TW200815485A - Flattened film-forming composition - Google Patents
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200815485 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種平坦化膜形成用組成物,特別是 有關於一種平坦化膜形成用組成物,用以形成在CCD用彩 色遽光片、CMOS用彩色濾光片等之中所使用的平坦化膜。 【先前技術】 近年來,影像相關的攝影設備及顯示設備以驚人之勢 普及’目前正對於這些設備尋求更高之機能性。這些設備 中,舉例而言,如彩色液晶顯示器(Liquid Crystal Display, LCD)等各種顯示設備、電荷耦合元件影像感測器(Charge Coupled Device,CCD)、互補式金屬氧化膜半導體影像感 測态(Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS) 等攝影裝置中,彩色濾光片幾乎均為必須之零組件。 一般而言,此彩色濾光片具有紅(R)、綠(G)、藍(B)之 著色層,為被覆、保護此著色層而形成平坦化膜。對於此 平坦化膜,需尋求其具有充分的硬度、密著性,並且為了 不對晝素的色彩產生不良影響,故亦需尋求其具有優良的 透明性及平坦性。在其他方面,亦尋求樹脂組成物具有貯 藏安定性,更要求樹脂硬化物具有優良的耐熱性、硬度、 耐藥品性、耐蝕刻性等之性能。 這類平坦化膜形成用組成物,已揭示出一種含有具環 氧基之共聚合體、其他之環氧樹脂和酸發生劑之平坦化膜 形成用組成物(參照專利文獻1 )。 5 200815485 [專利文獻1]日本特開2000-344866號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 然而,專利文獻1所記載之平坦化膜形成用 由於使用含有具環氧丙基之結構單位達20莫耳% 聚合物,而有欠缺經時安定性之問題。又,由於 含有酸發生劑,而有400奈米以下的光透過率低蓉 本發明係鑑於上述課題而開發出來,其目的 種平坦化膜形成用組成物,其能夠形成經時安定 透明性高之平坦化膜。 [解決問題之技術手段] 本發明者為解決上述問題而專心研究,結果 平坦化膜形成用組成物含有具特定結構單位之樹 則能解決上述課題,而完成了本發明。更具體而 明係提供以下之物。 本發明係提供一種平坦化膜形成用組成物, 結構單位(a)之樹脂成分。 [化學式1] 組成物, 以上的共 組成物中 ^的問題。 係提供一 性優良、 發現若使 脂成分, 言,本發 其含有具 6 200815485 R1 c=o I o
(CH2)n
(R1表示氫或碳數1至5的烷基,n表示1至8之整數。) [功效] 本發明之平坦化膜形成用組成物,由於使用含有上述 結構單位(a)之樹脂,故能提高保存安定性。又,其亦能形 成光透過率高的平坦化膜。 【實施方式】 <平坦化膜形成用組成物> [樹脂] 本發明之平坦化膜形成用組成物,含有具環氧基之下 述結構單位(a)的樹脂成分。 [化學式2] 200815485 R1 c=o I o (CH2)n
(R1表示氫或碳數1至5的烷基,n表示1至8之整數。) 在此,碳數1〜5之烷基可舉例如直鏈狀、分支狀之烷 基。直鏈狀、分支狀之烷基,則可舉例如:甲基、乙基、 正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基等。 結構單位(a)的含量,以在樹脂成分中的全部結構單位 中佔1 0莫耳%以上者為佳,以20莫耳%以上者更佳。藉此, 而能提升平坦化膜形成用組成物的保存安定性。又,亦能 使所形成的平坦化膜達到期望的硬度。 更且,本發明之膜形成用組成物,在樹脂成分中,也 可含有其他結構單位。