TR201808379T4 - Substratların metalik yüzeylerinin kaplanması için yöntem ve bu yönteme göre kaplanmış olan nesneler. - Google Patents
Substratların metalik yüzeylerinin kaplanması için yöntem ve bu yönteme göre kaplanmış olan nesneler. Download PDFInfo
- Publication number
- TR201808379T4 TR201808379T4 TR2018/08379T TR201808379T TR201808379T4 TR 201808379 T4 TR201808379 T4 TR 201808379T4 TR 2018/08379 T TR2018/08379 T TR 2018/08379T TR 201808379 T TR201808379 T TR 201808379T TR 201808379 T4 TR201808379 T4 TR 201808379T4
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- aqueous composition
- acid
- coating
- acids
- organic coating
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 127
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 110
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 82
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 36
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 121
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 51
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 49
- 239000001814 pectin Substances 0.000 claims description 22
- 235000010987 pectin Nutrition 0.000 claims description 22
- 229920001277 pectin Polymers 0.000 claims description 22
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 21
- 229920001448 anionic polyelectrolyte Polymers 0.000 claims description 19
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 19
- -1 kurdlans Polymers 0.000 claims description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 17
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 15
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 15
- 230000032050 esterification Effects 0.000 claims description 14
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 claims description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 12
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 10
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 10
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 claims description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 9
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 9
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 7
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 7
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229920002148 Gellan gum Polymers 0.000 claims description 6
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 6
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 6
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229920001586 anionic polysaccharide Polymers 0.000 claims description 5
- 150000004836 anionic polysaccharides Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 claims description 5
- 235000010492 gellan gum Nutrition 0.000 claims description 5
- 239000000216 gellan gum Substances 0.000 claims description 5
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 5
- OGSPWJRAVKPPFI-UHFFFAOYSA-N Alendronic Acid Chemical compound NCCCC(O)(P(O)(O)=O)P(O)(O)=O OGSPWJRAVKPPFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 4
- 229960004343 alendronic acid Drugs 0.000 claims description 4
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 claims description 4
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000499 gel Substances 0.000 claims description 4
- 229920005610 lignin Polymers 0.000 claims description 4
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 claims description 4
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 claims description 4
- 229920001308 poly(aminoacid) Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 claims description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 claims description 4
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 claims description 4
- 150000004804 polysaccharides Chemical class 0.000 claims description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 4
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 claims description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 102000008186 Collagen Human genes 0.000 claims description 3
- 108010035532 Collagen Proteins 0.000 claims description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 claims description 3
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 229920001436 collagen Polymers 0.000 claims description 3
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 claims description 3
- ZFTFOHBYVDOAMH-XNOIKFDKSA-N (2r,3s,4s,5r)-5-[[(2r,3s,4s,5r)-5-[[(2r,3s,4s,5r)-3,4-dihydroxy-2,5-bis(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]oxymethyl]-3,4-dihydroxy-2-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]oxymethyl]-2-(hydroxymethyl)oxolane-2,3,4-triol Chemical class O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)OC[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@](CO)(OC[C@@H]2[C@H]([C@H](O)[C@@](O)(CO)O2)O)O1 ZFTFOHBYVDOAMH-XNOIKFDKSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000945 Amylopectin Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000856 Amylose Polymers 0.000 claims description 2
- 241000416162 Astragalus gummifer Species 0.000 claims description 2
- 235000017399 Caesalpinia tinctoria Nutrition 0.000 claims description 2
- 229920000018 Callose Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002101 Chitin Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002670 Fructan Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002581 Glucomannan Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002527 Glycogen Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 claims description 2
- 238000006957 Michael reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 2
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 claims description 2
- 241000388430 Tara Species 0.000 claims description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 claims description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 claims description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical class CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000008272 agar Substances 0.000 claims description 2
- 235000010419 agar Nutrition 0.000 claims description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 claims description 2
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003139 biocide Substances 0.000 claims description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 2
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 2
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 claims description 2
- 150000003948 formamides Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 claims description 2
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 108020004707 nucleic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 claims description 2
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920001184 polypeptide Polymers 0.000 claims description 2
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 claims description 2
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 2
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 claims description 2
- 102000004196 processed proteins & peptides Human genes 0.000 claims description 2
- 108090000765 processed proteins & peptides Proteins 0.000 claims description 2
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 claims description 2
- 235000003441 saturated fatty acids Nutrition 0.000 claims description 2
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 claims description 2
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 claims description 2
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000004897 thiazines Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 claims description 2
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N vinylphosphonic acid Chemical class OP(O)(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001285 xanthan gum Polymers 0.000 claims description 2
- 239000003352 sequestering agent Substances 0.000 claims 3
- 241000206575 Chondrus crispus Species 0.000 claims 1
- 241001550206 Colla Species 0.000 claims 1
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 claims 1
- 239000004129 EU approved improving agent Substances 0.000 claims 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 claims 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical class C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920000591 gum Polymers 0.000 claims 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 claims 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 17
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- IAJILQKETJEXLJ-UHFFFAOYSA-N Galacturonsaeure Natural products O=CC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O IAJILQKETJEXLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- IAJILQKETJEXLJ-RSJOWCBRSA-N aldehydo-D-galacturonic acid Chemical compound O=C[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)C(O)=O IAJILQKETJEXLJ-RSJOWCBRSA-N 0.000 description 14
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 14
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 description 14
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 11
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 11
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 9
- 229920000867 polyelectrolyte Polymers 0.000 description 8
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 7
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 6
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 5
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 4
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 4
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N alpha-Methyl-n-butyl acrylate Natural products CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 3
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000013530 defoamer Substances 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- CUVLMZNMSPJDON-UHFFFAOYSA-N 1-(1-butoxypropan-2-yloxy)propan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)OCC(C)O CUVLMZNMSPJDON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKEHLQXXZMANPK-UHFFFAOYSA-N 1-[1-(1-propoxypropan-2-yloxy)propan-2-yloxy]propan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)OCC(C)OCC(C)O JKEHLQXXZMANPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxypropan-2-ol Chemical compound CC(O)COC1=CC=CC=C1 IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hexoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCOCCOCCO GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 2-hexoxyethanol Chemical compound CCCCCCOCCO UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBDHSURDYAETAL-UHFFFAOYSA-N 8-aminonaphthalene-1,3,6-trisulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=C2C(N)=CC(S(O)(=O)=O)=CC2=C1 UBDHSURDYAETAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100026735 Coagulation factor VIII Human genes 0.000 description 1
- 208000034656 Contusions Diseases 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000028 Gradient copolymer Polymers 0.000 description 1
- 101000911390 Homo sapiens Coagulation factor VIII Proteins 0.000 description 1
- OWIKHYCFFJSOEH-UHFFFAOYSA-N Isocyanic acid Chemical compound N=C=O OWIKHYCFFJSOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000046052 Phaseolus vulgaris Species 0.000 description 1
- 235000010627 Phaseolus vulgaris Nutrition 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 1
- XKMRRTOUMJRJIA-UHFFFAOYSA-N ammonia nh3 Chemical compound N.N XKMRRTOUMJRJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000012874 anionic emulsifier Substances 0.000 description 1
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 208000014117 bile duct papillary neoplasm Diseases 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010888 cage effect Methods 0.000 description 1
- 230000003047 cage effect Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 description 1
- 229920001525 carrageenan Polymers 0.000 description 1
- 235000010418 carrageenan Nutrition 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000002144 chemical decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 1
- 230000001609 comparable effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- IUYOGGFTLHZHEG-UHFFFAOYSA-N copper titanium Chemical compound [Ti].[Cu] IUYOGGFTLHZHEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012628 flowing agent Substances 0.000 description 1
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002363 hafnium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical group 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 description 1
- 150000002601 lanthanoid compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical group NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001455 metallic ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000013528 metallic particle Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229920006030 multiblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 description 1
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M phosphonate Chemical compound [O-]P(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000088 plastic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001485 poly(butyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 239000013615 primer Substances 0.000 description 1
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 229920006301 statistical copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- UOCLRXFKRLRMKV-UHFFFAOYSA-N trolnitrate phosphate Chemical class OP(O)(O)=O.OP(O)(O)=O.[O-][N+](=O)OCCN(CCO[N+]([O-])=O)CCO[N+]([O-])=O UOCLRXFKRLRMKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229940117958 vinyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1635—Composition of the substrate
- C23C18/1637—Composition of the substrate metallic substrate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/14—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to metal, e.g. car bodies
- B05D7/142—Auto-deposited coatings, i.e. autophoretic coatings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/14—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to metal, e.g. car bodies
- B05D7/16—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to metal, e.g. car bodies using synthetic lacquers or varnishes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/08—Anti-corrosive paints
- C09D5/088—Autophoretic paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1689—After-treatment
- C23C18/1692—Heat-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/1803—Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/14—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to metal, e.g. car bodies
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
Buluş yüzeylerin kaplanması için bir yöntem, uygun bir kaplama-, ayrıca bu yöntem ile kaplanan nesnelerin kullanımı ile ilgilidir.
Description
TARFNAME
SUBSTRATLARIN METALIK YUZEYLERININ KAPLANMASI içiN YONTEM VE BU
YONTEME GORE KAPLANMIS OLAN NESNELER
Bulus yüzeylerin kaplanmasi için bir yöntem, uygun bir kaplama-, ayrica bu yöntem ile
kaplanan nesnelerin kullanimi ile ilgilidir. Ozellikle metalik yüzeylerin daldirma yöntemi
ile homojen kaplamalar elde etmek için çok sayida yöntemler bilinmektedir. Burada
özellikle korozyona karsi koruma kaplamalarinin elde edilmesi için agirlikli olarak
organik bir matriksten ve/veya organik ve/veya inorganik ilave komponentlerden olusan
tercihen asagidaki teknikler kullanilir.
Birlestirilmis bir malzemenin tam olarak bir kaplanmasini saglamak için, klasik
yöntemler kullanilan formülasyonlarin reolojik özelliklerinden yararlanilmasina dayanir.
Her ne kadar ilgili malzemenin daldirma sürecinden sonra kesintisiz bir rotasyonu ile
kaplama materyalinin kritik noktalarda toplanmasi azaltilabilse de, bu yönteme göre tam
homojen bir kaplamanin saglanmasi mümkün degildir. Ayrica da kurutma veya/ve ag
yapilasma sürecinde yüksek kaplama miktarlarinin oldugu noktalarda hatalar, örnegin
kabarcik olusmasi ve çürümeler meydana gelebilir, bu bütün kaplamanin kalitesini
olumsuz yönde etkiler.
