需要,因為其係超薄且 重里輕,且可顯著降低電力消耗。但是,即使背光自現今 可獲得之透射型彩色液晶顯示器移除且光反射板被添加至 顯示器之下表面,其會因使用光線之效率低而造成問題, 5 且不可能具有實用之亮度。 作為此問題之解答,已建議各種用以促進利用光之效 率之反射型液晶顯示器。例如,某—反射型液晶顯示器係 設計為包含具有反射功能之像素電極。 反射型液晶顯示器包含-絕緣基材及一與此絕緣基材 1〇分隔開之相對基材。此等基材間之空間係填充液晶。間極 於絕緣基材上形成,且間電極及絕緣基材皆被塗覆間絕緣 膜。然後’半導體層於閘極上之閘絕緣膜上形成。源極及 漏極亦於與半導體層_之_、_上形成。源極、漏極、 半導體層,及閘極彼此合作藉此構成作為開關裝置之底閑 15 型 TFT。 _ 20 層間絕緣膜形成,以其覆蓋源極、漏極、半導體層, 及閘絕緣臈。接觸孔形成於漏極上之整個層間絕緣膜Y由 鋁製成之像素電極於層輕間絕緣膜及接觸孔之内側辟上开, 成。T F T之漏極最終係經由層間絕緣膜與像素電極接觸’ 間絕緣膜一般被設計為具有粗糙化之表面 藉此,像素電 極作為反射板,其擴散光線而得較廣之觀看角(可視角 反射型液晶顯示器藉由像素電極作為光反倾^ 地促進使用光線之效率。 ’ 於上述反射型液晶顯示器,層間絕緣 策犋糟由光微影術 83 200918503 而…十成具有凸部及凹部。為形成及控制用於表面粗糖之 微米等級之細微形狀之凸部及凹部及形成接觸孔,使用正 型及負型光阻劑之光微影方法被使用。對於此等阻劑,依 據本發明之組成物係_適合。 5 10 15 20 據本^月之光敏性組成物可進一步用於製造間隔 件八係控制液晶顯示器面板内之液晶零件之單元間隙 (cell gap)。因為經由液晶顯示器内之液晶層透射或反應之 光線之性質係依單元間隙而定,厚度準確性及於像素陣列 上之均勻性係液晶顯示器單元之性能之重要參數。於液晶 單凡’單疋内基材間之間隔係藉由於基材間稀疏地分佈作 為間隔件之約數微米直徑之玻璃或聚合物球而維持固定。 間隔件因而被維持於基材間以使基材間之距離保持於固定 值。此距離係藉由間隔件之直徑決定。間隔件確保基材間 敢!間隔,即,其避免基材間之距離減少。但是,其不 此避免基材彼此分離,,基材間之距離增加。另外,使用 間Μ牛珠材之方法具有間隔件珠材之直徑均-性及面板上 之間隔件珠材之均勻分散困難,與非均-之位向及亮度及/ :戈光學孔洞依像素陣列區域上之間隔件位置而減少之問 題。=有大的圖像顯示區域之液晶顯示器最近已吸引更大 之’液晶單元之面積之增加一般造成構成此單 疋之基材變形。液晶之層結構易由於基材變形而破壞。因 此,即使當間隔件被用以使基材間之間隔維持固定,具有 =的圖像顯示面積之液晶顯示器難實行,因為此顯示器遭 干擾曰代上述間隔件珠分佈方法,一種於單元間隙形 84 200918503 成官检作為間隔件之方法已被提議。於此方法,樹脂管枉 係於像素陣列區域及對兆電極間之區域内形成作為間隔件 而形成前述之單元間隙。以光微影術而具黏著性質之光敏 性材料被普遍使用,例如,用於製造濾色器之製造方法。 5與使用間隔件珠材之傳統方法相比,此方法於間隔件之位 置、數量及高度可被自由控制之觀點而言係有利的。於彩 色液晶顯示器面板’此等間隔件係於濾色器元件之黑色基 質下於非形成圖像之區域形成。因此,使用光敏性組成物 形成之間隔件不會減少亮度及光學孔洞。 10 用以製造用於濾色器之具間隔件之保護層之光敏性組 成物係揭示於JP 2000-81701A,且用於間隔件材料之乾燥祺 型式之光阻劑亦係揭示於JP 11-174459A及 JP 11-Π4464Α。如於此等文獻中所述,光敏性組成物、液 體及乾燥膜光阻劑係包含至少一鹼或酸可溶之結合劑聚合 15物、基可聚合之單體,及基起始劑。於某些情況,諸如環 氧化物及羧酸之可熱交聯之組份可另外被包含。 使用光敏性組成物形成間隔件之步驟係如下: 光敏性組成物被塗敷至基材,例如,濾色器板,且於 基材被預烘烤後,使其經由遮罩曝光。然後,基材以顯影 20劑顯影,及圖案化而形成所欲之間隔件。當組成物含有某 些熱固性組份時,一般係實行後烘烤以使組成物熱固化。 依據本發明之可光固化之組成物因其高敏感性而係適 於製造用於液晶顯示器之間隔件(如上所述)。 依據本發明之光敏性組成物亦係適於製造用於液晶顯 85 200918503 示器面板、圖像敏感器等之微鏡片陣列。 微鏡片係顯微鈍性統學組件,其係裝設於活性光電元 件(諸如,檢測器、顯示器,及發光元件(發光二極體、橫式 及垂直腔雷射))上,以改良其光輸入或輸出之品質。應用領 5 域係廣泛且涵蓋諸如通訊、資訊科技、視聽服務、太陽能 電池·檢測器、固態光源,及光互連之領域。 本光學系統使用各種不同技術獲得微鏡片及微光學元 件間之有效偶合。 微鏡片陣列係用以使照明光線集中於非發光性顯示器 10 (諸如,液晶顯示器)之像素上,以增加顯示器之亮度,用於 集中入射光線,或作為於用於,例如,傳真機等之線圖像 感應器之光電轉化區域上形成圖像之手段,以改良此等元 件之敏感性,及用於形成被列印於用於液晶印表機或發光 二極體(LED)印表機之光敏性裝置上之圖像。 15 最普遍之應用係其用以改良諸如電荷偶合裝置(CCD) 之固態圖像感應裝置之光檢測器陣列之效率。於檢測器陣 列,於每一檢測器元件或像素内收集儘可能多之光線係所 欲的。若微鏡片被置於每一像素之頂部上,此鏡片收集進 入之光線,且使其聚焦於比鏡片尺寸更小之活性區域上。 20 依據習知技藝,微鏡片陣列可藉由各種方法製造;對 於其每一者,依據本發明之組成物可被使用。 (1)獲得凸透鏡之方法,其中,於平面結構之鏡片圖像 係藉由傳統之光微影技術等於熱塑性樹脂上繪製,然後, 熱塑性樹脂加熱至高於樹脂軟化點之溫度以具有流動性, 86 200918503 藉此造成圖像端緣下陷(所謂之“回流,,)(見,例如, JP 60-38989A、JP 60-165623A、jp 61-67003A,及 JP 2000-39503A)。於此方法,當使用之熱塑性樹脂係光敏 性時,鏡片之圖案可藉由使此樹脂曝光而獲得。 5 (2)藉由使用模具或壓印器形成塑料或玻璃材料之方 法。作為鏡片材料,可光固化之樹脂及熱固性樹脂可用於 此方法(見,例如,WO99/38035)。 (3) 以其間光敏性樹脂係藉由使用對準機而以所欲圖案 曝光,未反應之早體未曝光區域移至曝光區域,造成嗔 10光區域膨脹之現象為基礎形成凸透鏡之方法(見,例如, Journal of the Research Group in Microoptics Japanese
Society of Applied Physics, Colloquium in Optics,第 5 冊,編 號2, 118-123頁(1987)及第6冊,編號2, 87-92頁(1988))。 於支撐基材之上表面上,光敏性樹脂層被形成。其後, 15藉由使用個別之遮罩,光敏性樹脂層之上表面以來自汞燈 或相似物之光線照射,以使光敏性樹脂層曝光。因此,光 敏性樹脂層之曝光部份膨脹成凸透鏡形狀而形成具有數個 微鏡片之光線集中層。 (4) 獲得凸透鏡之方法,其中,光敏性樹脂係藉由接近 20式技術曝光,其中,光罩未與樹脂接觸,造成圖案端緣模 糊,如此,光化學反應產物之量係依圖案端緣之模糊程度 而分佈(見,例如,JP 61-153602A)。 (5) 產生透鏡效果之方法,其中,光敏性樹脂係曝光至 具特定強度分佈之光,形成依光線強度而定之折射率分佈 87 200918503 圖案(見,例如,JP 60-72927A及JP 60-166946A)。 依據本發明之光敏性組成物可用於上述方法之任一者 以使用可光固化之樹脂組成物形成微鏡片陣列。 特別種類之技術係集中於在熱塑性樹脂樣之光阻劑形 5成微鏡片。一例子係由Popovic等人公開於參考文獻SPIE 898 ’ 23-25頁(1988)。稱為迴流技術之技術包含於光敏性樹 脂樣之光阻劑藉由,例如’光微影術而於熱塑性樹脂界定 鏡片之足跡,且其後使此物料加熱至高於其迴流溫度之步 驟。表面張力使光阻劑之島部拉伸成具有等於迴流前原始 10島部之體積之球形蓋狀物。此蓋狀物係平凸狀之微鏡片。 此技術之優點係於光發射或光檢測光電元件之頂部上直接 積體化之簡單性、複製性及可能性。 於某些情況,外護層係於迴流前以矩形形狀形成於具 圖案之鏡片單元上,以避免中間之樹脂島下陷而未於迴流 15步驟迴流至球形蓋狀物内。外護層係作為永久保護層。塗 層亦係由光敏性組成物製成。 微鏡片陣列亦可藉由使用,例如,於EP0932256中所述 之模具或壓印機製造。製造平面式微鏡片陣列之方法係如 下.脫极劑被塗覆於壓印機之其上凸部份被敏密排列之成 20型表面上,且具有高折射率之可光固化之合成樹脂材料被 固疋於壓印機之成型表面上。其次,玻璃板被推至合成樹 月曰材料上藉此,使合成樹脂材料展開,且合成樹脂材料 藉由以紫外線照射或藉由加熱而固化及成型而形成凸微鏡 片。其後,壓印機被剝離。然後,具低折射率之可光固化 200918503 之合成樹脂材料被另外塗覆於凸微鏡片上作為黏著層,且 製成覆蓋玻璃板之玻璃基材被推向合成樹脂材料,藉此, 使其展開。然後,合成樹脂材料被固化,且最後,形成平 面式微鏡片陣列。 5 如1^5969867所示,使用模具之相似方法被應用於製 造棱鏡片材’其係作為用於彩色液晶顯示器面板之背光單 元之一部份,以促進亮度。於一側上形成稜鏡列之稜鏡片 材被置於背光器之發光表面上。為製造稜鏡片材,活性能 量射線可固化之組成物被鑄製且於由金屬、玻璃或樹脂製 10 成之鏡片模具内展開,且形成鏡片形狀之稜鏡列等,其後, 一透明基材片被置於其上,且來自發射活性能量射線來源 之活性能量射線係經由片材照射以便固化。然後,製備之 鏡片自鏡片模具脫離而獲得鏡片片材。 用以形成鏡片區段之活性能量射線可固化之組成物需. 15具有各種性質,包含與透明基材之黏著性,及適合之光學 特性。 至少具有習知技藝之某些光阻劑之鏡片對於某些應用 係非所欲的,因為於光譜藍端之透光性差。 因為依據本發明之可光聚合之組成物具有低的黃化性 20質(熱及光化學),其係適於製造如上所述之微鏡片陣列。 新穎之輻射敏化性組成物亦適於用於電焚顯不器面板 (PDP)之製造方法中之光微影步驟,特別是土於障壁肋、填 光體層及電極之圖像形成方法。 PDP係一種藉由以氣體放電發射光線而顯示圖像及寊 89 200918503 訊之平面顯示器。以面板結構及操作方法,已知二種型式, 即,DC(直流)型及AC(交流)型。 舉例而a,DC型彩色PDP之原理將被概略地解釋。於 DC型彩色PDP ’介於二透明基材(―般係玻璃板)間之空間 5係藉由插於透明基材間之晶格障壁肋分隔成數個小單元。 於個別之單元内,放電氣體(諸如,He4Xe)被密封。於每 一單元之後壁上,具有磷光體層’其於藉由放電氣體之放 電產生之紫外線激發時,發射三原色之可見光。於此二基 材之内表面上,電極係於相關之單元彼此相對地置放。一 10般,陰極係由透明導電材料(諸如,刪A玻璃)膜形成。當 高電壓施加於在前壁及後壁上形成之此等電極間,密封於 早7C内之放電氣體誘發電衆放電,且藉由因而韓射之紫外
DCi PDP之單元藉由晶格之组份障壁肋分割
