TW200539237A - Edge wheel dry manifold - Google Patents

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TW200539237A TW093139813A TW93139813A TW200539237A TW 200539237 A TW200539237 A TW 200539237A TW 093139813 A TW093139813 A TW 093139813A TW 93139813 A TW93139813 A TW 93139813A TW 200539237 A TW200539237 A TW 200539237A
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wheel
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Glenn W Davis
Carl Woods
John Parks
Fred C Redeker
Mike Ravkin
Michael L Orbock
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Lam Res Corp
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Description

200539237 九、發明說明： 一、【發明所屬之技術領域】 導體1日月ίί疋板清潔與乾燥，更特別是關於在諸如半 V體曰曰圓、硬碟、液晶顯示裝置(LCD)痞芈 吨文千 基板的製造_，肋贱 術、系統與設備。 球基板表面上的技 二、【先前技術】 在用來製造半導體u、LCD、顯、咖 ^程的各種階段時需要執行基板的 =而辦 散區之電晶體裝置係設置在石緣板之上血^基具， 3之介電材料而與其它導電層絕 “=，=匕 案係形成於介電材料内，接著中’金屬處理線路圖 除掉超過的金屬處理。執仃化予_平坦化(CMP)操作來移 來洗潔清潔係設計 造操作十分重要的需要度亚; 構變得更小且更複雜，為了達 , _體1置結 要求在所有製程摔作中灼、准持、、Ό構疋義所須的精確度， 可接受的殘留物或污染=導;或無效，則會將不 理環境中。 、丨了此包3欲製造之裝置整體的處 而使S基： 化例、構造與技術。在典種”數之轉動乾燥變 I妁谷動乾耜製程中，將具有或未具有 200539237 i轉^基沖洗或清潔劑施加至基板表面，並藉 圖1是_〜力來乾燥基板而從基板表面移除掉。 有欲轉動乾ίΓ^Ϊ動乾燥技術將越從基板ig表面移除。具 10,其係定位^表面與—_表面的典型水平定向基板 的一轉動/乾燥以上之固定邊緣輪12與一穩定邊緣輪14 轉動基板财。轉心的方式 液體或任何翻18所示般斜洗與乾燥劑、 對於以切轉動乾燥等這樣的乾燥賴 外。二iitu但是對於基板邊緣的效應則是顯著例 在固定邊缘^ 12 2趕走流體，則又可將流體捕捉並受捕集 著基===邊緣輪14内，然後當轉動基板1〇時會沿 且有與f展巾之基板處理的嚴格縣’故高度期望完全 用目Ϊ的設備與技術卻很少達成。所需要的是 積的二、技術與乾燥、猶絲板邊緣上之流體再沉 三、【發明内容】 一 發5透過提供—翻來乾燥基板 、包含有將流 槽處移除掉的設備來滿足這些需要 的。本啦鴨可在無數方法下執行，包含有—製程、—設備、一 糸統二方Γ下面會描述本發明的若干實施例。 且古tens中二Ϊ供一設備。