Elektroforetik yöntemler bu sorunu çözer, bunun için elektrik akimi daldirma sirasinda
esit bir kaplamanin olusmasi için elektrik akimi kullanilir. Bu yöntem ile metalik
malzemeler üzerinde homojen bir kaplamanin elde edilmesi saglanir. Olusan
kaplamalar metalik zemin üzerinde islak durumda oldukça iyi bir tutunma gösterir, bu
kaplama çözülmeksizin malzemenin sonradan gelen bir yikama asamasinda muamele
edilmesine olanak saglar. Böylece malzeme üzerinde önceden adi geçen zor ulasilabilir
noktalar fazla lak çözeltisinden arindirilir ve böylece kurutma sirasinda hatali noktalar
olusmaz. Bu teknigin dezavantaji kullanilan elektrik enerjisi miktarinin yaninda ve
maliyeti yüksek olan uygun daldirma havuzlarinin yaninda, ayni zamanda da kenardan
kaçislarin ortaya çikmasidir, zira elektriksel alanlar makroskopik kenarlarda homojen bir
sekilde olusmaz ve kenarlar esit olmayan bir sekilde ve yetersiz ölçüde kaplanir. Ayrica
malzemenin yapilanmasinda bos hacimler olmamalidir, zira bu noktalarda Faraday
kafesi fenomeni ile kiyaslanabilir bir etki ortaya çikar. Malzemenin bu noktalarinda
kaplama için gereken elektrik alaninin azaltilmasi nedeniyle, bu yöntemde malzemenin
bu bölgelerinde kaplama olusmaz veya çok azalmistir (tutunma problemi), bu kaplama
kalitesinin olumsuz bir sekilde etkilenmesine yol açar. Buna ilave olarak bu teknik
elektrikli bir daldirma ile Iaklamada (ETL) örnegin katodik daldirma Iaklamasinda (KTL)
asagidaki dezavantajlari gösterir: Uygun bir daldirma banyosu bütün elektriksel ve
mekanik düzenekler ile, sicaklik kontrolü, elektrik besleme ve elektrik izolasyonu,
sirkülasyon düzenegi ve besleme düzenegi, elektrolitik kaplamada olusan anolit asidin
aritilmasi ve lak sirkülasyonu için ultrafiltrasyon, ayrica kontrol sistemi çok karmasik bir
dizayndir. Proses yönetimi çok üst düzeyde teknik bir külfet gerektirir, örnegin büyük
akim siddetleri ve enerji miktarlari nedeniyle, elektriksel parametrelerin banyo hacmi
üzerinde dengelenmesinde ve bütün proses parametrelerinin hassas bir sekilde
ayarlanmasinda, ayrica bakim ve onarimda ve tesisin temizlenmesinde.
Bilinen elektroforetik yöntemler akimsiz bir konsepte dayanir, bu kullanilan substrat
yüzeyinin bir daglama müdahalesinden meydana gelir, burada metal iyonlari çözülür ve
metalik iyonlarin konsantrasyonu nedeniyle meydana gelen ara yüzeylerde bir
emülsiyon koagüle olur. Her ne kadar bu yöntem Faraday kafesi efekti baglaminda
elektrolik yöntemin yukarida açiklanan sinirlamalarini göstermese de, proses esnasinda
meydana gelen kaplamalar birinci aktivasyon kademesinden sonra külfetli çok kademeli
bir daldirma yönteminde sabitlenmelidir. Bunun ötesinde daglama müdahalesi aktif
bölgenin metal iyonlari ile önlenemez bir kirlenmesine yol açar, bunlar bölgelerden
uzaklastirilmak zorundadir. Yöntem ayrica kimyasal bir ayrisma prosesine dayanir, bu
kendi kendine regüle edici degildir ve ihtiyaç halinde ara verilemez yani kesilemez,
örnegin elektrolitik yöntemde elektrik akiminin kapatilmasi gibi. Böylece metalik
substratin uzun bir bekleme süresinde aktif bölgelerde fazla büyük kaplama kalinliklari
önlenemez.
için bir yöntem bilinir, burada yüzey önce aktivasyon maddeleri ile kaplanir, bu madde
yükler olusturur ve daha sonra bir kaplama film olusmasi için uygun bir polimer
dispersiyonu ile gerçeklesir, bu aktivasyon tabakasinin yüküne karsi bir yük içerir.
olarak en azindan su içinde çözünür veya su içinde disperse olabilir plastik reçine ayrica
film olusmasi gereken veya bunu iyilestiren katkilar içeren bilesenler ile metalik
yüzeylerin kaplanmasi için bir yöntemi tarif eder. Bilesimin ayrismasi otoforez ile
gerçeklesir.
uygulanmadan kaplanmasi bilinir, burada yüzey önce aktivasyon maddeleri ile kaplanir,
bu kaplama aktivasyon maddesi olarak katyonik bir polielektrolit veya bunun tuzunu
içerir. Sulu, polimer içeren bir bilesim ile kaplama için daha sonra anyonik, dipolar
iyonik, sterik veya katyonik stabilize edilmis polimer dispersiyonlari kullanilir.
polielektrolit komplekslerini tarif eder. Bu polielektrolit kompleksleri su-su emülsiyon
polimerizasyonu ile üretilen dispers bir polielektroliti sulu dispersiyon halinde veya
anyonik bir polimerden ve katyonik bit tensitten üretilen bir polielektrolit kompleksi içerir.
WO 00/01783 A2 dokümanindan ayrica sulu bir yapistirici madde dispersiyonu bilinir,
bu yapiskan 'özellikte olan polimerin yani sira anyonik veya katyonik bir polielektroliti
ayrica gerektiginde bir polialkilenglikol içerir. Bu dispersiyonlar yapistirici madde olarak
çok katmanli kagitlarin elde edilmesinde kullanilir.
Uzun zamandan beri üzerinde durulan amaç, daldirma prosesinde homojen bir
kaplamayi etkin ve uygun bir maliyetle gerçeklestirmektir, boylece buradan olabildigince
kapali ve esas olarak kaplamalar büyük kalinliklarda elde edilir.
Bu nedenle bu bulusun görevi, bir yöntemi sunmaktir, bu yöntem ile sivi bir sistem
üzerinden ve ihtiyaç halinde ayni zamanda da metalik yüzeylerde yikamaya karsi
dirençli, homojen, yüzeyi tamamen kapatan bir lak formülasyonu kolay bir sekilde
çökelebilmelidir. Ayrica bir görev de olabildigince basit bir yöntemi sunmaktir.
Bu görev substratlarin metalik yüzeylerinin kaplanmasi için bir yöntem ile çözülür, bu
yöntem asagidaki kademeleri içerir veya bu kademelerden meydana gelir:
l. Bir substratin temizlenmis metalik bir yüzey ile hazirlanmasi,
ll. Metalik yüzeylerin dispersiyon ve/veya süspansiyon formunda sulu bilesim ile
temasa getirilmesi veya kaplanmasi,
lll. Gerektiginde organik kaplamanin yikanmasi ve
lV. Organik kaplamanin kurutulmasi veya/ve firinlanmasi
V. Gerektiginde organik kaplamanin kurutulmasi ve benzer türde veya diger kaplama
bilesenleri ile kurutmadan veya/ve firinlamadan önce kaplanmasi,
özelligi,
kademe lI içinde kaplamanin dispersiyon ve/veya süspansiyon formunda sulu bir
bilesim ile gerçeklesmesidir, burada film olusturan polimerlerden bir dispersiyona kati
madde içerigi 2 ila 40 agirlik - % ve ortalama bir partikül büyüklügü 10 ila 1000 nm en
azindan anyonik bir polielektrolit, elde edilen karisimin toplam kütlesi bazinda 0,01 ila
,0 agirlik - % ilave edilir, burada sulu bilesimin pH degeri 4 ila 11 arasindadir ve
kaplama iyonojen bir jel bazinda olusur, bu metalik yüzeyden çözülen katyonlari baglar
ve bu katyonlar ön muamele kademesinden ve/veya kademe ll içinde temasa
getirmeden kaynaklanir.
Bulusa uygun kaplama tek katmanli bir yapi gösterir, burada ister az veya çok homojen
bir kaplama veya bir kaplama olusur veya bulunabilir, burada partiküller metalik yüzeye
yakin bölgede biraz daha fazla toplanir.
Metalik yüzeye sahip kaplanacak substratlar bulusa göre su anlama gelir: metaller,
metalik kaplanmis yüzeyler veya primerler ile muamele edilmis metal yüzeyler, bu
yüzeylerden metal katyonlari çözülebilir. Ozellikle "kaplanacak yüzey(ler)" adi altinda bu
bulus kapsaminda metalik nesnelerin veya/ve metalik partiküllerin yüzeyleri anlasilir,
bunlar gerektiginde örnegin metalik bir kaplama ile, örnegin çinko veya çinko alasimlari
bazinda veya/ve bir ön muamelenin veya kromat, Cr3*, Ti bilesigi, Zr bilesigi,
silan/silanol/siloksan/polisiloksan ve/veya organik polimer bazinda muamele bilesiminin
bir kaplamasi ile önceden kaplanmis olabilir_
Metalik mazemeler adi altinda esasen metalik malzemelerin bütün türleri anlasilir,
özellikle aluminyum, demir, bakir titan, çinko, kalay veya/ve aluminyum, demir, çelik,
bakir, magnezyum, nikel, titan, çinko veya/ve kalay alasimlari, burada bunlarin kullanimi
ayni zamanda da birbirine yakin veya/ve birbiri ardina gerçeklesebilir. Malzeme
yüzeyleri gerektiginde bir ön kaplamaya tabi tutulur veya/ve tutulmustur, örnegin çinko
veya alüminyum veya/ve çinko içeren alasimlar ile.
Kaplanacak nesneler olarak esasen bütün türden nesneler kullanilabilir, bunlar metalik
bir malzemeden meydana gelir veya en azindan metalik bir kaplama ile donatilmistir.
Ozellikle tercih edilen bu nesneler özellikle bantlar (coils), saçlar, parçalar küçük
parçalar, birlestirilmis komponentler, komplike bir sekilde form verilmis komponentler,
profiller, çubuklar veya/ve tellerdir.
(= süspansiyon veya/ve emülsiyon) ile kaplamada bilesimin, sonraki kaplamalarin
üretimi için bilinen elektrolitik yöntemlerden farkli olarak disaridan 100 V altinda bir
gerilime baglanmasidir.
