TW200302756A - Methods of applying a coating to an optical surface - Google Patents

Description

200302756 玖、，發明說明 發明所屬之技術領域 本發明涉及一種向光學表面塗佈塗層的方法。本發明 尤其涉及一種向光學器件的光學表面塗佈塗層的方法，其 中該光學表面可以是凹面或凸面，該光學器件可以是光學 透鏡或用於製造光學透鏡的模具。 先前技術 隨著時間的流逝，塑膠透鏡已經十分理想的用於製造 光學透鏡尤其是用於眼鏡類型的光學透鏡。枏比較玻璃透 鏡而言，塑膠透鏡具有幾項優點，包括重量輕、強度高以 及容易製造。爲了形成塑膠透鏡，使用在透鏡製造領域通 常稱爲前模和後模的兩個模具。每個模具具有一個朝向內 側的表面，該表面也稱之爲光學表面。當這兩個模具按照 彼此之間理想的距離和旋轉取向適當地設置時，他們面朝 內側的表面是所要形成的透鏡表面的負像。使用閉合部件 來對該腔進行必要的密封。然後流體狀的形成透鏡的混合 物（通常是流體狀單體）放入並包容在這兩個模具和閉合 部件所限定的腔內。當流體狀的形成透鏡的混合物處於該 腔內之後，它固化而形成具有模具形狀的硬化聚合物透 鏡。透鏡的表面是該透鏡的光學表面。 通常，用於眼部佩帶的塑膠透鏡由經自由基聚合反應 而聚合的二甘醇雙（烯丙基碳酸酯）（“DAC”）製成。DAC 透鏡具有較高的耐衝擊性、重量輕、易於製造和抛光、易 200302756 於染色。但是DAC透鏡不具有理想的耐磨性。 也可以通過模制熱塑性樹脂來製造塑膠透鏡，這種樹 脂例如聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA)和聚碳酸酯。但是這兩 種類型的透鏡具有一些固有的缺陷：PMMA透鏡具有不好的 耐衝擊性，而聚碳酸酯透鏡不具有足夠的耐磨性和耐溶劑 性。 該領域提出的改善塑膠透鏡耐磨性的一種方法包括： 在透鏡表面通過熱固化或紫外輻射固化塗佈硬塗層。 除了改善塑膠透鏡的耐磨性之外，塗層還能用來改善 塑膠透鏡的其他性能，例如作爲日光的保護屏。 目前，在該領域有幾種給光學透鏡塗佈塗層的方法。 一種是在澆鑄過程中給光學透鏡塗佈塗層。在這種情況 下，如圖1所示，透鏡澆鑄模具F (前模）和B (後模）以及 墊圈G—同形成透鏡澆鑄裝置A。通過浸塗、噴塗或旋塗， 可以首先將塗佈液C分別塗佈在模具F和B朝內的表面或光 學表面上。模具F和B位於墊圈G內，從而在模具F和B之間形 成模腔MC，向該腔內引入例如形成透鏡的單體的透鏡形成 溶液。當透鏡形成溶液固化而形成光學透鏡（未顯示）時， 塗佈液與透鏡形成溶液一同固化，並從模具F和B上轉移至 光學透鏡的光學表面上，從而在其中形成塗層。 或者，在透鏡澆鑄過程之後，通過將光學透鏡直接浸 入到塗佈液中、向光學透鏡的表面噴塗塗佈液、或者旋塗 光學透鏡的表面，而將塗層塗佈到光學透鏡的表面上。 但是這些塗佈方法通常費時而且具有實踐上的限制， 200302756 因爲每一種方法都是難以控制的和容易浪費的，因此成本 昂貴。另外，在塗佈過程中，灰塵會引入到塗佈液中或者 透鏡形成溶液中，從而在形成的透鏡中導致光學缺陷。另 外，各種傳統的塗佈方法都有其自身的特殊限制，例如在 旋塗的情況下，難以向光學透鏡的凸面塗佈塗層。 另外，在這些塗佈方法中難以控制塗層的均勻度，尤 其是當需要塗層是厚的和/或光學表面具有大的曲率的時 侯。通常如圖14 A所不，通過這些塗佈方法在光學表面上分 配的塗佈液C按照塗佈液滴形成塗層，它具有粗糙的表面， 並且在各滴之間具有多個孔。該領域稱之爲“橘皮”效 應，這長期困擾著該領域，沒有令人滿意的溶液。 因此，在該領域需要新的塗佈方法和裝置，它可以爲 光學表面（凹面或凸面）提供輪廓分明的塗層，同時就成 本而言是有效的。 發明內容 本發明克服了現有技術的缺點並革新了光學塗佈方 法。在一個方面，本發明涉及一種給光學器件的光學表面 塗佈塗層的方法。在一個實施方案中，該方法包括如下步 驟：模板（clicheplate)的模（cliche)上放置塗佈液， 將塗佈液從模上轉移到轉移墊的可變形體上，將轉移墊壓 在光學表面上，從而將塗佈液從轉移墊的可變形體上轉移 至光學表面。該方法還包括在微波波長對與光學表面結合 的塗佈液進行輻射，從而在光學表面上形成塗層。該塗層 200302756 還可以固化以在適當的光學表面上形成所需的塗層。光學 器件可以是具有至少一個光學表面的光學透鏡，或者可以 是用於製造光學透鏡的模具。換句話說，本發明可以將塗 料直接塗佈在光學透鏡的光學表面上。或者，塗料可以首 先塗佈在至少一個模具的光學表面上，然後在澆鑄的過程 中轉移到光學透鏡的光學表面上。 另外，設置含有塗佈液的記憶體，並且可以用來自記 憶體的塗佈液塡充模板的模。在一個實施方案中，儲存器 具有帶第一端和第二端、以及一個外表面和縱向軸的、並 限定一個軸向延伸的孔道的主體，在第一端封閉該延伸的 孔道的蓋子，以及在第二端圍繞著該延伸的孔道的刮片。 將記憶體設置成其第二端對著具有模的模板表面而使得模 板與刮片一同作用以在第二端封閉該延伸的孔道，並且將 模板相對於記憶體沿著基本垂直於縱向軸的方向移動而使 得刮片刮過模而將塗佈液留在模中，從而可以用來自記憶 體的塗佈液塡充模板的模。記憶體也可以具有穿過蓋子並 與孔道以及塗佈液的供給源流體相通的入口，從而可以將 塗佈液從塗佈液的供給源通過入口引入到記憶體的孔道 中。 在本發明的一個實施方案中，將轉移墊放置在第一位 置中，將模板放置在第二位置上，其中第一位置和第二位 置沿著第一操作軸相對準，使得轉移墊和模板相對移動而 使得轉移墊接觸模中的塗佈液，將轉移墊壓在模板上而使 得一些塗佈液從模上轉移而在轉移墊上形成塗佈液層，將 200302756 轉移墊和模板相對移動而彼此分開，使得轉移墊基本返回 至或停留在第一位置而模板基本返回至或停留在第二位 置，將模板從第二位置縮回至縮回位置，其中第二位置和 縮回位置沿著第二操作軸相對準，且第一操作軸和第二操 作軸基本彼此垂直，從而可以將塗佈液從模轉移到轉移墊 中。然後，在縮回位置中，塗佈液可以類似的放在模板的 模中，在模中帶有塗佈液的模板可以再一次的放置在第二 位置中，等待將塗佈液轉移到轉移墊中。 另外，在本發明的一個實施方案中，將轉移墊放置在 第一位置中，將光學器件放置在第二位置上，其中第一位 置和第二位置沿著第一操作軸相對準，使得轉移墊和光學 器件相對移動而使得轉移墊接觸光學器件的光學表面，將 轉移墊壓在光學器件上而使得一些塗佈液從轉移墊上轉移 而在光學器件的光學表面上形成塗佈液層，從而將塗佈液 從轉移墊上轉移至光學表面。可以將轉移墊和光學器件相 對移動而彼此分開，使得轉移墊基本返回至或停留在第一 位置。光學器件可以基本移向第三位置以進行進一步的輻 射處理。 在本發明的一個實施方案中，如果光學器件是光學透 鏡，還可以通過在微波波長範圍之外的輻射固化該塗層而 在光學表面上形成塗層。輻射源可以包括紅外光、紫外光 或它們的任何結合。本發明的一個令人驚訝的發現是在固 化之前對塗佈液進行微波輻射，可以在光學表面上産生更 光滑的塗層，並且消除了塗層的橘皮效應。 200302756 如果光學器件是前模或後模之一，其中前模具有朝向 內側的表面，後模具有朝向內側的表面，則塗佈液可以從 轉移墊轉移至每個朝向內側的表面上，分別在每一個朝向 內側的表面上形成塗層。