在此之其他結構單位,可舉例如: 由不飽和羧酸類、丙烯酸酯類、甲基丙烯酸酯類、丙烯醯 胺類、曱基丙烯醯胺類、烯丙化合物、乙烯醚類、乙烯酯 類、以及苯乙烯類等所衍生之結構單位。 不飽和羧酸,可舉例如:丙烯酸、曱基丙烯酸、巴豆 酸等之單羧酸;順丁烯二酸、反丁烯二酸、檸康酸、甲反 丁烯二酸、伊康酸等之二羧酸,及這些二羧酸之無水物等。 8 200815485 丙烯酸酯類,具體而言,可舉例如:丙烯酸甲酯、丙 烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸丁酯、丙 烯酸戊酯、丙烯酸乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸三辛酯 等之直鏈或分支狀丙烯酸烷基酯;丙烯酸環己酯、丙烯酸 二環戊酯、2-曱基環己基丙烯酸酯、丙烯酸二環戊氧乙酯、 丙烯酸異莰酯等之脂環類丙烯酸烷基酯;丙烯酸氯乙酯、 2,2-二甲基經丙基丙烯酸酯、2-羥乙基丙烯酸酯、5-羥戊基 丙烯酸酯、三羥曱基丙烷丙烯酸酯、季戊四醇丙烯酸酯、 丙烯酸苄酯、丙烯酸曱氧基苄酯、丙烯酸糠酯、丙烯酸四 氫糠S旨、芳基丙稀酸醋(例如丙稀酸苯酯)等。 曱基丙烯酸酯類,具體而言,可舉例如:曱基丙烯酸 甲酯、曱基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、曱基丙烯酸異 丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、曱基丙烯酸二級丁酯、甲基丙 烯酸第三丁酯、曱基丙烯酸戊酯、曱基丙烯酸己酯、曱基 丙烯酸辛酯等之直鏈或分支狀曱基丙烯酸烷基酯;曱基丙 烯酸環己酯、曱基丙烯酸二環戊酯、2 -曱基環己基曱基丙 烯酸酯、甲基丙烯酸二環戊氧基乙酯、曱基丙烯酸異莰酯 等之脂環類曱基丙烯酸烷基酯;曱基丙烯酸节酯、曱基丙 烯酸氯苄酯、2-羥乙基曱基丙烯酸酯、4-羥丁基曱基丙烯 酸酯、5-羥戊基曱基丙烯酸酯、2,2-二曱基-3-羥丙基曱基 丙烯酸酯、三羥曱基丙烷曱基丙烯酸酯、季戊四醇曱基丙 烯酸酯、甲基丙烯酸糠酯、甲基丙烯酸四氫糠酯、芳基甲 基丙烯酸酯(可舉例如:甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸甲 苯酯、曱基丙烯酸萘酯等).等。 9 200815485 丙烯醯胺類,具體而言,可舉例如:丙烯醯胺、N-烷 基丙烯醯胺(烷基以碳數1〜1 〇者為佳,可舉例如:曱基、 乙基、丙基、丁基、第三丁基、庚基、辛基、環己基、羥 • 乙基、苄基等)、N-芳基丙烯醯胺(芳基可舉例如··苯基、 曱苯基、硝苯基、萘基、羥苯基等)、N,N-二烷基丙烯醯 ' 胺(烷基之碳數以1〜10者為佳)、N,N-芳基丙烯醯胺(芳 基可舉例如苯基等)、N-曱基-N-苯曱基丙烯醯胺、N-羥乙 (、 基-N-曱基丙烯醯胺、N-2-乙醯胺乙基-N-乙醯基丙烯醯胺 等。 曱基丙烯醯胺類,具體而言,可舉例如··甲基丙烯醯 胺、N-烧基甲基丙烯醯胺(烷基以碳數1〜10者為佳,可 舉例如曱基、乙基、第三丁基、乙基己基、羥乙基、環己 基等)N-芳基曱基丙烯醯胺(芳基可舉例如苯基等)、N,N-二烷基甲基丙烯醯胺(烷基可舉例如乙基、丙基、丁基等)、 N,N-二芳基曱基丙烯醯胺(芳基可舉例如苯基等)、N-羥 乙基-N-甲基甲基丙烯醯胺、N -甲基-N-苯基曱基丙烯醯 ( 胺、N-乙基-N-苯基甲基丙烯醯胺等。 烯丙化合物,具體而言,可舉例如烯丙酯類(例如醋 酸烯丙酯、己酸烯丙酯、辛酸烯丙酯、月桂酸烯丙酯、棕 櫚酸烯丙酯、硬脂酸烯丙酯、安息香酸烯丙酯、乙醯醋酸 烯丙酯、乳酸烯丙醋等)、烯丙氧基乙醇等。 乙烯醚類,具體而言,可舉例如··烧基乙烯鍵(例如 己基乙烯醚、辛基乙烯醚、癸基乙烯醚、乙基己基乙烯醚、 曱氧基乙基乙烯醚、乙氧基乙基乙烯醚、氯乙基乙烯醚、 10 200815485 1-甲基-2,2-二曱基丙基乙烯醚、2 -乙基丁基乙烯醚、羥乙 基乙烯醚、二伸乙甘醇乙烯醚、二曱胺乙基乙烯醚、二乙 胺乙基乙烯醚、丁胺乙基乙烯醚、节基乙烯醚、四氫糠基 乙烯醚等)、乙烯芳基醚(例如乙烯苯基醚、乙烯甲苯基醚、 乙烯氯苯基醚、乙烯-2,4_二氯苯基醚、乙烯萘基醚、乙基 蒽基醚等)等。 