Tercihen bulus bir yöntem ile ilgilidir, burada anyonik polielektrolitler a) en azindan bir
polisakaridi glikojenler, amilozlar, amilopektinler, kallozlar, agar, alginler, alginatlar,
pektinler, karragenler, selülozlar, kitinler, kitosanlar, kurdlanlar, dekstranlar, fruktanlar,
kollajenler, gellan gum, gum arabik, nisastalar, ksantanlar, tragant, karayanlar, tara
çekirdek unu ve glukomannanlar bazinda; b) en azindan dogal kökenli anyonik bir
polielektroliti poliaminoasitler, kollajenler, polipeptidler, ligninler, ve/veya 6) en azindan
sentetik bir anyonik polielektrolitleri poliaminoasitler, poliakrilik asitler, poliakrilik asit
kopolimerleri bazinda, akril amid kopolimerleri, ligninler, polivinilsülfonik asit,
polikarboksilik asitler, polifosforik asitler veya polistiroller bazinda içermesi veya bundan
meydana gelir.
Tercihen bulusa uygun yöntem, burada sulu bilesim veya/ve bundan elde edilen organik
kaplama en azindan katyonlarin bir türünü içerir, bunlar katyonik etkili tuzlar bazinda
seçilir, bu tuzlar metamin tuzlari, nitroso tuzlari, oksonyum tuzlari, amonyum tuzlari,
kuaterner azot katyonlari olan tuzlar, amonyum derivatlarinin tuzlari ve Al, B, Ba, Ca,
Cr, C0, Cu, Fe, Hf, In, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Ni, Pb, Sn, Ta, Ti, V, W, Zn veya/ve
Zr metal tuzlari içinden seçilir.
fazla degisik monomer birimlerinden olusmustur. Burada kopolimerler bes sinifa ayrilir,
biner bir komonomere dayanarak açiklanir, bu iki degisik komonomerlerden A ve B
yapilmistir:
1. Statistik kopolimerler, bunlar içinde her iki monomerin zincir içindeki dagilimi
tesadüftür (AABABBBABAABBBABBABAB....);
2. Gradyan kopolimerler, prensipte statistik kopolimerlere benzer, ancak zincir içinde
bir monomerin degisen orani ile (AAAAAABAABBAABABBBAABBBBBB);
3. Dönüsümlü veya degisen kopolimerler zincir boyunca monomerlerin muntazam
4. Blok kopolimerler, bunlar her monomerin uzun sekanslarindan veya bloklarindan
meydana gelir (AAAAAAAAABBBBBBBBBBBB...), burada bloklarin sayisina göre
ayni zamanda da diblok, triblok, multiblok kopolimerden söz edilir;
. Pihti kopolimerler, bunlarda bir monomerin bloklari diger bir monomerin karkasi
(omurgasi) üzerine pihtilastirilir.
Bu bulus kapsaminda "derivatlar" adi altinda ana maddeye benzer strüktürde türetilmis
bir madde anlasilir. Derivatlar öyle maddelerdir ki, bunlarin molekülü bir H atomu yerine
veya fonksiyonel bir grup yerine diger bir atom veya atom grubu içerir veya burada bir
veya birçok atom/atom grubu uzaklastirilmistir.
Bu bulus kapsaminda polimer(ler)" " adi altinda monomer(ler), 0Iigomer(ler),
polimer(ler), kopolimer(ler), blok kopolimer(ler), pihti kopolimer (ler), bunlarin karisimlari
veya bunlarin esas olarak organik veya/ve esas olarak organik bazda bilesimleri
anlasilir. Yaygin olarak "polimer(ler) bu bulus kapsaminda agirlikli olarak veya
tamamen polimer(ler) veya/ve kopolimer (ler) olarak bulunur.
Ozellikle tercih edilen sulu bilesim veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin
organik partiküllerin poliakrilatlar, poliüretanlar, poliepoksitler ve/veya bunlarin hibridleri
bazinda oldugu bulusa uygun yöntemdir. Bilinen adiyla poliakrilat-poliüretan hibrid
reçineleri tip itibariyle hibrid sistem içinde farklilik gösterir, degisik dispersiyonlarin
sadece karistirilmasiyla elde edilir (harman veya formülasyon), bunlarin bir kismi
degisik polimer türleri arasinda kimyasal bir bilesigi ve bir kismi içinde degisik polimer
siniflari birbiri içine girmis ag yapilar (IPN) olusturur.
Yaygin olarak bu tür poliüretan-poliakrilat hibrid dispersiyonlari sulu bir poliüretan
dispersiyonu içinde bir vinilol polimerizatin ("poliakrilat") emülsiyon polimerizasyonu ile
elde edilir. Fakat ayni zamanda da poliüretan-poliakrilat hibrid dispersiyonunu sekonder
dispersiyon olarak üretmek mümkündür.
Sulu poliüretan-poliakrilat hibrid dispersiyonlari yaygin olarak bifonksiyonel bir epoksidin
bifonksiyonel amin monomer yapi elemanlari ile adisyon reaksiyonlari ve bunun
ardindan yeterli karboksil fonksiyonu olan bir poliakrilat ile reaksiyonu ile elde edilir.
Dispers olma kabiliyeti poliüretan sekonder dispersiyonunda oldugu gibi `örnegin aminler
ile anyonik gruplara dönüstürülen karboksilat gruplari ile ve bunun ardindan su içinde
dispersiyon ile saglanir. Substrat üzerinde bir katmanin olusmasi için hibrid
dispersiyonlari poliüretan ve poepoksit bilesenleri yani sira tercihen ayni zamanda da
polivinilalkoller, polivinilasetatlar, polibutilakrilatlar ve/veya diger akrilik asit esterleri
bazinda organik polimerler ve/veya kopolimerleri içerebilir. Akrilikasit esterleri bir ester
grubudur, bu akrilik asitten (CH2=CH-COOH) türetilir ve böylece (CH2=CH-COOR)
fonksiyonel grubunu tasir. Büyük miktarlarda akrilik asit metilester, akrilik asit etil ester,
akrilik asit butil ester, etilhekzakrilat üretilmektedir. Akrilik asit esterin ana kullanim
sahasi homo ve kopolimerler, bunlar örnegin akrilik asit, akrilamidler, metakrilatlar,
akrilnitril, fumarik asit, itakonik asit, maleatlar, vinilasetat, vinilklorür, stirol, butadien ve
doymamis poliesterler, poliepoksitesterler, poliakrilamidler, poliakrilik asitler,
polikarbonatlar, poliesterler, polieterler, polistirolbutadienler, poli(met)akrilik asit
esterleri, polivinilasetat kopolimerleri akril asit esterleri ile ve/veya kopolimerler
dibutilmaleinat ile ve/veya en azindan bir Koch asidinin vinilesterler ile, polietilenler,
polivinilklorürler, poliakrilnitriller, poliepoksitler, poliüretanlar, poliakrilatlar
polimetakrilatlar, poliesterler, poliamidler, politetrafloretilenler, poliisobutadienler,
poliisoprenler, silikonen, silikon kauçuklar ve/veya bunlarin derivatlarini içerir. Bunlar
özellikle en azindan 50 agirlik - %'ye kadar aktif madde ve kati maddeyi sulu bilesim
içinde içerir.
sivi bir bilesim ile temas etmesidir), burada daha sonra gerektiginde sonraki bir kaplama
sürecinde, diger bir kaplamanin katman sirasini ve nesneyi korumak üzere, 'Örnegin en
azindan bir lakin tatbik edilmesidir.
Bir yüzeyin yüzeyi elektrostatik olarak yüklemeye yardimci olan bir aktivasyon maddesi
ile aktive edilmesinden önce bir `Ön muamelesinde, muamele edilecek yüzey ihtiyaç
halinde önce alkalik olarak temizlenir ve gerektiginde ön muamele için bir bilesimle
temasa getirilir, sonuncusu özellikle bir korozyondan koruma tabakasini olusturmak
içindir. Daha sonra bu tür muameleye tabi tutulmus olan veya/ve kaplanmis olan
yüzeyler gerektiginde bir primer veya/ve gerektiginde bir koruma katmani, 'özellikle bir
korozyondan koruma primeri ile kaplanir veya/ve gerektiginde yaglanir. Bu yaglama
ozellikle muamele görmüs veya/ve kaplanmis metalik yüzeylerin geçici bir korunmasi
için ong'orülür.
On muamele olarak esasen her türlü ön muamele mümkündür: Ornegin sulu Ön
muamele bilesimleri fosfat, fosfonat, silan/silanoI/siloksan/ polisiloksan, lantanid bilesigi,
titan bilesigi, hafniyum bilesigi, zirkonyum bilesigi, asit, metal tuzu veya/ve organik
polimer bazinda kullanilir.
Kaplanmis bu substratin diger muamelesinde ihtiyaç halinde, önceden yag bulasmasi
olup olmadigindan bagimsiz olarak, 'özellikle alkalik bir temizleme gerçeklesir.
Bir korozyondan koruma primeri içeren bir kaplama örnegin kaynak primeri ilave olarak
korozyon korumasini özellikle bos hacimlerde ve bir substratin zor ulasilabilir
partilerinde, form verilme sirasinda veya/ve bükülmede örnegin bükmede, yapistirmada
veya/ve kaynak yapmada saglar. Endüstriyel planda bir korozyondan koruma primeri
özellikle, eger bununla kaplanan substrat, örnegin bir saç kaplamadan sonra
korozyondan koruma primeri ile form alir veya/ve diger komponentler ile doldurulursa ve
eger diger kaplamalar daha sonra tatbik edilirse, kullanilir. Eger bu yöntem sürecinde
ayrica bir korozyondan koruma primeri aktivasyon tabakasi altinda ve partikül
kaplamasi altinda uygulanirsa, bu durumda oldukça daha iyilestirilmis bir korozyon
korumasi saglanir.
ve yöntem süreci sartlari altinda son kaplamanin bir yikama süreci içinde (=yikama)
tamamen uzaklastirilamamasi, böylece bir kaplamanin tercihen kapali bir kaplamanin
elde edilebilmesidir.
Bulusa uygun yöntemde partiküller olarak en farkli partikül türleri, partiküller büyüklükleri
ve partikül formlari kullanilir.
Sulu bilesim içinde katman olusmasi için partiküller olarak tercihen oksitler, hidroksitler,
karbonatlar, fosfatlar, fosfosilikatlar, silikatlar, sülfatlar, organik polimerler ve
kopolimerler ve bunlarin derivatlari, vakslar ve/veya özellikle korozyondan koruma
pigmentleri, organik polimerler, vakslar bazinda bilesik partiküller ve/veya bunlarin
karisimlari kullanilir. Bunlarin tercihen partikül büyüklügü 5 nm ila 15 pm, 8 nm ila 5 pm,
nm ila 600 nm veya 50 nm ila 500 nm arasinda yer alir. Bunlar tercihen su içinde
çözünür olmayan partiküllerdir.
