200814185 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於準分子光照射裝置。尤其是關於於半導 體及液晶基板的製造工程中，利用於基板的洗淨等之準分 * 子燈裝置，亦即在製造出該洗淨時的環境之構造中具有特 ^ 徵的準分子光照射裝置。 Φ 【先前技術】 在最近的半導體及液晶基板的製造工程中，作爲除去 附著於矽晶圓及玻璃基板的表面之有機化合物等的污垢之 方法，廣泛利用有使用紫外線的乾式洗淨。尤其是於使用 從準分子燈放射之真空紫外線的臭氧等的活性氧所致之洗 淨方法中，提案有各霞更有效率而在短時間內洗淨之洗淨 裝置。作爲先前之如此技術，係公知有例如日本特開200 1 —137800號公報。 • 依據該公報，記載有一種洗淨基板的表面之基板處理 裝置，係在成爲氮氣體環境的燈罩內，配置複數準分子燈 ，對藉由滾筒式輸送機而搬送至該燈罩內之基板，照射從 該準分子燈放射之紫外線之同時，藉由臭氧等的活性氧來 ' 分解有機物，將其轉換成揮發物質而加以去除。 然而，.於如此之基板處理裝置中，有在將進行處理之 基板搬入至該基板處理裝置時’易於在搬入之入口部混雜 氧而發生處理不均之問題。又，有在該入口部與該出口部 ，環境氣體內的氧濃度具有差量，而整體來說無法進行均 -4- 200814185 (2) 勻處理之問題。進而，半隨作爲液晶玻璃基板等的處理對 象物之基板大型化，利用平板狀的窗玻璃本身亦成爲較嚴 重之問題。此係因爲伴隨大型化而處理較繁複、因爲玻璃 的本身重量而發生撓曲、如爲了防止撓曲而加厚厚度，因 爲吸收而發生照度降低、及相對於裝置，窗玻璃本身的成 本過多等。 有鑒於以上問題，於利用準分子燈的準分子光照射-裝 置中，亦硏發有不利用窗玻璃的裝置。作爲如此之技術， 係公知有例如日本特開200 1 - 1 1 3 1 63醑公報及日本特開 2006 — 134983號公報。依據日本特開2 001— 113163號公 報，記載有一種紫外光照射裝置，係對於作爲被處理物的 基板面，照射紫外線而進行處理的紫外光照射裝置，其具 備：在大氣中保持該基板的支持台、放射175nm以下的波 長之光的光源、及使惰性氣體流入至該基板面上方之大器 中的空間的惰性氣體流入手段。又，依據曰本特開2006 — 1 3 49 83號公報，記載有一種將從準分子燈放射出之準分子 光，照設在被處理物的裝置，係在複數並列配置之該準分 子燈之間，形成有具有噴出惰性氣體之噴出口的惰性氣體 流通部。以下揭示習知的準分子光照射裝置之槪略。 圖8所示的圖係揭示習知準分子光照射裝置的槪略圖 。於準分子光照射裝置1 〇 1係複數配置有並列配置在燈罩 103內之圓筒狀的準分子燈102。於該燈罩103係設置有 上板1 1 1與側板1 1 2，該燈罩1 03的下方係採用不具有玻 璃窗之開口構造。在配置於該燈罩103內之該準分子燈 -5- 200814185 (3) 102之間係配置有具備噴出口惰性氣體之噴出口 105的惰 性氣體流通部104。又，於該準分子光照射裝置101的下 方係輸送基板115，並藉由該準分子燈102放射之準分子 光，進行洗淨處理。又，於設置於該準分子光照射裝置 ' 101的燈罩內之該惰性氣體流通部104係作爲惰性氣體， ^ 流通有氮氣體。該氮氣體係從該噴出口 105噴出至該準分 子光照射裝置101下方，並吹=附至該基板115。在該準分 φ 子光照射裝置1〇1下方，該基板115週邊係藉由從該噴出 口 105吹附之氮氣體，形成有真空紫外域的光可透過之低 氧濃度的置換空間。 然而，在將氮氣體吹附至該基板115之先前的技術， 有不但使用惰性氣體之量變多，製造成本提高，而且在搬 送液晶玻璃基板等時，在該基板的前端部與後端部中，氧 濃度會產生差量，發生處理不均之問題。