TR201901661T4 - Işik dengeleyi̇ci̇li̇ poli̇olefi̇n fi̇lmler, bantlar ve monofi̇lamentler - Google Patents

Işik dengeleyi̇ci̇li̇ poli̇olefi̇n fi̇lmler, bantlar ve monofi̇lamentler Download PDF

Info

Publication number
TR201901661T4
TR201901661T4 TR2019/01661T TR201901661T TR201901661T4 TR 201901661 T4 TR201901661 T4 TR 201901661T4 TR 2019/01661 T TR2019/01661 T TR 2019/01661T TR 201901661 T TR201901661 T TR 201901661T TR 201901661 T4 TR201901661 T4 TR 201901661T4
Authority
TR
Turkey
Prior art keywords
formula
radicals
independently
radical
compound
Prior art date
Application number
TR2019/01661T
Other languages
English (en)
Inventor
Mueller Daniel
Weyland Tania
Original Assignee
Basf Se
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Basf Se filed Critical Basf Se
Publication of TR201901661T4 publication Critical patent/TR201901661T4/tr

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3432Six-membered rings
    • C08K5/3435Piperidines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C48/00Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
    • B29C48/03Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor characterised by the shape of the extruded material at extrusion
    • B29C48/07Flat, e.g. panels
    • B29C48/08Flat, e.g. panels flexible, e.g. films
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C48/00Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
    • B29C48/25Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C48/88Thermal treatment of the stream of extruded material, e.g. cooling
    • B29C48/919Thermal treatment of the stream of extruded material, e.g. cooling using a bath, e.g. extruding into an open bath to coagulate or cool the material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3467Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3477Six-membered rings
    • C08K5/3492Triazines
    • C08K5/34922Melamine; Derivatives thereof
    • DTEXTILES; PAPER
    • D01NATURAL OR MAN-MADE THREADS OR FIBRES; SPINNING
    • D01FCHEMICAL FEATURES IN THE MANUFACTURE OF ARTIFICIAL FILAMENTS, THREADS, FIBRES, BRISTLES OR RIBBONS; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OF CARBON FILAMENTS
    • D01F1/00General methods for the manufacture of artificial filaments or the like
    • D01F1/02Addition of substances to the spinning solution or to the melt
    • D01F1/10Other agents for modifying properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29KINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2023/00Use of polyalkenes or derivatives thereof as moulding material
    • B29K2023/04Polymers of ethylene
    • B29K2023/06PE, i.e. polyethylene
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29KINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2023/00Use of polyalkenes or derivatives thereof as moulding material
    • B29K2023/10Polymers of propylene
    • B29K2023/12PP, i.e. polypropylene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2323/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers
    • C08J2323/02Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers not modified by chemical after treatment
    • C08J2323/04Homopolymers or copolymers of ethene
    • C08J2323/06Polyethene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2323/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers
    • C08J2323/02Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers not modified by chemical after treatment
    • C08J2323/10Homopolymers or copolymers of propene
    • C08J2323/12Polypropene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/014Additives containing two or more different additives of the same subgroup in C08K
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00Applications
    • C08L2203/12Applications used for fibers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00Applications
    • C08L2203/16Applications used for films

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Artificial Filaments (AREA)
  • Woven Fabrics (AREA)
  • Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Cosmetics (AREA)

Abstract

Mevcut buluş, üretim sırasında bir su banyosundan geçirilen, ışık dengeleyicili bir poliolefin filmin, bantın veya monofilamentin su taşınmasının indirgenmesi için bir işlem ile ilgilidir, bu işleme uygun olarak yapılan poliolefin film, bant ya da monofilament ile ilgilidir ve ışık dengeleyicili bir poliolefin film, bant ya da monofilamentin su taşmasını azaltmak için spesifik ışık dengeleyicilerinin kullanılması ile ilgilidir.

