TARIFNAME KORUYUCU IÇERMEYEN BIR CILT TEMIZLEME ÜRÜNÜ Bulus Konusu Bulus; hassas ciltlerin kullanimina uygun, yüksek oranda poliol içeren bitki ekstresi ihtiva eden, bu sayede hem terapötik etki gösteren hem de mikrobiyolojik açidan korunan, ilave olarak bir antimikrobiyal koruyucu içermeyen bir cilt temizleme ürünü ile ilgilidir. Teknigin Bilinen Durumu Cilt, insan vücudunun gün içerisinde en çok virüs, bakteri gibi patojenlere ve çesitli kontamine edici maddelere maruz kalan bölgesidir. Beden sagliginin korunmasi için dis ortam ve iç organlar/sistemler arasinda bir bariyer görevine sahip cildin hijyeninin saglanmasi büyük önem tasimaktadir. Cildin hijyeninin saglanabilmesi için siklikla kullanilan cilt temizleme ürünlerinden biri de islak mendildir. Dokumasiz kumasa belirli özelliklere sahip, yüksek oranda su içeren kompozisyonlarin emdirilmesi ile elde edilen islak mendiller, kolay kullanim ve sagladigi temizlik açisindan düsünüldügünde kullanicilar tarafindan tercih edilmektedir. Yüksek oranda su içeren kompozisyon ile dokumasiz kumas bir araya getirildiginde, cilt temizleme ürününde bakteri, küf, maya gibi mikroorganizmalarin üremesi kaçinilmaz olmaktadir. Bu durumun engellenmesi için, cilt temizleme ürünlerine, daha detayli bir ifade ile islak mendillere bir veya birden fazla koruyucu ajan ilave edilmektedir. Bahsedilen antimikrobiyal koruyucular arasinda hekzamidin diizetiyonat, metilizotiyazolinon, benzizotiyazolinon, imidazolidinil üre, diazolidinil üre, poliaminopropil biguanid ve dimetil dimetilol hydantoin (DMDMH) bulunmaktadir. Konsantrasyonlari ve türlerine bagli olarak, bu ve benzeri koruyuculari içeren ürünlerin uzun süreli kullanimi sonucunda hassas ciltlerde, özellikle yenidogan bebeklerin ciltlerinde tahris, irritasyon ve pisik benzeri cilt problemleri ortaya çikmaktadir. Bahsedilen koruyucular genellikle yüksek konsantrasyonlarda kullanildigindan cilt bariyerinin yapisini bozmakta, dolayisiyla nemini kaybeden cilde zararli mikroorganizmalarin girip alerjik reaksiyonlar olusturmasi oldukça kolaylasmaktadir. Bilinen teknikte siklikla tercih edilen antimikrobiyal koruyucularin insanlarin, özellikle bebeklerin, ciltleri üzerinde yarattigi yan etkiler bilimsel arastirmalarda da gösterilmektedir. Yukarida bahsedilen problemlerin çözülmesi adina ilgili teknik alanda bir yenilik yapilmasi ihtiyaci dogmustur. Bu bulus ile, hassas ciltlerin kullanimina uygun, yüksek oranda poliol içeren bitki ekstresi ihtiva eden, bu sayede hem terapötik etki gösteren hem de mikrobiyolojik açidan korunan, ilave olarak bir antimikrobiyal koruyucu içermeyen bir cilt temizleme ürünü ortaya konmustur. Bulusun Amaci Bulusun amaci, antimikrobiyal koruyucu ajan içermeyen, özellikle hassas ciltlerin ve yenidogan bebeklerin kullanimina uygun bir cilt temizleme ürünü gelistirilmesidir. Bulusun bir diger amaci, içerdigi yüksek oranda polioller sayesinde hem ciltte terapötik etki gösteren hem de mikrobiyolojik açidan korunan bir cilt temizleme ürünü gelistirilmesidir. Bulusun bir diger amaci, ciltte yatistirici, rahatlatici, irritasyon giderici, anti-inflamatuar ve nemlendirici etkiler yaratan bir cilt temizleme ürünü gelistirilmesidir. Bulusun bir diger amaci, kullaniciya mevcuttan daha saf bir içerik ve daha güvenilir bir temizlik deneyimi sunan bir cilt temizleme ürünü gelistirilmesidir. Bulusun yapisal ve karakteristik özellikleri ve tüm avantajlari asagida verilen detayli açiklama sayesinde daha net olarak anlasilacaktir. Bu nedenle, degerlendirmenin bu detayli açiklama göz önüne alinarak yapilmasi gerekmektedir. Bulusun Detayli Açiklamasi Bulus; hassas ciltlerin kullanimina uygun, yüksek oranda poliol içeren bitki ekstresi ihtiva eden, bu sayede hem terapötik etki gösteren hem de mikrobiyolojik açidan korunan, ilave olarak bir antimikrobiyal koruyucu