然後可以利用微波波長的輻射來 照射每個塗層。其朝向內側的表面爲所要形成的光學透鏡 表面的負像的前模和後模彼此按照適當的距離和旋轉取向 來設置。然後，用例如墊圈、套筒或包裹材料的封閉部件 將前模和後模的邊緣封閉起來，以限定一個模腔。然後可 以向模腔內引入流體狀的透鏡形成材料。通過輻射來固化 流體狀的透鏡形成材料，從而流體狀的透鏡形成材料可以 硬化，以形成光學透鏡，在前模和後模的內側表面上的每 個塗層轉移並硬化而粘接在光學透鏡的對應表面上。固化 過程的輻射源可以包括紅外光、紫外光或其任何的結合。 在本發明的另一個實施方案中，可以在轉移墊壓在光 學表面上之前在光學表面上放置一個屏。可以向屏上塗佈 一些塗佈液。然後將轉移墊壓在屏上，從而將塗佈液從轉 移墊上轉移到屏和光學表面上。屏具有限定一個開口的 框、以及覆蓋該開口的膜，其中至少部分膜具有多個孔。 在一個實施方案中，該模包括部分塗佈的纖維，它使得塗 佈液可以按照所控制的速度通過。當轉移墊壓在屏上時， 該膜與光學表面彎曲配合，並使得塗佈溶液從轉移墊通過 該多個孔到達光學表面，這樣使得塗層具有均勻的厚度。 在另一個方面，本發明涉及一種給具有第一光學表面 和第二光學表面的光學器件塗佈塗層的方法。在一個實施 11 200302756 方案中，該方法包括如下：將塗佈液轉移到第一轉移墊 和第二轉移墊，將第一轉移墊壓在第一光學表面上，將第 二轉移墊壓在第二光學表面上，從而將塗佈液分別從第一 轉移墊和第二轉移墊轉移至第一表面和第二表面。塗佈液 可以放置在第一和第二模板的模中，塗佈液可以從第一模 板的模中轉移到第一轉移墊上，從第二模板的模中轉移到 第二轉移墊中。 在另一個方面，本發明涉及一種給光學透鏡的光學表 面塗佈塗層的方法。在一値實施方案中，該方法包括如下 步驟：將塗佈液放置在模板的模中，將塗佈液從該模中轉 移到轉移墊上，將轉移墊壓在光學表面上，從而將塗佈液 從轉移墊轉移到光學表面上，對於光學表面相結合的塗佈 液利用微波波長進行輻射，從而在光學表面上形成塗層， 利用微波範圍之外的波長進行輻射而固化該光學塗層，從 而在光學表面上形成塗層。 在另一個方面，本發明涉及一種給光學透鏡的至少一 個光學表面塗佈塗層的方法。在一個實施方案中，該方法 包括如下步驟：將塗佈液放在模板的模中，將塗佈液從模 上轉移到轉移墊上，提供分別具有朝向內側的表面的前模 和後模，將轉移墊壓在前模和後模的每個朝向內側的表面 上，從而將塗佈液分別從轉移墊轉移至每個朝向內側的表 面上，在微波波長對與每個朝向內側的表面相結合的塗佈 液進行輻射，從而在每個朝向內側的表面上形成塗層，將 其朝向內側的表面是所要形成的光學透鏡表面的負像的前 200302756 模和後模彼此按照適當的距離和旋轉取向來定位，前模和 後模均具有邊緣，利用封閉部件來封閉該前模或後模的邊 緣，以限定一個模腔，將流體狀的透鏡形成材料注入到模 腔內，利用微波波長範圍之外的輻射來固化該流體狀透鏡 形成材料，從而硬化流體狀的透鏡形成材料，以形成光學 透鏡，在前模和後模的內側表面上的每個塗層轉移並硬化 而粘接在光學透鏡的對應表面上。 在另一個方面，本發明涉及一種給至少一個光學表面 塗佈塗料而形成塗層的方法。在一個實施方案中，該方法 包括以下步驟：將塗佈液轉移到光學表面上，在微波波長 輻射該塗佈液，從而在光學表面上形成塗層。該方法還包 括：通過在微波波長範圍之外的輻射固化該塗層，而在光 學表面上形成塗層，其中從微波輻射源産生微波輻射，利 用紫外光和紅外光中的至少一種産生微波波長範圍之外的 輻射。 在另一個方面，本發明涉及一種在至少一個光學表面 上塗佈塗層而形成塗層的設備。在一個實施方案中，該設 備包括：將塗佈液轉移到光學表面上的轉移裝置，在微波 波長進行輻射的輻射裝置，從而在光學表面上形成塗層。 該設備還包括用於利用在微波波長範圍之外的輻射固化塗 層而在光學表面上形成塗層的固化裝置。在一個實施方案 中，輻射裝置可以包括微波能源例如微波爐，固化裝置可 以包括紫外光和紅外光中的至少一種。 在另一個方面，本發明涉及一種給至少一個光學表面 200302756 塗佈塗料而形成塗層的方法。在一個實施方案中，該方法 包括如下步驟：將屏放置在光學表面上，向屏塗佈一些塗 佈液，將一些塗佈液轉移到轉移墊上，將轉移墊壓在屏上， 從而將塗佈液從轉移墊轉移到屏上以及光學表面上，輻射 塗佈液從而在光學表面上形成塗層。 從以下結合附圖對各種實施方案所做的描述中可以瞭 解本發明的這些和其他方面，但是在不脫離本發明的精神 和範圍的情況下可以作出各種變化和改進。 實施方式 在以下的實施例中更詳細的描述本發明，這些實施例 僅僅是用於進行示例，因爲對於本領域熟練技術人員來說 可以淸楚多種改進和變化。在說明書和申請專利範圍第項 書中，“一種”表示一個或多個，這取決於它所使用的內 容。以下參考附圖描述幾個實施方案，其中在全部的圖中 相同的標記表示相同的部件。小標題（如果有的話）是用 於幫助讀者理解各個實施方案的，不是對本發明範圍的限 制。 參考圖2 - 14,本發明包括向光學表面塗佈塗層的方 法。該光學表面與光學透鏡、或者用於澆鑄或製造光學透 鏡的光學模具有關。 本發明的設備 本發明的設備可以用於向具有各種表面幾何形狀的光 學表面塗佈塗層。首先參考圖2 - 5,本發明涉及用於向光 14 200302756 學表面塗佈塗層的設備200。在一個實施方案中，該設備200 包括轉移墊10。轉移墊10具有基部12和與基部12連接的主 體14。主體14可以具有底部16、頂部18、和與底部16及頂 部18連接的表面20。從橫截面看，主體14的表面20可以是 任何幾何形狀，例如環形、卵形、橢圓形、矩形、正方形、 多角形等。主體14的表面20也可以是不規則的。 在一個實施方案中，如圖3A和3B所示，表面20具有環 形截面，並從頂部18至底部16形成連續輪廓。主體14可以 由例如橡膠等的可變形材料形成。換句話說，當壓在另一 個物體上時，主體14是可變形的。主體14具有的表面張力 能使得它能夠在接觸時提取塗佈液層。從圖3B中可以看得 最淸楚，基部12的尺寸可以由半徑rb表示，主體14的尺寸 可以由半徑r表示，它更具體的說是測量了主體14在底部16 上伸出到基部12上的尺寸。半徑r通常比半徑rb小，這表示 基部的尺寸通常比主體的底部的尺寸大，因此主體能夠由 基部完全支撐。但是，這不是必要的條件。換句話說，半 徑r可以基本等於或大於半徑rb。 可變形的主體的表面可以是如圖3A所示的表面20的無 縫輪廓。或者，可變形主體的表面可以是其他的形式。例 如圖3C和3D所示，可變形主體314具有上部321和下部323。 下部323通常是由底部316和上端317限定的圓柱狀的或截 頭圓錐狀的，其中從截面看下部323是圓形的，下部323的 半徑尺寸通常從上端317至底都316逐漸增加。從圖3D中可 以看得更淸楚，底部316的尺寸由半徑rl表示，上端317的 15 200302756 尺寸由半徑r2表示，其中半徑rl通常比r2大。或者，下部 323可以是圓柱狀的，其中半徑rl基本等於r2。 上部321和下部323在下部323的上端317處合倂在一 起。上部321具有彎曲的表面325,它可以由其曲率來表徵。 一般來說，表面的曲率越大，表面的彎曲程度越高。可以 將彎曲表面325的曲率選擇爲非零値。在極端的情況下，彎 曲表面325的曲率可以爲0，也就是彎曲表面325可以是平 的。在本發明的實踐中，彎曲表面325的曲率可以由用戶根 據需要來選擇。