TH99324A - คอปเปอร์-ดีบุกอิเล็กโทรไลต์และกระบวนการสำหรับการตกสะสมของชั้นบรอนซ์ - Google Patents

คอปเปอร์-ดีบุกอิเล็กโทรไลต์และกระบวนการสำหรับการตกสะสมของชั้นบรอนซ์

Info

Publication number
TH99324A
TH99324A TH801000688A TH0801000688A TH99324A TH 99324 A TH99324 A TH 99324A TH 801000688 A TH801000688 A TH 801000688A TH 0801000688 A TH0801000688 A TH 0801000688A TH 99324 A TH99324 A TH 99324A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
electrolyte
acid
toxic
bronze
tin
Prior art date
Application number
TH801000688A
Other languages
English (en)
Other versions
TH99324B (th
Inventor
บรอนเดอร์ นายเคลาส์
แบร์เกอร์ นายซัสชา
ไวห์มึลเลอร์ นายแบร์นด์
โอแบร์สท์ นายแฟรงค์
เล๊าสเตอร์ นายไมเคิล
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายบุญมา เตชะวณิช
ยูมิคอร์ กัลวาโนเทคนิค จีเอ็มบีเอช
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายบุญมา เตชะวณิช, ยูมิคอร์ กัลวาโนเทคนิค จีเอ็มบีเอช filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH99324A publication Critical patent/TH99324A/th
Publication of TH99324B publication Critical patent/TH99324B/th

Links

Abstract

DC60 สินค้าผู้บริโภคและผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม ได้รับการเคลือบด้วยไฟฟ้าด้วยชั้นบรอนซ์ สำหรับเหตุผลด้านการตกแต่งและเพื่อที่จะปกป้องการกัดกร่อนผลิตภัณฑ์ อิเล็กโทรไลต์ซึ่ง นำมาใช้ในการเคลือบนี้เพื่อการผลิตชั้นบรอนซ์เพื่อการตกแต่ง เป็นทั้งแบบมีไซยาไนด์หรือในกรณี ของอ่างที่มีออร์กาโนซัลโฟนิกแอซิดเป็นพื้นฐาน ซึ่งมีการกัดกร่อนสูงหรือมีเสถียรภาพในระยะเวลา ยาวนานที่ไม่เป็นที่พึงพอใจ เช่น ในกรณีของอ่างที่มีไดฟอสโฟริกแอซิดเป็นพื้นฐาน อิเล็กโทรไลต์ ซึ่งได้รับการนำมาใช้สำหรับการใช้ชั้นบรอนซ์แบบบัดกรีได้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์โดยปรกติ แล้วจะมีสารประกอบที่เป็นพิษหรือสารประกอบไธโอที่เป็นพิษมาก การประดิษฐ์นี้ได้จัดให้มี อิเล็กโทรไลต์แบบไม่เป็นพิษซึ่งแสดงออกซึ่งเสถียรภาพระยะยาวสำหรับการตกสะสมแบบใช้ อิเล็กโทรไลต์ของชั้นบรอนซ์เพื่อการตกแต่งและกระบวนการที่สอดคล้องสำหรับการใช้ชั้นบรอนซ์ เพื่อการตกแต่งเช่นนี้กับสินค้าผู้บริโภคและผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม สินค้าผู้บริโภคและผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม ได้รับการเคลือบด้วยไฟฟ้าด้วยชั้นบรอนซ์ สำหรับเหตุผลด้านการตกแต่งและเพื่อที่จะปกป้องการกัดกร่อนผลิตภัณฑ์ อิเล็กโทรไลต์ซึ่ง นำมาใช้ในการเคลือบนี้เพื่อการผลิตชั้นบรอนซ์เพื่อการตกแต่ง เป็นทั้งแบบมีไซยาไนด์หรือในกรณี ของอ่างที่มีออร์กาโนซัลโฟนิกแอซิดเป็นพื้นฐาน ซึ่งมีการกัดกร่อนสูงหรือมีเสถียรภาพในระยะเวลา ยาวนานที่ไม่เป็นที่พึงพอในเช่นในกรณีของอ่างที่มีไดฟอสโฟริกแอซิดเป็นพื้นฐาน อิเล็กโทรไลต์ ซึ่งได้รับการนำมาใช้สำหรับการใช้ชั้นบรอนซ์แบบบัดกรีได้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์โดยปรกติ แล้วจะมีสารประกอบที่เป็นพิษหรือสารประกอบไธโอที่เป็นพิษมาก การประดิษฐ์นี้ได้จัดให้มี อิเล็กโทรไลต์แบบไม่เป็นพิษซึ่งแสดงออกซึ่งเสถียรภาพระยะยาวสำหรับกาตกสะสมแบบใช้อิเล็ก โทรไลต์ของชั้นบรอนซ์เพื่อการตกแต่งและกระบวนการที่สอดคล้องสำหรับการใช้ชั้นบรอนซ์เพื่อ การตกแต่วเช่นนี้กับสินค้าผู้บริโภคและผลิตภัณฑ์สาหกรรม