içermeyen bir cilt temizleme ürünü ile ilgilidir. Bu detayli açiklamada, bulus konusu cilt temizleme ürününün tercih edilen alternatifleri, sadece konunun daha iyi anlasilmasina yönelik olarak ve hiçbir sinirlayici etki yaratmayacak sekilde açiklanmaktadir. Bulusa konu cilt temizleme ürünü, en temel haliyle en az bir çesit çözücü ve en az bir çesit bitkiden elde edilen en az bir çesit bitki ekstresi ve bahsedilen bitki ekstresinin emdirildigi en az bir çesit dokumasiz kumas içermektedir. Bulusun tercih edilen bir uygulamasinda, bahsedilen cilt temizleme ürünü bir islak mendil olup, herhangi bir antimikrobiyal koruyucu içermediginden, bilinen uygulamalarda kullanilan koruyucularin çesidine ve/veya miktarina bagli olarak özellikle hassas ciltlerde meydana gelen tahris, irritasyon, pisik gibi problemlerin önlenmesi amaçlanmaktadir. Bahsedilen cilt temizleme ürünü, bu seçenekle sinirli olmamakla birlikte tercihen bir islak mendildir. Mevcut durumdaki alternatifleri ile kiyaslandiginda, antimikrobiyal koruyucu içermemesine ragmen ürünün zararli mikroorganizmalara karsi korunmasi, ayni zamanda cildi rahatlatici ve nemlendirici özellige sahip olmasi bu ürünün en önemli özellikleri arasinda yer almaktadir. Bunu saglayabilmek adina, cilt temizleme ürünü poliol orani yüksek en az bir çesit bitki ekstresi içermektedir. Kullanilan bitki ekstresi bu seçeneklerle sinirli olmamakla birlikte tercihen su bazli veya tercihen maltodekstrin tasiyicisi kullanilan toz ekstrelerdir. Bitki ekstresi içerisinde kullanilabilecek bitkiler arasinda, bu seçeneklerle sinirli olmamakla birlikte, aynisefa (calendula offici'nalis), papatya (matri'cari'a chamomi'lla), Iavanta (Iavandula angusti'folia), sari ka nta ron (hyperi'cum perforatum), aloe vera (aloe barbadensi's Ieaf), hindistan cevizi (cocos nuci'fera), zeytin yapragi (olea europaea) yer almaktadir. Bulusun tercih edilen uygulamasi, bitki ekstresinde kullanilacak bitki olarak aynisefa, papatya veya Iavantadan en az birini ya da birkaçinin karisimini içermektedir. Bulus kapsaminda elde edilen bitki ekstresi tercihen agirlikça % 15 - 35 oraninda bitki içermektedir. Bulusun tercih edilen bir uygulamasinda bitki ekstresi, tercihen agirlikça % 15 - 25 oraninda bitki içermektedir. Bulusun alternatif bir diger uygulamasinda ise bitki ekstresi, tercihen agirlikça % 25 - 35 oraninda bitki içermektedir. Bitki ekstresi, ilave olarak en az bir çesit çözücü içermektedir. Bahsedilen çözücü tercihen çoklu hidroksil grubu içeren seker alkolü olan bir poliol olup, bu seçeneklerle sinirli olmamakla birlikte tercihen gliserin veya propilen glikolden en az biri ya da bunlarin karisimi arasindan seçilmektedir. Poliol kullanimi ile cilt temizleme ürününde mikrobiyolojik açidan koruyucu etki saglamak ve cilt üzerinde rahatlatici, yatistirici ve irritasyon giderici etki yaratmak amaçlanmaktadir. Bulus kapsaminda elde edilen bitki ekstresi çözücü olarak tercihen agirlikça % 65 - 85 oraninda poliol içermektedir. Bulusun tercih edilen bir uygulamasinda bitki ekstresi, çözücü olarak tercihen agirlikça % 75 - 85 oraninda poliol içermektedir. Bulusun alternatif bir diger uygulamasinda ise bitki ekstresi, çözücü olarak tercihen agirlikça % 65 - 75 oraninda poliol içermektedir. Bulus kapsaminda hazirlanan bitki ekstresi, tercihen agirlikça % 65 - 85 oraninda en az bir çesit poliol ya da poliol karisimi ve tercihen agirlikça % 15 - 35 oraninda en az bir çesit bitki ya da bitki karisimini içermektedir. Bulusun tercih edilen bir uygulamasinda bitki ekstresi, tercihen agirlikça % 75 - 85 oraninda poliol ya da poliol karisimi ve tercihen agirlikça % 15 - 25 oraninda bitki ya da bitki karisimi içermektedir. Bulusun alternatif bir uygulamasinda ise bitki ekstresi, tercihen agirlikça % 65 - 75 oraninda poliol ya da poliol karisimi ve tercihen agirlikça % 