例如，如果要塗佈的光學表面是凹面，則 可以選擇具有更“平”的表面的可變形體，也就是具有小 曲率，從而該可變形體可以與該光學表面之間有良好的接 觸。另一方面，如果要塗佈的光學表面是凸面，可以選擇 具有更“彎曲”的表面的可變形體，也就是具有較大的曲 率，從而使該可變形體可以與凸的光學表面有更好的接 觸。但是由於該可變形體是可變形的，因此可以採用具有 給定曲率的可變形體，以和具有任何表面幾何形狀的光學 表面形成接觸。 參考圖3C和3D，主體314由基部312支撐。在所示的實 施方案中，基部312具有半徑爲rb的盤。半徑rb可以小於、 等於或大於表示底部316的尺寸的半徑rl。在圖3C和3D所示 的實施方案中，半徑rb大於半徑rl。因此基部312具有在底 部3 16處圍繞著下部323的邊緣部分327。可以利用邊緣部分 327來操作轉移墊310。邊緣部分327是可有可無的。盤的厚 度可以根據用戶的需要來選擇。 16 200302756 可變形體可以用膠、熱合等方法連接至基部。轉移墊 的基部可以具有另外的特徵。例如對於圖3A和3B所示的實 施方案來說，基部12具有第一側邊緣13和相對的第二側邊 緣15。第一側邊緣13和第二側邊緣15分開設置，但是彼此 基本平行。設置第一側邊緣13和第二側邊緣15,從而轉移 墊10可以利用一些機械設備來操作。例如通過在第一側邊 緣13和第二側邊緣15處與轉移墊10咬合，可以使用夾具（未 顯示）來保持和/或傳送轉移墊10。因爲第一側邊緣13和 第二側邊緣15是基本平的，因此它們可以提供比環狀盤能 夠提供的區域更大和更方便的區域來使得夾具咬合轉移墊 10。另外，可以除去在可變形體14處對應的部分，從而可 以形成更大的側邊緣（未顯示）。 參考圖3，可以將任選的轉移墊支架24與轉移墊10的基 部12耦合，用於操作轉移墊10。例如，轉移墊支架24和基 部12可以通過螺母螺栓親合機構結合在一起。在一個實施 方案中，基部12具有帶螺紋的螺母部分，轉移墊支架24可 以具有帶螺紋的螺拴部分，它與基部的帶螺紋的螺母部分 相匹配，以將它們結合在一起。也可以採用其他的耦合機 構。例如轉移墊支架24和基部12可以模制爲一個整個工 件。轉移墊10的基部12和轉移墊支架24由硬度比轉移墊10 的可變形體14高的相同或不同的材料製成。可以用於製造 轉移墊10的基部12和轉移墊支架24的材料分別包括但不限 於，金屬、合金、陶瓷材料、塑膠材料、玻璃等。 另外’轉移墊圓筒26可以與轉移墊支架24機械耦合。 200302756 轉移墊圓筒26可通過轉移墊支架24來設置轉移墊1〇。轉移 墊圓筒2 6可以與控制和定位部件或與如圖7所示的塗佈工 段相關的其他處理部件相連接。 參考圖2和3，設備200也包括模板30。模具30具有第一 表面32和相對的第二表面34,至少一個位於模板的第一表 面32上的模36，以容納塗佈溶液40。通常，模板30由硬度 比轉移墊10的可變形體14高的材料製成。模板30的材料可 以是金屬、合金、陶瓷材料、塑膠材料、玻璃等。在圖2 所示的一個實施方案中，模板30由金屬製成。 模36是在模板30第一表面32上的凹坑，其尺寸用於容 納塗佈溶液40，該塗佈溶液可以轉移至轉移墊1〇，如下所 述。模36可以具有環形邊緣38，如圖2所示，或者可以其他 的形狀，包括卵形、橢圓形、矩形、正方形、多角形邊緣 等（未顯示）。儘管不是必須的，但是爲了方便起見，模36 可以構成爲與轉移墊10相配合，或者相反。例如，如圖2 和3B所示，轉移墊10的表面具有環形截面區域22,模36被 構成爲具有相應的環形邊緣38。但是具有環形截面區域22 ^ 的轉移墊10可以與具有例如卵形、橢圓形、矩形、正方形、 多角形邊緣等任何其他幾何形狀的模一同工作，因爲轉移 墊10的主體14是可變形的。類似的，具有環形邊緣38的模 36可以與具有帶例如卵形、橢圓形、矩形、正方形、多角 形邊緣等任何其他幾何形狀的表面的轉移墊10—起工作。 另外，模36應當不會過深以具有多餘的塗佈溶液，也不會 過淺而不能容納足夠的塗佈溶液。通常，模36是深度爲5 18 200302756 -100微米的凹坑。對於圖2所示的實施方案，模36是深度 大致爲15 — 20微米的凹坑。另外，模36可以相對於尺寸常 數d。而言具有不同的尺寸。尺寸常數d。是在1—50cm範圍 內。對於圖2所示的實施方案，當模36具有環形邊緣38時， d。是環形邊緣的直徑，範圍在5— 15cm內。另外，模板30 可以具有多個模，它們可以是相同或不同的（未顯示）。另 外，模板30可以在第二表面34上具有至少一個或多個相同 或不同的模（未顯示）。 # 塡充模板30的模36的塗佈液可以來自含有塗佈液的記 憶體。在從圖2和3中可以看得最淸楚的一個實施方案中， 記憶體50具有帶第一端54和第二端56、外表面58和縱向軸 LR的主體52。記憶體50限定了軸向延伸的孔道60。蓋子62 在第一端54封閉該延伸孔道60，刮片64在第二端56處位於 延伸孔道60的周圍。刮片64具有刮刀邊緣66，它的尺寸爲 當記憶體50位於模36上時環繞著模36，從而將孔道60與周 圍的空氣相分開。在使用中，當記憶體50的設置使得其第 二端56壓在模板30的第一表面32上時，模板30與刮片64共 ® 同操作而在第二端56封閉延伸孔道60，從而將塗佈溶液40 容納在其中.。在第二端56處在主體52的外表面58外側裝配 一個墊圈68。墊圈68可以保護包括刮刀邊緣66在內的刮片 64，並可以進一步密封孔道60。 或者，記憶體50可以具有穿過蓋子62的入口 70。入口 70與孔道60和塗佈液40的供應源（未顯示）流體相通。塗 佈液40可以從塗佈液供應源通過入口 70提供給記憶體50的 19 200302756 孔道60。 另外，模（indexing cylinder)導引圓柱80與模板30 連接。模導引圓柱80可以用於移動、控制和定位模板30。 模導引圓柱80可以與控制和定位部件或與如圖7所示的塗 佈工段相關的其他處理部件相連接。 在從圖2和3中可以看得最淸楚的一個實施方案中，模 板30可以相對於記憶體50沿著基本垂直於記憶體50的縱軸 U的軸Lc所示的方向移動，從而刮片66經過模36而在模36 中留下一些塗佈液40,該溶液可以被轉移墊10的可變形體 14在接觸時提取。 塗佈液塗佈在例如光學透鏡或可以用來澆鑄光學透鏡 的光學模具的光學器件的光學表面上。如圖2所示，帶有光 學表面92的光學器件90由透鏡（indexing)導引板94定位 並支撐，從而光學表面92背對著透鏡導引板94,並可以與 轉移墊10接觸。透鏡板導引圓柱96與透鏡導引板94相連 接。透鏡板導引圓柱96可以用於移動、控制和定位透鏡導 引板94，從而移動、控制和定位光學器件90。 任選地，透鏡導引板可以具有容納光學器件的凹槽。 例如，如圖4所示，透鏡導引板494可以具有凹槽498，它是 環形的，並具有平的底部，以接受帶有凹光學表面492的光 學器件490。光學器件490容納在凹槽498內，從而凹的光學 表面492背對著透鏡導引板494,並可以利用轉移墊410的可 變形體414與其相接觸。或者，如圖5所示，透鏡導引板594 可以具有環形的凹槽598,並具有凸起的底部，以接受具有 200302756 凸光學表面592的光學器件590。光學器件590容納在凹槽 598內，從而該凸的光學表面592背對著透鏡導引板594,並 可以利用轉移墊510的可變形體514與其相接觸。