又，在圖8所示 之習知的裝置，有因爲該惰性氣體流通部之上方的空間並 • 不會使用氮氣體等來置換，故混入於吹附至基板面上之氮 氣體的氧濃度會發生較大的差量，而發生對應氧濃度的差 量之較大處理不均之問題。 [專利文獻1]日本特開200 1 — 1 3 78 00號公報 ' [專利文獻2]日本特開200 1 — 1 1 3163號公報 [專利文獻3]日本特開2006 — 1 34983號公報 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] -6- 200814185 (4) 本發明欲解決的課題係提供於利用準分子光的液晶面 板用玻璃基板等的洗淨裝置中，即使是不配置大面積之板 狀玻璃窗的裝置，亦可減少氮置換時的氣體使用量的準分 子光照射裝置。進而’提供即使對於大型基板，亦可減少 洗淨不均的準分子光照射裝置。 [用以解—決—課i之一手段] φ 本發明的準分子光照射裝置，係對於被搬送之基板， 照射準分子光的準分子光照射裝置，其特徵爲：於燈+覃內 複數並列設置有略棒狀的準分子燈’並具有搬送基板的搬 送手段，於前述燈罩係設置有間隔壁構件，於該間隔壁構 件與各個該準分子燈之間形成有狹窄部，於該燈罩內的較 該狹窄部更靠該準分子燈上方形成第1置換空間，於較該 挾窄部更靠該準分子燈下方的基板側形成第2置換空間， 並於第1置換空間側設置噴出包含惰性氣體之氣體的噴出 ⑩ 口。 又，本發明的準分子光照射裝置’特徵爲於前述構造 之外，前述間隔壁構件係兼用於流通包含惰性氣體之氣體 的排放管，而於該排放管，噴出氣體的噴出口係與該排放 * 管的長邊方向具有間隔而設置。 進而，前述燈罩的特徵係具有藉由配置於該準分子燈 之兩側的前述排放管之各個側壁、配置於其之間的準分子 燈之外壁的上面部份、及配置於該準分子燈上方之燈罩內 的區隔壁所形成之第1置換空間’以及藉由前述排放管的 200814185 (5) 1個下壁、配置於其兩側之準分子燈的外壁之下面部份、 及被搬送之基板所形成之第2置換空間’並從該排放管朝 該第1置換空間噴出惰性氣體。 又，本發明的準分子光照射裝置之特徵爲於前述構造 * 中，前述第1置換空間係該體積大於前述第2置換空間體 • 積。 更進而，本發明的準分子光照射裝置之特徵爲於前述 φ 構造中，前述第1置換空間係形成在配置於該燈罩內之每 個準—分^燈，而流動於各個置換空間之氣體的流量不同。 又，本發明的準分子光照射裝置之特徵爲於前述構造 中，前述第1置換空間，係流動於同空間之氣體的流量’ 相較於該燈罩的中央附近，接近該燈罩的外側較多。 進而，本發明的準分子光照射裝置之特徵爲於前述構 造中，前述第1置換空間，係流動於同空間之氣體的流量 到形成該第2置換空間爲止少於規定量，而藉由處理基板 # 的搬送，形成該第2置換空間時，則流入預先設定之規定 量。 又，本發明的準分子光照射裝置之特徵爲於前述構造 中，前述第1置換空間，係利用感測器檢測出藉由處理基 _ 板的搬送所致之該第2置換空間的形成或是消失，並控制 配合該第2置換空間的形成或是消失而流入該第1置換空 間之氣體的流量。 [發明的效果] -8- 200814185 (6) 本發明的準分子光照射裝置係利用設置於燈罩內的間 隔壁構件’在設置於該燈罩內之準分子燈與該間隔壁構件 之間形成狹窄部，藉此將該燈覃內的空間2分爲第1置換 空間與第2置換空間。藉此，基板側的第2置換空間即使 * 因爲該基板的搬出成爲普通大氣環境，氧亦不會混入該第 • 1置換空間，在接下來搬入基板時，僅置換該第2置換空 間即可進行處理。又，對該第2置換空間的置換係以2Γ分 φ 燈罩內的空間，使實質的容積減少，並迅速地進行，提高 處理速度，故可減少使用於置換的氮等之氣體。進而，因 爲於第1置換空間側設置包含惰性氣體之氣體的噴出口， 故可確實抑制該第1置換空間的氧之混入及逆流，在基板 的處理時可實現安定之氧濃度。藉此，具有可減低處理不 均的效果。 