TW200815485A - Flattened film-forming composition - Google Patents

Description

200815485 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種平坦化膜形成用組成物，特別是 有關於一種平坦化膜形成用組成物，用以形成在CCD用彩 色遽光片、CMOS用彩色濾光片等之中所使用的平坦化膜。 【先前技術】 近年來，影像相關的攝影設備及顯示設備以驚人之勢 普及’目前正對於這些設備尋求更高之機能性。這些設備 中，舉例而言，如彩色液晶顯示器（Liquid Crystal Display， LCD)等各種顯示設備、電荷耦合元件影像感測器（Charge Coupled Device，CCD)、互補式金屬氧化膜半導體影像感 測态（Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS) 等攝影裝置中，彩色濾光片幾乎均為必須之零組件。 一般而言，此彩色濾光片具有紅（R)、綠（G)、藍（B)之 著色層，為被覆、保護此著色層而形成平坦化膜。對於此 平坦化膜，需尋求其具有充分的硬度、密著性，並且為了 不對晝素的色彩產生不良影響，故亦需尋求其具有優良的 透明性及平坦性。在其他方面，亦尋求樹脂組成物具有貯 藏安定性，更要求樹脂硬化物具有優良的耐熱性、硬度、 耐藥品性、耐蝕刻性等之性能。 這類平坦化膜形成用組成物，已揭示出一種含有具環 氧基之共聚合體、其他之環氧樹脂和酸發生劑之平坦化膜 形成用組成物（參照專利文獻1 )。 5 200815485 [專利文獻1]日本特開2000-344866號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 然而，專利文獻1所記載之平坦化膜形成用 由於使用含有具環氧丙基之結構單位達20莫耳％ 聚合物，而有欠缺經時安定性之問題。又，由於 含有酸發生劑，而有400奈米以下的光透過率低蓉 本發明係鑑於上述課題而開發出來，其目的 種平坦化膜形成用組成物，其能夠形成經時安定 透明性高之平坦化膜。 [解決問題之技術手段] 本發明者為解決上述問題而專心研究，結果 平坦化膜形成用組成物含有具特定結構單位之樹 則能解決上述課題，而完成了本發明。更具體而 明係提供以下之物。 本發明係提供一種平坦化膜形成用組成物， 結構單位（a)之樹脂成分。 [化學式1] 組成物， 以上的共 組成物中 ^的問題。 係提供一 性優良、 發現若使 脂成分， 言，本發 其含有具 6 200815485 R1 c=o I o

(CH2)n

(R1表示氫或碳數1至5的烷基，n表示1至8之整數。） [功效] 本發明之平坦化膜形成用組成物，由於使用含有上述 結構單位（a)之樹脂，故能提高保存安定性。又，其亦能形 成光透過率高的平坦化膜。 【實施方式】 <平坦化膜形成用組成物> [樹脂] 本發明之平坦化膜形成用組成物，含有具環氧基之下 述結構單位（a)的樹脂成分。 [化學式2] 200815485 R1 c=o I o (CH2)n