25 - 35 oraninda bitki ya da bitki karisimi içermektedir. Bulus kapsaminda gelistirilen cilt temizleme ürünü, tercihen agirlikça % 90 - 99 oraninda bitki ekstresi ya da bitki ekstresi karisimi içermektedir. Bulusun tercih edilen bir uygulamasinda cilt temizleme ürünü, tercihen agirlikça % 97,5 - 99 oraninda bitki ekstresi ya da bitki ekstresi karisimi içermektedir. Bulus konusu cilt temizleme ürünü, ilave olarak en az bir çesit pH ayarlayici ajan içermektedir. Cilt temizleme ürününün, insan cildi ile uyumlu olmasi ve cilt üzerinde herhangi rahatsiz edici bir his ve/veya semptom olusturmamasi adina ürünün pH degerinin 3 ile 6 arasinda tutulmasi istenmektedir. Bulusun tercih edilen bir uygulamasinda pH degeri 4 ile 5 arasindadir. Bu amaçla, bulusun tercih edilen uygulamasinda en az bir tür pH ayarlayici ajan, pH degerini istenen araliga getirecek miktarda kullanilmaktadir. Bulus konusu üründe, pH ayarlayici ajan olarak zayif asitler veya kuvvetli asitler veya zayif bazlar veya kuvvetli bazlar veya asit - baz konjuge çiftleri arasindan seçilen en az bir çesit pH ayarlayici ajan veya birden fazla pH ayarlayici ajan karisimi tercih edilmektedir. Bu seçeneklerle sinirli olmamakla birlikte, zayif asit olarak sitrik asit, asetik asit, Iaktik asit arasindan seçilen en az bir asit ve/veya konjuge asit - baz çifti olarak sodyum sitrat - sitrik asit veya sodyum asetat - asetik asit veya sodyum Iaktat - Iaktik asit arasindan seçilen en az bir pH ayarlayici ajan bulus kapsaminda kullanilabilmektedir. Bulusun tercih edilen bir uygulamasi, pH ayarlayici ajan olarak bir konjuge asit - baz çifti olan sodyum sitrat - sitrik asit çiftini içermektedir. Bulus kapsaminda gelistirilen cilt temizleme ürünü, tercihen agirlikça % 2 - 12 oraninda pH ayarlayici ajan ya da birden fazla pH ayarlayici ajan karisimi içermektedir. Bulusun tercih edilen bir uygulamasinda cilt temizleme ürünü, tercihen agirlikça % 1 - 3 pH ayarlayici ajan ve tercihen agirlikça % 1,5 - 4,5 oraninda ve ilkinden farkli bir diger pH ayarlayici ajan içermektedir. Bahsedilen uygulamada agirlikça % 1 - 3 oraninda kullanilan pH ayarlayici ajan tercihen sitrik asit, agirlikça % 1,5 -4,5 oraninda kullanilan bir diger pH ayarlayici ajan ise tercihen sodyum sitrattir. Bahsedilen uygulamada kullanilan pH ayarlayici ajanlarin agirlikça oranlari, yani sitrik asit/sodyum sitrat orani tercihen 1 : 1,5 olacak sekilde tercih edilmektedir. Yukarida bahsedilen oranlarda hazirlanan bitki ekstresi ve pH ayarlayici ajan karisimi, dokumasiz kumasa emdirilmektedir. Bu seçeneklerle sinirli olmamakla birlikte, bulus kapsaminda gelistirilen cilt temizleme ürünü dokumasiz kumas olarak pamuk, viskon, naylon 6.6, nomex, kevlar ve elastandan en az biri ya da birkaçinin karisimini içermektedir. Dokumasiz kumasa emdirilecek solüsyon için, bitki ve çözücü tercihen 130 - 220 rpm hizda karistirilirken içerisine bitki ekstresinin pH degerini tercihen 4 - 5 degerine getirecek miktarda pH ayarlayici ajan ya da pH ayarlayici ajanlar karisimi ilave edilmektedir. pH degeri düzenli olarak ölçülerek karistirma islemine devam edilmekte, nihai pH degerine ulasildiktan sonra tercihen 4 - 6 dakika sonra karistirma islemi sona erdirilmektedir. Elde edilen kompozisyon, dokumasiz kumasa, dokumasiz kumas/kompozisyon orani tercihen agirlikça 1 :3 olacak miktarda emdirilmektedir. Bulus kapsaminda gelistirilen hassas ciltlerin kullanimina uygun, yüksek oranda poliol içeren bitki ekstresi içeren, bu sayede hem terapötik etki gösteren hem de mikrobiyolojik açidan korunan, ilave olarak bir antimikrobiyal koruyucu içermeyen cilt temizleme ürünü sayesinde kullanicilarin karsilastigi, teknigin bilinen durumunda da bahsedilen problem ve olumsuzluklarin giderilmesi saglanmistir. TR TR TR DESCRIPTION A SKIN CLEANING PRODUCT WITHOUT PRESERVATIVES Subject of