進而，該間隔壁構件兼用於排放管，形成該排放管之 噴出口在該排放管的長邊方向具有間隔而設置，故對於該 • 準分子燈的燈軸方向，可提供均勻之氣體流量。又，藉由 使置換用的氣體之噴出方向不是朝基板側，例如，朝向作 爲鄰接之該排放管之方向的側面方向，即使置換用的惰性 氣體緩慢地流動，亦可充分置換於置換所需之空間。又， " 如將該噴出口的設置位置設於該側面方向，可早期排出殘 留於該第1置換空間內之氧’亦可謀求在該準分子光照射 裝置之起動時的時間短縮。 本發明的準分子光照射裝置係燈罩內的空間區分爲第 1置換空間與第2置換空間，第1置換空間係區分爲略封 -9- 200814185 (7) 閉之空間，無關於基板之有無，藉由從排放管朝第1置換 空間噴出之氣體而置換之構造，第2置換空間係藉由從第 1置換空間溢出之氣體而置換之構造。爲此，具有在該基 板的搬送時，可迅速地作出適合洗淨準分子燈與該基板之 ' 間的環境，提高洗淨效果之同時，可減低洗淨不均的效果 ^ 〇 進而，該第1置換空間的體積係設定爲大於第2置換 φ 空間的體積。藉此，無關於基板的搬送之有無（是否形成 第2置換空間），第1置換空間可安定地存在。又，從該 第2置換空間側來看，相較於該第1置換空間的體積，第 2置換空間的體積非常小。藉此，從搬入該基板可在短時 間置換第2置換空間，作出適合洗淨的環境，故例如有可 將氮氣體等之置換氣體的使用量抑制爲非常低的效果。 又，藉由被照射物之基板，形成封閉空間，而該空間 成爲第2置換空間，故作爲區隔與燈之間的窗部，即使不 φ 使用較大之平板玻璃，亦可使來自準分子燈之光到達該基 板，可提高洗淨效果。進而，以覆蓋該準分子燈的外週之 方式設置保護管，以惰性氣體置換該保護管與該準分子燈 之間的空間的話，即使於從該排放管流入之惰性氣體添加 ' 了反應性氣體之狀況，亦有可抑制配置於該準分子燈之外 表面的網狀電極及反射鏡的劣化，對該基板有效率地照射 從該準分子燈放射之真空紫外光的優點。 又，因爲該第1置換空間形成每個該準分子燈，故在 置換氣體時可迅速進行置換。進而，藉由流入各個置換空 -10 - 200814185 (8) 間之氣體的流量不同，可調整在處理之基板上的氧濃度分 佈，實現無不均之均勻的處理。 進而，流入至該第1置換空間之氣體流量’相較於該 燈罩的中央附近，接近該燈罩的外側較多，藉此可抑制來 • 自外部的氧之混入。尤其是在該基板搬送時，雖然會發生 * 伴隨該基板的移動之氧的混入，但是，因爲搬入口側的氣 體流量較多，故即使有氧的混入，亦可迅速地排出。藉1匕 φ ，有該第2置換空間可以被設定之氧濃度而迅速地形成的 優點。 又，基板被搬送爲止係相較於該基板的處理時’以相 比較少之氣體流量來抑制氧侵入該第1置換空間，該基板 搬入時則流入預先設定之規定量的氣體，藉此，可於該第 2置換空間確保預定之氧濃度，有可無不均而均一且迅速 地進行處理的優點。又，有可減低使用於形成第2置換空 間之氣體的使用量之優點。 φ 進而，藉由感測器檢測出該基板被搬送之時機，伴隨 該第2置換空間的形成、消失，控制流入至該第1置換空 間的氣體之流量。藉此，可使氣體的使用量成爲最適切之 量，且實現均一的處理。 【實施方式】 本發明的準分子光照射裝置，係於並列配置複數準分 子燈的燈罩內，具備噴出至少包含氮氣體之氣體的排放管 ，又具備以該排放管與該準分子燈上面部份與該燈罩的區 -11 - 200814185 ⑼ 隔壁包圍之第1置換空間、及以該排放管與該準分子燈下 面部份與被搬送之基板包圍之第2置換空間，並藉由從該 排放管朝該第1置換空間噴出惰性氣體，來形成該第1置 換空間。又，藉由使該第2置換空間的體積小於該第1置 ' 換空間的體積，在以氮等置換該基板側的環境時可有效率 * 地進行置換，並可在短時間有效率地進行該基板的處理。 [實施例1]_ 作爲第1實施例，於圖1揭示本發明的準分子光照射 裝置。