TH99324B - คอปเปอร์-ดีบุกอิเล็กโทรไลต์และกระบวนการสำหรับการตกสะสมของชั้นบรอนซ์ - Google Patents

คอปเปอร์-ดีบุกอิเล็กโทรไลต์และกระบวนการสำหรับการตกสะสมของชั้นบรอนซ์

Info

Publication number
TH99324B
TH99324B TH801000688A TH0801000688A TH99324B TH 99324 B TH99324 B TH 99324B TH 801000688 A TH801000688 A TH 801000688A TH 0801000688 A TH0801000688 A TH 0801000688A TH 99324 B TH99324 B TH 99324B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
electrolyte
bronze
toxic
bronze layer
copper
Prior art date
Application number
TH801000688A
Other languages
English (en)
Other versions
TH99324A (th
Inventor
ดีไอพีแอล.-ไอเอ็นจี. แบร์ฯด์ ไวห์มีลเลอร์ นาย ไมเคิลเล๊าสเตอร์ นาย ซัสชาแบร์เกอร์ นาย แฟรงค์โอแบร์สท์ นาย แบร์นด์ไวห์มึลเลอร์ นาย เคลาส์บรอนเดอร์ ดีไอพีแอล.-ไอเอ็นจี. เคลาส์ บรอนเดอร์
Original Assignee
ยูมิคอร์ กัลวาโนเทคนิค จีเอ็มบีเอช ยูมิคอร์ กัลวาโนเทคนิค จีเอ็มบีเอช
Filing date
Publication date
Application filed by ยูมิคอร์ กัลวาโนเทคนิค จีเอ็มบีเอช ยูมิคอร์ กัลวาโนเทคนิค จีเอ็มบีเอช filed Critical ยูมิคอร์ กัลวาโนเทคนิค จีเอ็มบีเอช ยูมิคอร์ กัลวาโนเทคนิค จีเอ็มบีเอช
Publication of TH99324A publication Critical patent/TH99324A/th
Publication of TH99324B publication Critical patent/TH99324B/th

Links

Abstract

สินค้าผู้บริโภคและผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม ได้รับการเคลือบด้วยไฟฟ้าด้วยชั้นบรอนซ์ สำหรับเหตุผลด้านการตกแต่งและเพื่อที่จะปกป้องการกัดกร่อนผลิตภัณฑ์ อิเล็กโทรไลต์ซึ่ง นำมาใช้ในการเคลือบนี้เพื่อการผลิตชั้นบรอนซ์เพื่อการตกแต่ง เป็นทั้งแบบมีไซยาไนด์หรือในกรณี ของอ่างที่มีออร์กาโนซัลโฟนิกแอซิดเป็นพื้นฐาน ซึ่งมีการกัดกร่อนสูงหรือมีเสถียรภาพในระยะเวลา ยาวนานที่ไม่เป็นที่พึงพอในเช่นในกรณีของอ่างที่มีไดฟอสโฟริกแอซิดเป็นพื้นฐาน อิเล็กโทรไลต์ ซึ่งได้รับการนำมาใช้สำหรับการใช้ชั้นบรอนซ์แบบบัดกรีได้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์โดยปรกติ แล้วจะมีสารประกอบที่เป็นพิษหรือสารประกอบไธโอที่เป็นพิษมาก การประดิษฐ์นี้ได้จัดให้มี อิเล็กโทรไลต์แบบไม่เป็นพิษซึ่งแสดงออกซึ่งเสถียรภาพระยะยาวสำหรับกาตกสะสมแบบใช้อิเล็ก โทรไลต์ของชั้นบรอนซ์เพื่อการตกแต่งและกระบวนการที่สอดคล้องสำหรับการใช้ชั้นบรอนซ์เพื่อ การตกแต่วเช่นนี้กับสินค้าผู้บริโภคและผลิตภัณฑ์สาหกรรม

Claims (2)