,而於AC 5LPDP内者係藉由於基材表面上彼此平行排列之障壁肋分 割。於任-情況,此等單元係藉由障壁肋分割。此等障壁
依據本U之纽成物亦發現於製造用於圖像記錄或圖 像複製(仿製, 應用。再者, 有微膠囊之配製物可被 複印)(其可為單色或多色)之—或多層材料之 此材料係適於彩色打樣系統 。於此技術’含
200918503 化後可施以熱處理。此等系統及技術與其應用係,例如’ 揭示於US5376459。 化學式I及II之化合物亦適於作為全息攝影資料貯存應 用之光起始劑。該光起始劑於以適於全息攝影資料貯存之 5 藍色雷射照射時產生基及起始單體之聚合反應。藍色雷射 之波長範圍係390-420 nm ’較佳係400-410 nm,且特别术 405 nm。全息攝影貯存系統(全息攝影記錄媒體)係,例妒’ 用於以快速存取時間記錄及取回大量資料。本發明之光起 始劑係,例如,特別適於,例如,於WO 03/021358中所述 10 之系統。 全息攝影資料貯存系統較佳係包含一低折射率基質先 質之基質網絡及高折射率可光聚合單體。 基質先質及光活性單體可被選擇以使〇)固化期間使基 質先質聚合化之反應係與於圖案(例如,資料)書寫期間使光 15活性單體聚合化之反應無關,及(b)基質聚合物及自光活性 單體聚合而產生之聚合物(光聚合物)係彼此可相容。基質被 認為係於光記錄材料(即,基質材料加上光活性單體、光起 始劑,及/或添加劑)展現至少約105 Pa,較佳係約1〇5 pa至 約109 Pa,之彈性模量時形成。 20 媒"基材係藉由原位聚合反應形成,於保持”溶解,,且 未反應之可光聚合之單體存在中以交聯網絡產生。含有未 反應之可S聚„單體之基材亦可藉由其它手段形成,例 如’藉由使其間缺H減賴均自分佈之固體-樹 脂其質材料。然後,單色曝光產生全息攝影圖案,其依據 200918503 光強度分佈,估m Λ 口體預形成之其 合。未反應之單體(其門“ 乂暴貝内之光反應性單體聚 生折射率調變,甘广 光強度係最小)經由基質擴散,產 其係藉由單艚乃w 藉由單體之相辦體積八率 及基質之折射率間之差異及 5 10 15 20 米至最高達〜薹止 ' ' 、疋° §己錄層之厚度係於數微 宅水厚度之範圍。 貯存層,光起始劑需使古“因為此厚的全息攝影資料 此層於雷射波長時呈透月光反應性與低吸收率結合,以使 記錄層内之曝古Μ 以確保光聚合反應程度係依於 、先味度而定儘可能 發現本發明之光起始劑係結Li 之低吸收率,β s向反應性及於405 nm時 且係適於此應用。 此配製物。用於木枓及敏化劑亦可添加至 如,香豆辛、^雷射姉之適合染料及敏化劑係,例 特別酮,見如上所列示。 有關者係如上列示中 _、香豆素,及科醯苯。;項目卜2及3所示之嘆嘲 發現光起始劑能以高 需之厚層巾之單料^ 如全,1嶺彡㈣貯存所 性之㈣μ 且產生對藍色雷射輻射具敏感 之光㈣2 Α起始劑當以2 ·8重量%濃度應用於2 G微米厚 人4 ’於雷射波長時產生少於〇 4,車交佳係少於〇 2 匕3此光起始劑之層之吸收率。 、.光起始劑係特別適於製備,例如,包含聚合物及如上 所述之有機光起始劑,於3像⑽之—波長具有最大吸 收率,光學物件(例如,光學導波器)或全息攝影媒體,其 中"周i敏化性之折射率對比係大於3χΐ〇_6Αη/㈣/⑽2)。 】 來合物係藉由聚合包含組份1及組份2之物料而形 92 200918503 成,其令,組份1包含以NCO-為終端之預聚物,且組份2包 含多元醇。組份1係’例如,二苯基甲烷二異氰酸酯、甲苯 二異氰酸酯、六甲撐基二異氰酸酯、六甲撐基二異氰酸酯 之衍生物 '甲撐基雙環己基異氰酸酯、甲撐基雙環己基異 5 氰酸酯之衍生物。組份2係,例如,丙烯氧之多元醇。較佳 地’光活性單體係丙烯酸酯單體。於此一媒體,藉由書寫 誘發之收縮率一般係少於0.25%。 另外’光固化對於印刷品係極重要,因為墨水乾燥時 間對於圖像產品之生產速率係一重要因素,且需於分數秒 10之等。UV可固化之墨水對於網版印刷及膠版印刷之墨水係 特別重要。 如上已述般,新穎混合物亦高度適於製造印刷板。此 應用係使用,例如,可溶性線性聚醯胺或苯乙烯/丁二烯及 /或苯乙烯/異戊二烯橡膠、含有羧基之聚丙烯酸酯或聚甲基 15
丙烯酸甲酯、聚乙烯基醇或胺甲酸酯丙烯酸酯與可光聚合 單體(例如,丙稀醯胺及/或甲基丙烯酿胺,或丙稀酸酉旨及/ 或曱基丙烯酸酯)’及光起始劑之混合物。此等系統之膜及 板(潮濕或乾燥)係曝置於印刷原始物之負(或正)部产上且 未固化部份其後使用適當溶劑或水溶液清洗掉。 2〇 使用光固化之另一領域係金屬之塗霜, 玉復例如,於金屬 板及管件、罐子或瓶蓋之塗覆之情況,及 叉例如,以PVc 為主之地板或牆塗層之聚合物塗層之光固化。 唱片封套及書本封 紙張塗層之光固化之例子係標籤 面之無色清漆。 93 200918503 亦感興趣係使用新穎光起始劑固化自複合組成物製成 之成型物件。此複合化合物係由自行支撐之基質物料(例 如,玻璃纖維織物,或另外地,係植物纖維[cf K -p Mieck, T. Reussmann in Kunststoffe 85 (1995),366-370],其係以光 5固化配方物次潰)所組成。包含複合化合物之成型零件,當 使用此新穎化合物s製造時,達到高程度之機械安定性及耐 性。此新穎化合物亦可作為,例如,ΕΡ7〇86中所述之模製、 浸潰及塗覆組成物中之光固化劑。此等組成物之例子係遭 受有關於固化活性及耐黃化性之嚴格要求之塗覆樹脂,及 10纖維強化之模製物件,例如,光擴散板,其係平面狀或具 有長度方向或交又式之波紋。