Description

TARIFNAME MONOFILAMENTLER Mevcut bulus, üretim sirasinda bir su banyosundan geçirilen, isik dengeleyicili bir poliolefin filmin, bantin veya monofilamentin su tasinmasinin indirgenmesi için bir islem ile ilgilidir, bu isleme uygun olarak yapilan poliolefin film, bant ya da monofilament ile ilgilidir ve isik dengeleyicili bir poliolefin film, bant ya da monofilamentin su tasmasini azaltmak için spesifik isik dengeleyicilerinin kullanilmasi ile ilgilidir. poliolefinik film üretilmesine yönelik bir metodu tarif eder. WO 03/097722 A1 sayili belge, gelismis isleme 'özellikler ile birlikte poliolefin filmleri ile ilgilidir ve US Patent No. 5,006,587 sayili belge, rengin ve su tasinmasini gelistirmek için floroboratlarin küçük miktarlarini ihtiva eden polipropilen formülasyonlarini açiklar.
Poliolefin fimler, bantlar ya da monofilamentlerin üretilmesine yönelik yaygin bir metot, bir su banyosu içerisine bir film, bant ya da monofilament formu halinde ve uygun bir aparat boyunca eriyen polimerin suyunun çektirilmesinde olusturulmakta olup içerisinde film, bant ya da monofilament sogutulur ve kati hale getirilir. Film, bant ya da monofilament daha sonra sirayla su banyosundan disari çikartilabilir ve ayrica islem asamalarina yönlendirilebilir. Su banyosundan görünmesi üzerine, film, bant ya da monofilament, islemin sonradan asamalari ile müdahale edilen suyu ilave edebilir. Su banyosundan suyun eklenmesi olan bu etki, siklikla teknik literatürde “su tasinmasi" olarak adlandirilir ve bu WCO*ya kisaltilabilir.
Filmin uygun bir sicaklikta gerilmesi, spesifik 'özelliklerle sonuçlanan polimerin oryantasyonuna ve daha fazla kristallesmesine neden olur. Bu ikinci islem asamasi dogrudan film üzerinde gerçeklesebilir, ancak primer film genellikle germe isleminden öncesi bantlara ayrilir. Germe islemi sirasinda istenen özellikler elde edildiginden, tüm islem parametrelerine kesin bir sekilde uyulmasi burada esastir. Germe isleminden Önce filmdeki veya bantlardaki nem izleri bile elde edilen ürünün kalitesinde çok ciddi degisiklikler meydana getirecek sekilde sonraki gerilmeyi ve oryantasyonu degistirir. Bunun etkileri, sonuçta elde edilen nihai ürünün kalitesinde sadece karsilik gelen ana degisikliklerin 'ötesine geçer. Uretim veya isleme sirasinda bile, düsük kalite, örnegin bantlarin kopmasina neden olabilir ve bu nedenle üretimi durdurabilir. Bahsi geçen sorunlara yol açabilecek bir su kaynagi, birincil filmin ekstrüzyona tabi tutuldugu sogutma banyosudur. Çogu plastikler, özellikle polietilen (PE) ya da polipropilen (PP) gibi poliolefinler çok hidrofobik olmasina ragmen ve bu nedenle çok az su emme egilimine sahip olmasina ragmen, su banyosunun üzerine çekildiginde nispeten yüksek üretim hizlarinda su damlaciklarinin ya da ince bir su filminin filme yapistigi siklikla görülür. Buna ilaveten, nihai ürünün iyi bir islevsellige sahip olmasini saglamak için polimere isik dengeleyicileri gibi çesitli katki maddelerinin eklenmesi gerekir.
Bu katki maddelerinin bazilari, suyun su banyosundan katilimini artmasina katkida bulunur. Katki maddeleri ve ayni zamanda maksimum islem hizi, uygun ürünler düsük maliyetle üretilecekse esastir. Isleme hizindaki bir düsüs ekonomik olmayan üretime yol açar. Bazilarinin, WCO'nun kötülesmesine neden oldugu (yani daha fazla WCO ve dolayisiyla daha zayif ürün) gerekli katki maddelerinin ilavesi de ayni zamanda önlenmesi imkansizdir, çünkü aksi halde katki maddelerinin sagladigi ürün özellikleri elde edilemez.
WCO`nun azaltilmasi hali hazirda makine imalati sirasinda basit tasarim önlemleri ile desteklenmektedir. Ornegin, filmin su banyosundan çekilmesi genellikle dikey olarak yukari dogru olur, böylece yerçekimi tek basina birakilan su miktarini maksimuma çikarir. Buna ilaveten, filmden maksimum miktarda suyu çikarmak için siklikla sikma silindirleri ve/veya havali biçaklar kullanilir. Makinenin Spesifik konfigürasyonuna bagli olarak baska teknik metotlar da bulunmaktadir.
Poliolefin filmlerin, bantlarin ve monofilamentlerin üretimi sirasinda WCO'yu gelistirmek için bir isleme ihtiyaç duyulmaya devam edilmektedir. Ideal olarak, istenmeyen herhangi bir yan etki ortaya çikmamali ve islem ayni zamanda var olan formülasyonlar için problemsiz bir sekilde kullanabilmelidir.
Sasirtici bir sekilde, spesifik bir ikinci sterik olarak engellenmis amin isik dengeleyicilerin halihazirda sterik olarak engellenmis bir amin isik dengeleyici içeren isik dengeleyicili bir film, bant ya da monofilamente ilave edilmesinin, üretim sirasinda WCOtyu belirgin sekilde azaltabildigi bulunmustur. Bu özellikle beklenmedik bir durumdur çünkü iki sterik olarak engellenmis aminler ayni bilesiklerin ayni sinifina aittir. Bu, tamamen sasirticidir ve hiçbir sekilde sterik olarak engellenmis amin isik dengeleyicilerin belirli kombinasyonlarinin WCO Bu nedenle bulus, bir isik dengeleyicili poliolefin filmin (tercihen tek katmanli), bantin (tercihen tek katmanli) ya da isik dengeleyici olarak bilesen (A) içeren ve üretim sirasinda bir su banyosundan geçirilen monofilamentin su transferini azaltmak için bir islemi sunmakta olup poliolefin film, bant ya da monofilamentin ilave olarak isik dengeleyici olarak bilesen (B) içermesi, bilesen (A)'nin, formül (A- l)'e ait bilesikleri, formül (A-Il),e ait bilesikleri ve formül (A-Ill)*e ait bilesikleri içeren grup arasindan seçilen en az bir bilesik olmasi ile karakterize edilir.
H3C CH; 0 N_CH;-C|:H_OOC-A;_CO (A-I) H3C CH] içerisinde A1 radikali hidrojen ya da C1-C4alkil olmaktadir, A2 ifadesi bir dogrudan bagdir ya da Ci-Cioalkilen olmaktadir ve a1 ifadesi 2'den 20'ye kadar bir sayidir; r'i ii M A, N (A-Il) H3C CH3 ` is L Ai1~N iîi i l H3C CH3 As I” I” A7_N/\N/\N_Aa Ag-N ”kit-Aw H5C IT' CHa ch ?1 C'H3 H3C "il CHa H3C r\[l CH3 içerisinde birbirinden bagimsiz olarak A3, A4 ve A5 radikalleri Cz-Cisalkilen olmaktadir, birbirinden bagimsiz olarak A5, A7, A8, A9 ve A10 radikalleri hidrojen, Ci-Cizalkil, Cs- Ci2sikI0alkil ya da formül (a-1)'e ait bir grubudur, ”30 C Ha birbirinden bagimsiz olarak Aii radikalleri, hidrojen, Ci-Cizalkil ya da Cs-Cizsikloalkil olmaktadir, ve az ifadesi 1'den 20'ye kadar bir sayidir; H3C ili CHa ch 'll CH3 A15 Ais içerisinde A12 radikali C2-Cisalkilen, C5-C7sikloalkilen ya da Ci-C4alkilendi(Cs-C7sikl0alkilen) olmaktadir, birbirinden bagimsiz olarak A13 ve A14 radikalleri hidrojen, Ci-Cizalkil, Cs-Cizsikloalkil ya da formül (a-2)ia ait bir grubudur, H3C (si-r..i ya da baglandiklari nitrojen atomu ile birlikte A13 ve A14 radikalleri, bir 5- ila 10-'üyeli heterosiklik halkayi olusturur, birbirinden bagimsiz olarak A15 radikalleri hidrojen, C1-C12alkil ya da Cs-Cizsikloalkil olmaktadir ve as ifadesi 2'den 20'ye kadar bir sayidir; bilesen (B), formül (B-l)'e ait bilesikleri, formül (B-II)'e ait bilesikleri, formül (B-III)'e ait bilesikleri ve formül (B-IV)'e ait bilesikleri içeren grup arasindan seçilen en az bir bilesiktir, H3C C H3 R,_o_N O-C-R2 (is-i) içerisinde R1 radikali C1-Cisalkil, Ci-Cishidroksialkil, siklo hekzil ya da hidroksisiklo hekzil olmaktadir ya da R1 radikali -C(CeH5)(H)CH2-OHiin bir grubudur ve R2 radikali Ci-C25alkil ya da formül (b-1)'e ait bir grubudur; (max-lc! OÖ-O-m (b-1) içerisinde x ifadesi, 2'den 8*e kadar bir tamsayidir ve y ifadesi sifir ya da 1 olmaktadir; içerisinde R3 radikali Cz-Cisalkilen, Cs-C7siki0alkilen ya da C1-C4alkilendi(Cs- C7sikloalkilen) olmaktadir, birbirinden bagimsiz olarak R4 radikalleri Ci-Cizalkil ya da Cs-Cizsikloalkil olmaktadir, birbirinden bagimsiz olarak R5 ve R6 radikalleri hidrojen, Ci-Cizalkil, Cs-Cizsikloalkil ya da formül (b-2),e ait bir grubudur, ya da baglandiklari nitrojen atomu ile birlikte Rs ve R6 radikalleri, bir 5- ila 10-`L'iyeli heterosiklik halkayi olusturur, bi ifadesi 1'den 20=ye kadar bir sayidir; H N R5 N R3 N R10_fîI_H (84”) R7 H R7 R." içerisinde birbirinden bagimsiz olarak R8, R9 ve R10 radikalleri, Cz-Cisalkilen olmaktadir ve birbirinden bagimsiz olarak R7 radikalleri formül (b-3)'e ait bir grubudur, 4( N (53› H3C CH3 içerisinde birbirinden bagimsiz olarak R11 ve R12 radikalleri hidrojen, C1-C12alkil, C5- C1zsikloalkil ya da formül (b-4)'e ait bir grubudur, H3C ci-i3 N-O-R-ig (b'4) ve birbirinden bagimsiz olarak R13 radikalleri C1-C12alkil ya da C5-C1zsikloalkil olmaktadir; H3C CH: R5_C_O N-O w H3C CH3 içerisinde R5 radikali C1-C25alkil olmaktadir, n ifadesi 1'den 10'e kadar bir sayidir, ve W ifadesi, 50 ve 1000 karbon atomlari arasini içeren bir mum kalintisidir, tercihen bir polietilen ya da polipropilen mumun bir kalintisidir, (A) ve (B) bilesenleri, film bir çok katmanli bir filmse, tercihen bir katmanlidir.
(A) ve (B) bilesenlerin bilesikleri bilinmektedir ve genis bir sekilde ticari olarak temin edilir ve bilinen metotlara uygun olarak hazirlanabilir. 6,297,299 sayili belgelerde tarif edilen metotlara benzer bir sekilde hazirlanabilir. benzer bir sekilde hazirlanabilir.
(A) bilesenin tercih edilen bilesikleri, ticari ürünler Tinuvin®622, Sabostab® UV 119, (B) bilesenin tercih edilen bilesikleri, ticari 'ürünler Tinuvin®NOR 371, Tinuvin®123, ADK STAB®LA81 ya da Flamestab®NOR 116 olmaktadir.
Poliolefin tercihen bir polietilen ya da a polipropilendir ve (A) ve (B) bilesenlerin toplaminin poliolefinin agirligina bagli olarak, 'örnegin % 0.01 ila % 10 arasini, arasindadir.