需要注 意，如果光學器件具有凸的光學表面以及基本平的背表 面，該光學器件也可以由透鏡導引板494支撐。另外，透鏡 導引板可以具有幾個凹槽，每一個可以容納一個光學器 件。凹槽可以相同或不同。 參考圖2，設備200可以包括用於向光學表面92上輻射 能量束的能源99，以對塗佈液進行處理，從而在光學表面 92上形成塗層。能源99可以包括例如微波爐的微波能源、 紅外（IR)光、紫外光（UV)、其他類型的能源，或者他們 任意的結合。如以下詳細討論的，本發明的一個方面是在 向光學表面塗佈了塗佈液之後，對帶有塗佈液的光學表面 首先用來自微波能源的輻射進行照射，然後用紫外光、紅 外光或它們的結合進行固化。該過程提供了具有令人驚訝 的高質量的塗層。該微波輻射可以由微波爐來提供。 設備200可以放在空氣過濾系統中，以形成一體化的塗 佈工段或系統。如圖7所示，一體化的設備700包括可以處 理光學器件790的塗佈工段703。設備700還包括轉移墊 710、模板730、記憶體750、帶有透鏡板導引圓柱796的透 鏡導引板794、以及能源799。他們中的每一個如上所述， 並放置在空氣過濾系統701內，該空氣過濾系統701包括適 當密封的櫃體，該櫃體可以控制爲處於比周圍的氣壓略爲 高的氣壓下，從而排斥灰麈和髒物。可以利用電腦（未顯 21 200302756 示）來控制和協調塗佈設備200、700等的操作。 本發明塗佈塗層的方法 參考圖2 - 11，描述本發明的向光學器件的光學表面塗 佈塗層的方法。 在操作中，如圖2、3和6A—6F所示的實施方案，將塗 佈液40放在模板30的模36中。爲了這樣做，設置含有塗佈 液40的記憶體50，並將其定位成其第二端56壓在模板30的 第一表面32上，模板30與刮片64—同操作而在第二端56處 封閉延伸孔道60。模板30相對於記憶體50沿著與記憶體50 的縱向軸“基本垂直的方向Lc移動，從而刮片66刮過模 36，在模36中留下了一些塗佈液40。參考圖11，可以按照 至少兩種方式來完成這種相對移動。第一種選擇是保持模 板1130靜止，而相對移動記憶體1150，以用塗佈液來塡充 模。或者，第二種選擇是保持記憶體1150靜止，而相對移 動模板1130，而用塗佈液塡充模。他們中的每一種都可以 令人滿意地用來實踐本發明。在以下的描述中，爲了明確 起見，採用第二種選擇。在該實施方案中，模板30從縮回 位置或第一位置（在記憶體50下的位置）移動至工作位置 或第二位置，該位置是轉移墊10下的位置。模板30的移動 可以由模導引圓柱80控制。現在，模板30在其模36內具有 一些塗佈液40。 現在參考圖6A-6F，在其模36內具有塗佈液的模板30 設置在轉移墊10下，並與轉移墊10沿著軸LR對準後，其中 轉移墊10最初在第二位置之上的原位置或第一位置，使轉 22 200302756 移墊10和模板30—起做第一相對運動，從而轉移墊10與模 36中的塗佈溶液相接觸。在從圖6A中可以看得最淸楚的實 施方案中，轉移墊10從其原位置向下移動進入第二位置而 與模板30相接觸。轉移墊10壓在模板30的模36上，從而可 變形體14變形，一些塗佈液從模36轉移而在可變形體14的 表面20上形成塗佈液層17，如圖6B和6C所示。然後轉移墊 10和模板30做第二相對運動而彼此分開，從而轉移墊10基 本返回至其原位置，模板30基本返回至或停留在第二位 置。在從圖6C可以看得最淸楚的實施方案中，轉移墊10沿 著軸U向上移動至其原位置，並且模板30從第二位置沿著 軸Lc縮回至其縮回位置，該位置在記憶體50下。就幾何學 而言，第二位置和模板30的縮回位置沿著軸Lc相對準，第 二位置和轉移墊10的原位置沿著軸U相對準，軸Lc和軸LR 彼此基本垂直。然後，可以在縮回位置中在模板30的模36 中類似地放入塗佈液，其模36中具有塗佈液的模板30可以 再次位於第二位置中，準備將塗佈液再次轉移至轉移墊。 參考圖6D，帶有光學器件90的透鏡導引板94從其原位 置沿著軸Lo移動到轉移墊10下面的第二位置中，該位置原 來由模板30佔據，並與轉移墊10沿著軸LR相對準。如圖6E 所示，轉移墊10和透鏡導引板94 一起相對移動，從而轉移 墊10與光學器件90相接觸，從而將塗佈液層17轉移至光學 表面92。在從圖6E中可以看得最清楚的實施方案中，轉移 墊10從其原位置向下移動進入第二位置，而與光學表面92 相接觸。轉移墊10壓在光學表面92上，從而可變形體14發 23 200302756 生變形，至少部分塗佈液層17從可變形體14轉移，而在光 學器件90的光學表面92上形成塗佈液層19。然後轉移墊10 和透鏡導引板94 (以及因此還有光學器件90)成相對運動 而彼此分開，從而轉移墊10基本返回至它的原位置。透鏡 導引板94移至第三位置，用於通過輻射能源99而進行固 化，如圖6F所示。 要指出的是，上述關於圖6A-6F的描述僅是根據本發明 塗佈光學表面的一種方法。可以有更多的選擇。例如，模 板30和透鏡導引板94可以保持靜止，而使轉移墊10移動， 以首先從模板30得到塗佈液，然後將塗佈液轉移到位於透 鏡導引板94上的光學器件90上。模板30和透鏡導引板94可 以單獨或共同地保持靜止。另外，這些移動可以手動或自 動進行控制。 另外，如圖12A-B和13A-B所示，在轉移墊10壓在光學 表面92上之前，可以在光學器件90的光學表面92上放置一 個屏1281。在一個實施方案中，屏1281具有限定開口 1285 的框1283。該開口由膜1287覆蓋。在一個實施方案中，膜 1287是塗佈的纖維，它具有除去了塗料的區域1289。區域 1289具有多個孔1291或孔矩陣，以使得塗佈液按照控制的 速率穿過。孔1291矩陣使得塗佈液濾出。當轉移墊10壓在 屏1281上時，纖維膜1287彎曲，以在可變形體14的壓力下 與光學表面92配合，而使得塗佈液從轉移墊10至屏1281， 而穿過區域1289達到光學表面92，這樣使得塗層19具有更 好的均勻度，如圖14B所示。 24 200302756 在塗佈液層19塗佈到光學表面92之後，利用適當的輻 射再次處理與光學表面92相結合的塗佈液，從而在光學表 面92上形成塗層。輻射處理包括固化。該領域的熟練技術 人員可以理解，可以按照多種方法進行固化。例如本發明 的固化方法涉及利用紫外光（UV)對塗佈液曝光所需的時 間。或者，在塗佈液用紫外光曝光之後，然後將該塗佈液 例如在紅外爐（IR)內加熱預定的時間。如果在紫外步驟 中沒有充分的固化，IR加熱步驟可以進一步固化塗佈液， 以在光學表面上形成硬化的塗層。 本發明的獨特方面在於，在塗佈液塗佈在光學表面上 之後和在紫外或IR或兩種固化步驟之前，首先用微波輻射 帶有塗佈液層19的光學表面92。該微波輻射加熱塗佈液和 相關的光學表面，硬化塗佈液，並在光學表面上提供了令 人驚訝的高質量塗層，與現有已知的紫外或IR或這兩種固 化方法而不首先使用微波輻射相比，它更平滑、更細、更 均勻。如圖14B示意性的顯示，對塗層19在固化之前進行微 波波長的輻射處理，將産生帶有平滑的表面1419的塗層 19，該平面消除了橘皮效應，如圖14A所示。儘管我們不希 望束縛於任何操作理論，但是要指出，一種可能的機理可 能是因爲塗佈液的分子運動受到微波輻射的激勵，而塡充 了塗佈液滴之間的孔。微波能量不足夠強而將塗層硬化， 如圖UV或IR輻射那樣迅速。