乙烯醋類,具體而言,可舉例如··丁酸乙烯酯、異丁 酸乙烯酯、乙烯三甲基醋酸酯、二乙基醋酸乙烯酯、戊酸 乙婦S旨、己酸乙稀S旨、氣醋酸乙烯醋、二氯醋酸乙婦酯、 曱氧基醋酸乙烯酯、丁氧基醋酸乙烯酯、苯醋酸乙烯酯、 乙醯醋酸乙烯酯、乳酸乙烯酯、/5 -苯基丁酸乙烯酯、安息 香酸乙烯酯、柳酸乙烯酯、氯安息香酸乙烯酯、四氯安息 香酸乙烯酯、萘曱酸乙烯酯等。 苯乙烯類,具體而言,可舉例如:苯乙烯、烷基苯乙 烯(可舉例如:甲基苯乙烯、二曱基苯乙烯、三曱基苯乙 烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、異丙基苯乙烯、丁基苯 乙烯、己基苯乙烯、環己基苯乙烯、癸基苯乙烯、.节基苯 乙烯、氣甲基苯乙烯、三敗曱基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙 烯、乙醯氧基曱基苯乙烯等)、烷氧基苯乙烯(可舉例如: 曱氧基苯乙烯、4-曱氧基-3·甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯 等)、鹵苯乙烯(可舉例如··氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯 苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙 婦、蛾苯乙婦、說苯乙稀、三氣苯乙婦、2-、;臭-4 -三說曱基 苯乙婦、4 -氣-3-三氟*甲基苯乙稀等)等。 11 200815485 又,其他尚可舉例如衍生自丙烯腈、曱基丙烯腈等 結構單位。 這些其他之結構單位,較佳者可舉例如衍生自丙婦 類、以及苯乙烯類之結構單位。 本發明之平坦化膜形成用組成物,係藉由其樹脂成 之中含有衍生自丙烯酸類之結構單位,而能提升平坦化 之膜厚均勻性。此衍生自丙烯酸類之結構單位的含量, 在樹脂成分中的全部結構單位中佔10〜90莫耳%者為佳 更且,本發明之膜形成用組成物,藉由在其樹脂成 中含有衍生自苯乙烯類之結構單位,而能提升所形成之 坦化膜的耐14刻性。從而利用調節其含量,而能調節乾 刻之速率。 此衍生自苯乙烯類的結構單位,以在樹脂成分中的 部結構單位中佔1 0〜8 0莫耳%者為佳。 又,上述樹脂成分中,只要是含有上述結構單位者 不論是由單一的共聚合物或由二種以上的共聚合物混合 成者均可。 其中,上述樹脂成分中,以含有具結槔單位(a)及衍 自丙烯酸類的結構單位(以下稱為結構單位(b))之共聚 物(A)、具結構單位(b)及衍生自苯乙烯類之結構單位( 下稱為結構單位(c))之共聚合物(B)所組合成之樹脂 分,或是樹脂成分中含有具結構單位(a)、(b)及(c)之共 合物(C)者為佳。 共聚合物(A)中,結構單位(a)與結構單位(b)之含有 之 酸 分 膜 以 〇 分 平 蝕 全 而 生 合 以 成 聚 比 12 200815485 例以(a) : (b)= 50 : 50〜90 : 10 (莫耳比)者為佳。又,共 聚合物(B)中,結構單位(b)與結構單位(c)之含有比例以 (b) : (c) = 10 : 90〜90 : 10 (莫耳比)者為佳。 共聚合物(C)中的各結構單位之含有比例,以結構單位 (a)在共聚合物(C)之全部結構單位中佔10莫耳%以上,且 ’ (b) : (c) = 10 : 90 〜100 : 0 (莫耳比)者為佳。 樹脂成分若含有共聚合物(A)與共聚合物(B),則共聚 合物(A)與共聚合物(B)之質量比,以(A) : (B) = 90 : 10〜 1 00 : 0者為佳。藉由設在上述範圍内,而能使熱硬化之後 的平坦化膜達到所期望的硬度。 