Formül (A-I), (A-ll), (A-III) ve (B-Il) bilesiklerindeki serbest degerleri doymus hale getiren terminal gruplarinin anlamlari, bunlarin hazirlanmasinda kullanilan islemlere baglidir. Terminal gruplari ayni zamanda, bilesiklerin hazirlanmasindan sonra da modifiye edilebilir.
Formül (A-l)'in bilesikleri, örnegin asagidaki formül s 3 ,e ait bilesigin tepkimeye sokulmasiyla hazirlanirsa, burada, A1 radikali, Yo-OOC-Az-COO-Yo formülünün bir dikarboksilik asit diester ile birlikte hidrojen ya da metil olmaktadir, burada Yo radikali, 'örnegin, metil, etil ya da propil olmaktadir ve A2 radikali yukarida tarif edildigi gibidir, 2,2,6,6-tetrametiI-4- oksipiperidin-1-il radikaline baglanan terminal grup, hidrojen ya da -CO-A2-COO-Y0 olmaktadir ve diasil radikaline baglanan terminal grup -O-Yo ya da H3C CH3 H30 CHs 1 olmaktadir.
Formül (A-ll)lin bilesiklerinde triazin radikaline baglanan terminal gruplari, örnegin, CI H3C CH3 ya da bir grup Ha olmaktadir ve amino radikaline baglanan terminal grup, örnegin, hidrojen ya da bir grup Formül (A-III)Je ait bilesikler, asagidaki formül AH 'e ait bir bilesigin tepkimeye sokulmasiyla hazirlanirsa, burada X0 radikali, 'örnegin, halojen, özellikle klorin olmaktadir ve A13 ve A14 radikalleri, asagidaki formül H3C>ÖCH3 modem A15 A15 'e ait bir bilesik ile birlikte yukarida tarif edildigi gibidir burada A12 ve A15 radikalleri yukarida tarif edildigi gibidir, diamino radikaline baglanan terminal grubu örnegin hidrojen ya da A123 olmaktadir triazin radikaline baglanan terminal grubu örnegin X0 ya da chýîîcm H3Cb H3c rîi 0H3 H3C rîi CH3 A-is A'is olmaktadir.
X0 radikali halojen olursa, reaksiyon tamamlandiginda, bunu, örnegin, -OH ya da amino grubu ile yer degistirmesi avantajlidir. Bahsi geçebilen amino gruplarina ait örnekler, pirrolidin-1-il, morfolino, -NH2, -N(Ci-Cs)alkil)2 ve -NR0(Ci-Csalkil) olup burada R0 radikali hidrojen ya da formül (a-2)'e ait bir grubudur.
Formül (A-III)*e ait özellikle tercih edilen bilesiklerin biri, E* N (CHÖE N K F E; Hicgcw web CHisY ”ß CH; H-,c rîi CH H-,C ?JK ;G CI. H'J Hl'lc CHs, içerisinde Ei radikali î//NWFLQHQ olmaktadir, E2 radikali N (Cl-I2)5_Nî// \”ýN_C4Hg C4 H9 olmaktadir ve as ifadesi 2'den 10'a kadar bir sayidir.
Bu bilesigin hazirlanmasi, US-A-6,046,304 sayili belgenin Ornek 10*da tarif edilmektedir.
Formül (B-ll)5e ait bilesiklerde, diamino radikaline baglanan uç grubu, örnegin hidrojen ya da R6 olmaktadir ve triazin radikaline baglanan terminal grubu 'Örnegin N R3 N I/Nl N-Rß H3C CHg H3C CHgY *e kadar karbon atomlarina olan alkile ait örnekler, metil, etil, propil, isopropil, ri- bütil, sek-bütil, isobütil, tert-b'ütil, 2-etilbütil, n-pentil, isopentil, 1-metilpentil, 1,3- dimetilb'ütil, n- hekzil, 1-metil hekzil, n-heptil, iso-heptil, 1,1,3,3-tetra-metilbütil, 1- metilheptil, 3-metilheptil, n-oktil, 2-etil hekzil, 1.1,3-tri-metil- hekzil, 1,1,3,3-tetra- metilpentil, nonil, desil, undesil, 1-metiI-undesil, dodesil, 1,1,3,3,5,5-hekza-metil hekzil, tridesil, tetradesil, pentadesil, hekzadesil, heptadesil ve oktadesil olmaktadir.
C5-C128Ikl08lkile ait 'örnekler siklopentil, siklo hekzil, sikloheptil, siklooktil ve siklododesil olmaktadir. Siklo hekzil tercih edilmektedir. 18'e kadar karbon atomuna sahip alkilen ornekleri, metilen, etilen, propilen, trimetilen, tetrametilen, pentametilen, 2,2-dimetiltrimetilen, hekzametilen, dekametilenen ve oktadekametilen olmaktadir.
C5-C7sikI0alkilene ait tercih edilen bir örnek siklo hekzilen olmaktadir.
Ci-C4alkilendi(Cs-C7sikloalkilen)'e ait tercih edilen bir örnek siklo hekzilen-metilen- siklo hekzilen olmaktadir.
Bir 5- ila 7-'üyeli heterosiklik halkaya ait tercih edilen bir Örnek bir morfolin grubudur.
Tercih edilen bir islemde A1 radikali hidrojen olmaktadir, A2 radikali C2-Cealkilen olmaktadir, ve ar ifadesi 2'den 10'e kadar bir sayidir; Birbirinden bagimsiz olarak A3, A4 ve A5 radikalieri Cz-Cealkilen olmaktadir, Birbirinden bagimsiz olarak A6, A7, A8, A9 ve A10 radikalieri Ci-C4alkil olmaktadir, Birbirinden bagimsiz olarak A11 radikalieri hidrojen ya da Ci-C4alkil olmaktadir, ve az ifadesi 1'den 10'e kadar bir sayidir; A12 radikali Cz-Csalkilen olmaktadir, Birbirinden bagimsiz olarak A13 ve A14 radikalieri, hidrojen, Ci-C4alkil, siklo hekzil ya da form'ul (a-2)'e ait bir grubundur ya da baglandiklari nitrojen atomu ile birlikte A13 ve A14 radikalieri, bir morfolino grubunu olusturur, birbirinden bagimsiz olarak A15 radikalieri, hidrojen ya da C1-C4alkil olmaktadir ve as ifadesi 2'den 10'a kadar bir sayidir, R1 radikali Ci-Ciialkil ya da C2-Cahidr0ksialkil olmaktadir, R2 radikali C10-C2oalkil ya da formül (b-1)ie ait bir grubundur; R3 radikali Cz-Cealkilen olmaktadir, birbirinden bagimsiz olarak R4 radikalieri C1-C4alkil ya da siklo hekzil olmaktadir; Birbirinden bagimsiz olarak R5 ve R6 radikalieri, hidrojen, Ci-C4alkil, siklo hekzil ya da formül (b-2)'e ait bir grubundur, ya da baglandiklari nitrojen atomu ile birlikte R5 ve R6 radikalieri, bir morfolino grubunu olusturur ve bi ifadesi 1'den 10'e kadar bir sayidir; Birbirinden bagimsiz olarak R8, R9 ve Rio radikalieri Cz-Caalkilen olmaktadir ve birbirinden bagimsiz olarak R7 radikalieri, formül (b-3)'e ait bir grubudur, Birbirinden bagimsiz olarak Rii ve R12 radikalleri C1-C4alkil olmaktadir, ve birbirinden bagimsiz olarak R13 radikalleri Ci-C4alkil ya da siklo hekzil olmaktadir.
Tercih edilen bir uygulamaya uygun olarak formül (A-l),e ait bilesik, formül (A-I-1)'e karsilik gelmekte olup CH3 CHi'i _ 0 N-igbCHg -ooc-i: CH2 iz-co-._ (A-l-1) içerisinde ai ifadesi 2'den 10ia kadar bir sayidir, formül (A-Il)'e ait bilesik, formül (A-ll-1) ya da (A-ll-2)'ye karsilik gelir, HH CHJ 'ICHZIS (CHZh H3C'N N I HJC ci-i3 C4H9 NH EH N4`N N I N HsaC4-N/N N-)\N C4Hq FtiCÄi-N/ÄNkN-C4Hj /iCI-i; Hac îCH: H;icûCH.3H;$chi-i3 C>xN `A H3C rxli CHngc N CHA CH3 HgC içerisinde az ifadesi 1'den 10'a kadar bir sayidir, 3 cm* (cm (cm H3C CH3 CÄHQ NH NH HJ'C CH3 HBC CH3 ch CH& H3C Alem H-_ic N ca] H3c i? cm3 ch nii CH3H3C>`hli cm içerisinde a2 ifadesi 1'den 10'a kadar bir sayidir, formül (A-lll)'e ait bilesik, formül (A-lII-1), (A-llI-2), (A-Ill-3) ya da (A-III-4),ye karsilik gelir, N_(CH2)5_N_r/ \I| _l 3 3 HC CH 3 H3 n30 bir CH3 H3C N ' ' CH; [TI-(ll-CHg-Cl-CHg içerisinde as ifadesi 2'den 10'a kadar bir sayidir, içerisinde 83 ifadesi 2'den 10*a kadar bir sayidir, CH3 N CH3 CH3 N CH3 içerisinde A15 radikali hidrojen ya da metil olmaktadir ve as ifadesi 2'den 10'e kadar bir sayidir, mcûcn, ch CH-;Y ch N CH:: Hac N cm `O içerisinde 83 ifadesi 2'den 10=a kadar bir sayidir, formül (B-I)'e ait bilesik, formül (8+1), (8+2) ya da (B-I-3),ye karsilik gelir, H3C CH; H3C-Cl-CH7-O_N -O-C-C H3C CH! HTC CHî Hzc CH-.
H-tCHîjin-O-N O-C-O N-O-iICH::i.,-H (84-2) H-tCHzgia-O-N O-C-çcmg-c-o N-O-iCHzjia-H (B-i-3) formül (B-ll),e ait bilesik, formül (B-Il-1),ye karsilik gelir, N ((3sz N / i (B-Il-1) HSC IYI CHJ ch r?' CH3 N N-O-Cjij içerisinde b1 ifadesi 1'den 10ia kadar bir sayidir, formül (B-Ill)'e ait bilesik, formül (B-lll-1)'ye karsilik gelir, H_T_(VCH2]3_N_ICH2}2 T_(CH2}'3_I`IJ H (B'Ili'1) R7 H R7 R." içerisinde R7 radikali, formül (b-3-1)'e ait bir grubudur.
H3C CH; (i34H9 H3C CH3 N- O-siklohekzil C4H9 HSC eng Tercih edilen belirli bir uygulamaya uygun olarak bilesen (A), formül (A-l-1),e ait bir bilesiktir ve bilesen (B), formül (B-ll-1) ,e ait bir bilesiktir, ya da bilesen (A), formül (A-II-1-a)'e ait bir bilesiktir ve bilesen (B), formül (B-III-1),e ait bir bilesiktir, ya da bilesen (A), formül (A-lII-2)*e ait bir bilesiktir ve bilesen (B), formül (B- M) 'e ait bir bilesiktir, o N-i'CHjb-OOC-i'CH;`iy-CO (A-l-i) CH3 CH; içerisinde a1 ifadesi Z'den 10=a kadar bir sayidir, HEC Cm T [CH-;15 (CHSIS H3C-N Tlxi 'l ( H;:C CH; CiHs's îH :EH HseC4-N/J`N)\N_cmü H5C4_N/\NJ\N-C4Hss Hatirla& HEC /lCH-j ch>fî H';C N CH:: chxN CH; Hiic i`ll CH3 HSC N CH; içerisinde X radikali H3C CH3 grubudur Y radikali /:_\ ('34H9 içerisinde as ifadesi 2'den 10'a kadar bir sayidir, N ::CHpjs N / NL\| (B-II-1) H3C CH; iiîc NemYN ”30 :i: CW ”RC N N--30CH~ içerisinde b1 ifadesi 1'den 10'a kadar bir sayidir, H-N-{CH2`Je-N_iCH içerisinde R7 radikali, formül (b-3-1)'e ait bir grubudur.
Hac Cl-t3 -O-siklohekzil C4H9 H3C CH3 Poliolefin opsiyonel olarak bir ya da daha fazla konvansiyonel katki maddelerini içerir.