可以由微波爐來提供微波輻 射。需要指出，利用微波輻射來照射帶有本發明提供的塗 佈液的光學表面，而不管塗佈液是如何塗佈在光學表面上。 25 200302756 因此，總而言之，在另一個方面，本發明提供一種向 光學透鏡的光學表面塗佈塗層的方法。在一個實施方案 中，該方法包括如下步驟：將塗佈液放在模板的模上，將 塗佈液從模轉移至轉移墊，將轉移墊壓在光學表面上，從 而將塗佈液從轉移墊轉移至光學表面，在微波波長照射與 光學表面結合的塗佈液，從而在光學表面上形成塗層，並 利用微波波長範圍之外的波長例如紫外或IR輻射固化塗 層，以在光學表面上形成塗層。 在另一個方面，本發明提供一種向模具的至少一個光 學表面塗佈塗層的方法。在一個實施方案（未顯示）中， 該方法包括：將塗佈液放在模板的模中，從模上將塗佈液 轉移至轉移墊，提供均具有朝向內側的表面的前模和後 模，將轉移墊壓在前模和後模的每個朝向內側的表面上， 從而將塗佈液從轉移墊上分別轉移至每個朝向內側的表面 上，如上所述在微波波長照射與每個朝向內側的表面結合 的塗佈液，從而在每個朝向內側的表面上形成塗層，將其 朝向內側的表面是所要形成的光學透鏡表面的負像的前模 和後模彼此按照適當的距離和旋轉取向，前模和後模都具 有邊緣，利用封閉元件封閉前模和後模的邊緣以限定一個 模腔，向模腔內注入流體狀的透鏡形成材料，利用微波波 長範圍之外的輻射固化流體狀透鏡形成材料，從而使得流 體狀透鏡形成材料硬化而形成光學透鏡，並且在前模和後 模的內側表面上的每一個塗層分別轉移並硬化而粘接在光 學透鏡的相應表面上。該封閉元件可以是墊圈、套筒或包 26 200302756 裹材料。 向光學表面塗佈塗佈液的整個過程可以是自動化的。 在圖8所示的一個實施方案中，多個透鏡導引板830沿著傳 送帶804移動，其中該傳送帶804由與旋轉台802相連的輥 806、808所驅動。多個透鏡導引板830中的每一個通過保持 部件842利用傳送帶804定位，並且所述透鏡導引板830在區 域1載有帶光學表面892的光學器件890。然後通過在區域2 將可變形體814壓在光學表面892上，可以將塗佈液從轉移 · 墊8 10的可變形體892轉移至光學表面892上。在區域3，首 先利用微波輻射帶有所塗佈的塗佈液的光學表面892,然後 用紫外和/或IR光固化。在區域4，將在光學表面892上具 有固化塗層的光學器件890卸載，進行進一步的處理。透鏡 導引板830可以相同或不同，他們中的每一個可以裝有相同 或不同的要進行塗佈的光學器件。 參考圖9和10，本發明可以用於向具有兩個光學表面 992、 993的光學器件990塗佈塗佈液。在一個實施方案中， 通過第一轉移墊910和第二轉移墊911提取塗佈液。該光學 ® 器件990設置在第一轉移墊910和第二轉移墊911之間。然後 第一轉移墊910壓在第一光學表面992上，第二轉移墊911 壓在第二光學表面993上，從而將塗佈液從第一轉移墊910 和第二轉移墊911分別轉移至第一光學表面992和第二光學 表面993上。如圖10所示，第一輻射能源999和第二輻射能 源997可以用於分別輻射第一光學表面992和第二光學表面 993。 第一輻射能源999和第二輻射能源997中的每一個可以 27 200302756 包括例如微波爐的微波能源，紅外光、紫外光、其他類型 的能源或它們的任何結合。 可以使用例如塗料油墨和溶膠-凝膠混合物的各種塗 佈液來實施本發明。尤其是用於耐劃傷的塗料油墨GB-155 和GB-1 58可以成功的用於實踐本發明。油墨GB — 155配方如 下： EBECRYL-40 ( UCB Radcure Inc. ) 56g

EBCRY1-6040 ( UCB Radcure Inc. ) 16g TMPTA-N ( UCB Radcure Inc. ) 8g

Irgacure 907 (Ciba Specialty Chem.) 1.Og 三苯基膦（Aldrich Chem·有限公司） 1.2g 二苯基[2, 4, 6-三甲基苯甲醯基]膦氧化 0· 32g 物(phosphineoxide ) ( Aldrich Chem. 有限公司）

Fluorad FC-430(3M Specialty Chem 0.8g DIR.)

利用 Canon-Fenske Capillary Viscometer來測量 GB-155的粘度，結果爲698cSt (厘史拖）。 28 200302756 以下是油墨GB-158的配方： EBECRYL-40 61g EBCRY1-6040 llg EBCRYL-3720-TP40 17g TMPTA-N llg

Irgacure 907 1 ·〇g 三苯基膦 1.2g 二苯基[2, 4, 6-三甲基苯甲醯基]膦氧化 0· 32g 物（phosphineoxide)

Fluorad FC-430 〇·8g 利用 Canon-Fenske Capillary Viscometer來測量 GB-158的粘度，結果爲409cSt (厘史拖）。 對於本發明作了 一些比較硏究，結果如下。 實施方案1 向模具塗佈塗料而不經過微波輻射 製備：本實施方案使用塗料油墨GB-155。使用如上所 述的用於向模具的至少一個光學表面塗佈塗層的方法。使 用帶有深度爲15微米的模的模板。在向模具的朝向內側的 表面塗佈了塗料油墨GB-155層之後，利用紫外輻射30秒而 半固化該塗層。 結果：該塗層具有良好的耐劃傷性，但是具有類似橘 皮的表面。 29 200302756 實施方案2 向模具塗佈塗層並用微波輻射 製備：方式基本與實施方案1相同，所不同的是，塗佈 塗佈液的模具首先放在微波爐內用全功率（700W)照射（即 加熱）1分中，然後用紫外輻射30秒進行固化。 結果：該塗層具有良好的耐劃傷性，並具有光滑的表 面。 實施方案3 用不同的模向模具塗佈塗層 製備：方式基本與實施方案2相同，所不同的是使用具 有深度爲20微米而不是15微米的模的模板。 結果：可能是由於塗層厚度增加的原因，塗層的耐劃 傷性獲得改善。 實施方案4 利用不同的塗料油墨向模具塗佈塗層 製備：方式基本與實施方案2相同，所不同的是使用塗 料油墨GB-158，它的粘度値比塗料油墨GB-155小。 結果：可能由於塗層厚度降低的原因，塗層的耐劃傷 性變弱。 30 200302756 實施方案5 不經微波輻射而向透鏡塗佈塗層 製備：在該實施方案中使用塗料油墨GB-155。使用如 上所述的向透鏡的光學表面塗佈塗層的方法。使用具有深 度爲15微米的模的模板。在向模具的朝向內側的表面上塗 佈塗料油墨GB-1 55，利用紫外輻射30秒對塗層進行半固化。 結果：該塗層具有良好的耐劃傷性，但是具有類似橘 皮的效果。 實施方案6 向透鏡塗佈塗層並用微波輻射 製備：方式基本與實施方案5相同，所不同的是將塗佈 有塗佈液的透鏡首先放在微波爐內用全功率（ 700W)照射 (即加熱）1分鐘，然後用紫外輻射30秒進行固化。 結果：該塗層具有良好的耐劃傷性，並具有光滑和更 均勻的表面。 儘管本發明已經參考了其某些實施方案的特定細節進 行了描述，但是不希望這些細節限制本發明如所附申請專 利範圍限定的範圍。 