Bilesik partiküller bir partikül içinde en azindan iki degisik maddenin bir karisimini içerir.
Bilesik partiküller siklikla çok degisik özelliklerde maddeler içerir. Bunlar örnegin kismen
veya tamamen bir lak için bilesim içerir, hatta gerektiginde partikül olmayan bir madde
ile, örnegin tensid, köpük giderici, dispersasyon maddesi, lak yardimci maddesi, diger
türden aditifler, boyar madde korozyon inhibitörü, su içinde zor çözünür korozyondan
koruma pigmenti veya/ve uygun karisimlar için bilinen veya/ve yaygin olan maddeler.
Bu tür lak bilesenleri örnegin organik kaplamalarda form degisikligi için, korozyondan
koruma primeri için ve diger primeleri, boya Iaklari, dolgu maddesi veya/ve berrak Iaklar
uygundur veya/ve sikça kullanilir.
Bir korozyondan koruma primeri genel olarak elektrik iletken partiküller içerir ve
elektrikle kaynak yapilabilir. Genel olarak burada sunlarin kullanilmasi tercih edilir: a)
kimyasal veya/ve fiziksel degisik türde partiküllerin karisimi, b) kimyasal veya/ve fiziksel
degisik türde partiküllerin, agregalari veya/ve aglomeratlari veya/ve c) bilesim içinde
karistirilmis partiküller veya/ve bundan olusan partikül katmani.
Partiküller içeren bilesimin veya/ve bundan olusan partikül katmaninin en azindan bir tür
partikül yaninda ayni zamanda da en azindan partiküler olmayan madde içermesi,
özellikle aditifler, boyar maddeler, korozyon inhibitörleri veya/ve su içinde az çözülen
korozyondan koruma pigmentleri içermesi, belki tercih edilebilir. Bilesim içinde veya/ve
bundan olusan partikül katmani içinde özellikle partiküller olarak renkli veya/ve
gerektiginde ayni zamanda da sinirli bir oranda elektrik iletken partiküller, özellikle
fulleren'ler ve grafit strüktürüne benzer diger karbon bilesikleri bazinda veya/ve karbon
siyahi, gerektiginde ayni zamanda da nano konteyner veya/ve nano borucuklar
bulunabilir. Diger taraftan özellikle partiküller olarak bilesimde veya/ve buradan olusan
kaplama ile kaplanmis partiküllerde, kimyasal veya/ve fiziksel modifiye edilmis
partiküller, çekirdek-kabuk partikülleri, degisik maddelerin bilesim haline getirilmis
partikülleri veya/ve nano-konteyner kullanilir.
Bulusa uygun yöntemde tercih edilen, partikülleri içeren bilesimin, bundan olusan
partikül katmaninin veya/ve bundan örnegin film olusturularak veya/ve ag yapilasan
kaplamanin en azindan bir tür partiküller yaninda ayni zamanda da en azindan bir
boyar madde, bir boya pigmenti, bir korozyondan koruma pigmenti, bir korozyon
inhibitörü, bir iletkenlik pigmenti, diger türden partiküller, bir silan/silanoI/siloksan/
polisiloksan/silazan/ polisilazan, bir lak aditifi veya/ve bir aditifi örnegin en azindan bir
tensid, bir köpük giderici veya/ve bir dispersasyon maddesi içermesidir.
Bulusa uygun yöntemde tercihen edilen bilesimin veya/ve bundan elde edilen
kaplamanin en azindan bir tür partiküller ve gerektiginde en azindan partiküler olmayan
bir maddenin yani sira kismen veya tamamen kimyasal bir bilesimi bir primer, bir lak,
örnegin bir dolgu maddesi, bir örtü Iaki veya/ve bir berrak lak için içermesidir.
Partiküllerin organik polimerlerine katki olarak birçok uygulama formunda pigmentler
veya/ve aditifler tavsiye edilir, aynen Iaklarda veya/ve primerlerde siklikla kullanildigi
Bir film olusmasi termoplastik polimerlerin ilavesiyle veya/ve geçici yumusatici olarak
hizmet eden maddelerin ilavesiyle, iyilestirilir. Film olusturma yardimci maddeleri
spesifik çözücü madde olarak etki eder, bunlar polimer taneciklerinin yüzeyini yumusatir
ve böylece bunun ergimesine olanak saglar. Burada eger yumusatici maddeler, polimer
taneciklerine uzun süre etki etmek için, bir taraftan uzun bir süre sulu bilesim içinde
kalirsa ve daha sonra buharlasir ve film içinden uçarsa, avantaj saglar. Ayrica eger ayni
zamanda da yeterince uzun kurutma prosesi esnasinda bir bakiye su miktari kalirsa,
avantajlidir.
Ozellikle avantajli film Olusturucu maddeler olarak bilinen adiyla uzun Zincirli alkoller,
özellikle 4 ila 20 C atomlu verilebilir, örnegin:
bir butandiol,
bir butilglikol,
bir butildiglikol,
bir etilenglikoleter, Örnegin etilenglikolmonobutileter,
etiIenglikolmonoetileter,
etilenglikolmonometileter,
etilglikolpropileter,
etilenglikolhekzileter,
dietilenglikolmetileter,
dietilenglikoletileter,
dietilenglikolbutileter,
dietilenglikolhekzileter veya bir
polipropilenglikoleter 'örnegin
propilenglikolmonometileter,
dipropilenglikolmonometileter,
tripropilenglikolmonometileter,
propilenglikolmonobutileter,
dipropiIenglikolmonobutileter,
tripropilenglikolmonobutileter,
propiIenglikolmonopropileter,
dipropiIenglikolmonopropileter,
tripropilenglikolmonopropileter,
propilenglikolfenileter,
trimetilpentandioldiisobutirat,
bir politetrahidrofuran,
bir polieterpoliol veya/ve bir poliesterpoliol.
Bir ag yapilasma örnegin belli reaktif gruplar ile örnegin isosiyanat-, isosiyanurat-
veya/ve melamin gruplari ile gerçeklesir.
Tercihen sonraki kaplama öyle bir tarzda kurutulur ki, özellikle mevcut olan organik
polimer partikülleri film haline gelir, böylece ileri derecede veya tamamen homojen bir
kaplama elde edilir. Kurutma sicakliklari burada bazi uygulama formlarinda öyle bir
sekilde seçilir ki organik polimer bilesenleri bir ag yapisi olusturabilir.
Bulusa uygun yöntemde bütün uygulama formlarinda tercih edilen esas olarak organik
partiküller içeren bir partiküller tabaksinin olusmasi ve örnegin kurutma sirasinda film
olusturmasi veya/ve ag yapi meydana gelmesidir. Film olusmasi bazi uygulama
formlarinda ayni zamanda film olusturma yardimci maddeleri olmaksizin da gerçeklesir.
Burada kaplama partikülleri, özellikle büyük ölçüde veya tamamen organik polimer
olarak bulunuyorsa, tercihen esas olarak kapali veya kapali kaplama olarak film olusur,
özellikle kurutma sirasinda. Burada siklikla tercih edilen büyük ölçüde veya tamamen
organik polimer olarak bulunan bir kaplamanin kurutma sicakligi öyle bir sekilde
seçilmesidir ki, esas olarak kapali veya kapali bir kaplama olusur. Ihtiyaç halinde film
olusmasi için en azindan bir film olusturma yardimci maddesi ilave edilir, özellikle en
azindan uzun zincirli bir alkol bazinda. Birçok partikül katmanlarinin üst üste geldigi
uygulama formlarinda tercihen öce bütün partikül katmanlari olusturulur ve daha sonra
birlikte film haline getirilir veya/ve bir ag yapi kazandirilir.
En azindan film olusturma yardimci maddesinin miktari sulu bilesim - özellikle banyo
içinde - aktif madde de dahil olmak üzere katimadde bazinda, tercihen 0,01 ila 50 g/L,
Film olusturma yardimci maddesinin miktarinin sulu bilesim içindeki miktarina orani -
özellikle banyo içinde - genis bir aralikta degisebilir; bu özellikle 5 (100 : 0,1) olabilir.
ila 100: 1 araligindadir.
Burada genelde tercih edilen kurutma, film olusturma veya/ve ag yapilanmasinin 5 ila
gerçeklesmesidir, özellikle tercihen sicaklik araligi 16 ila 40 T: olup, firin sicakligi
veya/ve peak-metal sicakligi (PMT) bazindadir. Seçilen sicaklik araligi organik ve
gerektiginde inorganik bilesenlerin türü ve miktarina ve gerektiginde ayni zamanda da
film olusma sicakligi veya/ve ag yapilasma sicakliklarina baglidir.
Tercihen bulus bir yöntem ile ilgilidir, burada sulu bilesim veya/ve buradan elde edilen
organik kaplama içerigi metal katyonlari için en azindan bir kompleks Olusturucu veya
bir polimer miktarini içerir, bu metal katyonlari kompleks yapilarak modifiye edilmistir.
Ozellikle tercih edilen bulusa uygun bir yöntemdir, burada sulu bilesim veya/ve buradan
elde edilen organik kaplama en azindan bir kompleks Olusturucu madde miktarini içerir
bu kompleks Olusturucu maleik asit, alendronik asit, itakonik asit, sitrakonik asit,
mesakonik asit veya bu karboksilik asitlerinanhidritleri veya yarim esterleri bazindadir.
Avantajli bir sekilde sulu bilesim veya/ve buradan elde edilen organik kaplama en
azindan bir em'ulgatör miktarini içerir.
Ozellikle tercihen sulu bilesim veya/ve buradan elde edilen organik kaplama en azindan
bir emülgatör miktarini anyonik em'ulgat'or bazinda içerir.
Tercihen sulu bilesim veya/ve buradan elde edilen organik kaplama en azindan iki
degisik anyonik polielektrolitlerden bir karisim içerir.
Ozellikle tercihen sulu bilesim veya/ve buradan elde edilen organik kaplama iki
pektinden bir karisim içerir.
Ayrica tercihen sulu bilesim veya/ve buradan elde edilen organik kaplama en azindan
anyonik bir polisakaridi karboksi fonksiyonunun esterlesme derecesi, toplam alkol ve
karboksi grubu bazinda 5 ila 75 % olanlar içinden seçilerek içerir.