Uygun örnekler asagida Iistelenmistir. 1. Antioksidanlar 1.1. Alkillenmis monofenoller, örnegin 2,6- di- tert- bütil- 4- metilfenol, 2- tert- bütil- di- tert- b'L'itiI- 4- isob'ütilfenol, 2,6- disiklopentil- 4- metilfenol, 2- (Oi- metilsiklo hekzil)- b'ütil- 4- metoksimetilfenol, yan zincirlerde lineer ya da dallanmis nonilfenoller, dimetil- 6- (1'- metilheptadek- 1'- il)fenol, 2,4- dimetil- 6- (1*- metiltridek- 1,- il)fenol ve bunlarin karisimlari. 1.2. Alkiltiometilfenoller, örnegin 2,4- dioktiltiometil- 6- tert- bütilfenol, 2,4- dioktiltiometil- 6- metilfenol, 2,4- dioktiltiometil- 6- etilfenol, 2.6- didodesiltiometil- 4- nonilfenol. 1.3. Hidrokinonlar ve alkillenmis hidrokinonlar, örnegin 2,6- di- tert- bütil- 4- metoksifenol, 2,5- di- tert- bütilhidrokinon, 2.5- di- tert- amilhidrokinon, 2,6- difenil- 4- oktadesiloksifenol, 2,6- di- tert- b'ütilhidrokinon, 2,5- di- tert- b'L'itiI- 4- hidroksianisol, 3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksianisol, 3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksifenil stearat, bis(3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksifenil) adipat. 1.4. Tokoferoller, örnegin d- tokoferol, ß- tokoferol, y- tokoferol, ö- tokoferol ve bunlarin karisimlari (vitamin E). 1.5. Hidroksilatli tiodifenil eterler, örnegin 22- tiobis(6- tert- bütil- 4- metilfenol), 2,2'- tiobis(4- oktilfenol), 4,4'- tiobis(6- tert- bütil- 3- metilfenol), 4,4i- tiobis(6- tert- bütil- 2- metilfenol), 4,4'- tiobis(3,6- di- sek- amilfenol), 4,4'- bis(2,6- dimetil- 4- hidroksifenil)disülfit. 1.6. Alkilidenbisfenoller, 'örnegin 22- metilenbis(6- tert- bütil- 4- metilfenol), 2,2'- metilenbis(6- tert- bütil- 4- etilfenol), 2,2- metilenbis[4- metil- 6- (a- metilsiklo hekzil)fen0l], 2,2'- metilenbis(4- metil- 6- siklo hekzilfenol), 2,2- metilenbis(6- nonil- 4- metilfenol), 2,2'- metilenbis(4,6- di- tert- bütilfenol), 2,2- etilidenbis(4,6- di- tert- bütilfenol), 2,2- etilidenbis(6- tert- bütil- 4- isobütilfenol), 2,2'- metilenbis[6- (or- metilenbis(2,6- di- tert- bütilfenol), 4,4i- metilenbis(6- tert- bütil- 2- metilfenol), 1,1- bis(5- tert- bütil- 4- hidroksi- 2- metilfenil)bütan, 2,6- bis(3- tert- bütil- 5- metil- 2- hidroksibenzil)- 4- metilfenol, 1,1,3- tris(5- tert- bütil- 4- hidroksi- 2- metilfenil)bütan, 1,1- bis(5- tert- bütil- 4- hidroksi- 2- metil- fenil)- 3- n- dodesilmerkaptobütan, etilen glikol bis[3,3- bis(3,- tert- bütil- 4'- hidroksifenil)bütirat], bis(3- tert- bütil- 4- hidroksi- 5- metil- fenil)disikl0pentadien, bis[2- (3'- tert- b'L'itil- 2- hidroksi- 5,- metilbenzil)- 6- ten- di- tert- bütil- 4- hidroksifenil)propan, 2,2- bis(5- tert- bütil- 4- hidroksi2- metilfenil)- 4- n- dodesilmerkaptobütan, 1.1.5.5- tetra- (5- tert- bütil- 4- hidroksi- 2- metilfenil)pentan. 1.7. 0- , N- ve S- benzil bilesikler, örnegin 3,5,3'5- tetra- tert- bütil- 4,4,- dihidroksidibenzil eter, okta- desil- 4- hidroksi- 3,5- dimetilbenzilmerkaptoasetat, tridesil- 4- hidroksi- 3,5- di- tert- bütilbenzilmerkaptoasetat, tris(3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzil)amin, bis(4- tert- bütil- 3- hidroksi- 2,6- dimetilbenzil)diti0terefitalat, bis(3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzil)sülfit, isooktil- 3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzilmerkaptoasetat. 1.8. Hidroksibenzilatli malonatlar, 'örnegin dioktadesil- 2,2- bis(3,5- di- tert- bütil- 2- hidroksibenzil)malonat, di- oktadesil- 2- (3- tert- bütil- 4- hidroksi- 5- metilbenzil)malonat, di- dodesilmerkaptoetil- 2,2- bis(3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzil)malonat, bis[4- (1,1 ,3,3- tetrametilbütil)fenil]- 2,2- bis(3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzil)mal0nat. 1.9. Aromatik hidroksibenzil bilesikleri, örnegin1,3,5- tris(3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzil)- 2,4,6- tri- metilbenzen, 1,4- bis(3,5- di- tert- b'ütil- 4- hidroksibenzil)- bütil- 3- hidroksi- 2,6- dimetilbenzil)isosiyanurat, 2,4,6- tris(3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksifeniletil)- 1,3,5- triazin, 1,3,5- tris(3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksifenilpropionil)- hekzahidro- 1,3,5- triazin, 1,3,5- tris(3,5- disiklo hekzil- 4- hidroksibenzil)isosiyanurat. 1.11. Benzilfosfonatlar, örnegin dimetil- 2,5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzilfosfonat, dietil- 3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzilfosfonat, dioktadesil3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzilfosfonat, dioktadesil- 5- tert- bütil- 4- hidroksi- 3- metilbenzilfosfonat, 3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksi- benzilfosfonik asidin monoetil esterinin kalsiyum tuzu. 1.12. Asilaminofenoller, örnegin 4- hidroksilauranilid, 4- hidroksistearanilid, oktil N- (3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksifenil)karbamat. 1.13. mono- ya da polihidrik alkoller ile birlikte, örn. metanol, etanol, ri- oktanol, i- oktanol, oktadekanol, 1,6- hekzandiol, 1,9- nonandiol, etilen glikol, 1,2- propandiol, neopentil glikol, tiodietilen glikol, dietilen glikol, trietilen glikol, pentaeritritol, tris(hidroksietil)isosiyanurat, N,N'- bis(hidr0ksietil)0kzamid, 3- tiaundekanol, 3- tiapentadekanol, trimetilhekzandiol, trimetilolpropan, 4- hidroksimetil- 1- fosfa- 2,6,7- triokzabisiklo[2.2.2]0ktan ile birlikte 6- (3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksifenillpropivonik asidin esterleri. 1.14. mono- ya da polihidrik alkoller ile birlikte, örn. metanol, etanol, n- oktanol, i- oktanol, oktadekanol, 1,6- hekzandiol, 1,9- nonandiol, etilen glikol, 1,2- propandiol, neopentil glikol, tiodietilen glikol, dietilen glikol, trietilen glikol, pentaeritritol, tris(hidroksietil)iso- siyanurat, N,N!- bis(hidroksietil)okzamid, 3- tiaundekanol, 3- tiapentadekanol, trimetilhekzandiol, trimetilolpropan, 4- hidroksimetil- 1- fosfa- 2,6,7- birlikte [3- (5- tert- bütil- 4- hidroksi- 3- metilfenil)propiy0nik asidin esterleri. 1.15. mono- ya da polihidrik alkoller ile birlikte, örn. metanol, etanol, oktanol, oktadekanol, 1,6- hekzandiol, 1,9- nonandiol, etilen glikol, 1,2- propandiol, neopentil glikol, tiodietilen glikol, dietilen glikol, trietilen glikol, pentaeritritol, tris(hidroksietil)isosiyanurat, N,N*- bis(hidroksietil)0kzamid, 3- tiaundekanol, 3- tiapentadekanol, trimetilhekzandiol, trimetilolpropan, 4- hidroksimetil- 1- fosfa- 2,6,7- asidin esterleri. 1.16. mono- ya da polihidrik alkoller ile birlikte, örn. metanol, etanol, oktanol, oktadekanol, 1,6- hekzandiol, 1,9- nonandiol, etilen glikol, 1,2- propandiol, neopentil glikol, tiodietilen glikol, dietilen glikol, trietilen glikol, pentaeritritol, tris(hidroksietil)isosiyanurat, N,N'- bis(hidr0ksietil)0kzamid, 3- tiaundekanol, 3- tiapentadekanol, trimetilhekzandiol, trimetilolpropan, 4- hidroksimetil- 1- fosfa- 2,6,7- triokzabisiklo[2.2.2]0ktan ile birlikte 3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksifenil asetik asidin esterleri. 1.17. [3- (3.5- di- tert- bütil- 4- hidroksifenillpropivonik asidin amidleri örn. N,N,- bis(3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksi- fenilpropionil)hekzametilendiamid, N,N=- bis(3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksifenilpropionil)trimetilendiamid, N,N'- bis(3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksifenilpropionil)hidrazid, N,N,- bis[2- (3- [3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksifenil]pr0piyo- niloksi)etil]0kzamid (Naugard®XL- 1, Uniroyal firmasi tarafindan tedarik edilen). 1.18. Askorbik asit (vitamin C) 1.19. Aminik antioksidanlar, örnegin N,N'- di- isopropil- p- fenilendiamin, N,N”- di- sek- bütil- p- fenilen- diamin, N,N,- bis(1,4- dimetilpentil)- p- fenilendiamin, N,N,- bis(1- etil- 3- metilpentil)- p- fenilendiamin, N,N,- bis(1- metilheptil)- p- fenilendiamin, N,N'- disiklo hekzil- p- fenilendiamin, N,N'- difenil- p- fenilendiamin, N,N'- bis(2- naftil)- p- fenilendiamin, N- isopropil- Nr- fenil- p- fenilendiamin, N- (1,3- dimetilbütil)- Nr- fenil- p- fenilendiamin, N- (1- metilheptil)- N'- fenil- p- fenilendiamin, N- siklo hekzil- N'- fenil- p- fenilendiamin, 4- (p- toluens'ülfamoil)difenilamin, N,N,- dimetil- N,N'- di- sek- bütil- p- fenilendiamin, difenilamin, N- allildifenilamin, 4- isopropoksidifenilamin, N- fenil- 1- naftilamin, N- (4- tert- oktilfenil)- 1- naftilamin, N- fenil- 2- naftilamin, oktilated difenilamin, örnegin p,p,- di- tert- oktildifenilamin, 4- n- b'ütilaminofenol, 4- bütirilaminofenol, 4- nonanoilaminofenol, 4- dodekanoilaminofenol, 4- oktadekanoilaminofenol, bis(4- metoksifenil)amin, 2,6- di- tert- bütil- 4- dimetilaminometilfenol, 2,4'- diaminodifenilmetan, 4,4'- diaminodifenil- metan, N,N,N,,N,- tetrametil- 4,4'- diaminodifenilmetan, 1,2- bis[(2- metilfenil)amin0]etan, 1,2- bis(fenilamino)pr0pan, (0- tolil)biguanid, bis[4- (123'- dimetilbütil)fenil]amin, tert- oktilatli N- fenil- 1- naftilamin, mono- ve dialkilatli tert- bütil/tert- oktildifenilaminlerin bir karisimi, mono- ve dialkilatli nonildifenilaminlerin bir karisimi, mono- ve dialkilatli dodesildifenilaminlerin bir karisimi, mono- ve dialkilatli isopropil/iso- hekzildifenilaminlerin bir karisimi, mono- ve dialkilatli tert- bütildifenilaminlerin bir karisimi, 2,3- dihidro- 3,3- dimetil- 4H- 1,4- benzotiazin, fenotiazin, mono- ve dialkilatli tert- bütil/tert- oktilfenotiazinlerin bir karisimi, mono- ve dialkilatli tert- oktil- fenotiazinlerin bir karisimi, N- allilfenotiazin, N,N,N',N'- tetrafenil- 1,4- diaminobüt- 2- en. 2. UV absorbe ediciler ve isik dengeleyicileri 2.1.2- (2'- Hidroksifenil)benzotriazoller,örnegin 2- (2*- hidroksi- 5'- metilfenil)- benzotriazol, 2- (335)- di- tert- bütil- 2'- hidroksifenil)benzotriazol, 2- (5*- tert- bütil- 2,- hidroksifenil)benzotriaz0l, 2- (2,- hidroksi- 5,- (1 ,1 ,3,3- tetrametilbütil)fenil)benzotriazol, 2- (35- di- tert- bütil- 2,- hidroksifenil)- 5- klorobenzotriazol, 2- (3*- tert- bütil- 2'- hidroksi- 5'- metilfenil)- 5- kloro- benzotriazol, 2- (37- sek- bütil- 5*- tert- bütil- 2'- hidroksifenil)benzotriazol, 2- (2,- hidroksi- 4,- oktiloksifenil)benzotriazol, 2- (3',5'- di- tert- amil- 2'- hidroksifenil)benzotriazol, 2- (3',5,- bis- (0i,0i- dimetil- benzil)- 2'- hidroksifenil)benzotriazol, 2- (3*- tert- bütil- 2'- hidroksi- 5'- (2- oktiloksikarboniletil)fenil)- 5- kloro- benzotriazol, 2- (3% tert- bütil- 5'- bütil- 2,- hidroksi- 5,- (2- metoksikarboniletil)fenil)- 5- kloro- benzotriazol, 2- (3*- tert- bütil- 2*- hidroksi- 5'- (2- metoksikarboniIetil)fenil)benzotriazol, 2- (3*- tert- bütil- 2'- hidroksi- 5'- (2- oktiloksikarboniletil)fenil)benzotriazoli 2- (3,- tert- bütil- 5,- [2- (2- etil hekziloksi)karboniletil]- 2'- hidroksifenil)benzotriazol, 2- (3,- dodesil- 2,- hidroksi- 5'- metilfenil)benzotriazol, 2- (3!