Claims (14)

1. อิเล็กโทรไลต์แบบไม่เป็นพิษสำหรับการตกสะสมของชั้นโลหะเจือชนิดบรอนซ์เพื่อการ ตกแต่งบนสินค้าผู้บริโภค และผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม ซึ่งมีโลหะที่จะได้รับการตกสะสมไว้ใน รูปแบบของเกลือละลายน้ำได้ ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์นี้มีหนึ่งหรือ มากกว่าหนึ่งชนิดของอนุพันธ์ฟอสฟอริกแอซิดในฐานะเป็นเอเจนต์เชิงซ้อนและไร้จากไซยาไนด์ อนุพันธ์ไธโอยูเรีย และอนุพันธ์ไธออล
2. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์ นี้มีคอปเปอร์และดีบุกหรือคอปเปอร์ ดีบุกและสังกะสี ในฐานะเป็นโลหะที่จะได้รับการตกสะสม
3. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์ นี้มีสารประกอบหนึ่งชนิดหรือมากกว่านี้ซึ่งได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยอะมิโนฟอสโฟ นิกแอซิด เอพี 1-อะมิโนเมธิลฟอสโฟนิกแอซิด เอเอ็มพี อะมิโนทริส(เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) เอทีเอ็มพี 1-อะมิโนเอธิลฟอสโฟนิกแอซิด เออีพี 1-อะมิโนโพรพิลฟอสโฟนิกแอซิด เอพีพี (1-อะเซทิลอะมิโน-2,2,2-ไตรคอลโรเอธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด (1-อะมิโน-1-ฟอสโฟโนออคทิล)ฟอส โฟนิกแอซิด (1-เบนโซอิลอะมิโน-2,2,2-ไตรคลอโรเอธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด (1-เบนโซอิลอะมิโน- 2,2-ไดคลอกโรไวนิล)ฟอสโฟนิกแอซิด, (4-คลอโรเฟนนิลไฮดรอกซีเมธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด ไดเอธิ ลีนไตรอะมีนเพนทะ(เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) ดีทีพีเอ็มพี เอธิลีนไดอะมีนเททรา(เมธิลีนฟอสโฟนิก แอซิด) อีดีทีเอ็มพี 1-ไฮดรอกซีอีเทน(1,1-ไดฟอสโฟนิกแอซิด) เอชอีดีพี ไฮดรอกซีเอธิลอะมิโนดิ (เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) เอชอีเอ็มพีเอ เฮกซะเมธิลีนไดอะมีนเททรา(เมธิลฟอสโฟนิกแอซิด)เอชดี ทีเอ็มพี ((ไฮดรอกซีเมธิลฟอสโฟโนเมธิลอะมิโน)เมธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด ไนทริโลทริส(เมธิลีน ฟอสโฟนิกแอซิด) เอ็นทีเอ็มพี 2,2,2-ไตรคลอโร-1-(ฟูแรน-2-คาร์บอนิล)อะมิโนเอธิลฟอสโฟนิแอ ซิด เกลือที่ได้จากส่วนที่กล่าวนี้และของเหลวผลควบแน่นที่ได้จากส่วนที่กล่าวนี้ และการ ผสมผสานของส่วนที่กล่าวในฐานะเป็นอนุพันธ์ฟอสโฟนิกแอซิด
4. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าค่าพีเอชของ อิเล็กโทรไลต์อยู่ในพิสัยตั้งแต่ 6 ถึง 14
5. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 4 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าหนึ่งหรือ มากกว่าหนึ่งของสารประกอบเพื่อการสเตบิไลซิงซึ่งได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยมอนอ คาร์บอกซิลิกและไดคาร์บอกซิลิกแอซิด อัลเคนซัลโฟนิกแอซิด และสารประกอบอะโรมาติกไนโตร ปรากฏอยู่
6. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ถึงข้อ 5 ข้อใดข้อหนึ่ง ได้รับการกำหนดรูปลักษณะ พิเศษที่ว่าเกลือละลายน้ำได้ของโลหะที่จะได้รับการตกสะสมได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่ง ประกอบด้วยซัลไฟต์ ซัลเฟต ฟอสเฟต ไดฟอสเฟต ไนไตรล์ ไนเตรท เฮไลด์ ไฮดรอกไซด์ ออกไซด์-ไฮดรอกไซด์ ออกไซด์และการผสมผสานของส่วนที่กล่าวนี้
7. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าโลหะที่จะ ได้รับการตกสะสม ปรากฏอยู่ในรูปแบบที่มีการละลายเป็นไอออนและความเข้มข้นไอออนนี้อยู่ใน พิสัยตั้งแต่ 0.2 ถึง 5 กรัมต่อลิตรของอิเล็กโทรไลต์ ความเข้มข้นไอออนของดีบุกอยู่ในพิสัยตั้งแต่ 0.5 ถึง 20 กรัมต่อลิตรของอิเล็กโทรไลต์และความเข้มข้นไอออนของสังกะสี อยู่ในพิสัยตั้งแต่ 0 ถึง 5 กรัมต่อลิตรของอิเล็กโทรไลต์
8. กระบวนการสำหรับการใช้อิเล็กโทรไลต์ของชั้นโลหะเจือของบรอนซ์เพื่อการตกแต่งกับ สินค้าผู้บริโภคและผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม ซึ่งซับสเตรทที่จะได้รับการเคลือบไว้ ได้รับการจุ่มไว้ใน อิเล็กโทรไลต์ที่มีโลหะที่จะได้รับการตกสะสมในรูปแบบของเกลือละลายน้ำ ได้รับการกำหนด รูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์แบบไม่เป็นพิษซึ่งมีอนุพันธ์ฟอสฟอริกแอซิดหนึ่งชนิดหรือ มากกว่านี้ ในฐานะเป็นเอเจนต์เชิงซ้อนและไร้ไซยาไนด์ อนุพันธ์ไธโอยูเรีย และอนุพันธ์ไธออล ได้รับการนำมาใช้
9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์ ได้รับการคงไว้ ณ อุณหภูมิในพิสัยตั้งแต่ 20 ถึง 70 องศาเซลเซียส
10. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าความ หนาแน่นกระแสในพิสัยตั้งแต่ 0.01 ถึง 100 แอมแปร์ต่อตารางเดซิเมตร ได้รับการกำหนดไว้
11. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 10 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าแอโนดที่ ละลายได้ทำขึ้นจากวัสดุที่ได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยอิเล็กโทรไลติกคอปเปอร์ คอปเปอร์ที่มีฟอสฟอรัส ดีบุก โลหะเจือที่มีดีบุก โลหะเจือของสังกะสี-ทองแดง และโลหะเจือ สังกะสี-ดีบุก-คอปเปอร์ หรือการผสมผสานของแอโนดเหล่านี้ ได้รับการนำมาใช้
12. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 10 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าแอโนดที่ไม่ ละลายซึ่งทำขึ้นจากวัสดุที่ได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยไทเทเนียมเคลือบแพลตินัม แกร์ไฟต์ ออกไซด์ผสมของอิริเดียม-โลหัแทรนซิชัน และวัสดุคาร์บอนพิเศษ("คาร์บอนที่คล้าย เพรช" DLC) หรือ การผสมผสานของแอโนดเหล่านี้ ได้รับการนำมาใช้งาน
13. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า แอโนดแบบ ไม่ละลายซึ่งทำขึ้นจากวัสดุซึ่งได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยไทเทเนียมเคลือบแพลตินัม แกร์ไฟต์ ออกไซด์ผสมของอิริเดียม-โลหะแทรนซิชัน และวัสดุคาร์บอนพิเศษ("คาร์บอนที่คล้าย เพชร"DLC) หรือ การผสมผสานของแอโนดเหล่านี้ ได้รับการนำมาใช้งาน
14. กระบวนการตามข้อถือสิทะข้อ 12 หรือข้อ 13 ข้อใดข้อหนึ่ง ได้รับการกำหนด รูปลักษณะพิเศษที่ว่าแคโทดและแอโนดแบบไม่ละลาย ได้รับการแยกจากอีกส่วนหนึ่งโดยเยื่อ แลกเปลี่ยนไอออน เพื่อที่จะก่อรูประวางแคโทด และระวางแอโนด และเพียงระวางแคโทดมีอิเล็กโทร ไลต์แบบไม่เป็นพิษเพื่อที่ว่าออกซิเดชันของแอโนดของ Sn2+ ไปเป็น Sn4+ จะได้รับการป้องกันไว้
TH801000688A 2008-02-12 คอปเปอร์-ดีบุกอิเล็กโทรไลต์และกระบวนการสำหรับการตกสะสมของชั้นบรอนซ์ TH99324B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH99324A true TH99324A (th) 2009-12-09
TH99324B TH99324B (th) 2009-12-09