(R1表示氫或碳數1至5的烷基，n表示1至8之整數。） 在此，碳數1〜5之烷基可舉例如直鏈狀、分支狀之烷 基。直鏈狀、分支狀之烷基，則可舉例如：甲基、乙基、 正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基等。 結構單位（a)的含量，以在樹脂成分中的全部結構單位 中佔1 0莫耳％以上者為佳，以20莫耳％以上者更佳。藉此， 而能提升平坦化膜形成用組成物的保存安定性。又，亦能 使所形成的平坦化膜達到期望的硬度。 更且，本發明之膜形成用組成物，在樹脂成分中，也 可含有其他結構單位。在此之其他結構單位，可舉例如： 由不飽和羧酸類、丙烯酸酯類、甲基丙烯酸酯類、丙烯醯 胺類、曱基丙烯醯胺類、烯丙化合物、乙烯醚類、乙烯酯 類、以及苯乙烯類等所衍生之結構單位。 不飽和羧酸，可舉例如：丙烯酸、曱基丙烯酸、巴豆 酸等之單羧酸；順丁烯二酸、反丁烯二酸、檸康酸、甲反 丁烯二酸、伊康酸等之二羧酸，及這些二羧酸之無水物等。 8 200815485 丙烯酸酯類，具體而言，可舉例如：丙烯酸甲酯、丙 烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸丁酯、丙 烯酸戊酯、丙烯酸乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸三辛酯 等之直鏈或分支狀丙烯酸烷基酯；丙烯酸環己酯、丙烯酸 二環戊酯、2-曱基環己基丙烯酸酯、丙烯酸二環戊氧乙酯、 丙烯酸異莰酯等之脂環類丙烯酸烷基酯；丙烯酸氯乙酯、 2，2-二甲基經丙基丙烯酸酯、2-羥乙基丙烯酸酯、5-羥戊基 丙烯酸酯、三羥曱基丙烷丙烯酸酯、季戊四醇丙烯酸酯、 丙烯酸苄酯、丙烯酸曱氧基苄酯、丙烯酸糠酯、丙烯酸四 氫糠S旨、芳基丙稀酸醋（例如丙稀酸苯酯）等。 曱基丙烯酸酯類，具體而言，可舉例如：曱基丙烯酸 甲酯、曱基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、曱基丙烯酸異 丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、曱基丙烯酸二級丁酯、甲基丙 烯酸第三丁酯、曱基丙烯酸戊酯、曱基丙烯酸己酯、曱基 丙烯酸辛酯等之直鏈或分支狀曱基丙烯酸烷基酯；曱基丙 烯酸環己酯、曱基丙烯酸二環戊酯、2 -曱基環己基曱基丙 烯酸酯、甲基丙烯酸二環戊氧基乙酯、曱基丙烯酸異莰酯 等之脂環類曱基丙烯酸烷基酯；曱基丙烯酸节酯、曱基丙 烯酸氯苄酯、2-羥乙基曱基丙烯酸酯、4-羥丁基曱基丙烯 酸酯、5-羥戊基曱基丙烯酸酯、2,2-二曱基-3-羥丙基曱基 丙烯酸酯、三羥曱基丙烷曱基丙烯酸酯、季戊四醇曱基丙 烯酸酯、甲基丙烯酸糠酯、甲基丙烯酸四氫糠酯、芳基甲 基丙烯酸酯（可舉例如：甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸甲 苯酯、曱基丙烯酸萘酯等）.等。 9 200815485 丙烯醯胺類，具體而言，可舉例如：丙烯醯胺、N-烷 基丙烯醯胺（烷基以碳數1〜1 〇者為佳，可舉例如：曱基、 乙基、丙基、丁基、第三丁基、庚基、辛基、環己基、羥 • 乙基、苄基等）、N-芳基丙烯醯胺（芳基可舉例如··苯基、 曱苯基、硝苯基、萘基、羥苯基等）、N，N-二烷基丙烯醯 ' 胺（烷基之碳數以1〜10者為佳）、N，N-芳基丙烯醯胺（芳 基可舉例如苯基等）、N-曱基-N-苯曱基丙烯醯胺、N-羥乙 (、 基-N-曱基丙烯醯胺、N-2-乙醯胺乙基-N-乙醯基丙烯醯胺 等。 曱基丙烯醯胺類，具體而言，可舉例如··甲基丙烯醯 胺、N-烧基甲基丙烯醯胺（烷基以碳數1〜10者為佳，可 舉例如曱基、乙基、第三丁基、乙基己基、羥乙基、環己 基等）N-芳基曱基丙烯醯胺（芳基可舉例如苯基等）、N，N-二烷基甲基丙烯醯胺（烷基可舉例如乙基、丙基、丁基等）、 N，N-二芳基曱基丙烯醯胺（芳基可舉例如苯基等）、N-羥 乙基-N-甲基甲基丙烯醯胺、N -甲基-N-苯基曱基丙烯醯 ( 胺、N-乙基-N-苯基甲基丙烯醯胺等。 