圖式簡單說明 圖1是現有技術的在澆鑄過程中向光學透鏡塗佈塗料 的塗佈過程截面圖； 圖2是根據本發明用於向光學表面塗佈塗料的設備的 31 200302756 透視圖； 圖3是圖2的用於向光學表面塗佈塗料的設備的部分截 面圖； 圖3 A示意性地表示根據本發明的一個實施方案可以用 於圖2的設備的轉移墊； 圖3B表示圖3A中的轉移墊的截面圖； 圖3C示意性地表示根據本發明的另一個實施方案可以 用於圖2的設備的轉移墊； 圖3D是圖3C所示的轉移墊的截面圖； 圖4是在本發明的一個實施方案中向光學表面塗佈塗 料的轉移墊的截面圖； 圖5是在本發明的替換實施方案中向光學表面塗佈塗 料的轉移墊的截面圖； 圖6A-6F示意性地表示在本發明的一個實施方案中利 用轉移墊向光學表面塗佈塗料的過程； 圖7是用於本發明的一個實施方案的塗佈工段的透視 圖， 圖8示意性地表示在本發明的另一個實施方案中在自 動化生產線上向光學表面塗佈塗料的過程； 圖9是在本發明的實施方案中從兩側向光學器件塗佈 塗料的側視圖； 圖10是圖9的光學器件固化的側視圖； 圖11是在本發明的一個實施方案中當模和記憶體相對 移動時向光學器件塗佈塗料的側視圖； 32 200302756 圖12A是用於本發明一個實施方案的塗佈屏的透視圖； 圖12B是圖12A的塗佈屏的俯視圖； 圖13A-13B示意性地表示在本發明的一個實施方案中 利用轉移墊和圖12 A的塗佈屏來向光學表面塗佈塗料的過 程； 圖14A是根據現有技術的塗佈方法向光學表面塗佈的 具有類似橘皮表面的塗層的截面圖； 圖14B是根據本發明的一個實施方案向光學表面塗佈 的帶有更平滑的表面的塗層的截面圖。 主要元件之圖號說明 A透鏡澆鑄裝置；C塗佈液；MC模腔；B、F透鏡澆鑄模具； G 墊圈；10、310、410、510、710、810 轉移墊；12、312 基部；14、52、314主體；30、730模板；32第一表面； 34第二表面；36模；38環形邊緣；50、750記憶體；80 導引圓柱；26轉移墊圓筒；90、49 0、590、790、890、990 光學器件；92、492、592、892 光學表面；94、494、594、 794、830透鏡導引板；96、796透鏡板導引圓柱；99、799 能源；200、700設備；16、316底部；18頂部；20表面； 15第二側邊緣；13第一側邊緣；22環形截面區域；317 上端；327邊緣部份；323下部；321上部；325彎曲表面； 60延伸孔道；62蓋子；64、66刮片；68墊圈；54第一端； 56第二端；58外表面；70入口； 24轉移墊支架；414、814 可變形體；498、598凹槽；514 ; 19塗佈液層；701空氣 33 200302756 過濾系統；703塗佈工段；806、808輥；842保持部件； 802旋轉台；910第一轉移墊；911第二轉移墊；993第二 光學表面；992第一光學表面；999第一輻射能源；997第 二輻射能源；1150移動記憶體；1130移動模板；1281屏； 12 89 區域；1285 開口 ； 1283 框；1287 膜；1291 孔；1419 平滑表面 34

Claims (1)

1. 200302756 申請專利範圍 1. 一種向光學器件的光學表面塗佈塗層的方法，包括 如下步驟= a. 將塗佈液放在模板的模中； b. 將塗佈液從模中轉移至轉移墊，其中該轉移墊具有 保持塗佈液的可變形體； c. 將轉移墊壓在光學表面上，從而將塗佈液從轉移墊 的可變形體轉移至該光學表面。 2. 如申請專利範圍第1項的方法，還包括如下步驟： d. 在微波波長對與該光學表面結合的塗佈液進行照 射，從而在該光學表面上形成塗層。 3. 如申請專利範圍第1項的方法，其中將塗佈液放入 的步驟包括： i.提供含有塗佈液的記憶體； i i .用來自記憶體的塗佈液塡充模板的模。 4.如申請專利範圍第3項的方法，其中儲存器具有帶第 一端和第二端、外表面以及縱向軸並限定一個軸向延伸的 孔道的主體，還包括在第一端處封閉該延伸孔道的蓋子， 以及在第二端環繞著孔道的刮片，其塡充步驟還包括如下 步驟= 35 200302756 iii.將記憶體設置成其第二端壓在帶有模的模板表面 上，從而該模板與刮片配合而在第二端封閉該延伸的孔 道；以及 iv·將該模板相對於記憶體沿著基本垂直於所述縱向 軸的方向移動，從而該刮片刮過模，而在模中留下一些塗 佈液。 5·如申請專利範圍第4項的方法，其中記憶體還包括穿 過蓋子並與孔道和塗佈液的供應源流體相通的入口，該方 法還包括通過該入口將來自塗佈液供應源的塗佈液向記憶 體的孔道提供。 6.如申請專利範圍第1項所述的方法，其中轉移步驟包 括： i. 將轉移墊放在第一位置； ii. 將模板定位在第二位置，其中第一位置和第二位置 沿著第一操作軸相對準； iii. 使得轉移墊和模板一起相對移動，從而轉移墊與 模中的塗佈液相接觸； iv. 將轉移墊壓在模板上，從而一些塗佈液從模上轉 移，而在轉移墊上形成塗佈液層； v. 使得轉移墊與模板成相對運動而彼此分開，從而轉 移墊基本返回第一位置，而模板基本返回至或停留在第二 位置；以及 36 200302756 Vi.使模板從第二位置縮回至縮回位置，其中第二位置 和縮回位置沿著第二操作軸相對準，第一操作軸和第^操 作軸彼此基本垂直。 7. 如申請專利範圍第6項的方法，還包括如下步驟： vii. 在縮回位置中的模板的模中放入塗佈液； viii. 將在模中帶有塗佈液的模板定位在第二位置’準 備將塗佈液轉移至轉移墊。 8. 如申請專利範圍第1項的方法，其中將轉移墊壓在光 學表面上的步驟包括： i·將轉移墊放在第一位置； ii·將光學器件定位在第二位置，其中第一位置和第二 位置沿著第一操作軸相對準； iii·使得轉移墊和光學器件一起相對移動，從而轉移 墊與光學器件的光學表面相接觸； iv·將轉移墊壓在光學表面上，從而一些塗佈液從轉 移墊上轉移，而在光學器件的光學表面上形成塗佈液層； ν·使得轉移墊與光學器件成相對運動而彼此分開，從 而轉移墊基本返回第一位置。 9. 如申請專利範圍第8項的方法，還包括如下歩驟： vi·將光學器件移動到第三位置進行照射。 37 200302756 10·如申請專利範圍第2項的方法，其中由微波能源來 産生輻射。 11.如申請專利範圍第10項的方法，其中微波能源是微 波爐。 12. 如申請專利範圍第10項的方法，其中光學器件是 光學透鏡。 13. 如申請專利範圍第12項的方法，還包括利用微波波 長範圍之外的輻射來固化平滑的塗層而在光學表面上形成 塗層的步驟。 14.如申請專利範圍第13項的方法，其中利用紅外光源 産生所述輻射。 15·如申請專利範圍第13項的方法，其中利用紫外光源 産生所述輻射。 16·如申請專利範圍第10項的方法，其中光學器件包括 具有朝向內側的表面的前模，光學表面是該前模的朝向內 側的表面。 17·如申請專利範圍第16項的方法，其中光學器件還包 38 200302756 括具有朝向內側的表面的後模，光學表面是該後模的朝向 內側的表面。 18. 如申請專利範圍第17項的方法，還包括以下步驟： e. 將其朝向內側的表面是所要製造的光學透鏡表面 的負像的前模和後模按照彼此之間適當的距離和旋轉取向 來設置，該前模和後模都具有邊緣； f. 利用封閉部件將前模和後模的邊緣封閉，以限定一 個模腔； g. 向模腔內注入流體狀的透鏡形成材料；以及 h. 通過輻射來固化流體狀透鏡形成材料，從而該流體 狀透鏡形成材料硬化而形成光學透鏡，並且在前模和後模 內表面上的每個塗層轉移並硬化而粘接在光學透鏡的對應 表面上。 19. 如申請專利範圍第18項的方法，其中利用紅外光源 來産生所述輻射。 