該設備包含有：-邊緣輪，其 具有由該邊緣輪之侧壁所形成的一凹槽；以及，一真空歧管，其 ί有二。雜空歧管之該鄰近端係能夠定位在該邊緣輪之 该凹，近J 夠從該邊緣輪處移除掉流體。 一提供一設備。該設備包含有··-邊緣輪， 其具有由邊邊緣輪之側壁所形成的—凹槽；以及，—歧管，其具 200539237 有郝近％。歧官之該鄰近端係能夠定位在該邊緣輪之該凹槽鄰 近處，而能與該邊緣輪的流體流通。 在又一實施例中，提供用來固定一基板邊緣的一方法。該方 法包含步驟有：藉著具有一凹槽之至少一輪來容納該基板邊緣； 以及，在固定該基板邊緣時，從該至少一輪之該凹槽處將流體抽 真空。 本發明有諸多超越先前技術之優點。本發明之一顯著長處鱼 優點是避免在轉動乾燥期間、流體再沉積於一基板之外圍周圍了 雖然SRD設備對於基板乾燥與基板表面上之殘留源移除是、且可 疋相當有效的，但是只要在乾燥操作期間、邊緣輪累積與受捕集 流體由基板表面驅除掉的話、則流體微點與相應殘留物係會一致 再沉積於定位在邊緣輪内之-基板的外圍厢。本發明實^ 為了一邊緣輪之凹槽内所累積與受捕集的流體移除所提供的 樣流體之移除會移轉再沉積的流_，並達雜 本發明實施例之另-長祕科在既有祕與設備、反f 前正在發狀緣與設射執行的。域部分縣纽便 造，並產生出廢棄物減量與製造精確性的顯著回報。 衣 本發明之其它伽將由下辦盡贿、伴隨附 明原理之案例而變得明顯。 ％’ d本發 四、【實施方式】 茲將描述用於基板處理的發明。在鲂伟垂 燥歧管係_位在基板乾燥_中的邊^卜置 二述中，為了提供本發明的通盤了解，故:列 然而對於該項技術之相關人士而言將可理解 全部之这些特定細節下來實踐出本翻 ^有某二或 要模糊掉本發明_、點，故不會詳細贿作為了不 如吾人所雜者，錢餘之—方絲藉乾燥或 200539237 fRD設備，之後統稱之為SRD言史備。如上參照圖工所 f備!Ϊ用離心力來趕走基板之有效與背側表面兩處的流體。圖2 緣輪102具有形成容納著基板1〇周緣緣 2輪或只要侧在基板1G處理的—般^ ，典型上作為例如基板10的定位、支j與==輪 >糸與乾她作之基板處理包含有通常藉著 動二月 動。基板周緣部受容納=輪凹元 ίtϋίϊ Γ2之轉動會將獅傳遞至基板㈣周緣部上。 力，趕走基板10之有效與背側表面兩處的 机體取後將廷樣的流體從基板10推進至周緣部周圍。 離子;^將望基板處理而準備、諸如清潔劑、沖洗劑、去 侧声而或化學樂品之流體或液體從基板ig的有效與背 之k 二則Γ這樣的流體收集在邊緣輪凹槽104 β。如圖、2 的頂端捕集流體係沿著繼_漏往邊緣輪凹槽1〇4 再沉積在基板10外_的有效^背側表面1讓_流體106 體卜圍周1 ί,體微點108的受捕集流 位在其知儿積。不乾性流體微點108係顯示在圖3中 理解ί體触近固定邊緣輪12與歡輪14處，但應可 解$ j 108係可、且是沉積在基板1〇 處^的流體微點應代表著基板1G不賊 =f -,ϊ i2—- 口 nL 而在亩說明實施例中則包含有上真空孔 丫具工孔口 128b與下真魏口 128c。在其它實施例中， 200539237 會根據執行著邊緣輪乾燥歧管120之處理設備、處理 f-個以上的孔口定位在姆應於朗為上真空孔d m、直 空孔口i28c之一個以上區域的位置内。在二、 貝鈿例十，孔口 128係鉛錘測量穿過歧管主體122的一 ^ ’該機齡作會造成如連漏m上所邮孔明孔插鎖次 在說明實施例中，連接端124會連接至諸如用來 =口圖=示的穩定輪14之一穩定臂(未圖示)的一臂狀物： ，士30係，Ϊ來將邊緣輪乾燥歧管12〇附著至如圖4所示之每玄 例中的-穩定臂，但如下所說明與描述的，邊^ 係根==，、SRD設解料多方面設成彳 =之\^^〇。 =ΕΤ :ΡΕΑκ等_材料、絲賴械操作、容易1寻s 抗ΐΐ 潔室環境)、還有為抵抗雜且為抵 ί二二^體日日®或其它基板表面時可能需要之複數種化學藥 Π口腐蝕效應的其他這樣材料所構成的。 在本發明-實施例中，鄰近端126 &含有一個以上的孔口 :二且 置來定位在鄰近、且至少一部份位在邊緣輪凹槽 所二二户士。可如Ϊ 2所見，邊緣輪凹槽104係靠著側壁102a 匹配;^鄰近端126實質上符合其形狀且讓其定 伤位在邊緣輪凹槽1〇4内。 圖係^示發明—實施例的邊緣輪乾燥歧管12G之橫剖面 m明，實關巾’魏輪絲歧f—係定錄鄰近邊緣輪 杏所\ if—部份位在邊緣輪凹槽104内。鄰近端126係成形為 貫二ϋ!壁102a表面一致。基板10係與鄰近端126對向且定 ίΐί緣S槽、104内’顯示基板乾燥設備的一操作狀態。在處 L 寺鄰近端126與定義著邊緣輪凹槽104之邊緣輪側壁 a a、木作空隙丨46。在本發明一實施例中，邊緣輪乾燥歧管 200539237 120可充分调整，以便建立並在^--致性、期望的操作空隙140。 關於操作空隙146與邊緣輪乾燥歧管120的額外細節，下將參 照圖6與7來加以提供。 在圖5所示的實施例中，顯示出三個真空孔口 ι28、包含有上 真空孔口 l28a、中真空孔口 128b與下真空孔口 128c。在各真空 孔口 128位置處，可設置一至複數之真空孔口 128。而在其它實施 例中，一個以上之真空孔口 128位置(例如上、中與下)係可將所設 置、例如僅在中真空孔口 128b與/或下真空孔口 128c位置的真空 孔口 128刪除掉。在具有上真空孔口 i28a、中真空孔口 128b與下 真空孔口^128c的說明實施例中，角度0會形成真空孔口 128的佈 置、。在一實施例中，乃是將中真空孔口 12訃形成於零度角位置處、 鄰近端126的頂點中。若建構著上真空孔口 12如與下真空孔口 將其定義成與中真空孔口腿之零度角有關:或若未建 構中真轨π 128b時與鄰近端126之頂點有關，且在—實施例中 該角度0可落在約H)度至約6〇度的範圍内，又在—實施例中該 角度0是約45度。 ' 、在本發明一實施例中，乃是在藉著穿過歧管主體 122之中心 所?錘測量建構的真空孔口128處提供抽真空。在說明實 Α空鑽孔129會貫穿歧管主體122的中央㈣核心，實 二i:二^至真空孔口 128a、128|3與128c。真空鑽孔129係可根據 衣ί方法與技術來加以建構，&含有鑽穿或鑽孔通過歧管主 都二t線i鑽孔或鑽穿通過鄰近端126的一歧管、線，與隨著 由1^ B至中央與/或歧管線來刺出真空孔口 128。在一實施例 二鐵例如參見圖4的η4) ’以便密封住必 明r實施例中，歧管主體122之中央區或核心係除了 ξ製造：倾ΐί 了流體輸送(未圖示)而加以鉛錘測量。根據已知 圖7^，咚技術，會在歧管主體122内建構兩條以上的線路(未 ㈤” *為移轉㈣、财絲掉或排空料氣、蒸氣、氣 200539237 體等等外：尚能夠輸送流體、空氣、蒸氣或氣體。 圖6係顯讀$ —實齡㈣邊緣輪麵騎12〇之浐叫面 圖。圖6顯示出一邊緣輪乾焊姑普ηΛ =木歧& 120之仏剖面 124盘-鄰舰其具備著包含有一連接端 示在鄰近於邊緣輪102的-54^2中°邊^^燥歧管120係顯 邊緣輪凹槽104内且鄰近於定義荖、#έ^/、具有至少一部份位在 鄰近端⑶。在說明實施例中，設二中:
中，邊緣輪乾燥歧管120係附著至亦為邊緣輪 ί I的穩定臂MG °可為獅、螺栓、大頭封、 法之固^附著機械組件的連接器136,其會 ^連接& 124處而將邊緣輪乾燥歧管12〇附著至穩定臂14〇。在一 ΐπ連接器136會於安裝孔13G(參見圖4)處而將邊緣輪乾 定至穩定臂⑽。紐會到賴如圖6所示之邊緣輪 本，官120係建構至穩定邊緣輪1〇2的，但是邊緣輪乾燥歧管 120係可建構至、並準備與任何類型之邊緣輪1〇2 一併設置的。識 之邊緣輪102乃是示範性的’並不應將其解
—在本^明一實施例中，邊緣輪1〇2可調整至維持基板1〇的精 確疋位。藉由案例，基板10係顯示在一典型水平方向中，且應體 ^到邊緣輪102可能要求垂直方向的調整、上或下，並透過方向 月5頭142來說明’以便維持在期望的調準、方向，然後確實定位 基板並能夠加以轉動。在本發明一實施例中，連接器136與安裝 孔130(參見圖4)，可實現邊緣輪乾燥歧管120的相對應垂直調整 2列如垂直方向的調整，如方向箭頭142所示的上或下），以便維持 鄰近端126與邊緣輪凹槽1〇4間的適當調準。更進一步，在一實 施例2，會將穿過穩定臂140的安裝孔(未圖示)開槽，以便實現由 方向箭頭148所代表的橫向或水平調整。關於邊緣輪乾燥歧管12〇 11 200539237 調整的額外細節，以下將參照圖7來加以提供。. 圖7係顯示發明一實施例的邊緣輪乾燥歧管12〇之橫剖面 圖。如圖7所示的說明實施例包含有具備著一連接端124與一鄰 近端126的一歧管主體122。鄰近端126是鄰近於邊緣輪1〇2，與 至少一部份位在由邊緣輪側壁l〇2a所形成的邊緣輪凹槽内。 所示之實施例包含有藉著真空鑽孔129而連接至為真空供應器連 接所設置之真空裝配134的一單一中真空孔口 128b位置 ^如上參照圖6所述者，邊緣輪102典型上是可至少在如方向 箭頭142所示的一垂直方向中調整的，以便為基板1〇(參見圖6) 達到並維持在期望的調準，並實現高速基板1〇轉動。因此，一實 加例的邊緣輪102是可至少在如方向箭頭142所示的一垂直方向 _ 中調整的，以便讓鄰近端126達到並維持在與邊緣輪凹槽1〇4相 對應的期望定位與調準。在說明實施例中，邊緣輪1〇2係藉著 H4、而可調整地連接至穩定臂刚的。同樣地，在一實施^#， 軸144 k供邊緣輪乾燥歧管12〇在如方向箭頭142所示之垂直方 向中的調準。導引針146會從附著端124延伸至穩定臂140,以便 維持定位，並避免邊緣輪乾燥歧管12〇因作用在歧管主體122上 之扭力或其他作用力而移位。 在如圖7所示的實施例中，設置著一單一真空孔口位置、亦 I中真空孔口 128b。如上所述，為了從邊緣輪凹槽1〇4處排空水籲 分、或任何其它流體、蒸氣、氣體，故可將真空孔口設於鄰近端 126中的任何期望位置。在各位置處(上128a、中12肋與下， 參^圖4)可設置著從一至複數之的真空孔口 128。藉著於裝配134 所施+加，抽真空，故將邊緣輪凹槽1〇4内的任何水分(或其他流 體、瘵氣或氣體)透過真空孔口丨28而移除掉。在其它實施例(不說 明)中會提供穿過歧管主體122的額外錯錘測量，以便導入如期望 =流體、氣體或蒸氣來沖洗或清潔邊緣輪1〇2或基板1〇邊緣(參見 圖5):在本發明二實施例中，孔口 128的數量與位置、與這樣的 子口疋否排空或導入流體'或氣體或蒸氣，乃是符合於當作乾燥 12 200539237 燥用實=¾輪方，管120之執行。 ί 輪錄歧管12G之額外實施例則是可^ 如方向則碩148所不的水平或橫向方向上調整的。 