TH101035A - อิเล็กโทรไลต์และวิธีการสำหรับการตกสะสมชั้นตกแต่งและทางเทคนิคบนแบล็ครูเธเนียม - Google Patents

Abstract

DC60 (21/11/59) การผลิตชั้นโลหะที่แข็งแรงเชิงกลและเสถียรต่อการออกซิเดชัน ซึ่งมีสีดำปรากฏอยู่ในงาน ที่ท้าทายในด้านการทำสำเร็จเชิงไฟฟ้าเคมี โดยเฉพาะอย่างยิ่ง เนื่องจากมีเพียงโลหะไม่กี่ชนิดซึ่ง เหมาะสมสำหรับความมุ่งหมายนี้ ความเป็นไปได้ซึ่งไม่มีอันตรายต่อสุขภาพ ในลักษณะที่ตรงข้าม กับนิกเกิล และมีความประหยัดเมื่อเปรียบเทียบกับโรเดียม คือ การผลิตเชิงไฟฟ้าเคมีของชั้นแบล็ค รูเธเนียม การประดิษฐ์นี้ได้จัดให้มีอิเล็กโทรไลต์และวิธีการที่มีการใช้อิเล็กโทรไลต์นี้ สำหรับการ ผลิตชั้นแบล็ครูเธเนียมบนชิ้นงานอัญมณี สินค้าตกแต่ง สินค้าบริโภค และผลิตภัณฑ์เชิงเทคนิค อิเล็กโทรไลต์ที่ว่านี้ แตกต่างกันในลักษณะที่ว่าอนุพันธ์ฟอสโฟนิกแอซิดหนึ่งชนิดหรือมากกว่านี้ ได้รับการนำมาใช้เป็นอนุพันธ์เพื่อการทำให้ดำ ส่วนเหล่านี้คงค่าความสว่างไว้ ระดับของค่า ความดำ ของชั้นแบล็ครูเธเนียมที่ได้สามารถที่จะได้รับการปรับแต่งโดยการเลือกใช้ชนิดและปริมาณ ของ อนุพันธ์ฟอสโฟนิกแอซิดที่นำมาใช้ ในขณะที่มีการคงค่าความสว่างที่ต้องการ แก้ไข 21/11/2559 การผลิตชั้นโลหะที่แข็งแรงเชิงกลและเสถียรต่อการออกซิเดชัน ซึ่งมีสีดำปรากฎอยู่ในงาน ที่ท้าทายในด้านการทำสำเร็จเชิงไฟฟ้าเคมี โดยเฉพาะอย่างยิ่ง เนื่องจากมีเพียงโลหะไม่กี่ชนิดซึ่ง เหมาะสมสำหรับความมุ่งหมายนี้ ความเป็นไปได้ซึ่งไม่มีอันตรายต่อสุขภาพ ในลักษณะที่ตรงข้าม กับนิกเกิล และมีความประหยัดเมื่อเปรียบเทียบกับโรเดียม คือ การผลิตเชิงไฟฟ้าเคมีของชั้นแบล็ค รูเธเนียม การประดิษฐ์นี้ได้จัดให้มีอิเล็กโทรไลต์และวิธีการที่มีการใช้อิเล็กโทรไลต์นี้ สำหรับการ ผลิตชั้นแบล็ครูเธเนียมบนชิ้นงานอัญมณี, สินค้าตกแต่ง, สินค้าบริโภค และผลิตภัณฑ์เชิงเทคนิค อิเล็กโทรไลต์ที่ว่านี้ แตกต่างกันในลักษณะที่ว่าอนุพันธ์ฟอสโฟนิกแอซิดหนึ่งชนิดหรือมากกว่านี้ ได้รับการนำมาใช้เป็นอนุพันธ์เพื่อการทำให้ดำ ส่วนเหล่านี้คงค่าความสว่างไว้ ระดับของค่าความดำ ของชั้นแบล็ครูเธเนียมที่ได้สามารถที่จะได้รับการปรับแต่งโดยการเลือกใช้ชนิดและปริมาณของ อนุพันธ์ฟอสโฟนิกแอซิดที่นำมาใช้ ในขณะที่มีการคงค่าความสว่างที่ต้องการ ------------------------------------ การผลิตชั้นโลหะที่แข็งแรงเชิงกลและเสถียรต่อการออกซิเดชัน ซึ่งมีสีดำปรากฎอยู่ในงาน ที่ท้าทายในด้านการทำสำเร็จเชิงไฟฟ้าเคมี โดยเฉพาะอย่างยิ่งเนื่องจากมีเพียงโลหะไม่กี่ชนิดซึ่ง เหมาะสมสำหรับความมุ่งหมายนี้ ความเป็นไปได้ซึ่งไม่มีอันตรายต่อสุขภาพ ในลักษณะที่ตรงข้าม กับนิกเกิล และมีความประหยัดเมื่อเปรียบเทียบกับโรเดียม คือการผลิตเชิงไฟฟ้าเคมีของชั้นแบล็ค รูเธเนียม การประดิษฐ์นี้ได้จัดให้มีอิเล็กโทรไลต์และวิธีการที่มีการใช้อิเล็กโทรไลต์นี้สำหรับการ ผลิตชั้นแบล็ครูเธเนียมบนชิ้นงานอัญมณี สินค้าตกแต่ง สินค้าผู้บริโภค และผลิตภัณฑ์เชิงเทคนิค อิเล็กโทรไลต์ที่ว่านี้ แตกต่างกันในลักษณะที่ว่าอนุพันธ์ฟอสโฟนิกแอซิดหนึ่งชนิดหรือมากกว่านี้ ได้รับการนำมาใช้เป็นอนุพันธ์เพื่อการเพิ่มความดำ ส่วนเหล่านี้คงค่าความสว่างไว้ ระดับของค่า ความดำของชั้นแบล็ครูเธเนียมที่ได้สามารถที่จะได้รับการปรับแต่งโดยการเลือกใช้ชนิดและปริมาณ ของอนุพันธ์ฟอสโฟนิกแอซิดที่นำมาใช้ ในขณะที่มีการคงค่าความสว่างที่ต้องการ