the Invention Invention; It is about a skin cleansing product that is suitable for use on sensitive skin, contains a high amount of polyol-containing plant extract, thus has a therapeutic effect and is microbiologically protected, and does not contain an additional antimicrobial preservative. State of the Art The skin is the part of the human body that is most exposed to pathogens such as viruses, bacteria and various contaminating substances during the day. In order to protect physical health, it is of great importance to ensure the hygiene of the skin, which acts as a barrier between the external environment and internal organs/systems. One of the skin cleansing products frequently used to ensure skin hygiene is wet wipes. Wet wipes, which are obtained by impregnating non-woven fabric with compositions containing high amounts of water with certain properties, are preferred by users in terms of ease of use and the cleaning they provide. When a composition containing high amounts of water is combined with a non-woven fabric, the growth of microorganisms such as bacteria, mold and yeast in the skin cleansing product is inevitable. To prevent this situation, one or more protective agents are added to skin cleansing products, or more specifically, wet wipes. Antimicrobial preservatives mentioned include hexamidine diethionate, methylisothiazolinone, benzisothiazolinone, imidazolidinyl urea, diazolidinyl urea, polyaminopropyl biguanide and dimethyl dimethylol hydantoin (DMDMH). Depending on their concentration and type, long-term use of products containing these and similar preservatives may cause irritation, irritation and rash-like skin problems on sensitive skin, especially on the skin of newborn babies. Since the mentioned preservatives are generally used in high concentrations, they disrupt the structure of the skin barrier, thus making it very easy for harmful microorganisms to enter the skin that has lost its moisture and cause allergic reactions. The side effects of antimicrobial preservatives, which are frequently preferred in the known art, on the skin of people, especially babies, are also shown in scientific research. In order to solve the problems mentioned above, there is a need for innovation in the relevant technical field. With this invention, a skin cleansing product that is suitable for use on sensitive skin, contains a high amount of polyol-containing plant extract, thus has a therapeutic effect and is microbiologically protected, and does not contain an additional antimicrobial preservative. Purpose of the Invention The purpose of the invention is to develop a skin cleansing product that does not contain antimicrobial protective agents and is suitable for the use of especially sensitive skin and newborn babies. Another aim of the invention is to develop a skin cleansing product that has a therapeutic effect on the skin and is microbiologically protected, thanks to the high percentage of polyols it contains. Another aim of the invention is to develop a skin cleansing product that creates soothing, relaxing, anti-irritating, anti-inflammatory and moisturizing effects on the skin. Another aim of the invention is to develop a skin cleansing product that offers the user a purer content and a more reliable cleaning experience than the existing one. The structural and characteristic features and all the advantages of the invention will be more clearly understood thanks to the detailed explanation given below. Therefore, the evaluation should be made taking this detailed explanation into consideration. Detailed Description of the Invention Invention; It is about a skin cleansing product that is suitable for use on sensitive skin, contains a high amount of polyol-containing plant extract, thus has a therapeutic effect and is