用以製造此等模製物件之技 術,諸如,手工積層、噴灑積層、離心式鑄製或單絲繞捲, 係由’例如,P_H. Selden 描述於"Glasfaserverstkkte Kunststoffe",第 610 頁, Springer Vedag 15 Berlin-Heidelberg-New York 1967。可藉由此等技術製造之 物件之例子係船、纖維板,或具玻璃纖維強化之塑料雙側 塗覆之硬紙板,管件、容器等。模製、浸潰及塗覆組成物 之進一步例子係含有玻璃纖維之模製物件(GRP)(諸如,波 紋狀之片材及紙層合物)之UP樹脂凝膠塗料。紙層合物可以 2〇 尿素樹脂或密胺樹脂為主。於製造此層合物前,凝膠塗料 係於撐體(例如,膜)上產生。此新穎之可光固化之組成物亦 可用於鑄製樹脂或包埋物件,例如,電子組件等。 依據本發明之組成物及化合物可用於製造全息攝影、 導波器、光學開關,其中,益處係得自經照射及未經照射 94 200918503 區域之折射率間差異之發展。 使用光可固化址成物用於形成圖像之技術及光學製造 資訊載體亦係重要。於此等應用,如上所述,塗敷至撑體 之層(潮濕或乾燥)係經由,例如,光罩,以uv或可見光圖 5像式照射,且此層之未曝光區域藉由以顯影劑處理而移 除。塗敷可光固化層至金屬亦可藉由電沈積實行 。曝光區 域係經由父聯聚合’因此’係不可溶且保留於撐體上。適 當著色產生可見到之圖像。若撐體係金屬化層時,此金屬 可於曝光及顯影後,於未曝光區域触刻掉或 以電鍍強化。 10以此方式,可產生電子電路及光阻劑。當用於形成圖像之 材料’此新賴光起始劑於產生所謂之列印圖像時提供優異 性能’顏色改變係由於照射而被誘發。為形成此等列印圖 像’不同之染料及/或其隱色型式被使用,此等列印圖像系 統之例子可於’例如 ’ W096/41240、EP706091、EP511403、 15 US3579339 及 US4622286 中發現。 此新穎光起始劑亦適於用以形成藉由依序沈積方法製 造之多層電路板之介電層之可以光形成圖案之組成物。 如上所述’本發明提供用於製造具色料及不具色料之 塗料及清漆、粉末塗覆物、印刷墨水、印刷板、黏著劑、 20壓敏性黏著劑、牙齒用組成物、凝膠塗料、電子零件之光 阻劑、電鍍阻劑、蝕刻阻劑、液體及乾燥膜、焊接阻劑、 用以製造用於各種顯示器應用之濾色器之阻劑、產生於電 漿顯示器面板之製造方法中之結構物(例如,障壁肋、磷光 體層、電極)、電致發光顯示器及LCD(例如,層間絕緣層、 95 200918503 間隔件、微鏡片陳勿h m . )、用於全息攝影資料貯存(HDS)、封 裝電器及電子电讼夕4 、、且伤之組成物、用於製造磁性記錄材料、微 機械零件、暮、、由突、, 〃 ' 光學開關'電鍍遮罩、蝕刻遮罩、彩 =系統、玻璃纖維纜線塗料、網版印刷模板、藉由立 ^ —、’牛,及圖像記錄材料、用於全息攝影 2微電子_、脫色材料、用於®像記錄材料之脫色 材料、使用_囊之圖像記錄材料、用於形成印刷電路板 之依序沈積層巾之介電層之練㈣之組成物。 10 15 用於照相資訊記錄之基材包含,例如,聚醋、纖維素 乙酸賴絲合物塗覆之紙張;躲祕印刷型式之基材 係經特別處理種’用於製造印刷電路之基材係以銅塗覆 之層合物,且用於製造積體電路之基材係,例如,矽晶圓。 用於照相材料及膠版印刷型式之光敏性層之層厚度一般係 約0.5 μηι至1〇 μιη,而用於印刷電路,係〇丨_至約 100 μιη。於塗覆基材後,溶劑被移除,一般係藉由乾燥, 而使光阻劑塗層留於基材上。 基材之塗覆可藉由對此基材塗敷液體組成物、溶液或 懸浮液而實行。溶劑之選擇及濃度主要係依組成物之型式 及塗覆技術而定。溶劑需為惰性,即,不應與組份進行化 20學反應,且於塗覆後於乾繰期間需能被再次移除。適合溶 劑之例子係酮、醚’及酯,諸如,甲基乙基酮、異丁基甲 基酮、環戊酮、環己酮、Ν-曱基呲咯烧酮 '二噁烧、四氫 呋喃、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、1_甲氧基_2_丙醇、I]-二甲氧基乙烷、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙基3_乙氧基丙 96 200918503 酸酯、2-甲氧基丙基乙酸酯、甲基_3_甲氧基丙酸酯、2_庚 酮、2-戊酮,及乳酸乙酯。 洛液係藉由已知塗覆技術均勻地塗敷至基材,例如, #由旋轉塗覆、浸潰塗覆、刮刀塗覆、簾式塗覆、粉刷、 5喷灑(特別是藉由靜電式噴灑),逆輥式塗覆,及藉由電泳沈 積。亦可使光敏性層塗敷至一暫時性之可撓性撐體,然後, 藉由經由層合使此層轉移而塗覆最後之基材(例如,以銅塗 覆之電路板,或玻璃基材)。 塗敷品質(塗層厚度)及基材(層撐體)性質係依所欲應 1〇用領域而定。塗層厚度範圍一般包含約0.1 μηι至多於1〇〇 μηι之值,例如,〇」μιη至} cm,較佳係〇 5㈣至1〇〇〇叫。 塗覆基材後,溶劑被移除,一般係藉由乾燥,而使最 終之光阻劑乾燥阻劑膜留於基材上。 此新穎組成物之光敏性一般可擴散至約丨5〇 nm至6〇〇 15 nm,例如,190-600 nm,(UV-可見光區域)。適合之輻射存 在於,例如,太陽光或來自人造光源之光線。因此,大量 之極不同型式之光源被使用。點光源或陣列(“燈毯”)係適 合。例子係碳弧燈、氙弧燈、低,中,高及超高壓之汞燈, 可能與金屬鹼化物掺雜(金屬-鹵素燈)、微波刺激之金屬蒸 20氣燈、激元燈、超光化螢光燈、螢光燈、氬白熾燈、電子 閃光燈、照相泛光燈、發光二極體(LED)、電子束,及χ_射 線。燈與欲依據本發明曝光之基材間之距離可依所欲應用 及燈之型式及輸出而改變,且可為,例如,2公分至15〇公 分。