20.如申請專利範圍第18項的方法，其中利用紫外光源 來産生所述輻射。 21·如申請專利範圍第1項的方法，在將轉移墊壓在光 學表面上的步驟之前，還包括如下步驟： i·將屏放在光學表面上；以及 39 200302756 i i ·向屏上塗佈塗佈液。 22·如申請專利範圍第21項的方法，其中將轉移墊壓在 光學表面上的步驟還包括將轉移墊壓在屏上的步驟，以便 將塗佈液從轉移墊轉移至屏和光學表面上。 23·如申請專利範圍第22項的方法，其中屏包括： a.限定開口的框；以及 ® b·覆蓋該開口的膜， 其中至少部分膜具有多個孔。 24. 如申請專利範圍第23項的方法，其中膜包括部分塗 佈的纖維。 25. 如申請專利範圍第22項的方法，其中將轉移墊壓在 光學表面上.的步驟還包括： i.將轉移墊壓在屏上，從而該膜與光學表面彎曲配 ® 合；以及 H·使得塗佈液從轉移墊穿過該多個孔而到達光學表 面。 26. —種用於向光學器件的光學表面塗佈塗層的方 法，包括如下步驟： a.將塗佈液轉移至轉移墊；以及 40 200302756 b·將轉移墊壓在光學表面上，從而將塗佈液從轉移墊 的可變形體轉移至該光學表面。 27.如申請專利範圍第26項的方法，還包括將塗佈液放 在模板的模中的步驟，其中轉移步驟包括將塗佈液從模中 轉移至轉移墊的步驟。 28.如申請專利範圍第27項的方法，其中放入步驟包 括： i ·提供含有塗佈液的記憶體； ii·用來自記憶體的塗佈液塡充模板的模。 29·如申請專利範圍第28項的方法，其中儲存器具有帶 第一端和第二端、外表面以及縱向軸並限定一個軸向延伸 的孔道的主體，還包括在第一端處封閉該延伸孔道的蓋 子，以及在第二端環繞著孔道的刮片，其塡充步驟還包括 如下步驟： iil將記憶體設置成其第二端壓在帶有模的模板表面 上，從而該模板與刮片配合而在第二端封閉該延伸的孔 道；以及 iv.將該模板相對於記憶體沿著基本垂直於所述縱向 軸的方向移動，從而該刮片刮過模，而在模中留下一些塗 佈液。 41 200302756 30.如申請專利範圍第29項的方法，其中記憶體還包括 穿過蓋子並與孔道和塗佈液的供應源流體相通的入口，該 方法還包括通過該入口將來自塗佈液供應源的塗佈液向記 憶體的孔道提供。 31.如申請專利範圍第26項所述的方法，其中轉移步驟 包括： i. 將轉移墊放在第一位置； ii. 將模板定位在第二位置，其中第一位置和第二位置 沿著第一操作軸相對準； iii. 使得轉移墊和模板一起相對移動，從而轉移墊與 模中的塗佈液相接觸； iv. 將轉移墊壓在模板上，從而一些塗佈液從模上轉 移，而在轉移墊上形成塗佈液層； v. 使得轉移墊與模板成相對運動而彼此分開，從而轉 移墊基本返回第一位置，而模板基本返回至或停留在第二 位置；以及 vi. 使模板從第二位置縮回至縮回位置，其中第二位置 和縮回位置沿著第二操作軸相對準，第一操作軸和第二操 作軸彼此基本垂直。 32·如申請專利範圍第31項的方法，還包括如下步驟： vi i·在縮回位置中的模板的模內放入塗佈液； vi ii·將在模中帶有塗佈液的模板定位在第二位置，準 42 200302756 備將塗佈液轉移至轉移墊。 33. 如申請專利範圍第26項的方法，其中將轉移墊壓在 光學表面上的步驟包括： i. 將轉移墊放在第一位置； ii. 將光學器件定位在第二位置，其中第一位置和第二 位置沿著第一操作軸相對準； i i i ·使得轉移墊和光學器件一起相對移動，從而轉移 墊與光學器件的光學表面相接觸； iv.將轉移墊壓在光學表面上，從而一些塗佈液從轉 移墊上轉移，而在光學器件的光學表面上形成塗佈液層； V.使轉移墊與光學器件成相對運動而彼此分開，從而 轉移墊基本返回第一位置，光學器件基本返回至或停留在 第二位置。 34. 如申請專利範圍第33項的方法，還包括如下步驟： vi.將光學器件移動到第三位置進行照射處理。 35. 如申請專利範圍第26項的方法，其中光學器件包括 光學透鏡，該方法還包括如下步驟： a. 在微波波長對與光學表面結合的塗佈液進行照射， 從而在光學表面上形成塗層；以及 b. 通過微波波長範圍之外的輻射固化該塗層’以在光 學表面上形成塗層。 200302756 36·如申請專利範圍第35項的方法，其中由微波能源來 産生輻射。 37.如申請專利範圍第35項的方法，其中由紅外光和紫 外光中的至少一種來産生微波波長範圍之外的輻射。 38·如申請專利範圍第26項的方法，其中光學器件包括 具有朝向內側的表面的前模，光學表面是該前模的朝向內 側的表面。 39. 如申請專利範圍第38項的方法，其中光學器件還包 括具有朝向內側的表面的後模，光學表面是該後模的朝向 內側的表面。 40. 如申請專利範圍第39項的方法，還包括以下步驟： a. 在微波波長照射與前模和後模中的每一個的朝向 內側的表面相結合的塗佈液，從而在每個朝向內側的表面 上形成塗層； b. 將其朝向內側的表面是要形成的光學透鏡表面的 負像的前模和後模彼此按照適當的距離和旋轉取向來設 置，前模和後模均具有邊緣； 〇·利用封閉部件來封閉前模和後模的邊緣，以限定一 個模腔； d·向該模腔內注入流體狀的透鏡形成材料；以及 44 200302756 e·通過微波波長範圍之外的輻射來固化流體狀透鏡形 成材料，從而該流體狀透鏡形成材料硬化而形成光學透 鏡’並且在前模和後模內表面上的每個塗層轉移並硬化而 粘接在光學透鏡的對應表面上。 41·如申請專利範圍第40項的方法，其中利用微波能源 來産生微波輻射。 42·如申請專利範圍第40項的方法，其中利用紅外光和 紫外光中的至少一種來産生所述微波波長範圍之外的輻 射0 43· —種向光學器件的光學表面塗佈塗層的設備，該設 備包括： a·用於容納塗佈液的裝置；以及 b·用於將塗佈液轉移至光學表面的裝置，其中轉移裝 置壓在光學表面上，從而將塗佈液從轉移裝置轉移至光學 表面。 44·如申請專利範圍第43項的設備，其中容納塗佈液的 裝置包括帶有第一表面和相對的第二表面的模板，以及位 於第一表面上的至少一個模以容納塗佈液。 45·如申請專利範圍第44項的設備，還包括： 45 200302756 i.用於提供塗佈液的裝置；以及 ii.用來自提供裝置的塗佈液塡充模板的模的裝置。 46. 如申請專利範圍第45項的設備，其中提供裝置包括 記憶體，該儲存器具有帶第一端和第二端、外表面以及縱 向軸並限定一個軸向延伸的孔道的主體，還包括在第一端 處封閉該延伸孔道的蓋子，以及在第二端環繞著孔道的刮 片，其中， 當將記憶體設置成其第二端壓在帶有模的模板表面上 時，該模板與刮片配合而在第二端封閉該延伸的孔道，並 且 該模板可以相對於記憶體沿著基本垂直於所述縱向軸 的方向移動，從而該刮片刮過模，而在模中留下一些塗佈 液。 47. 如申請專利範圍第43項的設備，還包括在微波波長 對與光學表面結合的塗佈液進行照射的裝置，從而在光學 表面上形成塗層。 48. 如申請專利範圍第47項的設備，其中光學器件包括 光學透鏡，該設備還包括通過微波波長範圍之外的輻射固 化塗層而在光學表面上形成塗層的裝置。 49·如申請專利範圍第48項的設備，其中利用微波能源 46 200302756 來産生微波輻射。 50.如申請專利範圍第48項的設備，其中利用紅外光和 紫外光中的至少一種來産生所述微波波長範圍之外的輻 射。 51.如申請專利範圍第47項的設備，其中光學器件包括 具有朝向內側的表面的前模，光學表面是該前模的朝向內 側的表面。 