microbiologically protected, and does not contain an additional antimicrobial preservative. In this detailed description, the preferred alternatives of the skin cleansing product of the invention are explained only for a better understanding of the subject and without creating any limiting effect. The skin cleansing product of the invention, in its most basic form, contains at least one type of solvent and at least one type of plant extract obtained from at least one type of plant and at least one type of non-woven fabric impregnated with said plant extract. In a preferred embodiment of the invention, the said skin cleansing product is a wet wipe, and since it does not contain any antimicrobial preservatives, it is aimed to prevent problems such as irritation, irritation and rash that occur especially on sensitive skin, depending on the type and/or amount of preservatives used in known applications. Said skin cleansing product is preferably a wet wipe, although it is not limited to this option. Compared to its current alternatives, the most important features of this product are that it protects against harmful microorganisms, and also has skin soothing and moisturizing properties, although it does not contain antimicrobial preservatives. In order to achieve this, the skin cleansing product contains at least one type of plant extract with a high polyol content. Although the plant extract used is not limited to these options, it is preferably water-based or powder extracts preferably using maltodextrin carrier. Plants that can be used in plant extracts include, but are not limited to, calendula (calendula offici'nalis), chamomile (matri'cari'a chamomi'lla), iavanta (Iavandula angusti'folia), yellow flower (hyperi'cum perforatum). ), aloe vera (aloe barbadensi's Ieaf), coconut (cocos nuci'fera), olive leaf (olea europaea). The preferred embodiment of the invention includes at least one or a mixture of more than one of calendula, chamomile or lavender as the plant to be used in the plant extract. The plant extract obtained within the scope of the invention preferably contains 15 - 35% plant by weight. In a preferred embodiment of the invention, the plant extract preferably contains 15 - 25% plant by weight. In another alternative embodiment of the invention, the plant extract preferably contains 25 - 35% plant by weight. The plant extract additionally contains at least one type of solvent. Said solvent is preferably a polyol, which is a sugar alcohol containing multiple hydroxyl groups, preferably but not limited to at least one of glycerol or propylene glycol, or a mixture thereof. The use of polyol aims to provide a microbiologically protective effect in the skin cleansing product and to create a relaxing, soothing and anti-irritating effect on the skin. The plant extract obtained within the scope of the invention preferably contains 65 - 85% polyol by weight as a solvent. In a preferred embodiment of the invention, the plant extract preferably contains 75 - 85% polyol by weight as a solvent. In another alternative embodiment of the invention, the plant extract preferably contains 65 - 75% polyol by weight as a solvent. The plant extract prepared within the scope of the invention preferably contains at least one type of polyol or polyol mixture at a rate of 65 - 85% by weight and preferably at least one type of plant or plant mixture at a rate of 15 - 35% by weight. In a preferred embodiment of the invention, the plant extract preferably contains 75 - 85% by weight of polyol or polyol mixture and preferably 15 - 25% by weight of the plant or plant mixture. In an alternative embodiment of the invention, the plant extract preferably contains 65 - 75% polyol or polyol mixture by weight and preferably 25 - 35% plant or plant mixture by weight. The