雷射光源,例如,激元雷射(諸如,於157nm曝光之f2 97 200918503 激元雷射、於248 nm曝光之KrF激元雷射’及於193 nm曝光 之ArF激元雷射)亦適合。可見光區域之雷射亦可被使用。 “圖像式,,曝光一辭包含經由包含預定圖案之光罩(例 如,幻燈片、鉻遮罩、模板遮罩或網罩)曝光’與藉由雷射 5 或光束曝光,其係,例如,於電腦控制下於經塗覆之基材 之表面上移除,且以此方式產生圖像。用於此目的之適合 的UV雷射曝光系統係,例如,Etec and Orbotech所提供 (DP-1〇〇tmDireCT IMAGING SYSTEM)。雷射光源之其它 例子係,例如,激元雷射,諸如,於157 nm曝光之F2激元 10 雷射、於248 nm曝光之KrF激元雷射,及於193 nm曝光之 ArF激元雷射。進一步適合者係固態UV雷射(例如, Maniabarco之Gemini,EPNTAX之DI-2050),及具405 nm輸 出之紫色雷射元極體(PENTAX之DI-2080,DI-PDP)。可見 光區域之雷射亦可被使用。再者,電腦控制之照射亦可藉 15由電子束達成。亦可使用由液晶製成之遮罩,其可藉由, 例如 ’ A. Bertsch、J.Y. Jezequel、J.C. Andre於Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry 1997, 107,第 275-281 頁,及K.-P _ Nicolay於Offset Printing 1997, 6, 34-37 頁中所述之像素式定址產生數位圖像。 2〇 於此材料之圖像式曝光後及於顯影前,有利地可實行 短時間之熱處理。於顯影後,熱後烘烤可被實施以使組成 物硬化’及移除所有微量之溶劑。使用之溫度一般係 50-250°C ’較佳係80-220〇C ;熱處理期—般係〇 25與6〇分鐘 之間。 98 200918503 可光固化之組成物可另外用於,例如,於DE4013358 所述之用以製造印刷板或光阻劑之方法。於此一方法,組 成物係於圖像式照射之前、同時或之後於無遮罩下以具至 少400 NM波長之可見光曝光短時間。 ' 5 曝光及熱處理(若被實行)後,光敏性塗層之未曝光區域 - 係以本身已知之方式以顯影劑移除。 如上所述,新穎之組成物可藉由含水之鹼或有機溶劑 顯影。特別適合之含水之鹼顯影劑溶液係四烷基銨氫氧化 (; 物或驗金屬之叾夕酸鹽、攝酸鹽、氫氧化物及碳酸鹽之水溶 10 液。小量之濕潤劑及/或有機溶劑,若要的話,亦可被添加 至此等溶液。可以小量添加至顯影劑液體之典型有機溶劑 係環己酮、2-乙氧基乙醇、甲苯、丙酮,及此等溶劑之混 合物。依基材而定,溶劑(例如,有機溶劑)亦可作為顯影劑, 或如上所述,以含水之驗及此等溶劑之混合物。用於溶劑 15 顯影之特別有用之溶劑包含甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、 丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙 1.^ 二醇單正丁基醚、二甘醇二甲基醚、丙二醇單甲基醚乙酸 酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、曱基-3甲氧基丙酸酯、乙酸正 丁酯、苯甲基醇、丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、 20 2-庚酮、2-戊酮、ε-己内酯、丁内酯、二甲基甲醯胺、 二曱基乙醯胺、六甲基磷醯胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε -己内醯胺,及Ν-曱基-α比咯烧酮。選擇性地,水可以最高達 仍獲得澄清溶液且光敏性組成物之未曝光區域之足夠可 溶性被維持之量添加至此等溶劑。 99 200918503 本^明因此亦提供一種用於含有乙烯不飽和雙鍵之化 口物(即,含有至少一乙烯不飽和雙鍵之單體、寡聚或聚合 之化D物)之光聚合之方法,包含對此等化合物添加至少一 斤述之化學式1或11之光起始劑,且以電磁輻射(特別是 5 15◦至600 _’特別是刚摘nm,波長之光線),以電子束, 或以X-射線照射形成之組成物。 換S之,對含有乙烯不飽和雙鍵之此等化合物添加至 、 所述之化學式I或Η之光起始劑,或化學式I或II之 化0物及化學式Γ或ΙΓ之化合物之光起始劑混合物,且以電 1〇磁輻射(特別是⑼至_nm,特別是190__nm,波長之光 線),以電子束,或以χ_射線照射形成之組成物。 本發明進一步提供一種於至少一表面上以如上所述之 、’且成物塗覆之經塗覆之基材,且描述—種照相產生浮雕圖 像之方法,其中,經塗覆之基材接受圖像式曝光,然後, 未曝光部份以顯影劑移除。圖像式曝光可如上所述般藉由 經由遮罩之照射或藉由雷射或電子束而產生。於此内容中 特別有利者係如上所述之雷射光束曝光。 本發明化合物具有良好之熱安定性、低揮發性、良好 之貯存安定性,及高溶解性,且亦適於在空氣(氧)存在中之 2〇光聚合反應。再者,其於光聚合反應後於組成物中僅造成 低黃化。 下例實施例係更詳細地例示說明本發明。於此說明内 谷之剩餘者及於申請專利範圍中,除非其它指示外,份數 及百分率係以重量計。若具有多於三個碳原子之烷基於下 100 200918503 列實施例中被提及而未述及特定異構物時,於每一情況係 意指正異構物。 實施例1:合成4-[9-乙基-6-(萘-1-羰基)-9H-咔唑-3-基]-4-乙醯氧亞胺基-丁酸乙基酯
2 2 0°·μ Η Η =-CICICIO
CMO
o=c.