圖1 - a )係對於複數並列配置之略棒狀準分子燈2 的管軸方向，在正交之面切斷之準分子光照射裝置1的槪 略剖面圖。於該準分子光照射裝置1係在燈罩3內複數並 列配置準分子燈2。於該燈罩3內係設置區隔壁4，於該 區隔壁4係複數並列配置噴出包含氮等之惰性氣體的氣體 之排放管5，在該排放管之間係配置該準分子燈2。又， 在各個該排放管5與該準分子燈2之間係形成狹窄部8般 地，配置於該燈罩3內。於該區隔壁上方係設置有冷卻區 塊6，於該冷卻區塊6內係配置有流通冷卻流體之冷卻流 體流通路6a，於該冷卻區塊6上方係設置有發生供電給該 準分子燈2之高頻高電壓的電裝部7。又，於該準分子燈 2下方係作爲搬送作爲被處理物之基板1 0的搬送系，使用 滾筒式輸送機1 1，作爲該基板1 0，例如使液晶面板用的 玻璃基板等可搬送至準分子光照射裝置1內。 又，於該排放管5，噴出包含氮等之惰性氣體之氣體 -12- 200814185 (10) 的噴出口 9係於長邊方向具有幾近相等之間隔而複數配置 ，即配置於該排放管5的側壁5a上，可從該排放管5朝 第1置換空間噴出氣體。進而，於該排放管5係設置有氣 體導入口 42，從該氣體導入口 42經由控制閥74，連接氣 * 體供給來源。 • 又，於該準分子光照射裝置1係具有第1置換空間13 與第2置換空-間14。於圖-1 — b )係爲了針對該第1置換 φ 空間1 3與第2置換空間1 4加以說明，揭示僅部份模式地 擴大該第1置換空間1 3與第2置換空間1 4的擴大圖。該 第1置換空間13係由以相互對向之該排放管5的側壁5a 、該準分子燈2的上面部份2 a、及該燈罩3的區隔壁4包 圍之部份所構成之空間，該排放管5與該準分子燈2之間 的狹窄部8係以最短距離橫切之虛擬線區分該排放管5與 該準分子燈2者。另一方面，第1置換空間14係由以該 排放管5的下壁5b、配置於其兩側之準分子燈2的下面部 φ 份2b、及被搬送之基板1 〇包圍之部份所構成之空間，該 排放管5與該準分子燈2之間的狹窄部8係以最短距離橫 切之虛擬線區分該排放管5與該準分子燈2，該準分子燈 2與該基板1 〇之間的隙間係以最短距離連結該準分子燈2 . 的下面部份2b與該基板1〇之虛擬線15區分者。在本發 明，該第2置換空間14的體積係小於該第1置換空間13 的體積。再者’在此所s胃體積係於圖1 一 b )所不之剖面圖 的面積乘上準分子燈2的管軸方向之長度（到未圖示之側 面區隔板爲止的長度）所求出者。 -13 - 200814185 (11) 利用採用如此構造，具有可迅速地作出適合洗淨該準 分子燈2與該基板1 0之間的環境，提高洗淨效果之同時 ，_可減低洗淨不均的效果。尤其是利用相較於該第1置換 空間的體積，減少較多第2置換空間的體積，從搬入該基 板1 0可在短時間置換第2置換空間，作出適合洗淨的環 境，故例如有可將氮氣體等之置換氣體的使用量抑制爲非 常低的效果。 接著，作爲圖2，揭示關於第1實施例所示之該準分 子光照射裝置1所具備的準分子燈2。圖2係沿著該準分 子燈2的管軸方向而切斷之管軸方向剖面圖，該準分子燈 2係由發光管部21與外管部22與套圈部23所構成。該發 光管部21係由以下構件所構成：由石英玻璃所構成之閥 部24、配置於該閥部24之外週的網狀電極25、與該網狀 電極25成對之內部電極26、及由以在該閥部24內包圍-該 內部電極26之方式配置之石英玻璃所構成之內部管27。 進而，於該閥部24內係作爲準分子發光用氣體，例如封 入有氙氣。該內部電極26係端部連接於供電栓28，該供 電栓2 8的另一端係連接由鉬（molybdenum)所構成之金 屬箔29，以該閥部24的兩端夾封。又，該金屬箔29的另 一端係連接外部導線30，從外部供給高頻高電壓給該內部 電極26。與該內部電極26成對之該網狀電極25係藉由配 置於該套圈部23之供電部31接地。 