端⑶與定義著邊緣輪凹槽104之邊緣輪 ，間一期^ 二产，供橫向定位_示)=^^^ 只e j中操作工隙146知:供讓邊緣輪乾燥歧管 妾?J，並維持在近似_英叶的空隙⑽、下卜在 m ==，在約_與咖英伽範圍内。 ”J 120旨在用於複數之清潔與乾燥設備中的執行， 型與構造的邊緣輪。在如圖8所示的實施例中?i緣 - SRD ,ιι%τζτ,τ^ 干基板處理二 配置有-邊I輪乾‘管ίο f邊緣輪102中’且各邊緣輪係 是通過基板10的有效與&背；^顯示出鄰近頭部伽與娜乃 特別有效的清潔中m然鄰近頭部基板處理系統150是 系統15〇時典是中工具’但是當基板插入鄰近頭部 近頭部152^ ^：朝/=°因此，當轉動基板上時，不論鄰 從基板10表面;ί或處理狀態’均會將基板上的既有液體 表面處赵走。流體可收集並依然受捕集在邊緣輪凹槽 13 200539237 104内，且如果未將其移除的話、 周圍。在如圖9所示的實施例令，乃^^ ^積於基板忉外圍 成配備有至少-中真空孔口咖/至^;^燥歧管m設 空孔口 128b與下直空子丨σ — -、工孔口 128c。中真 真空的。而鄰近頭部基板處理。3:=129而連接至抽 實施例的執行砂鱗持並提相確伴本發明 讓流體再沉積縣板1G上。 _絲收集力體且不會 200 列的基板乾燥方法操作之流程圖 中= 内欲乾燥之基板的操作202開始的。在-案例 !=、元件等等通常製造在“體 接Lt上主产_容納的基板係在潮濕狀態下容納的， 人#、ρ^γ、、式π、4，然後容納基板來進行包含乾燥基板、亦可包 以外之洗膝與/或沖洗的處理。基板典型上係處於-水 ΐ二容Ϊ的’但是根據將基板容納至内部的設備構造， ^依，、、、姆缸具之構造而讓級斜、魅雜何方向來定位 ㈣:亥Π績至將基板定位並固定至邊緣輪的操作2〇4。在示範 焊-^板党容納於可為包含有如圖9所示之鄰近清潔與乾 t =備、各種類型與構造的SRD設備中。既有SRD設備與目前 Ίί中之3rd設備是利用邊緣輪來定位並固定基板，且在清 / ;與乾燥期間亦使用這類設備來讓基板以期望設定速度轉 。=此，基板容納並定位在邊緣輪中，而讓基板的周緣部插入 鈐。或對著具有由邊緣輪主體之側壁所定義之邊緣輪凹槽的邊緣 或著，在操作206中，轉動基板。如上所述，讓邊緣輪轉動 昝動，然後讓轉動傳遞在基板邊緣上，藉此讓基板在一期望速 200539237 200539237 度下轉動。繼歧射加以奴歧立 持在設纽度，接雜據處理需縣修正 會產生出乾縣板時所使用_心力。对狀悲。轉動速度 該方法繼續至將流體從邊緣輪槽中抽真空 述，離心與其它力量會將細從基板的有效^側^所 所排出之流體可收在 圍。“丄例 的抽真空或排空，避免更進—步在基板 體 ϊϊίί?^ ^ 邊緣 體，並 執行或循環邊 燥，即完成該方法。 處叫，不·要邊緣輪的乾 ^為清楚了解之目的固已經詳 在附錄專利中請範圍之範_可實踐體會到 此，可考慮本實施例為說明性、而非 例。因 '㈣附錄之專t ^ 五、【圖式簡單說明】 =S示ΪΞΪ動乾燥技術來將流體從基板的表面移_。 凹槽可容納:基=邊緣輪凹槽之侧壁的邊緣輪’該邊緣輪 3示在基板外圍周圍，受捕集流體再沉積成流 不依本發明—實施綱邊緣輪乾燥歧管。〜。 圖係顯示依本發明一實施例的邊緣輪乾燥歧管之橫剖面圖。 15 200539237