Claims (12)

แก้ไข 21/11/2559 1. อิเล็กโทรไลต์แบบไม่เป็นพิษสำหรับการตกสะสมชั้นตกแต่งและทางเทคนิคของ รูเธเนียมซึ่งมีค่าความดำเฉพาะ (“แบล็ครูเธเนียม”), ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า อิเล็กโทรไลต์นี้มีอนุพันธ์ฟอสโฟนิกแอซิดหนึ่งชนิดหรือมากกว่านี้ ในฐานะเป็นสารเติมแต่งเพื่อการ ทำให้ดำ และความเข้มข้นเชิงปริมาตรของรูเธเนียมคือตั้งแต่ 0.2 ถึง 20 กรัมต่อลิตรของอิเล็กโทรไลต์, ที่คำนวณเป็นโลหะรูเธเนียม 2. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1, ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่ารูเธเนียม ปรากฎอยู่ในฐานะเป็นไดนิวเคลียร์ของสารประกอบเชิงซ้อนแอนไอออนิกรูเธเนียม-ไนไตรโดฮาโล จีโนที่มีสูตรผสมเป็น [Ra2N(H2O)2 X8]3- 3. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 2, ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า อิเล็กโทรไลต์ ปราศจากไอออนโลหะแทรนซิชันอื่นอีก 4. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 2, ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า อิเล็กโทรไลต์ ในฐานะเป็นฟอสโฟนิกแอซิด, มีสารประกอบหนึ่งชนิดหรือมากกว่านี้ซึ่งได้รับการเลือกจากกลุ่ม ซึ่งประกอบด้วยอะมิโนฟอสโฟนิกแอซิด AP, 1-อะมิโนเมธิลฟอสโฟนิกแอซิด AMP, อะมิโนทริส (เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) ATMP, 1-อะมิโนเอธิลฟอสโฟนิกแอซิด AEP, 1-อะมิโนโพรพิลฟอส โฟนิกแอซิด APP, (1-อะเซทิลอะมิโน-2,2,2-ไตรคลอโรเอธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด, (1-อะมิโน-1-ฟอส โฟโนออคทิล)ฟอสโฟนิกแอซิด, (1-เบนโซอิลอะมิโน-2,2,2-ไตรคลอโรเอธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด, (1-เบนโซอิลอะมิโน-2,2-ไดคลอโรไวนิล)ฟอสโฟนิกแอชิด, (4-คลอโรเฟนนิลไฮดรอกซีเมธิล)ฟอส โฟนิกแอซิด, ไดเอธิลีนไตรอะมีนเพนทะ(เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) DTPMP, เอธิลีนไดอะมีนเททรา (เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) EDTMP, 1-ไฮดรอกซีอีเทน(1,1-ไดฟอสโฟนิกแอซิด) HEDP, ไฮดรอกซี เอธิลอะมิโนได(เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) HEMPA, เฮกซะเมธิลีนไดอะมีนเททรา(เมธิลฟอสโฟนิก แอซิด) HDTMP, ((ไฮดรอกซีเมธิลฟอสโฟโนเมธิลอะมิโน)เมธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด, ไนทริลโลทริส (เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) NTMP, 2,2,2-ไตรคลอโร-1-(ฟูแรน-2-คาร์บอนิล)อะมิโนเอธิลฟอสโฟนิก แอซิด, เกลือที่มาจากที่กล่าวนั้น หรือสารควบแน่นจากที่กล่าวนั้น หรือการผสมผสานของมัน 5. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 4, ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า อิเล็กโทรไลต์ นี้มีอนุพันธ์ฟอสโฟนิกแอซิดตั้งแต่ 0.1 ถึง 20 กรัม ต่อลิตรของอิเล็กโทรไลต์ 6. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 4, ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า ค่าพีเอชของ อิเล็กโทรไลต์คือ ตั้งแต่ 0 ถึง 3 7. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 6, ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์ มีกรดแร่อนินทรีย์ซึ่งได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยไฮโดรคลอริกแอซิด, ไฮโดรโบรมิก แอซิด, ไฮดริออดิกแอซิด, ไนตริกแอซิด, ไนตรัสแอซิด, อะมิโดซัลโฟนิกแอซิด, ซัลฟิวริกแอซิด, ซัลฟิวรัสแอซิด, ไดซัลฟิวริกแอซิด, ไดไธโอนิกแอซิด, ไดซัลฟิวรัสแอซิด และไดไธโอเนียสแอซิด หรือการผสมผสานของมัน 8. อิเล็กโทรไลต์ตามข้อถือสิทธิข้อ 4 ถึงข้อ 7 ข้อใดข้อหนึ่ง ได้รับการกำหนดรูปลักษณะ พิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์มีสารประกอบหนึ่งชนิดหรือมากกว่าที่ได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบ ด้วยอัลเคนซัลโฟนิกแอซิด หรือสารลดแรงตึงผิวที่เป็นไอออนิกและที่เป็นนอนไอออนิกหรือการ ผสมผสานของมันในฐานะเป็นสารทำให้เปียก 9. วิธีการสำหรับงานประยุกต์เชิงไฟฟ้าเคมีของชั้นตกแต่งและทางเทคนิคของรูเธเนียม ซึ่งมีค่าความดำเฉพาะ (“แบล็ครูเธเนียม”) กับชิ้นงานของอัญมณี, สินค้าตกแต่ง, สินค้าบริโภค และ ผลิตภัณฑ์ทางเทคนิค, ซับสเตรทที่จะได้รับการเคลือบซึ่งได้รับการจุ่มในอิเล็กโทรไลต์ซึ่งมีรูเธเนียม ในรูปแบบที่มีการละลาย, ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า อิเล็กโทรไลต์ซึ่งมีอนุพันธ์ฟอสโฟ นิกแอซิดหนึ่งชนิดหรือมากกว่าในฐานะเป็นสารเติมแต่งเพื่อการทำให้ดำจะได้รับการนำมาใช้ 10. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 9, ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า อิเล็กโทรไลต์ได้รับ การควบคุมแบบเทอร์มอสแตตในพิสัยตั้งแต่ 20 ถึง 80 องศาเซลเซียส 11. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 10, ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า ความหนาแน่น กระแสซึ่งอยู่ในพิสัยตั้งแต่ 0.01 ถึง 10 แอมแปร์ต่อตารางเดซิเมตร ได้รับการสร้างขึ้น 12. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 11, ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า แอโนดแบบไม่ ละลายซึ่งประกอบรวมด้วยวัสดุที่ได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยไทเทเนียมเคลือบแพลตินัม, แกรไฟต์, ออกไซด์ผสมของโลหะแทรนซิชันอิริเดียม และวัสดุคาร์บอนพิเศษ (“คาร์บอนที่คล้าย เพชร” DLC) หรือการผสมผสานของแอโนดเหล่านี้ ได้รับการนำมาใช้ -----------------------------------