該發光管部21係在該內部電極26與該網狀電極25 之間經由該閥部24與該內部管之兩個介電體來施加高頻 -14- 200814185 (12) 高電壓，藉此，封入於該閥部24內部之氙氣會準分子放 電，而發生準分子的產生，並藉由解離而發生準分子光者 。又，外管部22亦以石英玻璃構成，作爲在該發光管部 21發生之光（如爲氙氣，則爲波長172nm的真空紫外光 )從該外管部22放射至外部之窗而作用。又，於設置於 * 該發光管部2 1與該外管部22之間的空間係充滿氮氣體， 從該發光管部2Γ1放射之真空紫外光瘦受氧的吸收，不會 φ 衰減，並放射至該外管部22之外部。 又，在該發光管部21及該外管部22的兩端係設置有 該套圈部23，保持該發光管部21與該外管部22。該發光 管部21係於該套圈部23內的保持用鍔部21內，插入並 固定於該網狀電極25的端部部份。進而，於該套圈部23 的中央係設置有供電線取出用洞3 3，將供電給該發光管部 2 1之供電線34從該供電線取出用洞3 3取出至外部。進而 ，流入充滿於該外管部22內之氮氣體，並設置排出之氣 _ 體流通口 3 5。 利用將如此構成之準分子燈2配置於該準分子光照射 裝置1，則具有即使不配置大型平板玻璃窗，亦可有效率 地取出從該準分子燈2放射之真空紫外光的優點。進而， * 因爲該保護管的形狀爲圓筒狀，故有即使減低該保護管的 厚度，亦可取得充分的機械強度，並不會因該保護管的厚 度引起照度降低，可取得高效率的照射裝置。又，關於該 保護管本身的成本係相較於大型平板玻璃爲非常便宜，故 有可抑制裝瞿整體的價格之優點。 -15- 200814185 (13) 接著，作爲圖3,揭示關於第1實施例所示之該準分 子光照射裝置1所具備的排放管5。圖3 — a )係沿著該排 放管5的管軸方向切斷之管軸方向的剖面圖，圖3— b)係 在正交於圖3 - a)之該管軸方向之面切斷之A— A剖面的 剖面圖。於圖3— a )係在該排放管5的側壁5a上設置有 噴出氣體的複數小孔之噴出口 9。又，於該排放管5的上 面壁5c側係設置有供給氣體給該排放管5的氣體導入口 42。在圖3— b)，該排放管5的A — A剖面成爲長方形， 例如，該上面壁5c及該下壁5b的長度係20mm，該側壁 5 a的長度係3 0mm。又，設置於該側壁5 a之該噴出口 9 係Φ 0.7mm的圓形，從該噴出口 9的中心至中心爲止的距 離係以1 0mm的節距，形成於該側壁5a。例如，該排放管 5的全長爲2m的話，該噴出口 9係於一方的該側壁5a上 形成200個。又，在本實施例之該排放管5，該排放管5 的剖面積s (該側壁5a的長度 X該下壁5b的長度）係 成爲該噴出口 9的總面積（例如，φ 0.7的面積 X 200 ( 個數））的2 · 5倍以上的大小。藉由具有如此之面積比， 被噴出之氣體的流速係在個別該噴出口 9爲相同。 藉由採用如此構造，從該排放管5噴出之氣體係涵蓋 該排放管5整體而被均一地噴出，可均一地保持裝置整體 的環境。結果，該準分子光照射裝置1係在洗淨處理該基 板1 0之狀況，有可保持均一的氣體環境，可進行無不均 之洗淨處理的效果。又，藉由極力減低該第2置換空間的 體積，在該基板的搬送時，再短時間內可置換處理環境， -16 - 200814185 (14) 並可充分控制來自外部的氧之混入，故有可減少氮等之惰 性氣體的使用量之效果。 例如，本實施例的狀況，第2置換空間的體積係約 10〇Cm_3(作爲容積爲約1L)，從該排放管流入之氮氣體 的流量係25L/分程度。此時，從搬送基板開始，約2.4 ’ 秒則置換結束。又，置換結束時的殘留氧濃度係實現非常 低之2〇 Oppm程度。通常，置換時的殘留氧H係如有 φ 1 OOOppm程度則足夠，不考慮置換所需之時間的話，對於 容積1L，只要有13L/分程度的氣體流量，即可實現殘—留 氧濃度l〇〇〇ppm以下。 [實施例2] 圖4係作爲本發明的第2實施例，揭示其他該排放管 形狀的剖面圖。