烯丙化合物，具體而言，可舉例如烯丙酯類（例如醋 酸烯丙酯、己酸烯丙酯、辛酸烯丙酯、月桂酸烯丙酯、棕 櫚酸烯丙酯、硬脂酸烯丙酯、安息香酸烯丙酯、乙醯醋酸 烯丙酯、乳酸烯丙醋等）、烯丙氧基乙醇等。 乙烯醚類，具體而言，可舉例如··烧基乙烯鍵（例如 己基乙烯醚、辛基乙烯醚、癸基乙烯醚、乙基己基乙烯醚、 曱氧基乙基乙烯醚、乙氧基乙基乙烯醚、氯乙基乙烯醚、 10 200815485 1-甲基-2,2-二曱基丙基乙烯醚、2 -乙基丁基乙烯醚、羥乙 基乙烯醚、二伸乙甘醇乙烯醚、二曱胺乙基乙烯醚、二乙 胺乙基乙烯醚、丁胺乙基乙烯醚、节基乙烯醚、四氫糠基 乙烯醚等）、乙烯芳基醚（例如乙烯苯基醚、乙烯甲苯基醚、 乙烯氯苯基醚、乙烯-2，4_二氯苯基醚、乙烯萘基醚、乙基 蒽基醚等）等。 乙烯醋類，具體而言，可舉例如··丁酸乙烯酯、異丁 酸乙烯酯、乙烯三甲基醋酸酯、二乙基醋酸乙烯酯、戊酸 乙婦S旨、己酸乙稀S旨、氣醋酸乙烯醋、二氯醋酸乙婦酯、 曱氧基醋酸乙烯酯、丁氧基醋酸乙烯酯、苯醋酸乙烯酯、 乙醯醋酸乙烯酯、乳酸乙烯酯、/5 -苯基丁酸乙烯酯、安息 香酸乙烯酯、柳酸乙烯酯、氯安息香酸乙烯酯、四氯安息 香酸乙烯酯、萘曱酸乙烯酯等。 苯乙烯類，具體而言，可舉例如：苯乙烯、烷基苯乙 烯（可舉例如：甲基苯乙烯、二曱基苯乙烯、三曱基苯乙 烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、異丙基苯乙烯、丁基苯 乙烯、己基苯乙烯、環己基苯乙烯、癸基苯乙烯、.节基苯 乙烯、氣甲基苯乙烯、三敗曱基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙 烯、乙醯氧基曱基苯乙烯等）、烷氧基苯乙烯（可舉例如： 曱氧基苯乙烯、4-曱氧基-3·甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯 等）、鹵苯乙烯（可舉例如··氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯 苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙 婦、蛾苯乙婦、說苯乙稀、三氣苯乙婦、2-、;臭-4 -三說曱基 苯乙婦、4 -氣-3-三氟*甲基苯乙稀等）等。 11 200815485 又，其他尚可舉例如衍生自丙烯腈、曱基丙烯腈等 結構單位。 這些其他之結構單位，較佳者可舉例如衍生自丙婦 類、以及苯乙烯類之結構單位。 本發明之平坦化膜形成用組成物，係藉由其樹脂成 之中含有衍生自丙烯酸類之結構單位，而能提升平坦化 之膜厚均勻性。此衍生自丙烯酸類之結構單位的含量， 在樹脂成分中的全部結構單位中佔10〜90莫耳％者為佳 更且，本發明之膜形成用組成物，藉由在其樹脂成 中含有衍生自苯乙烯類之結構單位，而能提升所形成之 坦化膜的耐14刻性。從而利用調節其含量，而能調節乾 刻之速率。 此衍生自苯乙烯類的結構單位，以在樹脂成分中的 部結構單位中佔1 0〜8 0莫耳％者為佳。 又，上述樹脂成分中，只要是含有上述結構單位者 不論是由單一的共聚合物或由二種以上的共聚合物混合 成者均可。 其中，上述樹脂成分中，以含有具結槔單位（a)及衍 自丙烯酸類的結構單位（以下稱為結構單位（b))之共聚 物（A)、具結構單位（b)及衍生自苯乙烯類之結構單位（ 下稱為結構單位（c))之共聚合物（B)所組合成之樹脂 分，或是樹脂成分中含有具結構單位（a)、（b)及（c)之共 合物（C)者為佳。 共聚合物（A)中，結構單位（a)與結構單位（b)之含有 之 酸 分 膜 以 〇 分 平 蝕 全 而 生 合 以 成 聚 比 12 200815485 例以（a) : (b)= 50 : 50〜90 : 10 (莫耳比）者為佳。又，共 聚合物（B)中，結構單位（b)與結構單位（c)之含有比例以 (b) : (c) = 10 : 90〜90 : 10 (莫耳比）者為佳。 共聚合物（C)中的各結構單位之含有比例，以結構單位 (a)在共聚合物（C)之全部結構單位中佔10莫耳％以上，且 ’ （b) : (c) = 10 : 90 〜100 : 0 (莫耳比）者為佳。 