Çok ozellikle tercihen sulu bilesim veya/ve buradan elde edilen organik kaplama en
azindan anyonik bir polisakaridi veya/ve en azindan anyonik bir polielektroliti, molekül
Tercihen sulu bilesim veya/ve buradan elde edilen organik kaplama en azindan anyonik
bir polisakaridi veya/ve en azindan bir anyonik polielektroliti karboksi fonksiyonlarinin
amidize olma derecesi 1 ila 50 %, karboksi fonksiyonlarinin bir epoksilize olma derecesi
80 %'e kadar olanlar içinden seçilerek içerir.
Ozellikle bulusa uygun yöntemde tercih edilen anyonik polielektrolitlerin tutunmayi
saglayan tutunma gruplari ile modifiye edilmesi veya modifiye edilmis olmasidir, bunlar
su grup içinden seçilir: multifonksiyonel epoksitler, isosiyanatlar, primer aminler,
sekonder aminler, tersiyer aminler, kuaterner aminler, amidler, imidler, imidazoller,
formamidler, Michael-reaksiyonu ürünleri, karbodimidler, karbenler, siklik karbenler,
siklokarbonatlar, multifonksiyonel karboksilik asitler, amino asitler, nükleik asitler,
metakrilamidler, poliakrilik asitler, poliakrilik asit derivatlari, polivinilalkoller, polifenoller,
en azindan bir alkil- ve/veya aril radikali olan polioller, kaprolaktam, fosforik asitler,
fosforik asit esterleri, epoksit esterler, sülfonik asitler, sülfonik asit esterleri, vinilsülfonik
asitler, vinilfosfonik asitler, katechol, silanlar ayrica bunlardan olusan silanoller ve/veya
siloksanlar, triazinler, tiyazoller, tiyazinler, ditiyazinler, asetaller, yarim asetaller,
kinonlar, doymus yag asitleri, doymamis yag asitleri, alkidler, esterler, poliesterler,
eterler, glikoller, siklik eterler, krone eterleri, anhidritler, ayrica asetilasetonlar ve beta-
diketo gruplarindan, karbonil gruplari ve hidroksi gruplari.
Avantajli bir sekilde metalik yüzeylerden çözülen veya/ve sulu bilesime ilave edilen
katyonlar AI, Cu, Fe veya/ve Zn içinden seçilir.
Ozellikle tercihen sulu bilesim veya/ve bundan elde edilen organik kaplama en azindan
bir aditifi biyositler, disparsasyona yardimci maddeler, film olusmasina yardimci
maddeler, pH degerinin ayarlanmasi için asidik veya/ve bazik yardimci maddeler ve
koyulastiricilar ve akiskanlik verici maddeler içinden seçilerek içerir.
Çok özellikle tercihen y'ontem kademesinde ll sulu bir bilesimle metalik yüzeylerin
kaplanmasindan ve temasa getirilmesinden önce metalik yüzeyler temizlenir, daglanir
veya/ve ön muameleye tabi tutulur.
Avantajli bir sekilde sulu bilesim iyonojen bir jel bazinda bir kaplama olusturur, bu sirada
veya daha sonra olusan kuru film kalinligi en azindan 1 umidir.
Ozellikle tercihen organik kaplama daldirma banyosunda 0,05 ila 20 dakika içinde
olusur ve kurutmadan sonra kuru film kalinligi 5 ila 100 um arasindadir.
Bulus ayrica bir sulu bilesim ile ilgilidir, bu dispersiyon film olusturan polimerlerden bir
dispersiyonda ve/veya film olusturan anorganik partiküllerden bir süspansiyon içinde,
kati madde içerigi 2 ila 40 agirlik - % arasinda ve ortalama bir partikül büyüklügü 10 ila
1000 nm arasinda olmak üzere, en azindan bir anyonik polielektrolitik elde edilen
karisimin toplam miktari bazinda 0,01 ila 5,0 agirlik - % olarak içerir, burada sulu
bilesimin pH degeri 4 ila 11 arasindadir.
Tercihen sulu bilesim film olusturan polimerlerden dispersiyon içinde bir organik partikül
miktarini, poliakrilatlar, poliüretanlar, poliepoksitler ve/veya bunlarin hibridleri bazinda,
en azindan bir kompleks Olusturucu maddeyi maleik asit, alendronik asit, itakonik asit,
sitrakonik asit, mesakonik asit veya bu karboksilik asitlerin yarim esterleri veya
anhidritleri bazinda ve en azindan bir anyonik polielektroliti pektinler veya gellan gum
bazinda içerir.
Burada görülmüs oldugu gibi bulusa uygun yüzeylerden esas olarak kapali veya kapali
kaplamalar kaplama kalinligi 5 nm ila 50 pm elde edilebilir, özellikle 15 nm ila 40 pm, 25
Uygun katman kalinliklarini her bir kaplama, film olusmadan önce veya/ve sonra
veya/ve ag yapi olusmadan önce, içerir.
Burada görülmüs oldugu gibi bulusa uygun yüzeylerden esas olarak kapali veya kapali
kaplamalar olarak elde edilir, bunlar elektro daldirma laki, otoforetik daldirma Iaki veya
toz lak kaplamasina kiyasla oldukça basit bir tarzda ve uygun bir maliyetle elde
edilebilir.
Burada ayrica görülmüs oldugu gibi bulusa uygun olarak üretilen bu tür kaplamalar
günümüzün endüstriyel uygulamalari elektro daldirma Iaki, otoforetik daldirma Iaki veya
toz lak kaplamasi gibi, eger uygun kimyasal bilesimler özellikler formülasyonlar
kullanilirsa, ayni kalitede olabilir.
Burada sasirtici bir sekilde görülmüstür ki, bulusa uygun elektrolitik olmayan veya esas
olarak elektrolitik olmayan bulusa yöntem ayni zamanda da düsük ölçüde elektrik
gerilimi ile desteklenmesi durumunda, genelde disaridan elektrik gerilimine ihtiyaç
duymaz ve basit bir tarzda ve külfetli bir kontrol sistemi olmaksizin çalistirilabilir. Bu
yöntem genis bir sicaklik araliginda ve ayni zamanda da sonraki kurutma islemi disinda
oda sicakliginda da kullanilabilir.
Burada sasirtici bir sekilde görülmüstür ki, bulusa uygun yöntemde, aktivasyon
maddelerinin kullanilmasi baglaminda esit ve homojen bir kaplama elde etmek için
külfetli bir kontrol sisteminin uygulanmasi gerekmez ve az miktarda kimyasal madde
tüketimi ile yüksek kalitede kaplamalar olusur, bu kaplamalarin kalinligi 500 nm ila 30
um araligina kadar ulasir.
Burada sasirtici bir sekilde görülmüstür ki, bulusa uygun yöntemde, ayrisma ve takip
eden kaplama baglaminda kendi kendini regüle eden bir yöntem söz konusudur, burada
külfetli bir kontrol sisteminin uygulanmasi gerekmez ve az miktarda kimyasal madde
tüketimi ile yüksek kalitede koruyucu kaplamalar elde edilir.
Burada sasirtici bir sekilde görülmüstür ki, bulusa uygun ayrisan kaplamalar çok
kompleks formda malzemelerde esit kaplama kalinligi ile homojen bir tabaka meydana
getirir, bunun kalitesi elektroforetik veya otoforetik ayrisan lak tabakalarinin kalitesi ile
kiyaslanabilir düzeydedir.
Bulusa uygun kaplama tercihen kaplanmis substratlar için kullanilir, örnegin tel, tel örgü,
bant, saç, profil, giydirmeler, bir aracin veya uçan bir aracin parçasi, ev tipi cihazlar için
elemanlar, insaat sektöründe kullanilan elemanlar, karoseriler, yol kenari bariyerleri,
isitici radyatörler veya çit yapimi malzemeleri, karmasik geometrisi olan form parçalar
veya küçük parçalar, vida, Civata, somun, flans, veya yay olarak. Ozellikle tercihen
otomobil yapiminda, insaat alaninda, cihaz imalatinda ve evtipi cihazlarda veya isitma
sistemlerinde kullanilir. Bulusa uygun yöntemin kullanilmasi elektro daldirma
yönteminde sorun yaratan substratlarin kaplanmasinda özellikle tercih edilir.
Bulus asagida 16 uygulama örnegine ve 2 kiyaslama örnegine dayanarak daha
yakindan açiklanacaktir. Burada substratlar kademe l içinde kullanilir:
1: Elektrolitik olarak galvanize edilmis çelik saç, çinko katmani 5 pm, saç kalinligi
0,81 mm;
2: Soguk haddelenmis çelik saç kalinligi yaklasik 0,8 mm:
3: Alüminyum alasimi, kalite sinifi AC 170, saç kalinligi yaklasik 1,0 mm ve
asagidaki genel muamele kademeleri ile uygulanir:
ll. Alkalik temizleme:
Chemetall GmbH, sebeke suyu kullanilir. Saçlar 180 saniye süre içinde 60 cC sicakta
püskürtme ile temizlenir ve daha sonra 120 saniye süre ile sebeke suyu ve 120 saniye
süre ile deiyonize su ile daldirilarak yikanir.
lll. Organik kaplamanin olusmasi için bulusa uygun dispersiyonlar ile yüzeyin
kaplanmasi:
Dispersiyonun bilesimi
DPE-dispersiyon; maleik asit ile
antteorik= 40% anpratik= 39%
Kimyasallar [9]
H 6,24
MS 5,06
H20 67,6
Kisaltma fihristi:
NH3 amonyak çözeltisi (25 %)
AS: akrilik asit
MMA: metilmetakrilat
APS: amonyumperoksodisülfat
BMA: butilmetakrilat
HEMA: hidroksietilmetakrilat
M8: maleik asit
VTES:viniltret0ksisiIan
an: uçucu olmayan oran ve kati madde içerigi
Her iki kiyaslama örnegi için sadece yukaridaki dispersiyon, bulusa uygun kullanim için
söz konusu olan polielektrolitler olmaksizin, kullanilmistir. Karisim eger gerekli
görülmüsse kullanimdan önce asit ile, tercihen nitrik asit ve/veya fosforik asit ile pH 4
düzeyinde ayarlanir.
lV: Organik kaplamanin yikanmasi:
Organik kaplamadan sonra yapilan yikama, yapismayan formülasyon bilesenlerini ve
formülasyon yigilmalarini uzaklastirmaya ve yöntem sürecini otomobil endüstrisindeki
gibi olabildigince realiteye yakin dizayn etmeye hizmet eder. Zira otomobil endüstrisinde
su ile yikama ister daldirilarak veya su püskürtülerek gerçeklesir.