圖4一 a)所示之排放管51係用以噴出氣 體而設置之噴出口的形狀從該排放管51的長邊方向之端 部以各噴出口 9a、9b、9c、9d之順序，孔徑變小。藉由 採用如此構造，從該排放管51噴出之氣體的流量係在該 排放管5 1的長邊方向相異，相較於該排放管51的中央附 近，嘖出至端部附近之氣體的流量變多。利用將該排放管 5 1組入本發明的準分子光照射裝置，相較於該準分子光照 射裝置的燈罩之該準分子燈管軸方向中央附近，流動於接 近該燈罩的外側之氣體的流量可提升較多。此爲具有可減 低從該準分子光照射裝置的外部混雜進來之不能控制之氧 的混入之優點。 -17- 200814185 (15) 圖4 -1^)所示之排放管52係雖然用以噴出氣體而設 置之噴出口的孔徑相同，從該排放管52的長邊方向之端 部側漸進地改變排列間隔，在該端部側較密，在中央部側 則較疏。具體來說，從中央部依噴出口 9A、9B、9C、9D 漸進地孔與孔之間的間隔53變窄。即使採用如此構造， 相較於該排放管52的中央附近，可提升噴出至端部附近 之氣髖的流量。與該排放管51之狀況相同，利用將該排 放管52組入本發明的準分子光照射裝置，相較於該準分 子光照射裝置的燈罩之該準分子燈管軸方向中央附近，流 動於接近該燈罩的外側之氣體的流量可提升較多。此爲具 有可減低從該準分子光照射裝置的外部混雜進來之不能控 制之氧的混入之優點。再者，藉由將噴出口的排列及孔徑 排列在任意的位置，亦可形成具有所希望之氧濃度分佈的 處理空間。 [實施例3] # 於圖5係揭示本發明之第3實施例。在該第3實施例 ，揭示關於使流動於該第1置換空間之氣體流量，作爲依 形成於每個該準分子燈之各第1置換空間而不同之流量的 狀況。圖5所示之準分子光照射裝置1係從該裝置的上面 方向觀看並列配置有3個準分子燈2A、2B、2C之準分子 光照射裝置1的燈罩內之圖。又，準分子光照射裝置1之 外，揭示滾筒式輸送機11多數並排而構成之搬送路徑， 於該搬送路徑上基板10被搬送至箭頭63的方向之狀態。 -18- 200814185 (16) 基板10係從準分子光照射裝置1的搬送口 62 A被搬入， 從搬出口 6 2B側被搬出。在從該搬送口 6 2A至搬出口 62B 爲止之間，相互並列配置準分子燈2A、2B、2C，於各準 分子燈2A、2B、2C的兩側面係配置有排放管5A、5B、 5C。例如，於準分子燈2A的雨側面係配置有排放管5 A • 與排放管5B，形成對應各準分子燈2A、2B、2C的第1置 換空間13A、Γ3—B、Γ3—C。再-者，第1置換空間Γ3 A、Γ3—Κ φ 、13C係以對於準分子燈2A、2B、2C的管軸方向，藉由 側面區隔板6 1而掖區分一，流入氮等的置換用氣體至以側 面區隔板61與排放管5A、5B、5C、5D與準分子燈2A、 2B、2C區分的空間而構成。 作爲流入第1置換空間1 3 A、1 3 B、1 3 C之氣體的流 量，基板1 〇的搬入口 62A側（13 A)流量較多，在中央 附近（13B)則減少，基板10的搬出口 62B側（13C)則 流量再次變多。於本實施例中，使排放管5內的氣壓高於 鄰接之排放管5B，又，使對向之排放管5B的第1置換空 間13A側之側壁5ab上的噴出口（未圖示）之孔徑大於另 一方之側壁5 ac上的噴出口（未圖示）之孔徑。藉此’流 入至第1置換空間13A側的氣體量係多於鄰接之第1置換 ’ 空間1 3 B。 接著，第1置換空間1 3B係因爲個別設置於排放管 5B的側壁5ac、排放管5C的側壁5ad之噴出口（未圖示 )的孔徑小於鄰接之第1置換空間13 A及13C側的孔徑’ 故流入至第1置換空間1 3B之氣體的流量較小。進而’第 -19- 200814185 (17) 1置換空間1 3 C係與第1置換空間1 3 A的狀況相同。亦即 ，設置於排放管5C的第1置換空間13C側之側壁5ae的 噴出口（未圖示）之孔徑係與側壁5ab相同，變成較大。 