- tert- bütil- 2'- hidroksi- 5,- (2- isooktiloksikarboniletil)fenilbenzotriazol, 2,27- metilen- bis[4- (1,1,3,3- tetrametilbütil)- 6- benzotriazol- 2- ilfenol]; polietilen glikol 300 ile birlikte 2- [3'- tert- bütil- 5'- (2- metoksikarboniletil)- 2,- hidroksifenil]- 2H- benzotriazol'ün transesterifikasyon ürünü; içerisinde R = 3*- tert- bütil- 4,- hidroksi- 5'- 2H- benzotriazol- 2- ilfenil, 2- [27- hidroksi- 3!- (1 ,1,3,3- tetrametilbütil)- 5,- (0i,0i- dimetilbenzil)- fenil]benzotriazol. 2.2. 2- Hidroksibenzofenonlar, örnegin 4- hidroksi, 4- metoksi, 4- oktiloksi, 4- desiloksi, 4- dodesiloksi, 4- benziloksi, 4,2,,4r- trihidroksi ve 2>- hidroksi- 4,4'- dimetoksi türevleri. 2.3. Ornatilmis ve ornatilmamis benzoik asitlerin esterleri, örnegin 4- tert- bütilfenil salisilat, fenil salisilat, oktilfenil salisilat, dibenzoil resorsinol, bis(4- tert- bütilbenzoil)resorsinol, benzoil resorsinol, 2,4- di- tert- bütilfenil 3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzoat, hekzadesil 3.5- di- tert- b'ütil- 4- hidroksibenzoat, oktadesil 3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzoat, 2- metil- 4,6- di- tert- bütilfenil 3.5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzoat. 2.4. Akrilatlar, örnegin etil a- siyano- [3,[3- difenilakrilat, isooktil a- siyano- ß,ß- difenilakrilat, metil 0i- karbometoksisinnamat, metil d- siyano- ß- metil- p- metoksisinnamat, bütil a- siyano- ß- metil- p- metoksisinnamat, metil 0r- karbometoksi- p- metoksisinnamat, N- (ß- karbometoksi- ß- siyanovinil)- 2- metilindolin, neopentil tetra(d- siyano- ß,ß- difenilakrilat. kompleksleri, ri- bütilamin, trietanolamin ya da N- siklo hekzildi- etanolamin gibi ilave ligandlar ile ya da haricinde 1:1 ya da 112 kompleksi gibi, nikel dib'ütilditiokarbamat, monoalkil esterlerin nikel tuzlari, örn. 4- hidroksi- 3,5- di- tert- b'ütilbenzilfosfonik asidin metil ya da etil esteri, ketoksimlerin nikel kompleksleri, örn. 2- hidroksi- 4- metilfenilundesilketoksim nikel kompleksleri, 1- fenil- 4- Iauroil- 5- hidroksipirazolün nikel kompleksleri, ilave ligandlar ile ya da haricinde. 2.6. Sterik olarak enqellenmis aminler, örnegin karbonik asit bis(1- undesiloksi- piperidil)sebasat, bis(1- oktiloksi- 2,2,6,6- tetrametil- 4- piperidil)sebasat, bis(1,2,2,6,6- pentametil- 4- piperidil) n- bütil- 3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksibenzilmalonat, 1- (2- hidroksietil)- 226,6- tetrametil- 4- hidroksipiperidin kondesat ve s'üksinik asit, N,N'- bis(2,2,6,6- tetrametil- 4- piperidil)hekzametilendiamin ve 4- tert- oktilamino- 2,6- dikloro- 1,3,5- triazinin lineer ya da siklik kondensatlar, tris(2,2,6,6- tetrametil- 4- piperidil)nitrilotriasetat, etandiil)- bis(3,3,5,5- tetrametil- piperazinon), 4- benzoil- 2,2,6,6- tetrametilpiperidin, bütil- 2- (2- hidroksi- 3,5- di- tert- bütilbenzil)- malonat, 3- n- oktil- 7,7,9,9- tetrametil- tetrametilpiperidil)sebasat, bis(1- oktiloksi- 2,2,6,6- tetrametilpiperidil)süksinat, N,N'- bis(2,2,6,6- tetrametil- 4- piperidil)hekzametilen- diamin ve 4- morfolino- 2,6- dikloro- 1,3,5- triazinin lineer ya da siklik kondensatlari, 2- kloro- 4,6- bis(4- n- b'L'itilamino- triazin ve 1,2- bis(3- aminopropilamino)etanin kondensati, 8- asetil- 3- dodesil- piperidil)pirr0lidin- 2,5- dion, 4- hekzadesiloksi- ve 4- steariloksi- 2,2,6,6- tetrametilpiperidin bir karisimi, N,Ni- bis(2,2,6,6- tetrametil- 4- piperidil)hekzametilendiamin ve 4- siklo hekzilamino- 2,6- dikloro- 1,3,5- triazinin bir kondensati, 1,2- bis(3- aminopropilamino)etan ve 2,4,6- trikloro- 1,3,5- triazin yani sira 4- bütilamino- bir kondensati; 1,6- hekzandiamin ve 2,4,6- trikloro- 1,3,5- triazin yani sira N,N- dib'ütilamin ve 4- b'ütilamino- 2,2,6,6- tetrametilpiperidinin bir kondensati (CAS Reg. sikloundesil- 1- okza- 3,8- diaza- 4- okzospiro- [4,5]dekan ve epiklorohidrinin bir metoksifenil)eten, N,N'- bis- formil- N,N'- bis(2,2,6,6- tetrametil- 4- piperidil)hekzametilendiamin, 1,2,2,6,6- pentametil- 4- hidroksipiperidin, metoksimetilenmalonik asidin bir diesteri, 2,2,6,6- tetrametil- 4- aminopiperidin ya da 1,2,2,6,6- pentametil- 4- aminopiperidin ile maleik asit anhidrit- oi- olefin kopolimerin bir reaksiyon 'ürünü, 2,4- bis[N- (1- siklo hekziloksi- 2,2,6,6- tetrametilpiperidin- 4- il)- N- b'ütilamino]- 6- (2- hidroksietil)amin0- 1,3,5- triazin, 1- (2- hidroksi- 2- metilpropoksi)- 4- oktadekanoiloksi- 2,2,6,6- tetrametilpiperidin, 5- (2- etilhekzanoil)0ksimetil- 3.3.5- trimetil- 2- morfolinon, Sanduvor (Clariant; CAS Reg. bis(3- aminopropil)etilendiamin), 1,3,5- tris(N- siklo hekzil- N- (2,2,6,6- tetrametilpiperazin- 3- on- 4- il)amino)- s- triazin, 1,3,5- tris(N- siklo hekzil- N- hekziloksi- 2,2,6,6- piperidin- 4- il)bütilamin0]- 6- kloro- s- triazinin reaksiyon ürünü. 2.7. Okzamidler, 'örnegin 44- dioktiloksiokzanilid, 2,2'- dietoksiokzanilid, 2,2,- dioktiloksi- 5,5'- di- tert- bütokzanilid, 2,2- didodesiloksi- 5,5'- di- tert- b'L'itokzaniIid, 2- etoksi- 2'- etilokzanilid, N,N'- bis(3- dimetilaminopropil)0kzamid, 2- etoksi- 5- tert- b'L'itiI- 2'- etokzanilid ve 2- etoksi- 2'- etil- 5,4'- di- tert- bütokzanilid ile kendi karisimi, o- ve p- metoksi- diornatilmis okzanilidlerin karisimlari ve 0- ve p- etoksi- disubstituted okzanilidlerin karisimlari. (dodesiloksi/tridesiloksi- 2- hidroksipropoksi)- 2- hidroksifenil]- 4,6- bis(2,4- dimetilfenil)- 1,3,5- triazin, 2- [2- hidroksi- 4- (2- hidroksi- 3- dodesiloksipropoksi)fenil]- hidroksi- 4- (3- bütoksi- 2- hidroksipropoksi)fenil]- 1,3,5- triazin, 2- (2- hidroksifenil)- 4- il- 1,3,5- triazin- 2- iI)- 5- (2- etil- (n)- hekziloksi)fen0l. 3. Metal deaktivatörleri, örnegin N,N'- difenilokzamid, N- salicilal- N'- salisiloil hidrazin, N,N'- bis(salisilloil)hidrazin, N,N'- bis(3,5- di- tert- bütil- 4- hidroksifenilpropionil)hidrazin, 3- salisiloilamino- 1,2,4- triazol, bis(benziliden)0kzalil dihidrazid, okzanilid, isofitaloil dihidrazid, sebasoil bisfenilhidrazid, N,N'- diasetiladipoil dihidrazid, N,N7- bis(salisil0il)okzalil dihidrazid, N,N'- bis(salisiloil)tiopropioni| dihidrazid. 4. Fosfitler ve fosfonitler, örnegin trifenil fosfit, difenilalkil fosfitler, fenildialkil fosfitler, tris(n0nilfenil) fosfit, trilauril fosfit, trioktadesil fosfit, distearilpentaeritritol difosfit, tris(2,4- di- tert- bütilfenil) fosfit, diisodesil pentaeritritol difosfit, bis(2,4- di- tert- b'ütilfenil)pentaeritrit0l difosfit, bis(2,4- di- kumilfenil)pentaeritritol difosfit, bis(2,6- di- tert- bütil- 4- metilfenil)pentaeritritol difosfit, diisodesiloksi- pentaeritritol difosfit, bis(2,4- di- tert- bütil- 6- metilfenil)pentaeritrit0l difosfit, bis(2,4,6- tris(tert- b'ütilfenil)pentaeritrit0l difosfit, tristearil sorbitol trifosfit, tetrakis(2,4- di- tert- bütilfenil) 1,3,2- diokzafosfosin, bis(2,4- di- tert- bütil- 6- metilfenil)metil fosfit, bis(2,4- di- tert- b'ütil- 6- metilfenil)etil fosfit, 6- flor- 2,4,8,10- tetra- tert- bütil- 12- metil- dibenz[d,g]- diil)fosfit, 5- bütil- 5- etiI- 2- (2,4,6- tri- tert- bütilfenoksi)- 1,3,2- diokzafosfiran.
Asagidaki fosfitler 'özellikle tercih edilmektedir: Tris(2,4- di- tert- bütilfenil) fosfit (lrgafos®168, Ciba Specialty Chemicals Inc.), tris(nonilfenil) (A) H3C-CH iP_F /P-O-CHECHZ N c (GHI), aci-g)3 H3C-C-CH3 . Hidroksilaminler, örnegin N,N- dibenzilhidroksilamin, N,N- dietilhidroksilamin, N,N- dioktilhidroksilamin, N,N- dilaurilhidroksilamin, N,N- ditetradesilhidroksilamin, N,N- dihekzadesilhidroksilamin, N,N- hekzadesil- N- oktadesilhidroksilamin, N- heptadesil- N- oktadesilhidroksilamin, N,N- dialkilhidroksilamin dioktadesilhidroksilamin, N- hidrojenlenmis donyagi aminden türetilmistir. 6. Nitronlari örnegin, N- benzil- alfa- fenilnitron, N- etil- alfa- metilnitron, N- oktil- alfa- heptilnitron, N- Iauril- alfa- undesilnitron, N- tetradesil- alfa- tridesilnnitron, N- hekzadesil- alfa- pentadesilnitron, N- oktadesil- alfa- heptadesilnitron, N- hekzadesil- alfa- heptadesilnitron, N- ocatadesil- alfa- pentadesilnitron, N- heptadesil- alfa- heptadesilnitron, N- oktadesil- alfa- hekzadesilnitron, nitron hidrojenlenmis donyagi aminden türetilmis N,N- dialkilhidroksilaminden türetilmis. 7. Tiosiner'iistler, örnegin dilauril tiodipropiyonat, dimistril tiodipropiyonat, distearil tiodipropiyonat, pentaeritritol tetrakis[3- (dodesiltio)propiyonat] ya da distearil dis'L'iIfit. 8. Peroksit temizleyiciler, örnegin 8- tiodipropiyonik asidin esterleri, örnegin Iauril, stearil, miristil ya da tridesil esterleri, merkaptobenzimidazol ya da 2- merkaptobenzimidazolün çinko tuzu, çinko dibütilditiokarbamat, dioktadesil disülfit, pentaeritritol tetrakis(ß- dodesilmerkapto)propiyonat. 9. Poliamid denqeleviciler, örnegin iyodür ve / veya fosfor bilesikleri ve iki degerli manganez tuzlari ile birlikte bakir tuzlari.