=ΐϊ，依本發明1施例的邊緣輪乾燥歧管之橫剖面圖。 tt儀她乾_之橫剖面圖。 β Α π -^ 貝 V 圖9顯示在基板處理系統;輪錢歧管。 圖係顯示本發明—㈣實施例 元件符號說明 10〜基板 次钿作之流裎圖 12〜固定邊緣輪 14〜穩定邊緣輪 16〜箭頭 18〜箭頭 102〜邊緣輪 102 a〜邊緣輪側壁 104〜邊緣輪凹槽 106〜受捕集流體 108〜體微點 12 0〜邊緣輪乾燥歧管 122〜歧管主體 124〜連接端 126〜鄰近端 128a〜上真空孔口 128b〜中真空孔口 128c〜下真空孔口 130〜安裝孔 132〜孔口鑽孔插銷 129〜真空鑽孔 146〜空隙 134〜裝配 200539237 136〜連接器 140〜穩定臂 142、148〜方向箭頭 144〜轴 150〜系統 152a、152b〜鄰近頭部 200〜流程圖

Claims (1)

  1. 200539237 十、申請專利範圍： L 一種設備，包含·· 一邊緣輪’具有由該邊緣輪之側壁所形成的一凹槽；以及； —一^空歧管，具有一鄰近端，該真空歧管之該鄰近端係能夠 疋位在该邊緣輪之該凹槽鄰近處，以便能夠從該邊緣輪處移除掉 流體。 2二如申請專利範圍第1項的設備，更包含一真空孔口，該真空孔口 係形成於該設備之該鄰近端内，且將其定位在該邊緣輪的該凹槽 鄰近處。 3.如申請專利範圍第1項的設備，更包含複數之真空孔口，該複數 之真空孔口係形成於該設備之該鄰近端内，且將其定位在該邊緣書 輪的該凹槽鄰近處。 4·如申請專利範圍第1項的設備，更包含一真空供應器，該真空供 應器提供真空狀態，以便從該邊緣輪處移除掉流體。 5·如申請專利範圍第1項的設備，其中，該鄰近端能夠定位成部份 位於該邊緣輪之該凹槽内，以便從該邊緣輪處移除掉流體。 6·如申請專利範圍第1項的設備，其中，一基板之周緣部受容納於 該邊緣輪之該凹槽内。 7·如申請專利範圍第6項的設備，其中，該邊緣輪係用來以一期望 速度進行轉動，且該邊緣輪之轉動傳遞至該基板之該周緣部。 籲 8·—種設備，包含： 一邊緣輪，其具有由該邊緣輪之側壁所形成的一凹槽；以及， 一歧管，其具有一鄰近端，該歧管之該鄰近端係能夠定位在 該邊緣輪之該凹槽鄰近處，而實現與該邊緣輪的流體流通。 9·如申請專利範圍第8項的設備，其中，該流體流通係藉著形成於 該歧管内之一孔口來促成。 10·如申請專利範圍第8項的設備，其中，該流體流通係藉著形成 於該歧管内之複數之孔口來促成。 11·如申請專利範圍第9項的設備，其中，該孔口是一真空孔口。 18 200539237 12·如申請專利範圍第8頊的設備，其中，流體流通包含有移除掉 流體與導入流體其中一者。 13·如申請專利範圍第8項的設備，其中，該鄰近端係定位成至少 部份位於該邊緣輪凹槽内。 14.如申請專利範圍第8項的設備，其中，該邊緣輪能夠容納一基 板之一邊緣。 15·—種用來固定一基板邊緣之方法，其包含步驟有： 藉著具有一凹槽之至少一輪來容納該基板邊緣；以及， 在固定該基板邊緣時，從該至少一輪之該凹槽處將流體抽真 空。 ’、 16·如申請專利範圍第15項之用來固定一基板邊緣之方法，更 如下步驟： 將一邊緣輪乾燥歧管定位在具有該凹槽之該至少一輪鄰近 處， ^為該邊緣輪乾燥歧管提供抽真空，該抽真空係提供來在固定 該基板邊緣時，從該至少一輪之該凹槽處將流體抽真空；以及， ’該輪之轉動會將轉動傳遞至基板，其中該邊緣輪 包讀—鄰近端’該邊緣輪乾燥歧管之該鄰近端係定位 在具有该凹槽之該至少一輪鄰近處。 疋位 範圍第16項的用來固定—基板邊緣之方法，复中， 包含有在轉近端崎軸之—真空孔口、。 Π
    ，邊緣輪油歧魏含有在_近_所形成之複數之真空孔中 :鄰如近申==6_:=編緣之方法，其中， 在該鄰近端與該至少 19 200539237 0.015英对。 十一、圖式：
    20
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