TH99324A - คอปเปอร์-ดีบุกอิเล็กโทรไลต์และกระบวนการสำหรับการตกสะสมของชั้นบรอนซ์ - Google Patents
คอปเปอร์-ดีบุกอิเล็กโทรไลต์และกระบวนการสำหรับการตกสะสมของชั้นบรอนซ์Info
- Publication number
- TH99324A TH99324A TH801000688A TH0801000688A TH99324A TH 99324 A TH99324 A TH 99324A TH 801000688 A TH801000688 A TH 801000688A TH 0801000688 A TH0801000688 A TH 0801000688A TH 99324 A TH99324 A TH 99324A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- electrolyte
- acid
- toxic
- bronze
- tin
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 สินค้าผู้บริโภคและผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม ได้รับการเคลือบด้วยไฟฟ้าด้วยชั้นบรอนซ์ สำหรับเหตุผลด้านการตกแต่งและเพื่อที่จะปกป้องการกัดกร่อนผลิตภัณฑ์ อิเล็กโทรไลต์ซึ่ง นำมาใช้ในการเคลือบนี้เพื่อการผลิตชั้นบรอนซ์เพื่อการตกแต่ง เป็นทั้งแบบมีไซยาไนด์หรือในกรณี ของอ่างที่มีออร์กาโนซัลโฟนิกแอซิดเป็นพื้นฐาน ซึ่งมีการกัดกร่อนสูงหรือมีเสถียรภาพในระยะเวลา ยาวนานที่ไม่เป็นที่พึงพอใจ เช่น ในกรณีของอ่างที่มีไดฟอสโฟริกแอซิดเป็นพื้นฐาน อิเล็กโทรไลต์ ซึ่งได้รับการนำมาใช้สำหรับการใช้ชั้นบรอนซ์แบบบัดกรีได้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์โดยปรกติ แล้วจะมีสารประกอบที่เป็นพิษหรือสารประกอบไธโอที่เป็นพิษมาก การประดิษฐ์นี้ได้จัดให้มี อิเล็กโทรไลต์แบบไม่เป็นพิษซึ่งแสดงออกซึ่งเสถียรภาพระยะยาวสำหรับการตกสะสมแบบใช้ อิเล็กโทรไลต์ของชั้นบรอนซ์เพื่อการตกแต่งและกระบวนการที่สอดคล้องสำหรับการใช้ชั้นบรอนซ์ เพื่อการตกแต่งเช่นนี้กับสินค้าผู้บริโภคและผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม สินค้าผู้บริโภคและผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม ได้รับการเคลือบด้วยไฟฟ้าด้วยชั้นบรอนซ์ สำหรับเหตุผลด้านการตกแต่งและเพื่อที่จะปกป้องการกัดกร่อนผลิตภัณฑ์ อิเล็กโทรไลต์ซึ่ง นำมาใช้ในการเคลือบนี้เพื่อการผลิตชั้นบรอนซ์เพื่อการตกแต่ง เป็นทั้งแบบมีไซยาไนด์หรือในกรณี ของอ่างที่มีออร์กาโนซัลโฟนิกแอซิดเป็นพื้นฐาน ซึ่งมีการกัดกร่อนสูงหรือมีเสถียรภาพในระยะเวลา ยาวนานที่ไม่เป็นที่พึงพอในเช่นในกรณีของอ่างที่มีไดฟอสโฟริกแอซิดเป็นพื้นฐาน อิเล็กโทรไลต์ ซึ่งได้รับการนำมาใช้สำหรับการใช้ชั้นบรอนซ์แบบบัดกรีได้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์โดยปรกติ แล้วจะมีสารประกอบที่เป็นพิษหรือสารประกอบไธโอที่เป็นพิษมาก การประดิษฐ์นี้ได้จัดให้มี อิเล็กโทรไลต์แบบไม่เป็นพิษซึ่งแสดงออกซึ่งเสถียรภาพระยะยาวสำหรับกาตกสะสมแบบใช้อิเล็ก โทรไลต์ของชั้นบรอนซ์เพื่อการตกแต่งและกระบวนการที่สอดคล้องสำหรับการใช้ชั้นบรอนซ์เพื่อ การตกแต่วเช่นนี้กับสินค้าผู้บริโภคและผลิตภัณฑ์สาหกรรม
Claims (14)
1. อิเล็กโทรไลต์แบบไม่เป็นพิษสำหรับการตกสะสมของชั้นโลหะเจือชนิดบรอนซ์เพื่อการ ตกแต่งบนสินค้าผู้บริโภค และผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม ซึ่งมีโลหะที่จะได้รับการตกสะสมไว้ใน รูปแบบของเกลือละลายน้ำได้ ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์นี้มีหนึ่งหรือ มากกว่าหนึ่งชนิดของอนุพันธ์ฟอสฟอริกแอซิดในฐานะเป็นเอเจนต์เชิงซ้อนและไร้จากไซยาไนด์ อนุพันธ์ไธโอยูเรีย และอนุพันธ์ไธออล
2. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์ นี้มีคอปเปอร์และดีบุกหรือคอปเปอร์ ดีบุกและสังกะสี ในฐานะเป็นโลหะที่จะได้รับการตกสะสม
3. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์ นี้มีสารประกอบหนึ่งชนิดหรือมากกว่านี้ซึ่งได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยอะมิโนฟอสโฟ นิกแอซิด เอพี 1-อะมิโนเมธิลฟอสโฟนิกแอซิด เอเอ็มพี อะมิโนทริส(เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) เอทีเอ็มพี 1-อะมิโนเอธิลฟอสโฟนิกแอซิด เออีพี 1-อะมิโนโพรพิลฟอสโฟนิกแอซิด เอพีพี (1-อะเซทิลอะมิโน-2,2,2-ไตรคอลโรเอธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด (1-อะมิโน-1-ฟอสโฟโนออคทิล)ฟอส โฟนิกแอซิด (1-เบนโซอิลอะมิโน-2,2,2-ไตรคลอโรเอธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด (1-เบนโซอิลอะมิโน- 2,2-ไดคลอกโรไวนิล)ฟอสโฟนิกแอซิด, (4-คลอโรเฟนนิลไฮดรอกซีเมธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด ไดเอธิ ลีนไตรอะมีนเพนทะ(เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) ดีทีพีเอ็มพี เอธิลีนไดอะมีนเททรา(เมธิลีนฟอสโฟนิก แอซิด) อีดีทีเอ็มพี 1-ไฮดรอกซีอีเทน(1,1-ไดฟอสโฟนิกแอซิด) เอชอีดีพี ไฮดรอกซีเอธิลอะมิโนดิ (เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) เอชอีเอ็มพีเอ เฮกซะเมธิลีนไดอะมีนเททรา(เมธิลฟอสโฟนิกแอซิด)เอชดี ทีเอ็มพี ((ไฮดรอกซีเมธิลฟอสโฟโนเมธิลอะมิโน)เมธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด ไนทริโลทริส(เมธิลีน ฟอสโฟนิกแอซิด) เอ็นทีเอ็มพี 2,2,2-ไตรคลอโร-1-(ฟูแรน-2-คาร์บอนิล)อะมิโนเอธิลฟอสโฟนิแอ ซิด เกลือที่ได้จากส่วนที่กล่าวนี้และของเหลวผลควบแน่นที่ได้จากส่วนที่กล่าวนี้ และการ ผสมผสานของส่วนที่กล่าวในฐานะเป็นอนุพันธ์ฟอสโฟนิกแอซิด
4. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าค่าพีเอชของ อิเล็กโทรไลต์อยู่ในพิสัยตั้งแต่ 6 ถึง 14
5. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 4 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าหนึ่งหรือ มากกว่าหนึ่งของสารประกอบเพื่อการสเตบิไลซิงซึ่งได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยมอนอ คาร์บอกซิลิกและไดคาร์บอกซิลิกแอซิด อัลเคนซัลโฟนิกแอซิด และสารประกอบอะโรมาติกไนโตร ปรากฏอยู่
6. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ถึงข้อ 5 ข้อใดข้อหนึ่ง ได้รับการกำหนดรูปลักษณะ พิเศษที่ว่าเกลือละลายน้ำได้ของโลหะที่จะได้รับการตกสะสมได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่ง ประกอบด้วยซัลไฟต์ ซัลเฟต ฟอสเฟต ไดฟอสเฟต ไนไตรล์ ไนเตรท เฮไลด์ ไฮดรอกไซด์ ออกไซด์-ไฮดรอกไซด์ ออกไซด์และการผสมผสานของส่วนที่กล่าวนี้
7. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าโลหะที่จะ ได้รับการตกสะสม ปรากฏอยู่ในรูปแบบที่มีการละลายเป็นไอออนและความเข้มข้นไอออนนี้อยู่ใน พิสัยตั้งแต่ 0.2 ถึง 5 กรัมต่อลิตรของอิเล็กโทรไลต์ ความเข้มข้นไอออนของดีบุกอยู่ในพิสัยตั้งแต่ 0.5 ถึง 20 กรัมต่อลิตรของอิเล็กโทรไลต์และความเข้มข้นไอออนของสังกะสี อยู่ในพิสัยตั้งแต่ 0 ถึง 5 กรัมต่อลิตรของอิเล็กโทรไลต์
8. กระบวนการสำหรับการใช้อิเล็กโทรไลต์ของชั้นโลหะเจือของบรอนซ์เพื่อการตกแต่งกับ สินค้าผู้บริโภคและผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม ซึ่งซับสเตรทที่จะได้รับการเคลือบไว้ ได้รับการจุ่มไว้ใน อิเล็กโทรไลต์ที่มีโลหะที่จะได้รับการตกสะสมในรูปแบบของเกลือละลายน้ำ ได้รับการกำหนด รูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์แบบไม่เป็นพิษซึ่งมีอนุพันธ์ฟอสฟอริกแอซิดหนึ่งชนิดหรือ มากกว่านี้ ในฐานะเป็นเอเจนต์เชิงซ้อนและไร้ไซยาไนด์ อนุพันธ์ไธโอยูเรีย และอนุพันธ์ไธออล ได้รับการนำมาใช้
9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์ ได้รับการคงไว้ ณ อุณหภูมิในพิสัยตั้งแต่ 20 ถึง 70 องศาเซลเซียส
10. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าความ หนาแน่นกระแสในพิสัยตั้งแต่ 0.01 ถึง 100 แอมแปร์ต่อตารางเดซิเมตร ได้รับการกำหนดไว้
11. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 10 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าแอโนดที่ ละลายได้ทำขึ้นจากวัสดุที่ได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยอิเล็กโทรไลติกคอปเปอร์ คอปเปอร์ที่มีฟอสฟอรัส ดีบุก โลหะเจือที่มีดีบุก โลหะเจือของสังกะสี-ทองแดง และโลหะเจือ สังกะสี-ดีบุก-คอปเปอร์ หรือการผสมผสานของแอโนดเหล่านี้ ได้รับการนำมาใช้
12. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 10 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าแอโนดที่ไม่ ละลายซึ่งทำขึ้นจากวัสดุที่ได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยไทเทเนียมเคลือบแพลตินัม แกร์ไฟต์ ออกไซด์ผสมของอิริเดียม-โลหัแทรนซิชัน และวัสดุคาร์บอนพิเศษ("คาร์บอนที่คล้าย เพรช" DLC) หรือ การผสมผสานของแอโนดเหล่านี้ ได้รับการนำมาใช้งาน
13. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า แอโนดแบบ ไม่ละลายซึ่งทำขึ้นจากวัสดุซึ่งได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยไทเทเนียมเคลือบแพลตินัม แกร์ไฟต์ ออกไซด์ผสมของอิริเดียม-โลหะแทรนซิชัน และวัสดุคาร์บอนพิเศษ("คาร์บอนที่คล้าย เพชร"DLC) หรือ การผสมผสานของแอโนดเหล่านี้ ได้รับการนำมาใช้งาน
14. กระบวนการตามข้อถือสิทะข้อ 12 หรือข้อ 13 ข้อใดข้อหนึ่ง ได้รับการกำหนด รูปลักษณะพิเศษที่ว่าแคโทดและแอโนดแบบไม่ละลาย ได้รับการแยกจากอีกส่วนหนึ่งโดยเยื่อ แลกเปลี่ยนไอออน เพื่อที่จะก่อรูประวางแคโทด และระวางแอโนด และเพียงระวางแคโทดมีอิเล็กโทร ไลต์แบบไม่เป็นพิษเพื่อที่ว่าออกซิเดชันของแอโนดของ Sn2+ ไปเป็น Sn4+ จะได้รับการป้องกันไว้
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH99324A true TH99324A (th) | 2009-12-09 |
| TH99324B TH99324B (th) | 2009-12-09 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8211285B2 (en) | Copper-tin electrolyte and method for depositing bronze layers | |
| TW201014935A (en) | Improved copper-tin electrolyte and process for the deposition of bronze layers | |
| US8808525B2 (en) | Cyanide free electrolyte composition for the galvanic deposition of a copper layer | |
| EP3084042B1 (en) | Deposition of copper-tin and copper-tin-zinc alloys from an electrolyte | |
| US9441306B2 (en) | Method for cathodic corrosion protection of chromium surfaces | |
| JP2011527381A5 (th) | ||
| EP3519611A1 (en) | Method for treatment of a chromium finish surface | |
| ES2966844T3 (es) | Procedimiento mejorado para él fosfatado sin níquel de superficies metálicas | |
| JP2017503926A (ja) | 三価クロムを含有する電気めっき浴及びクロムを析出させる方法 | |
| CN115386922A (zh) | 用于在至少一个基底上沉积铬或铬合金层的受控方法 | |
| US8211286B2 (en) | Electrolyte and method for depositing decorative and technical layers of black ruthenium | |
| WO2018216319A1 (ja) | チタンめっき部材の製造方法 | |
| CN110446802B (zh) | 在至少一个基底上电解沉积铬或铬合金层的方法 | |
| JP2018012857A (ja) | 電解処理用金属表面処理剤、電解処理用金属表面処理剤の製造方法、及び、金属材料の表面処理方法 | |
| JP2015021178A (ja) | 無電解Ni−P−Snめっき液 | |
| HK1137785B (en) | Copper-tin electrolyte and method for depositing bronze layers | |
| TH57773B (th) | อิเล็กโทรไลต์และวิธีการสำหรับการตกสะสมชั้นตกแต่งและทางเทคนิคบนแบล็ครูเธเนียม | |
| TH101035A (th) | อิเล็กโทรไลต์และวิธีการสำหรับการตกสะสมชั้นตกแต่งและทางเทคนิคบนแบล็ครูเธเนียม |