. Bazik birlikte- denqeleviciler, örnegin melamin, polivinilpirrolidon, disiyandiamid, triallil siyanurat, üre türevleri, hidrazin türevleri, aminler, poliamidler, poliüretanlar, yüksek yagli asitlerin alkali metal tuzlari ve alkalin toprak metal tuzlari, örnegin kalsiyum stearat, çinko stearat, magnezyum behenat, magnezyum stearat, sodyum risinoleat ve potasyum palmitat, antimonlu pirokatekolat ya da çinko pirokatekolat. 11. Çekirdeklendirme aianlari, örnegin inorganik maddeler, talkum, metal oksitler gibi, titanyum dioksit ya da magnezyum oksit gibi, fosfatlar, karbonatlar ya da sülfatlar, tercihen, alkalin toprak metalleri; organik bilesikler, mono- ya da polikarboksilik asitler ve bunlarin tuzlari gibi, örn. 4- tert- bütilbenzoik asit, adipik asit, difenilasetik asit, sodyum süksinat ya da sodyum benzoat; polimerik bilesikler, iyonik kopolimerler (iyonomerler) gibi. Ozellikle tercih di(parametildibenziliden)sorbitol, ve 1,3:2,4- di(benziliden)sorbitol olmaktadir. 12. Dolqu maddeleri ve qüclendirici aianlar, örnegin kalsiyum karbonat, silikatlar, cam elyaflar, cam boncuklar, asbest, talk, kaolin, mika, baryum sülfat, metal oksitler ve hidroksitler, karbon siyahi, grafit, odun unu ve diger dogal ürünlerin unlari veya elyaflari, sentetik elyaflar. 13. Diger katki maddeleri, örnegin plastiklestiriciler, yaglayicilar, emülsifiye edioiler, pigmentler, reoloji katki maddeleri, katalizörler, akis kontrol ajanlari, optik parlaticilar, aleve dayanikli ajanlar, antistatik ajanlar ve sisirme ajanlari. olanlar ya da 3- [4- (2- asetoksietoksi)fenil]- 5,7- di- tert- bütilbenzofuran- 2- on, 5,7- di- tert- hidroksietoksi]fenil)benzofuran- 2- on], 5,7- di- tert- bütil- 3- (4- etoksifenil)benzofuran- 2- on, pivaloiloksifenil)- 5,7- di- tert- bütilbenzofuran- 2- on, 3- (3,4- dimetilfenil)- 5,7- di- tert- bütilbenzofuran- 2- on, 3- (2,3- dimetilfenil)- 5,7- di- tert- bütilbenzofuran- 2- on, 3- (2- asetil- - isooktilfenil)- 5- iso- oktilbenzofuran- 2- on.
Bilesen (A) 'nin konvansiyonel katki maddesine agirlik orani, örnegin 1:100 ila 10021, Tercih edilen bir uygulamaya uygun olarak, poliolefin ilave olarak bilesen (C) olarak bir fenolik antioksidan, tercihen oktadesil 3-(3,5-di-tert-bL'itiI-4-hidroksifenil) propiyonat içerir.
Bilesen (C), poliolefinin agirligina göre örnegin % 0.01 ila % 10 konsantrasyonunda mevcut olabilir.
Baska bir tercih edilen uygulamaya uygun olarak, bilesen (A), formül (A-I-1)rin bir bilesigi ve formül (A-lII-2)'in bir bilesigidir ve bilesen (B), bir formül (B-I-1) ya da (B-II-1)'in bir bilesigidir. ve poliolefin opsiyonel olarak oktadesil 3-(3,5-di-tert-b'i'itiI-4-hidroksifenil) propiyonat içerir.
Mevcut bulusun ayrica bir uygulamasi, yukarida tarif edilen isleme göre yapilan bir poliolefin filmi, bandi ya da monofilamentidir.
Mevcut bulusun baska bir uygulamasi, 'üretim sirasinda bir su banyosundan geçirilen ve isik dengeleyicili olarak bilesen (A) içeren isik dengeleyicili bir poliolefin film, bant ya da monofilamentin su tasmasini azaltmak için isik dengeleyici olarak bilesen (B)inin kullanimidir.
Mevcut bulusun yine de baska bir uygulamasi, çekme hizi 5 ila 100 m/ dak, tercihen 4 ila 80 m/dak. ya da 10 ila 50 m/ dak, özellikle 20 ila 40 m/ dak. olan bir su banyosu boyunca bahsedilen isik dengeleyicili poliolefin filmi, bant veya monofilamentin geçmesi asamasini içeren, bir isik dengeleyicili poliolefin filmi, bant veya monofilamentin hazirlanmasi için bir islem olup bahsi geçen poliolefin filmi, bant veya monofilament, yukarida tarif edildigi 'üzere bilesenler (A) ve (B) içerir. Yukarida tarif edilen tüm tercih edilenler de ayni zamanda su banyosundan tasinan suyun azaltilmasi için kullanilan bu islem ile ilgilidir.
Asagidaki `örnekler bulusu daha ayrintili olarak göstermektedir. Aksi belirtilmedikçe tüm yüzdeler ve kisimlar agirlik cinsindendir.
Asagidaki `örneklerde kullanilan isik denqeleyicileri: Bilesik (A-I-1): CH3 CHS CH3 CH3 içerisinde a1 ifadesi 2'den 10ia kadar bir sayidir.
Bilesik (A-II-1-a): (Sabostab® UV 119) X i'N`ii N (cm. 15:. N Y H3C-N N ! H;_«.C CHg CLHQ îH Hücrm/k NJ\N_C1.Hi;. Hi:.C.i-N/I`N)\N-c.iH-_i CH3 CHJ CH3 CH& içerisinde X radikali H3C CH3 grubudur Y radikali H3C CH3 C4H9 H3C Hs grubudur.
Bilesik (A-III-ZII (Chimassorb®2020) 51-_ (CH2›6_N_-r ch CH3 Hßhîhl ::TL 3 CH3 L 4H9 H3C 3 33 içerisinde E1 radikali C4H9 olmaktadir, E2 radikali N (Ci-i2)5_Nî// \”ýN_C4Hg C4 H9 olmaktadir içerisinde as ifadesi ?den 1013 kadar bir sayidir.
Bilesik (B-I-1): H3C CH3 H3C_(_lI-CH2-O-N O-C-C17H35 Bilesik iB-II-1 i: 53 N @Hür-NAK \i E4 L C3H7 C3H7 4 9 HSC C 3 _ bi içerisinde Es radikali C4H9 olmaktadir, E4radikali N (CH2)6 N |// “IT-@HQ Hac CH3 ch CHsY HSC IT CH3 H3C 'T' CH3 N_C4H9 CsH? C3H7 olmaktadir ve içerisinde bi ifadesi 2'den 10'a kadar bir sayidir.
Bilesik (B-Ill-1): (Flamestab®NOR 116) R7 H R7 R7 içerisinde R7 radikali, asagidaki formül N N_o_.siklohekzil Tgg-O- siklohekzil C4 HQ H3C Ci'b *e bir grubudur.
Asagida belirtilen deneyler için sineriizmin belirlenmesi: Iki isik dengeleyici (oi) ve (B) 'nin sinerjistik WCO (su tasinma) etkisi, WCO'nun beklenen degerlerinin WCO aktivitesinin gerçekte `ölçülen degerleri ile karsilastirilmasi ile belirlenir. Beklenen degerler, 1: 1 oranindaki iki isik dengeleyici orani için asagidaki denklemlere göre katki maddesi kanunu (B. Ranby ve J.F.
Rabek; Photodegradation, Photo-oxidation and Photostabilization of Polimers, Principles and Applications, John Wiley & Sons, London, New York, Sydney, Beklenen WCO aktivitesi = % WCO aktivitesi oldugunda, asagidaki örneklerde iki isik dengeleyicinin sinerjistik bir WCO etkisi bulunmaktadir.
Yukaridaki denklem, iki isik dengeleyicinin orani 1:1'den farkli oldugunda uygun sekilde adapte edilir; örnegin oran 2: 1 ise beklenen WCO etkisi asagidaki denkleme göre hesaplanabilir: Beklenen WCO aktivitesi = 2 x l% WCO aktivitesi] Tablolar 1a ve 1b'da belirtilen isik dengeleyicileri, polietilen'e (DowleX®SC 2108) yüksek hizli karistiricida (MTI, Mischtechnik International, Almanya) karistirilmistir.
Karisim 200 ° C'de bir çift vidali ekstrüderde (Krauss Maffei Berstorff, Almanya), daha sonra yari endüstriyel bant hattinda (Leonard, Italya) 220 °C'de bantlara dönüstürülen granüller elde edilmek için ekstrüzyona tabi tutulur. Su tasinmasi, su sogutma banyosundan gelen suyun, çekme kismina girmeden önce ekstrüdat (200 mikron) ile birlikte tasindigi uzunluk (mm) olarak ifade edilir. Suyun tasinmasi ne kadar düsük olursa, film, çizilen bant veya monofilament 0 kadar hizli ve ekonomik olarak islenebilir. Sonuçlar Tablolar 1a ve 1b'de gösterilmektedir. Çekme hizi (m/dak.) 30 35 40 80 100 120 108 119 129 Çekme hizi (m/dak.) 30 35 40 70 120 130 249 300 304 *) Düsük degerler arzu edilir..
Tablolar 2a ve 2btda belirtilen isik dengeleyiciieri, polietilen'e (Dowiex®SC 2108) yüksek hizli karistiricida (MTi, Mischtechnik international, Almanya) karistiriimis olup polietilen, Bilesik (A-i-1) agirligina göre agirlikça % 0.5*ini içerir. Karisim 200 °C'de bir çift vidali ekstrüderde (Krauss Maffei Berston'f, Almanya), daha sonra yari endüstriyel bant hattinda (Leonard, Italya) 220 “C'de bantlara dönü stürüien granüller elde edilmek için ekstrüzyona tabi tutulur. Su tasinmasi, su sogutma banyosundan gelen suyun, çekme kismina girmeden önce ekstrüdat (200 mikron) ile birlikte tasindigi uzunluk (mm) olarak ifade edilir. Suyun tasinmasi ne kadar düsük olursa. film, çizilen bant veya monofiiament o kadar hizli ve ekonomik olarak islenebiiir.
Sonuçlar Tablolar 223 ve 2b'de gösterilmektedir.
Hesaplanan: 253 *) Düsük degerler arzu edilir..
Hesaplanan: 303 *) Düsük degerler arzu edilir..
Tablolar 3a ve 3b'da belirtilen isik dengeleyicileri, polipropilente (Polichim®A 10 TB) yüksek hizli karistiricida (MTI, Mischtechnik International, Almanya) karistirilmistir.
Karisim 230 ° C'de bir çift vidali ekstrüderde (Krause Maffei Berstorff, Almanya), daha sonra yari endüstriyel bant hattinda (Leonard, Italya) 240 cC'de bantlara dönüstürülen granüller elde edilmek için ekstrüzyona tabi tutulur. Su tasinmasi, su sogutma banyosundan gelen suyun, çekme kismina girmeden önce ekstrüdat (240 mikron) ile birlikte tasindigi uzunluk (mm) olarak ifade edilir. Suyun tasinmasi ne kadar düsük olursa. film, çizilen bant veya monofilament o kadar hizli ve ekonomik olarak islenebilir. Sonuçlar Tablolar 3a ve 3b'de gösterilmektedir.
Tablo Sa: Hesaplanan: >365 *) Düsük degerler arzu edilir..
Hesaplanan: > 443 *) Düsük degerler arzu edilir..
Tablo 4*de belirtilen isik dengeleyicileri, polietilen'e (D0wlex®SC 2108) yüksek hizli karistiricida (MTI, Mischtechnik International, Almanya) karistirilmis olup polietilen, Bilesik (A-I-1) agirligina göre agirlikça % 0.5'ini içerir. Karisim 200 °C'de bir çift Vidali ekstrüderde (Krauss Maffei Berstorff, Almanya), daha sonra yari endüstriyel bant hattinda (Leonard, Italya) 220 “C'de bantlara dönü stürülen granüller elde edilmek için ekstrüzyona tabi tutulur. Su tasinmasi, su sogutma banyosundan gelen suyun, çekme kismina girmeden önce ekstrüdat (100 mikron) ile birlikte tasindigi uzunluk (mm) olarak ifade edilir. Suyun tasinmasi ne kadar düsük olursa, film, çizilen bant veya monofilament 0 kadar hizli ve ekonomik olarak islenebilir. Sonuçlar Tablolar 4'de gösterilmektedir.