在上述樹脂成分中的各成分的分子量,各以2000〜 15 000者為佳。藉由將分子量設在上述範圍内,而能使其 在有機溶劑中的溶解性良好。又,所形成的平坦化膜,其 膜厚也能達到均一。 [有機溶劑] i , 本發明的平坦化膜形成用組成物,含有能溶解樹脂之 有機溶劑。此有機溶劑,具體而言,可舉例如曱醇、乙醇、 丙醇、正丁醇等之醇類;乙二醇、二伸乙甘醇、丙二醇、 二伸丙甘醇等之多價醇類;丙酮、甲基乙基酮、環己酮、 曱基正戊酮、甲基異戊酮、2-庚酮等之酮類;乙二醇一乙 酸酯二伸乙甘醇一乙酸酯、丙二醇一乙酸酯、或二伸丙甘 醇一乙酸酯等具有酯鍵之化合物;具有前述醇類或前述酯 鍵之化合物的一曱基醚、一乙基醚、一丙基醚、一 丁基醚 13 200815485 等之一烷基醚或一苯基醚等具有醚鍵之化合物等的多 類的衍生物;如二卩萼烷的環狀醚類,及乳酸甲酯、乳 酯、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、丙酮酸甲酯、 酸乙酯、甲氧基丙酮酸甲酯、乙氧基丙酮酸乙酯等之酯 苯曱醚、乙基苄基醚、甲苯基曱醚、二苯基醚、二苄基 苯乙醚、丁基苯基醚、乙苯、二乙苯、戊苯、異丙苯 苯、二曱苯、異丙基曱苯、1,3,5-三甲苯等之芳香族 機溶劑等。有機溶劑可使用1種,或2種以上組合使 特別是 3_曱氧基丁基乙酸酯(MA)、3 -曱氧基-1-(MB)、丙二醇一曱基醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇一甲 (PGME)以及這些的混合溶劑,較偏好使用之。 有機溶劑的使用量,只要能使平坦化膜形成用組 均勻地塗佈,則並無特別限定,但固形物的濃度以調 10〜50質量%之範圍内為佳,更佳為調整於15〜35質 之範圍内。 [其他成分] 本發明之平坦化膜形成用組成物亦可含有界面 劑。藉由含有界面活性劑,而能防止條痕之發生。界 性劑,相對於樹脂固形物,以1 0 0 p p m〜5 0 0 0 p p m的濃 為佳。界面活性劑可舉出如陰離子類、陽離子類、非 類等之化合物。具體而言,可舉出如XR-104 (製品名 曰本油墨化學工業股份有限公司製造)等。 又,本發明之平坦化膜形成用組成物,以不添加 價醇 酸乙 丙酮 類; 醚、 、甲 類有 用。 丁醇 基》鍵 合物 整於 量% 活性 面活 度者 離子 ,大 酸發 14 200815485 生劑者為佳。此係由於 、添加8夂發生劑,t使4 0 〇奈米以下 之光透過率低落。 〈平坦化膜之形成方法> 接著說明有關使用士 ^ “… 用本發明之平坦化膜形成用組成物, 來形成平坦化膜之方法。 使用輥塗佈器、旌鉍办从 ^ 轉塗佈器、旋轉式杯形塗佈器、非 方疋轉塗佈器等,將本♦ ^ 發明之平坦化膜形成用組成物塗佈於 形成有配線、黑色矩陣、彩色瀘光片等之基板上。 塗佈此平坦化膜形成用組成物後,將其乾燥而除去溶 劑。乾燥方法並無特別限定,可下 疋T選擇下列任一方法:(1)以 板式加熱器乾燥之方法、( 至酿下放置數小時至數日之方 法、(3)置入熱風加熱器及士 、工外線加熱益中數十分鐘至數小 時以除去溶劑之方法。 接著’將平坦化膜形诸用細 成用、、且成物進行培燒,而可得平 坦化膜。焙燒方法並無特 专別限疋,例如可使用以板式加熱 器進行焙燒之方法。 【實施例】 以下’就本發明之實施例予以說明,但這些實施例僅 為便於說明本發明之案例,本發明並不僅限於此。 (實施例1 ) 將3 0克具有下述結播置彳 «構早位之共聚合物(Α)(結構單位 (al):結構單位(bl) = 75 : 2 W笪且士、、 25(莫耳比)、分子量:1〇〇〇〇)溶 解於70克MA中,而得到3〇%之樹脂溶液A。 15 200815485 [化學式3] ch3 H2 1 \ •c - 1 c=丨 I 1 0 I 1 ch2 ch3 c=o
I
OH (bl)