52. 如申請專利範圍第51項的設備，其中光學器件還包 括具有朝向內側的表面的後模，該光學表面是該後模的朝 向內側的表面.。 53. 如申請專利範圍第52項的設備，還包括以下裝置： a.用於將其朝向內側的表面是所要製造的光學透鏡表 面的負像的前模和後模按照彼此之間適當的距離和旋轉取 向來設置的定位裝置，該前模和後模都具有邊緣； b·用於關閉前模和後模的邊緣的關閉裝置，以限定一 個模腔； c·用於向模腔內注入流體狀的透鏡形成材料的裝置； 以及 d·用於通過微波波長範圍之外的輻射來固化流體狀透 胃$成材料的固化裝置，從而該流體狀透鏡形成材料硬化 200302756 而形成光學透鏡，並且在前模和後模內表面上的每個塗層 轉移並硬化而粘接在光學透鏡的對應表面上。 54.如申請專利範圍第53項的設備，其中固化裝置包括 紅外光和紫外光中的至少一種。 55· —種向具有第一光學表面和第二光學表面的光學 器件塗佈塗層的方法，包括如下步驟： a·將塗佈液轉移至第一轉移墊和第二轉移墊；以及 b·將第一轉移墊壓在第一光學表面上，將第二轉移墊 壓在第二光學表面上，從而將塗佈液從第一轉移墊和第二 轉移墊分別轉移到第一光學表面上和第二光學表面上。 56·如申請專利範圍第55項的方法，還包括將塗佈液放 在第一模板中的模的步驟，轉移步驟包括將塗佈液從第一 模板中的模內轉移到第一轉移墊上的步驟。 57·如申請專利範圍第56項的方法，還包括將塗佈液放 在第二模板中的模的步驟，轉移步驟包括將塗佈液從第二 模板中的模內轉移到第二轉移墊上的步驟。 58.如申請專利範圍第57項的方法，其中在模板的模中 放入塗佈液的步驟包括： i·提供含有塗佈液的記憶體；以及 48 200302756 u•用來自記憶體的塗佈液塡充第一模板和第二模板 中每一個的模。 59·如申請專利範圍第55項的方法，其中轉移步驟包 括： i·將第一轉移墊放在第一位置； ii·將第一模板定位在第二位置，其中第一位置和第二 位置沿著第一操作軸相對準； · iii·使得第一轉移墊和第一模板一起相對移動，從而 第一轉移墊與第一模板的模中的塗佈液相接觸； IV·將第一轉移墊壓在第一模板上，從而一些塗佈液 從模轉移，而在第一轉移墊上形成塗佈液層； ν·使第一轉移墊與第一模板彼此分開。 60·如申請專利範圍第59項的方法，其中轉移步驟包 括： i.將第二轉移墊放在第三位置； # ii·將第二模板定位在第四位置，其中第三位置和第四 位置沿著第一操作軸相對準； iii·使得第二轉移墊和第二模板一起相對移動，從而 第二轉移墊與第二模板的模中的塗佈液相接觸； iv.將第二轉移墊壓在第二模板上，從而一些塗佈液 從第二模板的模轉移，而在第二轉移墊上形成塗佈液層； V.使第二轉移墊與第二模板彼此分開。 49 200302756 61. 如申請專利範圍第55項的方法，其中轉移墊壓在光 學表面上的步驟包括： i. 將第一轉移墊放在第一位置而第二轉移墊放在第二 位置，二者相分開，其中第一位置和第二位置沿著第一操 作軸相對準； ii. 將光學器件設置在第一轉移墊和第二轉移墊之間； iii. 將第一轉移墊和第二轉移墊朝著彼此移動，從而 第一轉移墊與光學器件的第一光學表面相接觸，第二轉移 墊與光學器件的第二光學表面相接觸； iv. 將第一轉移墊壓在第一光學表面上，將第二轉移墊 壓在第二光學表面上，從而將一些塗佈液從第一轉移墊和 第二轉移墊分別轉移至第一光學表面和第二光學表面。 62. 如申請專利範圍第55項的方法，還包括如下步驟： a. 在微波波長對與每個光學表面結合的塗佈液進行照 射，從而在每個光學表面上形成塗層；以及 b. 通過微波波長範圍之外的輻射固化每個光學表面上 的塗層，以在每個光學表面上形成塗層。 63. 如申請專利範圍第62項的方法，其中利用微波能源 來産生微波輻射。 64·如申請專利範圍第62項的方法，其中利用紅外光和 紫外光中的至少一種來産生所述微波波長範圍之外的輻 50 200302756 射0 65. —種向光學透鏡的光學表面塗佈塗層的方法，包括 如下步驟： a. 將塗佈液放在模板的模上； b. 將塗佈液從模轉移至轉移墊； c. 將轉移墊壓在光學表面上，從而將塗佈液從轉移墊 轉移到光學表面上； · d. 在微波波長照射與該光學表面結合的塗佈液，從而 在光學表面上形成塗層； e·通過微波波長範圍之外的輻射來固化塗層而在光學 表面上形成塗層。 66 ·如申請專利範圍第65項的方法，在將轉移墊壓在 光學表面上之前，還包括如下步驟： i. 將屏放在光學表面上；以及 ii. 向屏上塗佈塗佈液。 ® 67.如申請專利範圍第66項的方法，其中將轉移墊壓在 光擧表面上的步驟還每括將轉移墊壓在屏上的步驟，以將 塗佈液從轉移墊轉移至屏和光學表面上。 68·—種向光學透鏡的至少一個光學表面塗佈塗層的 方法，包括如下步驟： 51 200302756 a. 將塗佈液放在模板的模上； b. 將塗佈液從模轉移至轉移墊； c. 提供分別具有朝向內側的表面的前模和後模； d. 將轉移墊壓在前模和後模的每個朝向內側的表面 上，從而將塗佈液從轉移墊分別轉移到每個朝向內側的表 面上； e. 在微波波長照射與該每個朝向內側的表面結合的塗 佈液，從而在每個朝向內側的表面上形成塗層； ® f. 將其朝向內側的表面是所要製造的光學透鏡表面的 負像的前模和後模按照彼此之間適當的距離和旋轉取向來 設置，該前模和後模都具有邊緣； g. 用封閉部件關閉前模和後模的邊緣，以限定一個模 腔； h. 向模腔內注入流體狀的透鏡形成材料；以及 i ·用於通過微波波長範圍之外的輻射來固化流體狀透 鏡形成材料，從而該流體狀透鏡形成材料硬化而形成光學 透鏡，並且在前模和後模內表面上的每個塗層轉移並硬化 © 而粘接在光學透鏡的對應表面上。 69·—種向至少一個光學表面塗佈塗層的方法，包括如 下步驟： a·將塗佈液轉移至光學表面；以及 b·在微波波長照射該塗佈液，從而在光學表面上形成 塗層。 52 200302756 70.如申專利範圍桌69項的方法，還包括通過微波波 長範圍之外的輻射來固化塗層而在光學表面上形成塗層的 步驟。 71·如申請專利範圍第69項的方法，其中利用微波能源 來産生微波輻射。 72·如申請專利範圍第70項的方法，其中利用紫外光和 紅外光中的至少一種來産生所述微波波長範圍之外的輻 射0 73·—種向至少一個光學表面塗佈塗層的設備，包括： a. 用於將塗佈液轉移至光學表面的裝置；以及 b. 用於在微波波長進行照射的裝置，從而在光學表面 上形成塗層。 74.如申請專利範圍第73項的設備，還包括固化塗層的 裝置，以通過在微波波長範圍之外的波長輻射而在光學表 面上形成塗層。 75β如申請專利範圍第73項的設備，其中照射裝置包括 微波能源。 76.如申請專利範圍第74項的設備，其中固化裝置包括 200302756 紫外光和紅外光中的至少一種。 77. —種向至少一個光學表面塗佈塗層的方法，包括如 下步驟： a.將屏放在光學表面上； b·向屏塗佈一些塗佈液； c. 將一些塗佈液轉移至轉移墊； d. 將轉移墊壓在屏上，從而將塗佈液從轉移墊轉移至 屏和光學表面上； e. 照射塗佈液從而在光學表面上形成塗層。 78. 如申請專利範圍第77項的方法，其中屏包括： a·限定開口的框；以及 b·覆蓋開口的膜，其中 至少部分膜具有多個孔。 79·如申請專利範圍第78項的方法，其中膜包括部分 塗佈的纖維。