樹脂成分若含有共聚合物（A)與共聚合物（B)，則共聚 合物（A)與共聚合物（B)之質量比，以（A) : (B) = 90 : 10〜 1 00 : 0者為佳。藉由設在上述範圍内，而能使熱硬化之後 的平坦化膜達到所期望的硬度。 在上述樹脂成分中的各成分的分子量，各以2000〜 15 000者為佳。藉由將分子量設在上述範圍内，而能使其 在有機溶劑中的溶解性良好。又，所形成的平坦化膜，其 膜厚也能達到均一。 [有機溶劑] i , 本發明的平坦化膜形成用組成物，含有能溶解樹脂之 有機溶劑。此有機溶劑，具體而言，可舉例如曱醇、乙醇、 丙醇、正丁醇等之醇類；乙二醇、二伸乙甘醇、丙二醇、 二伸丙甘醇等之多價醇類；丙酮、甲基乙基酮、環己酮、 曱基正戊酮、甲基異戊酮、2-庚酮等之酮類；乙二醇一乙 酸酯二伸乙甘醇一乙酸酯、丙二醇一乙酸酯、或二伸丙甘 醇一乙酸酯等具有酯鍵之化合物；具有前述醇類或前述酯 鍵之化合物的一曱基醚、一乙基醚、一丙基醚、一 丁基醚 13 200815485 等之一烷基醚或一苯基醚等具有醚鍵之化合物等的多 類的衍生物；如二卩萼烷的環狀醚類，及乳酸甲酯、乳 酯、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、丙酮酸甲酯、 酸乙酯、甲氧基丙酮酸甲酯、乙氧基丙酮酸乙酯等之酯 苯曱醚、乙基苄基醚、甲苯基曱醚、二苯基醚、二苄基 苯乙醚、丁基苯基醚、乙苯、二乙苯、戊苯、異丙苯 苯、二曱苯、異丙基曱苯、1，3,5-三甲苯等之芳香族 機溶劑等。有機溶劑可使用1種，或2種以上組合使 特別是 3_曱氧基丁基乙酸酯（MA)、3 -曱氧基-1-(MB)、丙二醇一曱基醚乙酸酯（PGMEA)、丙二醇一甲 (PGME)以及這些的混合溶劑，較偏好使用之。 有機溶劑的使用量，只要能使平坦化膜形成用組 均勻地塗佈，則並無特別限定，但固形物的濃度以調 10〜50質量％之範圍内為佳，更佳為調整於15〜35質 之範圍内。 [其他成分] 本發明之平坦化膜形成用組成物亦可含有界面 劑。藉由含有界面活性劑，而能防止條痕之發生。界 性劑，相對於樹脂固形物，以1 0 0 p p m〜5 0 0 0 p p m的濃 為佳。界面活性劑可舉出如陰離子類、陽離子類、非 類等之化合物。具體而言，可舉出如XR-104 (製品名 曰本油墨化學工業股份有限公司製造）等。 又，本發明之平坦化膜形成用組成物，以不添加 價醇 酸乙 丙酮 類； 醚、 、甲 類有 用。 丁醇 基》鍵 合物 整於 量％ 活性 面活 度者 離子 ，大 酸發 14 200815485 生劑者為佳。此係由於 、添加8夂發生劑，t使4 0 〇奈米以下 之光透過率低落。 〈平坦化膜之形成方法> 接著說明有關使用士 ^ “… 用本發明之平坦化膜形成用組成物， 來形成平坦化膜之方法。 使用輥塗佈器、旌鉍办从 ^ 轉塗佈器、旋轉式杯形塗佈器、非 方疋轉塗佈器等，將本♦ ^ 發明之平坦化膜形成用組成物塗佈於 形成有配線、黑色矩陣、彩色瀘光片等之基板上。 塗佈此平坦化膜形成用組成物後，將其乾燥而除去溶 劑。乾燥方法並無特別限定，可下 疋T選擇下列任一方法：（1)以 板式加熱器乾燥之方法、（ 至酿下放置數小時至數日之方 法、（3)置入熱風加熱器及士 、工外線加熱益中數十分鐘至數小 時以除去溶劑之方法。 接著’將平坦化膜形诸用細 成用、、且成物進行培燒，而可得平 坦化膜。焙燒方法並無特 专別限疋，例如可使用以板式加熱 器進行焙燒之方法。 【實施例】 以下’就本發明之實施例予以說明，但這些實施例僅 為便於說明本發明之案例，本發明並不僅限於此。 (實施例1 ) 將3 0克具有下述結播置彳 «構早位之共聚合物（Α)(結構單位 (al):結構單位（bl) = 75 : 2 W笪且士、、 25(莫耳比）、分子量：1〇〇〇〇)溶 解於70克MA中，而得到3〇%之樹脂溶液A。 15 200815485 [化學式3] ch3 H2 1 \ •c - 1 c=丨 I 1 0 I 1 ch2 ch3 c=o