(al) 將30克具有下述結構單位之共聚合物(B)(結構單位 (bl):結構單位(cl)= 25 : 75(莫耳比)、分子量:8000)溶 解於70克MA中,而得到30%之樹脂溶液B。 [化學式4] ch3 斗 斗 c=o 1 OH (bl) (cl) 克樹脂溶液 A與51 V- / H2 | ~irc —r 克之界面活性劑XR-104(大曰本油墨化學工業製)予以混 合,而得到組成物。 (實施例2 ) 將3 0克樹脂溶液A與70克樹脂溶液B,以及0.01 7 16 200815485 104 (大曰本油墨化學工業製)予 克之界面活性劑XR 合’而得到魬成物。 (實施例3)
〇 · 〇 1 7克之界面活性劑X r _ 1 〇 4 予以混合,而得到組成物。 (實施例4 ) 將4〇克共聚合物(A)溶解於60克MA中,而得到40% 樹脂溶液C 〇 將40克共聚合物(B)溶解於6〇克μα中,而得到 樹脂溶液D 〇 將50克樹脂溶液c與50克樹脂溶液D混合,再添加 MB使樹脂濃度成為3 〇%。然後對丨〇〇克所得到的溶液, 添加0.017克之界面活性劑大日本油墨化學工業 製),而得到組成物。 (實施例5 ) 將30克共聚合物(C)(結構單位(ai):結構單位(bi): 結構單位(cl ) = 30 : 40 : 30,分子量為8000 )溶解於70克 MA中,再添加〇·017克之界面活性劑XR-1〇4 ,而得到組 成物。 (比較例1 ) 除了在實施例1之組成物中添加〇·3克之酸發生劑 17 200815485
Bu84J (純正化學公司製,α,α -雙(丁基磺醯氧基亞胺基) 間苯二乙腈)之外,其餘以與實施例1同樣之方法得到組 成物。 (比較例2) 將3 0克具有下述結構單位之共聚合物(D)(結構單位 (dl):結構單位(bl) = 75 : 25,分子量為1 0000 )溶解於70 克Μ A中,而得到3 0 %溶液。添加0.0 1 7克之界面活性劑 XR-104,而得到組成物。
[化學式5]
CH3 c=o
I ο
I ch2
CH l> h2c (dl) [平坦化膜之形成] 將實施例1〜5、比較例1、2之組成物以旋轉塗佈器塗 佈於晶圓上。以板式加熱器進行90°C、120秒之乾燥。之 後,以板式加熱器進行200°C、10分鐘之焙燒,而形成平 坦化膜。焙燒後的膜厚為2微米。 [評價] 對於所形成之平坦化膜,進行耐蝕刻性、耐藥品性以 18 200815485 及膜厚變化之評價。又,另以豆他方彳推γ T y π Μ /、他万式進仃平坦化膜之形 成、穿透率之測定。結果如表1所示。 (耐蝕刻性) 對於上述形成之平坦化膜,使用東京應用化學工掌製 造之TCA-2400,以愿力66.6Pa、輪出功率3〇〇w、氧氣流 量200mL/min,進行3分鐘之蝕刻,來測定蝕刻速率。 (耐藥品性) 將上述形成之平坦化膜,卩2.38%之丙綱、異丙醇、 内二醇-甲基醚、甲醇、醋酸丁醋、甲基異丁嗣、以及氫 氣化四曱銨(TMAH),進行23〇Γ、5八於々* ^ ϋ 5刀鐘之浸潰。測定浸潰 碉後的膜厚變化,即使僅有 掷 另,、甲種樂口口浸漬發生膜厚的 g減達5%時,即評定為「X」。 (經時變化) 經時變化,係指相對於使用剛製成之組成物所形成的 垣化膜,使用放置於室溫2週後之組成物所形成的平坦 化膜的膜厚差異(增減)。 (透過率) 將實施例及比較例之組成物,以旋轉塗佈器塗 ^板(康寧公司製1 737玻璃)。以板式加熱器進行㈣、 20秒之乾燥。之後,以板式加熱器進行2〇〇<t、Μ分鐘 :焙燒,:成平坦化膜。焙燒後的膜厚為2微米。更進一 ^進行之高溫耐性試驗,則係將其 6〇分於f a 於25〇C之烤箱中放置 刀鐘,測疋波長4〇〇奈米的光透過率。 