1. อิเล็กโทรไลต์แบบไม่เป็นพิษสำหรับการตกสะสมของชั้นโลหะเจือชนิดบรอนซ์เพื่อการ ตกแต่งบนสินค้าผู้บริโภค และผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม ซึ่งมีโลหะที่จะได้รับการตกสะสมไว้ใน รูปแบบของเกลือละลายน้ำได้ ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์นี้มีหนึ่งหรือ มากกว่าหนึ่งชนิดของอนุพันธ์ฟอสฟอริกแอซิดในฐานะเป็นเอเจนต์เชิงซ้อนและไร้จากไซยาไนด์ อนุพันธ์ไธโอยูเรีย และอนุพันธ์ไธออล
2. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์ นี้มีคอปเปอร์และดีบุกหรือคอปเปอร
TH801000688A 2008-02-12 คอปเปอร์-ดีบุกอิเล็กโทรไลต์และกระบวนการสำหรับการตกสะสมของชั้นบรอนซ์ TH99324B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH99324A TH99324A (th) 2009-12-09
TH99324B true TH99324B (th) 2009-12-09

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2012174101A3 (en) Corrodible downhole article and method of removing the article from downhole environment
WO2014076105A8 (de) Verfahren zur beschichtung von metallischen oberflächen mit nanokristallinen zinkoxidschichten, wässerige zusammensetzungen hierfür und verwendung der derart beschichteten oberflächen
WO2007130838A3 (en) Coating compositions exhibiting corrosion resistance properties, related coated articles and methods
PL2310558T3 (pl) Ulepszony elektrolit miedziowo-cynowy i sposób osadzania warstw cyny i brązu
IN2014DN09953A (th)
CN105112904B (zh) 一种机械镀铜及铜合金镀层用沉积促进剂及应用
PH12019501495B1 (en) Tin plating bath and a method for depositing tin or tin alloy onto a surface of a substrate
CN105648379A (zh) 一种热镀锌工艺
SG11201909706TA (en) Film-forming composition, method for producing surface-treated metal member, and method for producing metal-resin composite
PT3483307T (pt) Composições de revestimento para deposição de cobre eletrolítico, a sua utilização e um método para depósito electrolítico de uma camada de cobre ou liga de cobre na pelo menos uma superfície de um substrato
MX369015B (es) Método para formar una película de recubrimiento de capas múltiples.
CA2751684A1 (en) Silver-containing alloy plating bath and method for electrolytic plating using same
JP5435251B2 (ja) 化成処理剤
TWI593687B (zh) 用於在鎳表面上形成有機塗層的方法
TW201614678A (en) Silver-coated copper powder and method for producing same
MX378883B (es) Composicion acuosa de recubrimiento por inmersion para sustratos electroconductores, que comprende tanto bismuto disuelto como no disuelto.
CN103121004B (zh) 高硅含量的铝合金仿阳极处理方法及其产品
TW200610838A (en) Corrosion resistance enhancement of tin surfaces
WO2014026806A3 (en) Plating bath composition for immersion plating of gold
CN102330129B (zh) 铝基轴瓦镀锡工艺
BR112017027592A2 (pt) processo para deposição eletrolítica de um revestimento de zinco ou liga de zinco em um substrato metálico, substrato metálico revestido com zinco ou liga de zinco, e, uso de um aditivo de banho de galvanização com zinco
TWI679306B (zh) 鎂基材的前處理
RU2012150874A (ru) Способ формирования покрытий пентаоксида тантала на подложке
MX378382B (es) Proceso mejorado para proteger superficies de metales nobles y/o de sus aleaciones contra el deslustre
TH112944A (th) สารโลหะโดยที่มีการเคลือบบิสมัธและวิธีการผลิตสารโลหะเหล่านั้น, สารละลายใช้บำบัดผิวที่ใช้สารโลหะดังนั้น และสารโลหะโดยที่มีการทำให้ตกสะสมด้วยไฟฟ้าแบบแคทอิออนิกและวิธีการผลิตสารโลหะเหล่านั้น