I

OH (bl)

(al) 將30克具有下述結構單位之共聚合物（B)(結構單位 (bl):結構單位（cl)= 25 : 75(莫耳比）、分子量：8000)溶 解於70克MA中，而得到30%之樹脂溶液B。 [化學式4] ch3 斗 斗 c=o 1 OH (bl) (cl) 克樹脂溶液 A與51 V- / H2 | ~irc —r 克之界面活性劑XR-104(大曰本油墨化學工業製）予以混 合，而得到組成物。 (實施例2 ) 將3 0克樹脂溶液A與70克樹脂溶液B，以及0.01 7 16 200815485 104 (大曰本油墨化學工業製）予 克之界面活性劑XR 合’而得到魬成物。 (實施例3)

〇 · 〇 1 7克之界面活性劑X r _ 1 〇 4 予以混合，而得到組成物。 (實施例4 ) 將4〇克共聚合物（A)溶解於60克MA中，而得到40% 樹脂溶液C 〇 將40克共聚合物（B)溶解於6〇克μα中，而得到 樹脂溶液D 〇 將50克樹脂溶液c與50克樹脂溶液D混合，再添加 MB使樹脂濃度成為3 〇%。然後對丨〇〇克所得到的溶液， 添加0.017克之界面活性劑大日本油墨化學工業 製），而得到組成物。 (實施例5 ) 將30克共聚合物（C)(結構單位（ai):結構單位（bi): 結構單位（cl ) = 30 : 40 : 30，分子量為8000 )溶解於70克 MA中，再添加〇·017克之界面活性劑XR-1〇4 ,而得到組 成物。 (比較例1 ) 除了在實施例1之組成物中添加〇·3克之酸發生劑 17 200815485

Bu84J (純正化學公司製，α，α -雙（丁基磺醯氧基亞胺基） 間苯二乙腈）之外，其餘以與實施例1同樣之方法得到組 成物。 (比較例2) 將3 0克具有下述結構單位之共聚合物（D)(結構單位 (dl):結構單位（bl) = 75 : 25，分子量為1 0000 )溶解於70 克Μ A中，而得到3 0 %溶液。添加0.0 1 7克之界面活性劑 XR-104，而得到組成物。

[化學式5]