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8211285B2 (en) Copper-tin electrolyte and method for depositing bronze layers
TW201014935A (en) Improved copper-tin electrolyte and process for the deposition of bronze layers
US8808525B2 (en) Cyanide free electrolyte composition for the galvanic deposition of a copper layer
EP3084042B1 (en) Deposition of copper-tin and copper-tin-zinc alloys from an electrolyte
US9441306B2 (en) Method for cathodic corrosion protection of chromium surfaces
JP2011527381A5 (th)
EP3519611A1 (en) Method for treatment of a chromium finish surface
ES2966844T3 (es) Procedimiento mejorado para él fosfatado sin níquel de superficies metálicas
JP2017503926A (ja) 三価クロムを含有する電気めっき浴及びクロムを析出させる方法
CN115386922A (zh) 用于在至少一个基底上沉积铬或铬合金层的受控方法
US8211286B2 (en) Electrolyte and method for depositing decorative and technical layers of black ruthenium
WO2018216319A1 (ja) チタンめっき部材の製造方法
CN110446802B (zh) 在至少一个基底上电解沉积铬或铬合金层的方法
JP2018012857A (ja) 電解処理用金属表面処理剤、電解処理用金属表面処理剤の製造方法、及び、金属材料の表面処理方法
JP2015021178A (ja) 無電解Ni−P−Snめっき液
HK1137785B (en) Copper-tin electrolyte and method for depositing bronze layers
TH57773B (th) อิเล็กโทรไลต์และวิธีการสำหรับการตกสะสมชั้นตกแต่งและทางเทคนิคบนแบล็ครูเธเนียม
TH101035A (th) อิเล็กโทรไลต์และวิธีการสำหรับการตกสะสมชั้นตกแต่งและทางเทคนิคบนแบล็ครูเธเนียม