V: Kaplamanin kurutulmasi ve/veya kaplamanin ag yapili hale getirilmesi:
Kurutma veya bir film olusarak kurutma özellikle organik polimer bilesenlerin:
175 °C 15 dakika içinde.
Türbülans akimi ölçüm cihazi ve taramali elektron mikroskopu ile (REM) arastirmalar
açiklamaktadir ki, bulusa uygun kaplamalar elde edilmistir, bunlardan ileri derecede
kapali veya kapali kaplamalar yüzey dispersiyonlar veya/ve formülasyonlar ile temasa
Substrat 1 yukarida tarif edilen bir dispersiyon ve 0,5 % agirlik - % elde edilen karisimin
toplam agirligi bazinda, bir pektin ile, bir molekül agirligi yaklasik ?0000 g/mol, bir
amidize olma derecesi 0 %, bir esterlesme derecesi 52 %, bir epoksidize olma derecesi
0 %, bir galakturonik asit içerigi 87 % karisimi, 99,5 agirlik - % yukaridaki dispersiyon ile
karistirilir. Karisim eger gerekli görülmüsse kullanimdan önce asit ile, tercihen nitrik asit
ve/veya fosforik asit ile pH 4 düzeyinde ayarlanir. Bir kuru film kalinligi 5 um ölçülerek
bir türbülans akim ölçüm cihazi REM ile tayin edilmistir.
Deney 1 substrat 2 ile tekrar edilmis ve bir kuru film kalinligi 1 pm olarak REM ile tayin
edilmistir.
Substrat 1 yukarida tarif edilen bir dispersiyon ve 0,5 % agirlik - % elde edilen karisimin
toplam agirligi bazinda, bir pektin ile, bir molekül agirligi yaklasik ?0000 g/mol, bir
amidize olma derecesi 0 %, bir esterlesme derecesi 38 %, bir epoksidize olma derecesi
0 %, bir galakturonik asit içerigi 85 % karisimi, 99,5 agirlik - % yukaridaki dispersiyon ile
karistirilir. Karisim eger gerekli görülmüsse kullanimdan önce asit ile, tercihen nitrik asit
ve/veya fosforik asit ile pH 4 düzeyinde ayarlanir. Bir kuru film kalinligi 12 pm ölçülerek
bir türbülans akim ölçüm cihazi REM ile tayin edilmistir.
Deney 3 substrat 2 ile tekrar edilmis ve bir kuru film kalinligi 3 pm olarak REM ile tayin
edilmistir.
Substrat 1 yukarida tarif edilen bir dispersiyon ve 0,5 % agirlik - % elde edilen karisimin
toplam agirligi bazinda, bir pektin ile, bir molekül agirligi yaklasik ?0000 g/mol, bir
amidize olma derecesi 0 %, bir esterlesme derecesi 10 %, bir epoksidize olma derecesi
0 %, bir galakturonik asit içerigi 85 % karisimi, 99,5 agirlik - % yukaridaki dispersiyon ile
karistirilir. Karisim eger gerekli görülmüsse kullanimdan önce asit ile, tercihen nitrik asit
ve/veya fosforik asit ile pH 4 düzeyinde ayarlanir. Bir kuru film kalinligi 10 pm 'ölçülerek
bir türbülans akim ölçüm cihazi REM ile tayin edilmistir.
Deney 5 substrat 2 ile tekrar edilmis ve bir kuru film kalinligi 2 pm olarak REM ile tayin
edilmistir.
Substrat 1 yukarida tarif edilen bir dispersiyon ve 0,25 % agirlik - % elde edilen
karisimin toplam agirligi bazinda, bir pektin, bir molekül agirligi yaklasik ?0000 g/mol,
bir amidize olma derecesi 11 %, bir esterlesme derecesi 41 %, bir epoksidize olma
derecesi 0 %, bir galakturonik asit içerigi 88 °/o 99,5 agirlik - % ile ve 0,25 % agirlik - %
elde edilen karisimin toplam agirligi bazinda bir pektin bir molekül agirligi yaklasik
epoksidize olma derecesi 0 %, bir galakturonik asit içerigi 87 % karisimi, 99,5 agirlik - %
yukaridaki dispersiyon ile karistirilir. Karisim eger gerekli görülmüsse kullanimdan önce
asit ile, tercihen nitrik asit ve/veya fosforik asit ile pH 4 düzeyinde ayarlanir. Bir kuru film
kalinligi 50 um ölçülerek bir türbülans akim ölçüm cihazi REM ile tayin edilmistir.
Substrat 1 yukarida tarif edilen bir dispersiyon ve 0,25 % agirlik - % elde edilen
karisimin toplam agirligi bazinda pektin bir molekül agirligi yaklasik ?0000 g/mol, bir
amidize olma derecesi 11 %, bir esterlesme derecesi 41 %, bir epoksidize olma
derecesi 0 %, bir galakturonik asit içerigi 88 %, 99,5 agirlik - % ile ve 0,25 % agirlik - %
elde edilen karisimin toplam agirligi bazinda bir pektin bir molekül agirligi yaklasik
epoksidize olma derecesi 0 %, bir galakturonik asit içerigi 85 % karisimi, 99,5 agirlik - %
yukaridaki dispersiyon ile karistirilir. Karisim eger gerekli görülmüsse kullanimdan önce
asit ile, tercihen nitrik asit ve/veya fosforik asit ile pH 4 düzeyinde ayarlanir. Bir kuru film
kalinligi 23 um ölçülerek bir türbülans akim 'ölçüm cihazi REM ile tayin edilmistir.
Substrat 1 yukarida tarif edilen bir dispersiyon ve 0,25 % agirlik - % elde edilen
karisimin toplam agirligi bazinda bir pektin bir molekül agirligi yaklasik ?0000 g/mol, bir
amidize olma derecesi 23 %, bir esterlesme derecesi 29 %, bir epoksidize olma
derecesi 0 %, bir galakturonik asit içerigi 89 % 99,5 agirlik - % ile ve 0,25 % agirlik - %
elde edilen karisimin toplam agirligi bazinda bir pektin bir molekül agirligi yaklasik
epoksidize olma derecesi 0 %, bir galakturonik asit içerigi 83 % karisimi, 99,5 agirlik - %
yukaridaki dispersiyon ile karistirilir. Karisim eger gerekli görülmüsse kullanimdan önce
asit ile, tercihen nitrik asit ve/veya fosforik asit ile pH 4 düzeyinde ayarlanir. Bir kuru film
kalinligi 22 pm ölçülerek bir türbülans akim Ölçüm cihazi REM ile tayin edilmistir.
Substrat 1 yukarida tarif edilen bir dispersiyon ve 0,25 % agirlik - % elde edilen
karisimin toplam agirligi bazinda bir pektin bir molekül agirligi yaklasik ?0000 g/mol, bir
amidize olma derecesi 23 %, bir esterlesme derecesi 29 %, bir epoksidize olma
derecesi 0 %, bir galakturonik asit içerigi 89 %, 99,5 agirlik - % ile ve 0,25 % agirlik - %
elde edilen karisimin toplam agirligi bazinda bir pektin bir molekül agirligi yaklasik
epoksidize olma derecesi 0 %, bir galakturonik asit içerigi 85 % karisimi, 99,5 agirlik - %
yukaridaki dispersiyon ile karistirilir. Karisim eger gerekli görülmüsse kullanimdan önce
asit ile, tercihen nitrik asit ve/veya fosforik asit ile pH 4 düzeyinde ayarlanir. Bir kuru film
kalinligi 27 pm ölçülerek bir türbülans akim 'ölçüm cihazi REM ile tayin edilmistir.
Deney 10 substrat 2 ile tekrar edilmis bir kuru film kalinligi 2 pm olarak REM ile tayin
edilmistir.
Substrat 1 yukarida tarif edilen bir dispersiyon 0,25 % agirlik - % elde edilen karisimin
toplam agirligi bazinda bir pektin bir molekül agirligi yaklasik ?0000 g/mol, bir amidize
olma derecesi 0 %, bir esterlesme derecesi 52 %, bir epoksidize olma derecesi 0 %, bir
galakturonik asit içerigi 87 % ve 0,25 % agirlik - % elde edilen karisimin toplam agirligi
bazinda bir pektin bir molekül agirligi yaklasik ?0000 g/mol, bir amidize olma derecesi 0
içerigi 85 % karisimi, 99,5 agirlik - % yukaridaki dispersiyon ile karistirilir. Karisim eger
gerekli görülmüsse kullanimdan önce asit ile, tercihen nitrik asit ve/veya fosforik asit ile
pH 4 olarak ayarlanir. Bir kuru film kalinligi 40 pm 'ölçülerek bir türbülans akim ölçüm
Cihazi REM ile tayin edilmistir.
Deney 12 substrat 2 ile tekrar edilmis ve bir kuru film kalinligi 10 pm olarak REM ile
tayin edilmistir.
Substrat 1 yukarida tarif edilen bir dispersiyon ve 0,5 % agirlik - % elde edilen karisimin
toplam agirligi bazinda bir pektin bir molekül agirligi yaklasik ?0000 g/mol, bir amidize
olma derecesi 0 %, bir esterlesme derecesi 38 %, bir epoksidize olma derecesi 0 %, bir
galakturonik asit içerigi 85 % ve 0,25 % agirlik - % elde edilen karisimin toplam agirligi
bazinda bir pektin, bir molekül agirligi yaklasik ?0000 g/mol, bir amidize olma derecesi
0 %, bir esterlesme derecesi 10 %, bir epoksidize olma derecesi 0 %, bir galakturonik
asit içerigi 85 % karisimi, 99,5 agirlik - % yukaridaki dispersiyon ile karistirilir. Karisim
eger gerekli görülmüsse kullanimdan önce asit ile, tercihen nitrik asit ve/veya fosforik
asit ile pH 4 olarak ayarlanir. Bir kuru film kalinligi 30 pm 'ölçülerek bir türbülans akim
Ölçüm cihazi REM ile tayin edilmistir.
Deney 14 substrat 2 ile tekrar edilmistir ve bir kuru film kalinligi 10 pm REM ile tayin
edilmistir.
Substrat 3 yukarida tarif edilen bir dispersiyon ve 0,5 % agirlik - % elde edilen karisimin
toplam agirligi bazinda bir gellan gum, bir molekül agirligi yaklasik 70'000 g/mol, az
miktarda asil içerigi karisimi, 99,5 agirlik - % yukaridaki dispersiyon ile karistirilir.