CH3 c=o

I ο

I ch2

CH l> h2c (dl) [平坦化膜之形成] 將實施例1〜5、比較例1、2之組成物以旋轉塗佈器塗 佈於晶圓上。以板式加熱器進行90°C、120秒之乾燥。之 後，以板式加熱器進行200°C、10分鐘之焙燒，而形成平 坦化膜。焙燒後的膜厚為2微米。 [評價] 對於所形成之平坦化膜，進行耐蝕刻性、耐藥品性以 18 200815485 及膜厚變化之評價。又，另以豆他方彳推γ T y π Μ /、他万式進仃平坦化膜之形 成、穿透率之測定。結果如表1所示。 (耐蝕刻性） 對於上述形成之平坦化膜，使用東京應用化學工掌製 造之TCA-2400,以愿力66.6Pa、輪出功率3〇〇w、氧氣流 量200mL/min，進行3分鐘之蝕刻，來測定蝕刻速率。 (耐藥品性） 將上述形成之平坦化膜，卩2.38%之丙綱、異丙醇、 内二醇-甲基醚、甲醇、醋酸丁醋、甲基異丁嗣、以及氫 氣化四曱銨（TMAH)，進行23〇Γ、5八於々* ^ ϋ 5刀鐘之浸潰。測定浸潰 碉後的膜厚變化，即使僅有 掷 另，、甲種樂口口浸漬發生膜厚的 g減達5%時，即評定為「X」。 (經時變化） 經時變化，係指相對於使用剛製成之組成物所形成的 垣化膜，使用放置於室溫2週後之組成物所形成的平坦 化膜的膜厚差異（增減）。 (透過率） 將實施例及比較例之組成物，以旋轉塗佈器塗 ^板（康寧公司製1 737玻璃）。以板式加熱器進行㈣、 20秒之乾燥。之後，以板式加熱器進行2〇〇<t、Μ分鐘 :焙燒，：成平坦化膜。焙燒後的膜厚為2微米。更進一 ^進行之高溫耐性試驗，則係將其 6〇分於f a 於25〇C之烤箱中放置 刀鐘，測疋波長4〇〇奈米的光透過率。 19 200815485 [表i] 乾餘刻速率 耐藥品性 膜厚變化 透過率 (400nm) 實施例1 2 5 0 nm/min 〇 + 3 0 nm 99% 實施例2 2 2 0 nm/min 〇 + 40 nm 99% 實施例3 3 0 0 nm/min 〇 + 30 nm 99% 實施例4 2 5 0 nm/min 〇 + 3 0 nm 99% 實施例5 240 nm/min 〇 + 3 0 nm 99% 比較例1 2 5 0 nm/min 〇 + 40 nm 84% 比較例2 240 nm/min 〇 + 6 0 nm 99% 根據表1之結果，在實施例1至5的平坦化膜形成用 組成物，可確認其耐藥品性、膜厚變化（經時變化）、透過 率均屬優良。另一方面，添加酸發生劑之比較例 1，可見 到其透過率低落，樹脂具有環氧丙基之比較例 2，則其經 過2星期之膜厚的變化大。又，根據實施例1〜5，則可確 認藉由調節具有苯乙烯基之結構單位（c)，將可調節蝕刻速 率〇 【圖式簡單說明】 無 【主要元件符號說明】 無 20

Claims (1)

1. 200815485 十、申請專利範圍： 1. 一種平坦化膜形成用組成物，其含有具結構單位（a)之 樹-脂成分； [化學式1]

   ¥ (R1表示氫或碳數1至5的烷基，η表示1至8之整數）。 2. 如申請專利範圍第1項所述之平坦化膜形成用組成 物，其中上述樹脂成分係含有衍生自丙烯酸類之結構單位 (b)及/或衍生自苯乙烯類之結構單位（c)。 3. 如申請專利範圍第1項所述之平坦化膜形成用組成 物，其中上述結構單位（a)的含量，於樹脂成分中的全部結 構單位之中，佔10莫耳％以上。 4. 如申請專利範圍第 2項所述之平坦化膜形成用組成 21 200815485 物，其中上述結構單位（b)的含量，於樹脂成分中的全部結 構單位之中，佔1 0莫耳％以上。 5. 如申請專利範圍第 2項所述之平坦化膜形成用組成 物，其中上述樹脂成分，含有具結構單位（a)及結構單位（b) 之共聚合物（A)。 / 6. 如申請專利範圍第 5項所述之平坦化膜形成用組成 物，其中上述樹脂成分，含有具結構單位（b)及（c)之共聚合 物（B) 〇 7. 如申請專利範圍第 6項所述之平坦化膜形成Μ組成 物，其中上述共聚合物（Α)與共聚合物（Β)之質量比，係為 90 ： 10〜100 : 0 ° 8. 如申請專利範圍第 2項所述之平坦化膜形成用組成 物，其中上述樹脂成分含有具結構單位（a)、（b)及（c)之共 聚合物（C) 〇 9. 如申請專利範圍第1項所述之平坦化膜形成用組成 物，其中上述樹脂成分中的各成分的分子量，分別為2000 至 15000 〇 22 200815485 七、指定代表圖： (一） 、本案指定代表圖為：無 (二） 、本代表圖之元件代表符號簡單說明：無

   八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示 發明特徵的化學式：