19 200815485 [表i] 乾餘刻速率 耐藥品性 膜厚變化 透過率 (400nm) 實施例1 2 5 0 nm/min 〇 + 3 0 nm 99% 實施例2 2 2 0 nm/min 〇 + 40 nm 99% 實施例3 3 0 0 nm/min 〇 + 30 nm 99% 實施例4 2 5 0 nm/min 〇 + 3 0 nm 99% 實施例5 240 nm/min 〇 + 3 0 nm 99% 比較例1 2 5 0 nm/min 〇 + 40 nm 84% 比較例2 240 nm/min 〇 + 6 0 nm 99% 根據表1之結果,在實施例1至5的平坦化膜形成用 組成物,可確認其耐藥品性、膜厚變化(經時變化)、透過 率均屬優良。另一方面,添加酸發生劑之比較例 1,可見 到其透過率低落,樹脂具有環氧丙基之比較例 2,則其經 過2星期之膜厚的變化大。又,根據實施例1〜5,則可確 認藉由調節具有苯乙烯基之結構單位(c),將可調節蝕刻速 率〇 【圖式簡單說明】 無 【主要元件符號說明】 無 20
Claims (1)
- 200815485 十、申請專利範圍: 1. 一種平坦化膜形成用組成物,其含有具結構單位(a)之 樹-脂成分; [化學式1]¥ (R1表示氫或碳數1至5的烷基,η表示1至8之整數)。 2. 如申請專利範圍第1項所述之平坦化膜形成用組成 物,其中上述樹脂成分係含有衍生自丙烯酸類之結構單位 (b)及/或衍生自苯乙烯類之結構單位(c)。 3. 如申請專利範圍第1項所述之平坦化膜形成用組成 物,其中上述結構單位(a)的含量,於樹脂成分中的全部結 構單位之中,佔10莫耳%以上。 4. 如申請專利範圍第 2項所述之平坦化膜形成用組成 21 200815485 物,其中上述結構單位(b)的含量,於樹脂成分中的全部結 構單位之中,佔1 0莫耳%以上。 5. 如申請專利範圍第 2項所述之平坦化膜形成用組成 物,其中上述樹脂成分,含有具結構單位(a)及結構單位(b) 之共聚合物(A)。 / 6. 如申請專利範圍第 5項所述之平坦化膜形成用組成 物,其中上述樹脂成分,含有具結構單位(b)及(c)之共聚合 物(B) 〇 7. 如申請專利範圍第 6項所述之平坦化膜形成Μ組成 物,其中上述共聚合物(Α)與共聚合物(Β)之質量比,係為 90 : 10〜100 : 0 ° 8. 如申請專利範圍第 2項所述之平坦化膜形成用組成 物,其中上述樹脂成分含有具結構單位(a)、(b)及(c)之共 聚合物(C) 〇 9. 如申請專利範圍第1項所述之平坦化膜形成用組成 物,其中上述樹脂成分中的各成分的分子量,分別為2000 至 15000 〇 22 200815485 七、指定代表圖: (一) 、本案指定代表圖為:無 (二) 、本代表圖之元件代表符號簡單說明:無八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示 發明特徵的化學式:
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Cited By (3)
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CN109422987B (zh) * | 2017-08-30 | 2021-03-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 平坦层用组合物、其制备方法、平坦层材料及显示装置 |
US11332634B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-05-17 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Composition for overcoat layer, preparation method for the same, overcoat layer material, display substrate and display device |
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