Claims (13)

ISTEMLER
1. Bir isik dengeleyicili poliolefin filmin, bantin ya da isik dengeleyici olarak bilesen (A) içeren ve 'üretim sirasinda bir su banyosundan geçirilen monofilamentin su transferini azaltmak için bir islem olup, özelligi; poliolefin 5 film, bant ya da monofilamentin ilave olarak isik dengeleyioi olarak bilesen (B) içermesi, bilesen (A),nin, formül (A-l),e ait bilesikleri, formül (A-II)7e ait bilesikleri ve formül (A-Ill)'e ait bilesikleri içeren grup arasindan seçilen en az bir bilesik olmasi; H3C CH, 0 N-CHz-CiZH_OOC-A;_CO (A-I) H3C CH'i içerisinde A1 radikalinin hidrojen ya da C1-C4alkil olmasidir, A2 ifadesinin bir dogrudan bag olmasi ya da Ci-Cioalkilen olmasidir ve a1 ifadesinin Z'den 20iye kadar bir sayi olmasidir; -N/kaN-Aa Ay-N/kNxN-Aio 15 içerisinde birbirinden bagimsiz olarak A3, A4 ve A5 radikallerinin Cz-Cisalkilen olmasidir, birbirinden bagimsiz olarak A6, A7, A8, A9 ve Aio radikallerinin hidrojen, Ci-Cizalkil, Cs-Cizsikloalkil ya da formül (a-1),e ait bir grubu olmasidir, H3C CH3 birbirinden bagimsiz olarak A11 radikallerinin, hidrojen, Ci-Cizalkil ya da C5- Cizsikloalkil olmasidir, ve az ifadesinin 1'den 20'ye kadar bir sayi olmasidir; H30 ili CH3 H3c 'll A15 Ais içerisinde A12 radikalinin C2-C18alkilen, Cs-C7sikl0alkilen ya da Ci-C4alkilendi(Cs-C7sikl0alkilen) olmasidir, birbirinden bagimsiz olarak Ais ve A14 radikallerinin hidrojen, Ci-C12alkil, Cs- Cizsikloalkil ya da formül (a-2)'a ait bir grubu olmasidir, n30 ci-ia ya da baglandiklari nitrojen atomu ile birlikte A13 ve A14 radikallerinin, bir 5- ila 10- üyeli heterosiklik halkayi olusturmasi, birbirinden bagimsiz olarak A15 radikallerinin hidrojen, Ci-Cizalkil ya da C5- Cizsikloalkil olmasidir ve as ifadesinin 2'den 20'ye kadar bir sayi olmasidir; bilesen (B), formül (B-l)'e ait bilesikleri, formül (B-Il)'e ait bilesikleri, formül (B-lll)'e ait bilesikleri ve formül (B-IV)'e ait bilesikleri içeren grup arasindan seçilen en az bir bilesik olmasi, H3C C H3 R1_O-N O-C-Rz (B-I) içerisinde R1 radikalinin Ci-Cisalkil, Ci-Cishidroksialkil, siklo hekzil ya da hidroksisiklo hekzil olmasidir ya da R1 radikalinin -C(CsH5)(H)CH2-OHrin bir grubu olmasidir ve R2 radikalinin Ci-Czsalkil ya da formül (b-1)*e ait bir grubu olmasidir; (own-Id og-o-m (b-1) içerisinde x ifadesinin, 2'den 8'e kadar bir tamsayi olmasidir ve y ifadesinin sifir ya da 1 olmasidir; içerisinde R3 radikalinin C2-Cisalkilen, Cs-Crsikloalkilen ya da Ci-C4alkilendi(Cs- C7sikloalkilen) olmasidir, birbirinden bagimsiz olarak R4 radikallerinin Ci-Cizalkil ya da Cs-Cizsikloalkil olmasidir, birbirinden bagimsiz olarak R5 ve R6 radikallerinin hidrojen, C1-Ci2alkil, C5- Cizsikloalkil ya da formül (b-2)'e ait bir grubu olmasidir, ya da baglandiklari nitrojen atomu ile birlikte R5 ve R6 radikallerinin, bir 5- ila 10-`Liyeli heterosiklik halkayi olusturmasidir, bi ifadesinin 1'den 20'ye kadar bir sayi olmasidir; R7 H R7 R." içerisinde birbirinden bagimsiz olarak R8, R9 ve Rio radikallerinin, Cz-Ciaalkilen olmasidir ve birbirinden bagimsiz olarak R7 radikalleri formül (b-3)'e ait bir grubu olmasidir, 4( N (53› H3C CH3 içerisinde birbirinden bagimsiz olarak R11 ve R12 radikallerinin hidrojen, Ci-C12alkil, Cs-Cizsikloalkil ya da formül (b-4),e ait bir grubu olmasidir, H3C ci-i.3 N_ O-R-ig (b'4) ve birbirinden bagimsiz olarak R13 radikallerinin Ci-Cizalkil ya da Cs-Cizsikloalkil olmasidir; H3C CH?' R5_C_O N _0 W H3C CH3 içerisinde R5 radikalinin C1-C25alkil olmasidir, n ifadesinin 1rden 102 kadar bir sayi olmasidir, ve W ifadesinin, 50 ve 1000 karbon atomlari arasini içeren bir mum kalintisi olmasidir.
2. Istem 1'e göre islem olup, özelligi; içerisinde A1 radikalinin hidrojen olmasidir, A2 radikalinin C2-Cealkilen olmasidir, ve a1 ifadesinin ?den 103 kadar bir sayi olmasidir; Birbirinden bagimsiz olarak A3, A4 ve A5 radikallerinin Cz-Cealkilen olmasidir, Birbirinden bagimsiz olarak A6, A7, A8, A9 ve A10 radikallerinin C1-C4alkil olmasidir, Birbirinden bagimsiz olarak A11 radikallerinin hidrojen ya da Ci-C4alkil olmasidir, ve az ifadesinin 1*den 10'a kadar bir sayi olmasidir; A12 radikalinin C2-Csalkilen olmasidir, Birbirinden bagimsiz olarak A13 ve A14 radikallerinin, hidrojen, Ci-C4alkil, siklo hekzil ya da formül (a-2)'e ait bir grubu olmasidir ya da baglandiklari nitrojen atomu ile birlikte Ais ve A14 radikallerinin, bir morfolino grubunu olusturmasidir, birbirinden bagimsiz olarak A15 radikallerinin, hidrojen ya da C1-C4alkil olmasidir ve as ifadesinin Z'den 10ra kadar bir sayi olmasidir, R1 radikalinin Ci-Ciialkil ya da C2-Cehidroksialkil olmasidir, R2 radikalinin Cio-C20alkil ya da formül (b-1)'e ait bir grubu olmasidir; R3 radikalinin Cz-Cealkilen olmasidir, birbirinden bagimsiz olarak R4 radikallerinin Ci-C4alkil ya da siklo hekzil olmasidir; Birbirinden bagimsiz olarak R5 ve R6 radikallerinin, hidrojen, Ci-C4alkil, siklo hekzil ya da formül (b-2)'e ait bir grubu olmasidir, ya da baglandiklari nitrojen atomu ile birlikte R5 ve Rs radikallerinin, bir morfolino grubunu olusturmasidir ve bi ifadesinin 1'den 10'a kadar bir sayi olmasidir; Birbirinden bagimsiz olarak R8, R9 ve R10 radikallerinin Cz-Cealkilen olmasidir ve birbirinden bagimsiz olarak R7 radikallerinin, formül (b-3)'e ait bir grubu olmasidir, Birbirinden bagimsiz olarak R11 ve R12 radikallerinin Ci-C4alkil olmasidir, ve birbirinden bagimsiz olarak R13 radikallerinin C1-C4alkil ya da siklo hekzil olmasidir.
3. istem 1'e göre islem olup, özelligi; içerisinde formül (A-I)ie ait bilesik, formül (A-I-1)ie karsilik gelmekte olup CH3 CH] - O N-igCHzlz-OOC-iICHg iz-co_ (A-I-1) CH3 CH; içerisinde ai ifadesinin 2'den 10,a kadar bir sayi olmasidir, formül (A-Il)'e ait bilesik, formül (A-Il-1) ya da (A-Il-2)'ye karsilik gelir, ”BC CH` T iCHziis ((3th H3C CH3 CiHa NH H3C iîi CHg HgC Pil CH-g, H3C "li CHÇs HgC N CH3 CH3 CHß CH;j CHJ içerisinde az ifadesinin 1'den 105, kadar bir sayi olmasidir, ch CH3 T ijCth ((3sz H3C CH3 C4H9 îH EH HJC N CH3 HJC lTJ CH3 ch 'lu CH3 H3C>\r`ll CHgi içerisinde a2 ifadesinin 1'den 10,3` kadar bir sayi olmasidir, formül (A-Ill)ie ait bilesik, formül (A-lll-1), (A-III-2), (A-III-3) ya da (A-III-4)'ye karsilik geliri H3C !TI/«iki3 ' | Hac hi' CH; ITI_(|3-CH2-C-CHg içerisinde 83 ifadesinin 2'den 10'e kadar bir sayi olmasidir, içerisinde as ifadesinin 2 den 10 a kadar bir sayi olmasidir içerisinde A15 radikalinin hidrojen ya da metil olmasidir ve as ifadesinin 2*den 10'a kadar bir sayi olmasidir, H3C ?J CH3 N iC Hzig_ N_// 10 içerisinde as ifadesinin 2'den 10'e kadar bir sayi olmasidir, formül (B-I),e ait bilesik, formül (B-I-1), (B-I-2) ya da (B-I-3),ye karsilik gelir, H3Ç CH3 H`3C_(iI-CHp-O-N -O-C-C17H35 H-tCHzjiH-O-N o-c-o N-o-i;CH:;i..-H HEC CH3 HJC cn.` H-tCHzîla_O_N O_C_(CH::IS_C_O N_0_ICH::I5_H formül (B-Il)'e ait bilesik, formül (B-Il-1)'ye karsilik gelir, H3C CHg Hac H3C r? CH:) H3C 'TI C3H7 CaHî- C4Hg H3C CH3 ti içerisinde b1 ifadesinin 1'den 10”a kadar bir sayi olmasidir, formül (B-Ill)'e ait bilesik, formül (B-lll-1)'ye karsilik gelir, R7 H R7 R.-' 10 içerisinde R7 radikalinin, formül (b-3-1)*e ait bir grubudur. H3C CH; N-O-siklohekzil b-3-1 N- O-siklohekzil C4H9 HS C CH3
4. Istem 1'e göre islem olup, özelligi; içerisinde poliolefin film, bant ya da monofilamentin ilave olarak bilesen (C) olarak bir fenolik antioksidan, tercihen oktadesil 3-(3,5-di-tert-bütiI-4-hidroksifenil) propiyonat içermesidir. 5 5. Istem 1°e göre islem olup, özelligi; içerisinde bilesen (A),nin, formül (A-I-1)'in bir bilesigi olmasi ve bilesen (B)inin, bir formül (B-lI-1),in bir bilesigi olmasidir, ya da bilesen (A),nin, formül (A-lI-1-a)'in bir bilesigi olmasi ve bilesen (B),nin, bir formül (B-lI-1)'in bir bilesigi olmasidir, ya da 10 bilesen (A)!nin, formül (A-III-2)'in bir bilesigi olmasi ve bilesen (B)'nin, bir formül (B-I-1)'in bir bilesigi olmasidir o N-IICHyb-OOC-iCH;`ip-CO (A-I-1) CH3 CH:3 içerisinde ai ifadesinin 2'den 10'a kadar bir sayi olmasidir, X i/IN\,I T [C H; ii; T Y H C4_N m& içerisinde X radikalinin H3C CH3 Hac CH3 grubu olmasidir Y radikalinin ('34H9 C4H9 HsC CH3 N ;cu-.Q N 4/ { (A-IIi-Zi HAL2` ___CHi Hic `z.(^;Hi\T' ”iL-Y,“HF H-(i "HIJ iic^N”xî\ (.4H;+ ”FC" H_i grubu olmasidir içerisinde 83 ifadesinin 2'den 10'a kadar bir sayi olmasidir, Hemen; iißgcmY H-“C CH3 C HT CdHi' CAHJ H C CH: 51
5 içerisinde bi ifadesinin 1Jden 10ia kadar bir sayi olmasidir, H-N-l'CHzie-N-(CHziz rli-iCHgia iîi_H (B-III-1) içerisinde R7 radikalinin, formül (b-3-1)'e ait bir grubu olmasidir. H3C CH; N- O-siklohekzil C4Hg CH3 10
6. istem 1*e göre islem olup, özelligi; içerisinde bilesen (A)*nin, formül (A-I-1)'in bir bilesigi olmasi ve formül (A-llI-2)iin bir bilesigi olmasidir ve bilesen (B)=nin, formül (B-I-1) ya da (B-lI-1)1in bir bilesigi olmasidir, ya da içerisinde poliolefin film, bant ya da monofilamentin opsiyonel olarak oktadesil 3-(3,5-di-tert-bütiI-4- hidroksifenil) propiyonat içermesidir O N-'ICHyb-OOC-IICH;'iy-CO (A-i-1) içerisinde a1 ifadesinin 2'den 10'a kadar bir sayi olmasidir, N (C Hz h; N (A-III-2) H3C CHI& H›3C 5 içerisinde aa ifadesinin 2iden 10ia kadar bir sayi olmasidir, H3C C Hîi H3C C H;j H'gc ::1 CI13 Hîc N CJHT CdHi içerisinde b1 ifadesinin 1*den 10,a kadar bir sayi olmasidir. 10
7. Istem 1°e göre islem olup, özelligi; içerisinde (A) bilesenin (B) bilesene agirlik
8. Istem 1'e göre islem olup, özelligi; içerisinde poliolefinin, bir polietilen ya da bir polipropilen olmasidir.
9. Istemler 1 ila 8 arasinda herhangi birine göre islem olup, özelligi; içerisinde bilesenler (A) ve (B)7nin, film bir çoklu katmanli film ise, bir katmanli olmasidir.
10. Istem 1ie ait isleme göre yapilmis bir poliolefin film, bant ya da monofilament olmasidir.
11.Istem 1'de tarif edildigi 'üzere isik dengeleyici olarak bilesen (B)'nin kullanimi olup, özelligi; 'üretim sirasinda bir su banyosundan geçirilen ve istem 1*de tarif edildigi 'üzere isik dengeleyici olarak bilesen (A) içeren isik dengeleyicili bir poliolefin film, bant ya da monofilamentin su tasmasini azaltmasina yönelik olmasidir.
12. Çekme hizi 5 ila 100 m/ dak, olan bir su banyosu boyunca bahsedilen isik dengeleyicili poliolefin filmi, bant veya monofilamentin geçmesi asamasini içeren, bir isik dengeleyicili poliolefin filmi, bant veya monofilamentin hazirlanmasi için bir islem olup, özelligi; bahsi geçen poliolefin filmi, bant veya monofilamentin, istem 1'de tarif edildigi 'üzere bilesenler (A) ve (B) içermesi ile karakterize edilir.
13.Istem 12ie göre bir islem olup, özelligi; su banyosundan suyun tasinmasinin azaltilmasina yönelik olmasidir.
TR2019/01661T 2015-02-20 2016-02-16 Işik dengeleyi̇ci̇li̇ poli̇olefi̇n fi̇lmler, bantlar ve monofi̇lamentler TR201901661T4 (tr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP15155952 2015-02-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TR201901661T4 true TR201901661T4 (tr) 2019-02-21