進而，設置於噴出口 5D之噴出口的孔徑係與排放管5A 相同，附加於排放管5D之氣壓亦與排放管5A相同，高 於排放管5B、5C。藉由如此構造，第1置換空間13A、 1 3 B-、1 3 C係相較於該燈罩中央附近，接近該燈罩之外側 的氣體的量較多。 [實施例4] 於圖6係作爲本發明的第4實施例，揭示具有控制流 入至第1置換空間1 3與第2置換空間1 4之氣體流量的準 分子光照射裝置1該準分子光照射裝置1係複數並列配置 之準分子燈2、並列配置於準分子燈2之兩側面的排放管 5及具有將從準分子燈2放射至之光反射至基板1 0側之功 能的區隔壁4，配置於燈罩3內。於本實施例中，僅記載 燈罩3的一部份。又，從將該基板1 0搬入至該準分子光 照射裝置1之搬送口 62A側，基板1 0的一部份藉由滾筒 式輸送機11被搬送至準分子光照射裝置1內。於該滾筒 式輸送機11之下方係依序配置有光感測器71A、71B、 7 1 C。來自該光感測器7 1 A、7 1 B、7 1 C之訊號係連接於訊 號處理部72。被輸入至該訊號處理部72之該光感測器 7 1 A、7 1 B、7 1 C、7 1 D的訊號係與控制訊號輸出部73連接 ，從該控制訊號輸出部73入至控制閥74A、74B、74C、 -20- 200814185 (18) 74D。該控制閥74A、74B、74C、74D係連接於排放管5 ，控制置換用氣體的氣體流量與氣壓，形成第1置換空間 13A、13B、13C、13D與第2置換空間14A、14B等。又 ，14C、14D係因爲基板10在搬送中，爲第2置換空間形 成前的狀態，伴隨該基板1 〇的搬送，形成第2置換空間 之區域。 接著，揭示關於氣體流量的控制。初始在該準分子光 照射裝置1內，爲無處理對象的基板之狀態。此時，於第 1置換空間13A、13B、13C、13D之各空間係流入少於預 先設定之基板處理時的規定量之量的置換用氣體。接著， 該基板10被搬入至準分子光照射裝置1內時，藉由光感 測器7 1 A，檢測出該基板1 0被搬入，檢測訊號被輸入至 訊號處理部72，接下來從控制訊號輸出部73送出控制氣 體流量的訊號至箭頭Q與R。接收該控制訊號之控制閥 74A、74B係將流入至第1置換空間13A的氣體流量增加 至預先設定之基板處理時的規定量之流量。藉此在極短時 間內，形成第2置換空間14A，並形成適合預先設定之該 基板10的處理之環境。 如圖6所示，在該基板1 〇被搬送至第2置換空間 1 4C途中之狀態，各空間之氣體的流量係如下所示。第2 置換空間14A、14B係流通預先設定之基板處理時的規定 量之氣體。在該第2置換空間1 4C，於光感測器7 1 C檢測 出該基板10的搬送之後，流入至第2置換空間14C的氣 體量係被控制爲少於鄰接之該第2置換空間1 4B。又，相 200814185 (19) 同地，在應成爲該第2置換空間14D的空間，因爲未搬送 基板10，故到光感測器71D檢測出基板1〇的搬入爲止， 流通少於第2置換空間14A、14B之量的置換用氣體。 藉由採用如此之控制機構，到形成第2置換空間爲止 係流通少於規定量之量的氣體，在保持第1置換空間的環 ， 境之狀態下，可防止來自外部之氧等的混入。又，檢測出 基板10的搬入，而增加氣體的流量，流通適合預定訂定 φ 之處理的規定量之氣體。伴隨此，形成該第2置換空間， 流通最適合處理之流量，藉此可有效率地處理該基板1 0。 又，搬出該基板，第2置換空間消失的話，利用再次流通 少於規定量之氣體，一邊防止來自外部之氧的混入，一邊 待機，在搬入接下來處理之基板時可短時間形成處理環境 〇 於圖7係揭示本發月-之第5實施例。作爲第5實施例 之準分子光照射裝置81係揭示對於準分子燈2的管軸方 • 向，在正交之方向切斷的剖面圖。於燈罩3內係設置有間 隔壁構件82，並排配置複數準分子燈2，於各準分子燈2 與間隔壁構件82之間，形成狹窄部83。