La 4-[9-乙基-6-(萘-1-羰基)-9H-咔唑-3-基]-4-氧-丁酸乙 基酉旨 對於CH2C12(100毫升)内之N-乙基咔唑(5.00克),於0°C 添加1-萘醯氯(4·88克)及A1C13(3.52克)。於室溫攪拌隔夜 10 後,乙基琥珀醯氯(4.34克)及A1C13(7.17克)於0°C進一步添 加,且混合物於室溫攪拌隔夜。反應混合物倒至冰水内, 且粗製產物以CH2C12萃取。有機層以H20清洗兩次,於 MgS04乾燥,且濃縮產生產物ij。以淡棕色固體獲得之產 物之結構係藉由1H-NMR (CDC13)確認。5 [ppm]: 1.27 (t, 15 3H), 1.49 (t, 3H), 2.79 (t, 2H), 3.41 (t, 2H), 4.16 (q, 2H), 4.43 (q, 2H), 7.44-7.50 (m, 3H), 7.54 (t, 1H), 7.59 (d, 1H), 7.65 (d, 1H), 7.96 (d, 1H), 8.05 (d, 2H), 8.18 (d, 2H), 8.60 (s, 1H), 8.66 (s,1H)。
Lb 4-[9-乙基-6-(萘-1 -羰基)-9H-咔唑-3-基]-4-羥基亞胺基 20 -丁酸乙基酯 對懸浮於乙醇(50毫升)内之4-[9-乙基-6-(萘-1-羰 基)-9H-咔唑-3-基]-4-氧-丁酸乙基酯(5.00克),添加羥基胺 101 200918503 氫氣酸鹽(1.09克)及乙酸鈉(1.46克)。於迴流下攪拌2小時 後,反應混合物倒至水内。粗製產物以乙酸乙酯萃取。有 機層以H20清洗三次,於MgS04乾燥,及濃縮產生產物i上。 以淡棕色固體獲得之產物之結構藉由1H-NMR光譜(CDC13) 5 確認。5 [ppm]: 1.19 (t, 3H), 1.46 (t, 3H), 2.63 (t, 2H), 3.20 (t, 2H), 4.09 (q, 2H), 4.40 (q, 2H), 7.40-7.58 (m, 5H), 7.63 (d, 1H), 7.79 (d, 1H), 7.94 (d, 1H), 8.02 (d, 1H), 8.05 (d, 1H), 8.10 (d, 1H), 8.24 (s, 1H),8.62 (s, 1H)。 1 ·〇 4-[9-乙基- 6-(奈-14炭基)-9H-a卡α坐-3-基]-4-乙酿乳基亞 10 胺基-丁酸乙基酯 對於丙酮(30毫升)内之4-[9-乙基-6-(萘-1-羰基)-9Η-咔 唑-3-基]-4-羥基亞胺基-丁酸乙基酯(4.76克),於0°C以滴液 方式添加三乙基胺(1.47克)及乙醯氯(1.14克)。於0°C攪拌2 小時後,反應混合物倒至水内。產物以乙酸乙酯萃取,且 15 有機層以H20清洗兩次,於MgS04乾燥,及濃縮產生殘質, 其藉由於矽石凝膠上以己烷/乙酸乙酯=9/1至4/6作為洗提 液之管柱色譜分析術純化。以微黃色固體獲得之產物之 結構係藉由1H-NMR光譜(CDC13)確認。δ [ppm]: 1.21 (t, 3H), 1.48 (t, 3H), 2.28 (s, 3H), 2.60 (t, 2H), 3.26 (t, 2H), 4.12 (q, 20 2H), 4.42 (q, 2H), 7.43-7.49 (m, 2H), 7.51 (d, 1H), 7.55 (d, 1H), 7.58 (d, 1H), 7.64 (d, 1H), 7.92 (d, 1H), 7.95 (d, 1H), 8.04 (t, 2H), 8.15 (d, 1H),8.36 (s, 1H), 8.61 (s, 1H)。 實施例2:合成4-[9-乙基-6-(噻吩-2-羰基)-9H-咔唑-3-基]-4-乙醯氧亞胺基-丁酸乙基酯 102 200918503 ? ΓΓ" a XtXrc>: ?Η2 卜。 CH3 〇-g-CH3 r c. 此化合物係依據實施例1所揭示之程序以2-噻吩羰基 氯替代1-萘醯氯而合成。結構係藉由i-NMR光譜(CDC13) 痛認。占[ppm]: 1.24 (t, 3H),1.50 (t, 3H),2.30 (s, 3H),2.64 (t, 2H), 3.31 (t, 2H), 4.14 (q, 2H), 4.44 (q, 2H), 7.23 (t, 1H), 7.48 (d, 1H), 7.51 (d, 1H), 7.74 (d, 1H), 7.75 (d, 1H), 7.95 (d, 出),8.12 (d, 1H), 8.50 (s, 1H), 8.73 (s, 1H)。 直列i:合成N-乙醯氧-N-{3-[9-乙基-6-(噻吩-2-羰 基)-9H-咔唑-3-基]-1-甲基-3-乙醯氧亞胺基_丙基卜乙醯胺
10 U (E)-l-[9-乙基-6-(嗔吩-2-羰基)_9H-咔唑-3-基]-丁-2-烯 -1-酮 15 對於CH2C12(200毫升)内之N-乙基叶嗤(5.00克),於〇°c 添加2-噻吩羰基氣(3.75克)及A1C13(3.52克)。於室溫攪拌隔 夜後,於〇°C進一步添加反-巴豆醯氯(2.76克)及八1(:13(3.76 克),且混合物於室溫攪拌隔夜。反應混合物倒至冰水内, 且粗製產物以CHf]2萃取。有機層以He清洗兩次,於 MgS〇4,乾燥’及〉農縮產生殘質,其藉由於石夕石凝膠上以己 烷/乙酸乙酯=9/1至5/5作為洗提液之管柱色譜分析術純 化。產物藉由自己烷-乙酸乙酯再結晶而進—步純化。以淡 103 20 200918503 棕色固體獲得之產物ijL之結構係藉由1H-NMR光譜(CDC13) 確認。5 [ppm]: 1.51 (t, 3H), 2.06 (d,3H), 4.46 (q, 2H), 7.12-7.17 (m, 2H), 7.23 (t, 1H), 7.50 (d, 1H), 7.53 (d, 1H), 7.73-7.78 (m, 2H), 8.14 (d, 1H), 8.20 (d, 1H), 8.76 (s, 1H), 5 8.78 (s,lH)。
Ub l-[9-乙基-6-(噻吩-2-羰基)-9H-咔唑-3-基]-3-羥基胺基 -丁-1-酮肟 對於乙醇(45毫升)内之(E)-l-[9-乙基-6-(噻吩-2-羰 基)-9H-咔唑-3-基]-丁-2-烯-1-酮(2.00克),添加羥基胺氫氯 10 酸鹽(0.82克)及乙酸鈉(〇_97克)。於迴流下授拌1小時後,反 應混合物倒至水内產生沈澱物,其藉由過濾隔離。因而獲 得之粗製產物溶於乙酸乙酯。固體於MgS04乾燥,及濃縮 產生產物芝上。以微黃色固體獲得之產物之結構係藉由 W-NMR光譜(CDC13)確認。5[ppm]: 1_20 (d, 3H),1.41 (t, 15 3H), 3.01 (dd, 1H), 3.34 (dd, 1H), 3.47 (dd, 1H), 4.32 (q, 2H), 5.50 (bs, 1H), 7.16 (t, 1H), 7.35 (d, 1H), 7.40 (d, 1H), 7.63-7.71 (m, 2H), 7.78 (d, 1H), 8.04 (d, 1H), 8.35 (s, 1H), 8.59 (s, 1H)。 3.c ^~乙酿氧-义{3-[9-乙基-6-(°塞吩-2-幾基)-911-11卡唾-3_ 20 基]-1-曱基-3-乙醯氧亞胺基-丙基}-乙醯胺 對於THF(15毫升)内之1-[9-乙基-6-0塞吩-2-幾基)-9H-咔唑-3-基]-3-羥基胺基-丁-1-酮肟(1.52克),於〇°C以滴液方 式添加三乙基胺(2·06克)及乙醯氣(1.60克)。於室溫授拌隔 夜後,反應混合物倒至水内。產物以乙酸乙酯萃取,且有 104 200918503 機層以H20清洗兩次,於MgS04乾燥,及濃縮產生殘質,其 藉由於矽石凝膠上以己烷/乙酸乙酯=8/2至1/9作為洗提液 之管柱色譜分析術純化。以微黃色固體獲得之產物k之結 構係藉由1H-NMR光譜(CDC13)確認。d[ppm]: 1.21 (bd,3H), 5 1.50 (t, 3H), 1.87 (s, 3H), 2.24 (s, 3H), 2.33 (s, 3H), 3.18-3.41 (m, 2H), 4.44 (q, 2H), 4.92 (bs, 1H), 7.22 (t, 1H), 7.49 (d, 1H), 7.51 (d, 1H), 7.73 (d, 1H), 7.78 (d, 1H), 7.99 (d, 1H), 8_13 (d,1H), 8.58 (s,1H),8_77 (s,1H)。