Family

ID=52477738

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TR2019/01661T TR201901661T4 (tr) 2015-02-20 2016-02-16 Işik dengeleyi̇ci̇li̇ poli̇olefi̇n fi̇lmler, bantlar ve monofi̇lamentler

Country Status (18)

Country Link
US (2) US10689495B2 (tr)
EP (2) EP3473670B1 (tr)
JP (1) JP6835730B2 (tr)
KR (1) KR102556662B1 (tr)
CN (1) CN107250238B (tr)
AU (2) AU2016221803B2 (tr)
BR (1) BR112017017702B1 (tr)
CA (1) CA2975949C (tr)
DK (2) DK3473670T3 (tr)
ES (2) ES2804302T3 (tr)
PL (2) PL3473670T3 (tr)
PT (1) PT3259313T (tr)
RU (1) RU2691718C2 (tr)
SA (1) SA116370295B1 (tr)
TR (1) TR201901661T4 (tr)
TW (2) TWI708829B (tr)
WO (1) WO2016131791A1 (tr)
ZA (1) ZA201706212B (tr)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6475276B2 (ja) * 2017-03-10 2019-02-27 大日精化工業株式会社 難燃性マスターバッチ、難燃性樹脂組成物、及び成形品
CN112135871A (zh) * 2018-04-27 2020-12-25 陶氏环球技术有限责任公司 含有光稳定剂的聚合组合物

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1052501B (it) 1975-12-04 1981-07-20 Chimosa Chimica Organica Spa Composti politriazinici utilizzabili per la stabilizzazione di polimeri sintetici e procedimento per la loro preparazione
IT1060458B (it) 1975-12-18 1982-08-20 Chimosa Chimica Organica Spa Composti piperidil triazinici adatti per la stabilizzazione di polimeri sintetici e procedimento per la loro preparazione
CH626109A5 (tr) 1976-05-11 1981-10-30 Ciba Geigy Ag
GB2044272B (en) 1979-02-05 1983-03-16 Sandoz Ltd Stabilising polymers
US4331586A (en) 1981-07-20 1982-05-25 American Cyanamid Company Novel light stabilizers for polymers
IT1152192B (it) 1982-05-19 1986-12-31 Apital Prod Ind Composti per stabilizzare i polimeri
US5175312A (en) 1989-08-31 1992-12-29 Ciba-Geigy Corporation 3-phenylbenzofuran-2-ones
US5006587A (en) * 1989-09-25 1991-04-09 Amoco Corporation Polypropylene formulations containing small amounts of fluoborates to improve color and water carry-over
TW206220B (tr) 1991-07-01 1993-05-21 Ciba Geigy Ag
US5252643A (en) 1991-07-01 1993-10-12 Ciba-Geigy Corporation Thiomethylated benzofuran-2-ones
GB9127028D0 (en) * 1991-12-20 1992-02-19 Scott & Fyfe Ltd A method of producing a polyolefinic film by a water quench process
WO1995000313A1 (en) * 1991-12-20 1995-01-05 Scott & Fyfe Limited A method of producing a polyolefinic film by a water quench process
GB2262472B (en) * 1991-12-20 1995-05-24 Scott & Fyfe Ltd A method of producing a polyolefinic film by a water quench process
NL9300801A (nl) 1992-05-22 1993-12-16 Ciba Geigy 3-(acyloxyfenyl)benzofuran-2-on als stabilisatoren.
GB2267490B (en) 1992-05-22 1995-08-09 Ciba Geigy Ag 3-(Carboxymethoxyphenyl)benzofuran-2-one stabilisers
TW260686B (tr) 1992-05-22 1995-10-21 Ciba Geigy
MX9305489A (es) 1992-09-23 1994-03-31 Ciba Geigy Ag 3-(dihidrobenzofuran-5-il)benzofuran-2-onas, estabilizadores.
TW255902B (tr) 1992-09-23 1995-09-01 Ciba Geigy
TW401437B (en) 1995-02-10 2000-08-11 Ciba Sc Holding Ag Synergistic stabilizer mixture
TW358820B (en) 1995-04-11 1999-05-21 Ciba Sc Holding Ag Synergistic stabilizer mixture
TW390897B (en) 1995-07-21 2000-05-21 Ciba Sc Holding Ag Synergistic stabilizer mixture
US6046304A (en) 1995-12-04 2000-04-04 Ciba Specialty Chemicals Corporation Block oligomers containing 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl groups as stabilizers for organic materials
TW464670B (en) * 1996-08-07 2001-11-21 Ciba Sc Holding Ag Stabilizer mixtures containing a hindered amine
CA2287556C (en) 1997-05-27 2008-02-19 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Block oligomers containing 1-hydrocarbyloxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl groups as stabilizers for organic materials
US5844026A (en) 1997-06-30 1998-12-01 Ciba Specialty Chemicals Corporation N,N',N''-tris{2,4-bis Hydrocarbyloxy-2,2,6,6-tetra-methylpiperidin-4-yl)alkylamino!-s-triazin-6-yl}-3,3'-ethylenediiminodipropylamines, their isomers and bridged derivatives and polymer compositions stabilized therewith
ITMI980366A1 (it) 1998-02-25 1999-08-25 Ciba Spec Chem Spa Preparazione di eteri amminici stericamente impediti
IL133922A (en) * 1999-02-01 2005-03-20 Ciba Sc Holding Ag Compositions comprising polyolefins produced by polymerization over a metallocene catalyst and a stabilizer mixture and a method for stabilizing said polyolefins
GB0003326D0 (en) * 1999-02-25 2000-04-05 Ciba Sc Holding Ag Hydroxy-Substituted N-Alkoxy hindered amines
US6271377B1 (en) 1999-02-25 2001-08-07 Ciba Specialty Chemicals Corporation Hydroxy-substituted N-alkoxy hindered amines and compositions stabilized therewith
EP1263855B1 (en) * 2000-02-22 2008-03-12 Ciba SC Holding AG Stabilizer mixtures for polyolefins
JP5111712B2 (ja) * 2000-05-31 2013-01-09 チバ ホールディング インコーポレーテッド 安定剤混合物
AU2001276341B2 (en) * 2000-05-31 2006-06-08 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Stabilizer mixtures
JP5498638B2 (ja) * 2000-05-31 2014-05-21 チバ ホールディング インコーポレーテッド 安定剤混合物
EP1038912A3 (en) 2000-06-22 2000-12-27 Ciba SC Holding AG High molecular weight hindered hydrocarbyloxyamine stabilizers
GB0019465D0 (en) 2000-08-09 2000-09-27 Clariant Int Ltd Synergistic stabilizer for color stable pigmented thermoplastic polyners in prolonged contact with water
TW593303B (en) 2001-09-11 2004-06-21 Ciba Sc Holding Ag Stabilization of synthetic polymers
JP2003231777A (ja) * 2002-02-07 2003-08-19 Mitsui Chemicals Inc 農業フィルム用ポリオレフィン樹脂組成物および農業用フィルム
US20030225191A1 (en) * 2002-04-12 2003-12-04 Francois Gugumus Stabilizer mixtures
DE10221707A1 (de) * 2002-05-16 2003-12-04 Clariant Gmbh Polyolefin-Folien mit verbesserter Verarbeitbarkeit
CN102470633B (zh) 2009-07-23 2015-12-16 雷诺丽特比利时股份有限公司 具有聚丙烯基背板的光生伏打模块

Also Published As

Publication number Publication date
AU2016221803A1 (en) 2017-09-07
US11021585B2 (en) 2021-06-01
EP3259313A1 (en) 2017-12-27
TWI691583B (zh) 2020-04-21
CN107250238B (zh) 2019-08-20
EP3473670B1 (en) 2020-04-15
DK3259313T3 (en) 2019-03-25
BR112017017702A2 (pt) 2018-04-24
PL3473670T3 (pl) 2020-10-19
ZA201706212B (en) 2019-01-30
PL3259313T3 (pl) 2019-06-28
RU2691718C2 (ru) 2019-06-17
CA2975949A1 (en) 2016-08-25
TWI708829B (zh) 2020-11-01
DK3473670T3 (da) 2020-07-13
RU2017132700A3 (tr) 2019-04-09
KR102556662B1 (ko) 2023-07-19
AU2016221803B2 (en) 2019-08-08
SA116370295B1 (ar) 2016-12-06
AU2019204621B2 (en) 2020-01-30
JP6835730B2 (ja) 2021-02-24
US20180030222A1 (en) 2018-02-01
JP2018512466A (ja) 2018-05-17
EP3259313B1 (en) 2018-11-28
EP3473670A1 (en) 2019-04-24
ES2804302T3 (es) 2021-02-05
CA2975949C (en) 2024-01-02
US20200223996A1 (en) 2020-07-16
ES2713753T3 (es) 2019-05-23
AU2019204621A1 (en) 2019-07-18
PT3259313T (pt) 2019-02-19
CN107250238A (zh) 2017-10-13
KR20170118080A (ko) 2017-10-24
US10689495B2 (en) 2020-06-23
RU2017132700A (ru) 2019-03-20
TW201634669A (zh) 2016-10-01
WO2016131791A1 (en) 2016-08-25
BR112017017702B1 (pt) 2021-11-16
TW202010826A (zh) 2020-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU778032B2 (en) Transparent polymer articles of low thickness
AU2018297551B2 (en) A polyethylene pipe
US20140235766A1 (en) Stabilizing of Organic Material with Amino-Triazine Based Mannich-Compounds
US9034956B2 (en) Stabilizer composition for polymers
IL256931A (en) Additive mixture
AU2019204621B2 (en) Light stabilized polyolefin films, tapes and monofilaments
RU2800783C1 (ru) Смесь светостабилизаторов для полиолефиновой пленки, ленты или мононити
EP1112312B1 (de) Polymere zusammensetzung mit verbesserten glanzeigenschaften
GB2384486A (en) Bridged hydroxyphenyl triazine compounds
GB2377222A (en) Hydroxyphenyl triazine compounds