Karisim eger gerek görülürse kullanimdan önce asit ile, tercihen nitrik asit ve/veya
fosforik asit ile pH degeri 4 olarak ayarlanir. Bir kuru film kalinligi 4 pm olarak türbülans
akimi ölçüm cihazi ve REM ile belirlenmistir.
Kiyaslama 'örnegi 1
Substrat 1 yukaridaki dispersiyon ile kaplanmistir. Kuru film kalinligi 300 nm ila 500 nm
arasinda olup REM ile tayin edilmistir.
Kiyaslama 'örnegi 2
Substrat 2 yukaridaki dispersiyon ile kaplanmistir. Kuru film kalinligi 300 nm ila 500 nm
arasinda olup REM ile tayin edilmistir.
Mikroskopik görüntüler göstermistir ki, homojen bir kaplama mevcuttur, bu güvenilir,
kendi kendini düzenleyen ve iyi kontrol edilen bir kaplama yöntemine isaret eder.
Claims (1)
- ISTEMLER Substratlarin metalik yüzeylerinin kaplanmasi için yöntem olup, asagidaki kademeleri içerir veya bu kademelerden meydana gelir: l. Bir substratin temizlenmis metalik bir yüzey ile hazirlanmasi, ll. Metalik yüzeylerin dispersiyon ve/veya süspansiyon formunda sulu bilesim ile temasa getirilmesi veya kaplanmasi, Vl. Gerektiginde organik kaplamanin yikanmasi ve Vll. Organik kaplamanin kurutulmasi veya/ve firinlanmasi Vlll. Gerektiginde organik kaplamanin kurutulmasi ve benzer türde veya diger kaplama bilesenleri ile kurutmadan veya/ve firinlamadan önce kaplanmasi, 'özelligi, kademe ll içinde kaplamanin dispersiyon ve/veya süspansiyon formunda sulu bir bilesim ile gerçeklesmesidir, burada film olusturan polimerlerden bir dispersiyona kati madde içerigi 2 ila 40 agirlik - % ve ortalama bir partikül büyüklügü 10 ila 1000 nm en azindan anyonik bir polielektrolit, elde edilen karisimin toplam kütlesi bazinda 0,01 ila 5,0 agirlik - % ilave edilir, burada sulu bilesimin pH degeri 4 ila 11 arasindadir ve kaplama iyonojen bir jel bazinda olusur, bu metalik yüzeyden çözülen katyonlari baglar ve bu katyonlar 'Ön muamele kademesinden ve/veya kademe II içinde temasa getirmeden kaynaklanir. Istem 1*e göre yöntem olup özelligi, anyonik polielektrolitin a) en azindan bir polisakaridi glikojenler, amilozlar, amilopektinler, kallozlar, agar, alginler, alginatlar, pektinler, karragenler, selülozlar, kitinler, kitosanlar, kurdlanlar, dekstranlar, fruktanlar, kollajenler, gellan gum, gum arabik, nisastalar, ksantanlar, tragant, karayanlar, tara çekirdek unu ve glukomannanlar bazinda; b) en azindan dogal kökenli anyonik bir polielektroliti poliaminoasitler, kollajenler, polipeptidler, Iigninler, ve/veya o) en azindan sentetik bir anyonik polielektrolitleri poliaminoasitler, poliakrilik asitler, poliakrilik asit kopolimerleri bazinda, akril amid kopolimerleri, ligninler, polivinilsülfonik asit, polikarboksilik asitler, polifosforik asitler veya polistiroller bazinda içermesi veya bundan meydana gelmesidir. Istem 1 veya 2'ye göre yöntem olup 'özelligi, anyonik polielektrolitin en azindan pektinler veya gellan gum bazinda bir polisakarit içermesi veya bundan olusmasidir. istem 1 veya 2tye göre yöntem olup 'özelligi, sulu bilesimin veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin en azindan iki degisik anyonik polielektrolitlerden bir karisimi içermesidir. Istem 4,e göre yöntem olup 'özelligi, sulu bilesimin veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin iki pektinden bir karisimi içermesidir. Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre yöntem olup 'özelligi, sulu bilesimin veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin en azindan anyonik bir polisakariti, karboksi fonksiyonunun esterlesme derecesi, toplam alkol ve karboksi grubu bazinda 5 ila 75 % olmak 'üzere, içermesidir. Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre yöntem olup 'özelligi, sulu bilesimin veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin en azindan anyonik bir polisakaridi veya/ve en azindan bir anyonik polielektroliti molekül agirligi 500 ila 1000000 g/mol'1 arasinda olmak 'üzere içermesidir. Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre yöntem olup 'Özelligi, sulu bilesimin veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin en azindan anyonik bir polisakaridi veya/ve en azindan bir anyonik polielektroliti karboksi fonksiyonlarinin amidize olma derecesi 1 ila 50 % ile, karboksi fonksiyonlarinin bir epoksidize derecesini 80 %'ye kadar olmak üzere, içermesidir. Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre yöntem olup 'özelligi, anyonik polielektrolitlerin tutunmayi saglayan tutunma gruplari ile modifiye edilmesi veya modifiye edilmis olmasidir, bunlar su grup içinden seçilir: multifonksiyonel epoksitler, isosiyanatlar, primer aminler, sekonder aminler, tersiyer aminler, kuaterner aminler, amidler, imidler, imidazoller, formamidler, Michael- reaksiyonu ürünleri, karbodimidler, karbenler, siklik karbenler, siklokarbonatlar, multifonksiyonel karboksilik asitler, amino asitler, nükleik asitler, metakrilamidler, poliakrilik asitler, poliakrilik asit derivatlari, polivinilalkoller, polifenoller, en azindan bir alkil- ve/veya aril radikali olan polioller, kaprolaktam, fosforik asitler, fosforik asit esterleri, epoksit esterler, sülfonik asitler, sülfonik asit esterleri, vinils'ülfonik asitler, vinilfosfonik asitler, katechol, silanlar ayrica bunlardan olusan silanoller ve/veya siloksanlar, triazinler, tiyazoller, tiyazinler, ditiyazinler, asetaller, yarim asetaller, kinonlar, doymus yag asitleri, doymamis yag asitleri, alkidler, esterler, poliesterler, eterler, glikoller, siklik eterler, krone eterleri, anhidritler, ayrica asetilasetonlar ve beta-diketo gruplarindan, karbonil Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre yöntem olup 'özelligi, sulu bilesimin veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin metal katyonlari için bir kompleks yapicisinin veya bir polimerin en azindan bir miktarini içermesidir, bu metal katyonlari kompleks yapilarak modifiye edilmistir. Istem 10ia göre yöntem olup 'özelligi, sulu bilesimin veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin maleik asit, alendronik asit, itakonik asit, sitrakonik asit veya mesakonik asit veya bu karboksilik asitlerin anhidritleri veya yarim esterleri bazinda bir kompleks yapicisinin bir miktarini içermesidir. Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre y'ontem olup 'özelligi, sulu bilesimin veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin en azindan bir tür katyonlari içermesidir, bunlar katyonik etkili tuzlar bazindadir ve melamin tuzlari, nitroso tuzlari, oksanyum tuzlari, amonyum tuzlari, kuaterner azot katyonlari içeren tuzlar, amonyum derivatlarinin tuzlari AI, B, Ba, Ca, Cr, Co, Cu, Fe, Hf, ln, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Ni, Pb, Sn, Ta, Ti, V, W, Zn veya/ve Zr metal tuzlari içinden seçilir. Istem 12'ye göre yöntem olup özelligi, metal yüzeyinden s'ok'ulen katyonlar olarak veya/ve sulu bilesim ilave edilen katyonlarin, AI, Cu, Fe veya/ve Zn içinden seçilmesidir. Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre yöntem olup 'özelligi, sulu bilesimin veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin organik partiküllerin bir içerigini poliakrilatlar, poli'uretanlar, poliepoksitler ve/veya bunlarin hibritleri bazinda içermesidir. Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre yöntem olup 'özelligi, sulu bilesimin veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin en azindan bir emülgatör miktarini içermesidir. istem 15*e göre yöntem olup 'özelligi, sulu bilesimin veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin en azindan bir emülgatör miktarini anyonik emülgatörler bazinda içermesidir. Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre y'ontem olup 'özelligi, sulu bilesimin veya/ve bundan elde edilen organik kaplamanin en azindan bir aditifi biyositler, dispersasyona yardimci maddeler, film olusmasina yardimci maddeler, koyulastiricilar ve akiskanlik verici maddeler grubu içinden seçilerek içermesidir. Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre yöntem olup 'özelligi, metalik yüzeyin bir sulu bilesim ile yöntem kademesinde II temasa gelmeden ve kaplanmadan önce metalik yüzeyin temizlenmesi, daglanmasi veya/ve ön muameleden geçirilmesidir. Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre yöntem olup 'özelligi, sulu bilesimin iyonojen bir jel bazinda bir kaplamayi olusturmasi ve bu sirada veya daha sonra olusan kuru filmin en azindan 1 um bir kalinligi içermesidir. Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre yöntem olup 'özelligi, organik kaplamanin 0,05 ila 20 dakika içinde bir daldirma kabinda olusmasi ve kurutmadan sonra kuru film kalinliginin 5 ila 100 um arasinda olmasidir. Onceki istemlerden birine veya birçoguna göre sulu bilesim olup 'özelligi, bilesimin istem 1 ila 20 birine veya birçoguna göre bir yöntemde kullanilmasi, bunun film olusturan polimerlerden bir dispersasyon içinde kati madde içerigi 2 ila 40 agirlik - % olmak üzere ve ortalama partikül büyüklügü 10 ile 1000 nm olarak, en azindan anyonik bir polielektroliti elde edilen karisimin toplami bazinda 0,01 ila 5,0 agirlik - % miktarinda içermesidir, burada sulu bilesimin pH degeri 4 ila 11 arasindadir. istem 21'e göre sulu bilesim olup, 'özelligi, bunun film olusturan polimerlerden olusan bir dispersiyon içinde poliakrilatlar, poliüretanlar, poliepoksitler ve/veya bunlarin hibridleri içinden seçilen organik partiküllerin bir miktarini, en azindan bir kompleks yapicinin bir miktarini, maleik asit, alendronik asit, itakonik asit, sitrakonik asit veya mesakonik asit veya bu karboksilik asitlerin anhidritleri veya yarim esterleri ve en azindan bir anyonik polielektroliti pektinler veya gellan gum bazinda içermesidir. 23. istem 1 ila 20,den birine göre elektro daldirma Iaki ile kaplamada sorun yaratan substratlarin kaplanmasi Için yöntemin kullanilmasi.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102012201804 | 2012-02-07 | ||