實施例4:合成N-乙醯氧-N-{3-[9-乙基-6-(萘-1-羰基)-9H-10 咔唑-3-基]-1-甲基-3-乙醯氧亞胺基-丙基}-乙醯胺
o-c-r.N
此化合物依據實施例3所揭示之程序以1-萘醯氣替代2-噻吩羰基氣而合成。結構係藉由W-NMR光譜(CDC13)確 認。3 [ppm]: 1.17 (bd,3H),1.48 (t, 3H),1.82 (s, 3H),2.17 (s, 15 3H), 2.31 (s, 3H), 3.12-3.38 (m, 2H), 4.42 (q, 2H), 4.87 (bs, 1H), 7.43-7.61 (m, 5H), 7.65 (d, 1H), 7.95 (d, 1H), 7.97 (d, 1H), 8.03 (d, 1H), 8.06 (d, 1H), 8.15 (d, 1H), 8.43 (s, 1H), 8.64 (s, 1H)。 參考例1:合成4-[9-乙基-6-(2-甲苯醯基)-9H-咔唑-3-基]-4-20 乙醯氧亞胺基-丁酸乙基酯 105 200918503
O-C-CH, H2 3 此化合物係依據實施例1所揭示之程序以2-甲苯醯氯 替代1-萘醯氣而合成。結構係藉由the 1H-NMR光譜(CDC13) 確認。(5 [ppm]: 1.23 (t,3H),1.48 (t, 3H),2.29 (s,3H),2.36 5 (s, 3H), 2.62 (t, 2H), 3.28 (t, 2H), 4.13 (q, 2H), 4.42 (q, 2H), 7.28-7.49 (m, 6H), 7.92 (d, 1H), 8.10 (d, 1H), 8.41 (s, 1H), 8.52 (s, 1H)。 合成乙醯氧-N-{3-[9-乙基-6-(2-甲苯醯基)-9H-咔嗤-3-基]-1-曱基3-乙醯氧亞胺基_丙基卜乙醯胺
此化合物係依據實施例3所揭示之程序以2-曱茉醯氯 替代2-噻吩羰基氣而合成。結構係藉由iH_NMR光譜(CDCl3) 合成。5 [ppm]: 1_19 (bd,3H),1.48 (t,3H),1.85 (s,3H), 2.23 (s, 3H), 2.32 (s, 3H), 2.36 (s, 3H), 3.18-3.37 (m, 2H), 4.42 (q, 15 2H), 4.81 (bs, 1H), 7.28-7.50 (m, 6H), 7.96 (d, 1H), 8.09 (d, 1H), 8.48 (s,1H), 8.56 (s, 1H)。 應用例 用於敏化性測試之可光固化之配方物係藉由混合下列 組份[含量係以重量份示之]而製備: 20 200·0份之丙烯酸酯化之丙烯基共聚物(ACA200M,由Daicel 106 200918503
Industries,Ltd.提供,固體含量係50重量%) 15.0份之二季戊四醇六丙烯酸酯((DPHA),由UCB Chemicals 提供) 100.0份之甲醇 5 對此配方物,添加欲被測試之4.6重量份或8.0重量份之 光起始劑,並攪拌。所有操作係於黃光下實行。組成物係 使用具鐵線繞捲之棒材之電塗敷器塗敷至鋁板。溶劑藉由 於熱波爐内於80。(:加熱10分鐘而移除。乾燥膜之厚度係約5 μιη。具有21階之不同光密度之標準化測試負型膜(stouffer 10 步階式光楔)係與約100 μιη之空氣間隙一起置於膜及阻劑 之間。玻璃過濾器(L-39)置於負型膜上。曝光係使用15公分 距離之25〇 W超高壓汞燈(USHIO, USH-250BY)實行。藉由 於玻璃過濾器上之光功率計(具UV-35檢測器之〇RC UV光 測量計UV-M02型)測量之總曝光劑量係2〇〇〇 mJ/cm2。曝光 15後,經曝光之膜於28°〇藉由使用噴灑型顯影器(Takizawa SangyOAD-1200)以5%之鹼水溶液(γokohamaOil&Fats,
SemiCleanDL-A4)顯影2分鐘。使用之起始劑之敏化性係藉 由顯影後剩餘之最高步階數(即,聚合化)之指示而描述。步 階數愈高,被測試之系統愈具敏感性。結果係收集於下之 20 第1表。 第1表 範例 實施例之化 合物 複製之 4.6重量份 步階數 8.0重量份 A1 1 — 7 A2 2 9~ 10 A3 3 9 " ~ 11 A4 4 6 ' Γ 8 107 200918503 範例 實施例之化 合物 複製之 4.6重量份 步階數 8.0重量份 A5 參考例1 4 5 A6 參考例2 3 5 c圖式簡單說明3 (無) 【主要元件符號說明】 (無) 108
Claims (1)
- 200918503 十、申請專利範圍: 1. 一種化學式I之化合物,(I),其中, K係選擇性經取代之C3-C2G烷氧基羰基烷基、Q-Cm胺基 5 烧基’或以一^J_R4取代之C1-C2Q烧基, 0-r5 R2係CrQo烷基; R4及Κ·5彼此獨立地係氮或Ci-C2Q^S域基;且 Ar係選擇性經取代之萘基或噻吩基。 2.如申請專利範圍第1之化學式I之化合物,其中, 1〇 Ri係C3-C2Q炫氧基叛基炫•基或以一i^j-r4取代之Ci-C20烧 〇-R5 基; R2係乙基, R4及R5彼此獨立地係乙醯基;且 Ar係選擇性經取代之萘基或噻吩基。 15 3. 一種可光聚合之組成物,包含 (a) 至少一乙烯不飽和之可光聚合之化合物,及 (b) 作為光起始劑之至少一如申請專利範圍第1項所述 之化學式I之化合物。 4.如申請專利範圍第3項之可光聚合之組成物,其中,該 20 組份(a)係藉由飽和或不飽和之多元酸酐與環氧樹脂及 109 200918503 不飽和單羧酸反應之產物反應而獲得之樹脂。 5. 如申請專利範圍第3項之可光聚合之組成物,另外包含 結合劑聚合物(e)。 6. 如申請專利範圍第3-5項中任一項之可光聚合之組成 5 物,其除該光起始劑(b)外,另包含至少一另外之光起始 劑(c)及/或其它添加劑(d)。 7. 如申請專利範圍第6項之可光聚合之組成物,另外之添 加劑(d)包含色料或色料之混合物,及分散劑或分散劑之 混合物。 10 8.如申請專利範圍第3項之可光聚合之組成物,其包含0.05 至25重量%之該光起始劑(b),或該光起始劑(b)及(c),其 係以該組成物為基準計。 9. 一種用以製備如申請專利範圍第1項之化學式I之化合物 之方法,其係藉由使化學式la之肟化合物r2 R,、R2及Ar係如申請專利範圍第1項中所界定, 與化學式V或VI之醯基鹵化物 〇 〇 〇 Hal-C-CH3 (V) H3C-C-O-C-CH3 (VI), 其中,Hal表示鹵素原子; 20 於鹼或鹼之混合物存在中反應。 10. —種用以製備如申請專利範圍第9項所述之化學式la之 110 200918503 化合物之方法,其中,Ri係以-NHOH取代之CrCM烷基, 其係使化學式lb之酮化合物r 心係未經取代或經取代之C2-C25烯基, 5 R2及Ar係如申請專利範圍第1項中所界定; 與經基胺或其鹽反應。 『 11. 一種用以使含有乙烯不飽和雙鍵之化合物光聚合之方 法,其包含以150至600 nm範圍内之電磁輻射或以電子 束或以X-射線照射如申請專利範圍第3-10項中任一項之 10 組成物。 12.