又，於該準分子 燈2上方係設置有具備冷卻流體流通路6a的冷卻區塊6。 • 於冷卻區塊6之上方係配置有電裝部7。又，.於該冷卻區 塊6係在該準分子燈2的空間有噴出口包含惰性氣體之氣 體的噴出口 82，該噴出口 82係從經由控制閥74連接之氣 體供給來源噴出氮等之氣體。在該準分子燈2之上方’以 該間隔壁構件71與該準分子燈2包圍之空間係形成第1 -22- 200814185 (20) 置換空間13。又，在該準分子燈2之下方’基板1 〇側的 空間成爲第2置換空間14。第2置換空間14係以該準分 子燈2與該基板1 〇與該間隔壁構件8 1包圍之空間，並以 狹窄部83與第1置換空間區分。 本實施例之準分子光照射裝置81係因爲在第1置換 空間1 3內設置有噴出包含惰性氣體之氣體（此狀況爲氮 )的噴出XJ 8 4，故第1置換空間13在初始被置換。之後 ，充滿於該第1置換空間13內之置換用氣體（氮）通過 狹窄部83，流入至第2置換空間14 &藉由該漏出之氣體 而形成第2置換空間1 4。又，第2置換空間1 4係藉由基 板1 〇利用滾筒式輸送機11被搬入而形成，藉由被搬出而 消失。在此消失時，形成該第2置換空間14之空間係被 暴露於大氣間，該狹窄部83係抑制氧逆流及混入至第1 置換空間。又，在該基板10被搬入爲止之待機時係藉由 於該第1置換空間1 3流通少於基板處理時之量的置換用 氣體（氮），而可維持該第1置換空間13。 【圖式簡單說明】 [圖11揭示本發明的第1實施例的槪略剖面圖。 [圖2]揭示配置於本發明的第1實施例之準分子燈形 態的剖面圖。 [圖3]揭示配置於本發明的第1實施例之排放管形態 的剖面圖。 [圖4]揭示本發明的第2實施例之排放管形態的剖面 -23- 200814185 (21) 圖。 [圖5]揭示本發明的第3實施例的槪略圖。 [圖6]揭示本發明的第4實施例的槪略圖。 [圖7]揭示本發明的第5實施例的槪略圖。 ^ [圖8]揭示先前基板處理裝置的槪略剖面圖。 【主要元件符號說明】 φ 1:準分子光照射裝置 2_ :準分子燈 2 a :上面部份 2b :下面部份 2A :準分子燈 2B :準分子燈 2 C :準分子燈 3 :燈罩 4 :區隔壁 5 :排放管 5 a :側壁 5aa :側壁 ‘ 5ab ··側壁 5ac :側壁 5ad :側壁 5ae :側壁 5b :下壁 -24- 200814185 (22) 5 c :上面壁 5A :排放管 5 B :排放管 5 C :排放管 ^ 6 :冷卻區塊 • 6a :冷卻流體流通路 7 r電裝部 φ 8 :狹窄部 9 :噴出口 10 :基板 η :滾筒式輸送機 1 3 :第1置換空間 14 :第2置換空間 1 5 :虛擬線 21 :發光管部 _ 22 :外管部 2 3 :套圈部 2 4 ·閥部 25 :網狀電極 • 2 6 :內部電極 27 :內部管 2 8 :供電栓 2 9 :金屬箔 30 :外部導線 -25 - 200814185 (23) 31 :供電部 32 :保持用鍔部 33 :供電線取出用洞 3 4 :供電線 β 3 5 :氣體流通口 * 42 :氣體導入口 51 :排放管 φ 52 :排放管 53 :間-隔 61 :側面區隔板 62Α :搬送口 62Β :搬出口 63 :箭頭 7 1 A :光感測器 7 1 B :光感測器 _ 7 1 C :光感測器 7 1 D :光感測器 72 :訊號處理部 73 :控制訊號輸出部 74A :控制閥 74B ：控制閥 74C :控制閥 74D :控制閥 81:準分子光照射裝置 -26- 200814185 (24) 82 :間隔壁構件 83 :狹窄部 84 :噴出口 1 0 1 :準分子光照射裝置 ^ 102 ：準分子燈 • 1 0 3 :燈罩 104 :惰性氣體流通部 φ 105 :噴出口 111 :上板 1 1 2 :側板 1 1 5 :基板 -27-