skin cleansing product developed within the scope of the invention preferably contains 90 - 99% by weight of plant extract or plant extract mixture. In a preferred embodiment of the invention, the skin cleansing product preferably contains 97.5 - 99% by weight of plant extract or plant extract mixture. The skin cleansing product of the invention additionally contains at least one type of pH adjusting agent. In order for the skin cleansing product to be compatible with human skin and not to cause any uncomfortable sensations and/or symptoms on the skin, it is desired that the pH value of the product be kept between 3 and 6. In a preferred embodiment of the invention, the pH value is between 4 and 5. For this purpose, in the preferred embodiment of the invention, at least one type of pH adjusting agent is used in an amount that will bring the pH value to the desired range. In the product of the invention, at least one type of pH adjusting agent or a mixture of more than one pH adjusting agent selected from among weak acids or strong acids or weak bases or strong bases or acid-base conjugate pairs is preferred as the pH adjusting agent. Although not limited to these options, at least one acid selected from citric acid, acetic acid, Iactic acid as the weak acid and/or sodium citrate - citric acid or sodium acetate - acetic acid or sodium Iactate - Iactic acid as the conjugate acid - base pair. At least one selected pH adjusting agent can be used within the scope of the invention. A preferred embodiment of the invention includes sodium citrate - citric acid, a conjugate acid - base pair, as the pH adjusting agent. The skin cleansing product developed within the scope of the invention preferably contains 2 - 12% by weight of pH adjusting agent or a mixture of more than one pH adjusting agent. In a preferred embodiment of the invention, the skin cleansing product preferably contains 1 - 3% by weight of pH adjusting agent and preferably 1.5 - 4.5% by weight of another pH adjusting agent different from the first one. In the mentioned application, the pH adjusting agent used at a rate of 1 - 3% by weight is preferably citric acid, and another pH adjusting agent used at a rate of 1.5 -4.5% by weight is preferably sodium citrate. The weight ratios of the pH adjusting agents used in the mentioned application, that is, the citric acid/sodium citrate ratio, are preferably 1: 1.5. The mixture of plant extract and pH adjusting agent prepared in the above mentioned proportions is absorbed into the non-woven fabric. Although not limited to these options, the skin cleansing product developed within the scope of the invention contains a mixture of at least one or more of cotton, viscose, nylon 6.6, nomex, kevlar and elastane as non-woven fabric. For the solution to be absorbed into the non-woven fabric, the plant and solvent are preferably mixed at a speed of 130 - 220 rpm, while a pH adjusting agent or a mixture of pH adjusting agents is added to bring the pH value of the plant extract to 4 - 5. The mixing process is continued by measuring the pH value regularly, and the mixing process is terminated preferably after 4 - 6 minutes after the final pH value is reached. The resulting composition is impregnated on the non-woven fabric in an amount such that the non-woven fabric/composition ratio is preferably 1:3 by weight. Elimination of the problems and negativities that are encountered by users and mentioned in the state of the art, thanks to the skin cleansing product developed within the scope of the invention, suitable for use on sensitive skin, containing plant extracts containing high polyols, thus showing both a therapeutic effect and being microbiologically protected, and additionally not containing an antimicrobial preservative. has been provided. TR TR TR