DE102012221521 | 2012-11-26 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TR201808379T4 true TR201808379T4 (tr) | 2018-07-23 |
Family
ID=47757565
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TR2018/08379T TR201808379T4 (tr) | 2012-02-07 | 2013-02-07 | Substratların metalik yüzeylerinin kaplanması için yöntem ve bu yönteme göre kaplanmış olan nesneler. |
Country Status (18)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9556523B2 (tr) |
EP (1) | EP2812130B1 (tr) |
JP (1) | JP6351512B2 (tr) |
KR (1) | KR102116280B1 (tr) |
CN (1) | CN104395004B (tr) |
AU (1) | AU2013218068B2 (tr) |
BR (1) | BR112014019467B1 (tr) |
CA (1) | CA2863927A1 (tr) |
DE (1) | DE102013201966A1 (tr) |
DK (1) | DK2812130T3 (tr) |
ES (1) | ES2675159T3 (tr) |
HU (1) | HUE037904T2 (tr) |
MX (1) | MX361029B (tr) |
PL (1) | PL2812130T3 (tr) |
PT (1) | PT2812130T (tr) |
SG (1) | SG11201404732TA (tr) |
TR (1) | TR201808379T4 (tr) |
WO (1) | WO2013117611A1 (tr) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9816189B2 (en) | 2013-03-15 | 2017-11-14 | Honda Motor Co., Ltd. | Corrosion inhibiting compositions and coatings including the same |
US9605162B2 (en) | 2013-03-15 | 2017-03-28 | Honda Motor Co., Ltd. | Corrosion inhibiting compositions and methods of making and using |
AU2014289198B2 (en) | 2013-07-10 | 2018-06-21 | Chemetall Gmbh | Method for coating metal surfaces of substrates and objects coated in accordance with said method |
JP6461136B2 (ja) * | 2013-07-18 | 2019-01-30 | ヒェメタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングChemetall GmbH | 基材の金属表面を被覆する方法およびこの方法により被覆された物品 |
AU2015215023B2 (en) | 2014-02-04 | 2018-11-01 | Chemetall Gmbh | Method for removing organic coatings from substrates coated with organic coatings |
CN106413920B (zh) * | 2014-02-27 | 2020-03-27 | 凯密特尔有限责任公司 | 用于涂覆基材的金属表面的方法和根据该方法涂覆的物件 |
US20170081542A1 (en) * | 2014-05-14 | 2017-03-23 | Chemetall Gmbh | Method for Coating Metal Surfaces of Substrates and Objects Coated in Accordance With Said Method |
DE102014116403A1 (de) * | 2014-11-11 | 2016-05-12 | Temming Holding Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer verkratzungs- und verschmutzungstoleranten Oberfläche eines Metallbauteils und damit versehenes Metallbauteil |
JP2016217914A (ja) * | 2015-05-21 | 2016-12-22 | セイコーエプソン株式会社 | センサー用ゲルおよびセンサー |
CN104946026A (zh) * | 2015-07-17 | 2015-09-30 | 江苏金基特钢有限公司 | 一种防腐蚀性合金钢涂料的制备方法 |
CN104946025A (zh) * | 2015-07-17 | 2015-09-30 | 江苏金基特钢有限公司 | 一种防腐蚀性合金钢涂料组合物 |
WO2017197448A1 (en) * | 2016-05-16 | 2017-11-23 | Bluescope Steel Limited | Coating process |
ES2846185T3 (es) | 2016-06-10 | 2021-07-28 | Chemetall Gmbh | Ligantes estabilizados en fase acuosa |
CN108467649B (zh) * | 2018-05-28 | 2020-06-16 | 宁波沪荣汽车部件有限公司 | 耐磨抗蚀高强度镀锌板制备工艺 |
CN110078883B (zh) * | 2019-05-22 | 2021-08-03 | 西华大学 | 一种基于魔芋粉的水性涂料树脂、其制备方法与组合物 |
US20210214578A1 (en) * | 2020-01-10 | 2021-07-15 | Smart Wipes, LLC d/b/a Hyge Products, LLC | Method for strengthening a biodegradable or compostable substrate using annealing wax process |
US20210371678A1 (en) * | 2020-05-28 | 2021-12-02 | Axalta Coating Systems Ip Co., Llc | Electrocoating composition |
EP4217432A1 (en) | 2020-09-22 | 2023-08-02 | Swimc Llc | Chitosan-containing coating compositions |
CN113234387A (zh) * | 2021-05-10 | 2021-08-10 | 东阳市荣跃新材料有限公司 | 一种疏水高强度防腐涂层的制备方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3089783A (en) * | 1960-01-06 | 1963-05-14 | Pfaudler Permutit Inc | Corrosion resistant coating and method of applying the same |
DE19829757A1 (de) * | 1998-07-03 | 2000-01-05 | Stockhausen Chem Fab Gmbh | Wässrige Klebemitteldispersionen und deren Verwendung zur Herstellung von mehrlagigen Papieren |
CA2410362C (en) * | 2000-06-14 | 2008-08-12 | The Procter & Gamble Company | Long lasting coatings for modifying hard surfaces and processes for applying the same |
JPWO2006090719A1 (ja) * | 2005-02-22 | 2008-07-24 | 国立大学法人 北海道大学 | 海洋生物付着防止剤及びその方法 |
US7550520B2 (en) * | 2005-05-31 | 2009-06-23 | The University Of Alabama | Method of preparing high orientation nanoparticle-containing sheets or films using ionic liquids, and the sheets or films produced thereby |
DE102007011553A1 (de) * | 2007-03-09 | 2008-09-11 | Chemetall Gmbh | Verfahren zur Beschichtung von metallischen Oberflächen mit einer wässerigen, Polymere enthaltenden Zusammensetzung, die wässerige Zusammensetzung und Verwendung der beschichteten Substrate |
JP5110505B2 (ja) * | 2007-04-04 | 2012-12-26 | 奥野製薬工業株式会社 | 亜鉛又は亜鉛合金上に形成された化成皮膜に対するオーバーコート用組成物 |
DE102008043682B4 (de) * | 2008-11-12 | 2014-01-23 | Chemetall Gmbh | Verfahren zum Beschichten von metallischen Oberflächen mit Partikeln, nach diesem Verfahren hergestellte Beschichtung und Verwendungder nach diesem Verfahren beschichteten Substrate |
EP2570196B1 (de) * | 2009-08-24 | 2020-04-15 | Basf Se | Verwendung von Polyelektrolytkomplexen zur Herstellung von Polymerfolien mit Sauerstoffbarriereeigenschaften |
JP5585906B2 (ja) * | 2009-09-10 | 2014-09-10 | ヒメノイノベック株式会社 | 可撓性被膜を形成する水性組成物 |
ES2710856T3 (es) * | 2010-09-13 | 2019-04-29 | Chemetall Gmbh | Procedimiento para recubrimiento de superficies y uso de los objetos recubiertos según este procedimiento |
US10400135B2 (en) * | 2012-11-26 | 2019-09-03 | Chemetall Gmbh | Method for coating metal surfaces of substrates, and objects coated according to said method |
-
2013
- 2013-02-07 MX MX2014009509A patent/MX361029B/es active IP Right Grant
- 2013-02-07 DK DK13706938.1T patent/DK2812130T3/en active
- 2013-02-07 PT PT137069381T patent/PT2812130T/pt unknown
- 2013-02-07 TR TR2018/08379T patent/TR201808379T4/tr unknown
- 2013-02-07 JP JP2014556040A patent/JP6351512B2/ja active Active
- 2013-02-07 CN CN201380018257.3A patent/CN104395004B/zh active Active
- 2013-02-07 PL PL13706938T patent/PL2812130T3/pl unknown
- 2013-02-07 CA CA2863927A patent/CA2863927A1/en not_active Abandoned
- 2013-02-07 US US14/377,048 patent/US9556523B2/en active Active
- 2013-02-07 ES ES13706938.1T patent/ES2675159T3/es active Active
- 2013-02-07 HU HUE13706938A patent/HUE037904T2/hu unknown
- 2013-02-07 SG SG11201404732TA patent/SG11201404732TA/en unknown
- 2013-02-07 KR KR1020147025079A patent/KR102116280B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-07 EP EP13706938.1A patent/EP2812130B1/de active Active
- 2013-02-07 WO PCT/EP2013/052363 patent/WO2013117611A1/de active Application Filing
- 2013-02-07 AU AU2013218068A patent/AU2013218068B2/en not_active Ceased
- 2013-02-07 DE DE102013201966A patent/DE102013201966A1/de active Pending
- 2013-02-07 BR BR112014019467-0A patent/BR112014019467B1/pt active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HUE037904T2 (hu) | 2018-09-28 |
ES2675159T3 (es) | 2018-07-09 |
MX361029B (es) | 2018-11-26 |
DK2812130T3 (en) | 2018-07-16 |
AU2013218068B2 (en) | 2017-06-01 |
EP2812130A1 (de) | 2014-12-17 |
EP2812130B1 (de) | 2018-03-28 |
CN104395004A (zh) | 2015-03-04 |
JP6351512B2 (ja) | 2018-07-04 |
JP2015511994A (ja) | 2015-04-23 |
BR112014019467B1 (pt) | 2021-09-08 |
PT2812130T (pt) | 2018-06-05 |
KR102116280B1 (ko) | 2020-05-29 |
DE102013201966A1 (de) | 2013-08-08 |
MX2014009509A (es) | 2014-10-24 |
CN104395004B (zh) | 2019-06-11 |
BR112014019467A2 (tr) | 2017-06-20 |
SG11201404732TA (en) | 2014-10-30 |
PL2812130T3 (pl) | 2018-10-31 |
BR112014019467A8 (pt) | 2017-07-11 |
US9556523B2 (en) | 2017-01-31 |
KR20140135726A (ko) | 2014-11-26 |
WO2013117611A1 (de) | 2013-08-15 |
AU2013218068A1 (en) | 2014-09-18 |
US20150079277A1 (en) | 2015-03-19 |
CA2863927A1 (en) | 2013-08-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TR201808379T4 (tr) | Substratların metalik yüzeylerinin kaplanması için yöntem ve bu yönteme göre kaplanmış olan nesneler. | |
US11261337B2 (en) | Method for coating metal surfaces of substrates, and objects coated according to said method | |
JP6498190B2 (ja) | 基材の金属表面を被覆する方法及びこの方法により被覆された物品 | |
US10280513B2 (en) | Method for coating metal surfaces of substrates and objects coated according to said method | |
CN106661369B (zh) | 涂覆基材的金属表面的方法和根据所述方法涂覆的物件 |