如申請專利範圍第11項之方法,其係用於製造具色料及 不具色料之塗料及清漆、粉末塗覆物、印刷墨水、印刷 板、黏著劑、壓敏性黏著劑、牙齒用組成物、凝膠塗料、 電子零件之光阻劑、電鍍阻劑、蝕刻阻劑、液體及乾燥 I 15 膜、焊接阻劑、用以製造用於各種顯示器應用之濾色器 之阻劑、產生於電漿顯示器面板之製造方法中之結構 物、電致發光顯示器及LCD、LCD之間隔件、用於全息 攝影資料貯存(HDS)、封裝電器及電子組份之組成物、 用於製造磁性記錄材料、微機械零件、導波器、光學開 20 關、電鍍遮罩、蝕刻遮罩、彩色打樣系統、玻璃纖維纜 線塗料、網版印刷模板、藉由立體微影術製造三維物 件、作為圖像記錄材料、用於全息攝影記錄、微電子電 111 200918503 路、脫色材料、用於圖像記錄材料之脫色材料、使用微 膠囊之圖像記錄材料、作為用於uv及可見光雷射直接形 成圖像系統之光阻劑材料、作為用於形成印刷電路板之 依序沈積層中之介電層之光阻材料。 5 13. —種經塗覆之基材,其係以如申請專利範圍第3項之組 成物塗覆於至少一表面上。 14. 一種濾色器,其係藉由於一透明基材上提供皆包含光敏 性樹脂及色料之紅、綠及藍色像素及黑色基質,及於該 基材之表面上或於該濾色器層之表面上提供一透明電 10 極而製備,其中,該光敏性樹脂包含多官能性之丙稀酸 酯單體、有機聚合物結合劑,及如申請專利範圍第1項 所界定之光聚合起始劑。 15. —種化學式la之化合物,Ar、R!及R2係如申請專利範圍中所界定。 112 200918503 七、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:第()圖。(無) (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式:4
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8580906B2 (en) | 2008-05-30 | 2013-11-12 | Advanced Softmaterials Inc. | Polyrotaxane, aqueous polyrotaxane dispersion composition, crosslinked body of polyrotaxane and polymer and method for producing the same |
ATE541865T1 (de) | 2008-06-06 | 2012-02-15 | Basf Se | Fotoinitiatormischungen |
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US8124193B2 (en) * | 2009-03-09 | 2012-02-28 | Xerox Corporation | Gloss control of UV curable formulations through micro-patterning |
WO2011003772A1 (en) | 2009-07-06 | 2011-01-13 | Basf Se | Polymer-bound bisacylphosphine oxides |
CA2836817C (en) | 2011-05-25 | 2016-08-02 | American Dye Source Inc. | Compounds with oxime ester and/or acyl groups |
KR101469519B1 (ko) * | 2011-10-07 | 2014-12-08 | (주)경인양행 | 옥심 에스테르 화합물 및 그것을 포함하는 광중합 개시제 |
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WO2013179237A1 (en) | 2012-06-01 | 2013-12-05 | Basf Se | Black colorant mixture |
CN107254205B (zh) | 2013-11-05 | 2020-08-14 | 太阳油墨制造株式会社 | 固化型组合物、使用其的固化涂膜和印刷电路板 |
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JP6321176B2 (ja) * | 2014-07-31 | 2018-05-09 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線感知シート、紫外線感知セットおよび紫外線感知方法 |
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KR102025359B1 (ko) * | 2016-03-08 | 2019-09-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터 |
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JP6724699B2 (ja) * | 2016-09-30 | 2020-07-15 | コニカミノルタ株式会社 | 中間転写ベルト、画像形成装置および中間転写ベルトの製造方法 |
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Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002100903A1 (en) * | 2001-06-11 | 2002-12-19 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime ester photoinitiators having a combined structure |
AU2003294034A1 (en) * | 2002-12-03 | 2004-06-23 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups |
CN101805282B (zh) * | 2004-02-23 | 2012-07-04 | 三菱化学株式会社 | 肟酯化合物、光聚合性组合物和使用该组合物的滤色器 |
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CN101528693B (zh) * | 2006-12-20 | 2014-07-02 | 三菱化学株式会社 | 肟酯系化合物、光聚合引发剂、光聚合性组合物、滤色器和液晶显示装置 |
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2008
- 2008-07-30 WO PCT/EP2008/059959 patent/WO2009019173A1/en active Application Filing
- 2008-08-08 TW TW97130217A patent/TW200918503A/zh unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9051397B2 (en) | 2010-10-05 | 2015-06-09 | Basf Se | Oxime ester |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2009019173A1 (en) | 2009-02-12 |
JP2009040762A (ja) | 2009-02-26 |
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