1. อิเล็กโทรไลต์แบบไม่เป็นพิษสำหรับการตกสะสมชั้นตกแต่งและชั้นเทคนิคของ รูเธเนียมซึ่งมีค่าความดำเฉพาะ ("แบล็ครูเธเนียม") ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทร ไลต์ที่ว่านี้มีอนุพันธ์ฟอสโฟนิกแอซิดหนึ่งชนิดหรือมากกว่านี้ในฐานะเป็นสารเติมแต่งเพื่อการเพิ่ม ความดำ และความเข้มข้นเชิงปริมาตรของรูเธเนียมมีค่าตั้งแต่ 0.2 ถึง 20 กรัมต่อลิตรของอิเล็กโทรไลต์ ได้รับการคำนวณเป็นโลหะรูเธเนียม

2. อิเล็กโทรไลต์ตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษ ที่ว่ารูเธเนียมปรากฎอยู่ในฐานะเป็นสารประกอบเชิงซ้อนแอนไอออนิกรูเธเนียมไนไตรโดฮาโลจีโน แบบไดนิวเคลียร์ที่มีสูตรผสมเป็น [Ru2N(H2O)2X8]3-

3. อิเล็กโทรไลต์ตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 2 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษ ที่ว่าอิเล็กโทรไลต์เป็นแบบไร้ไอออนโลหะแทรนซิชันอื่นอีก

4. อิเล็กโทรไลต์ตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 2 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษ ที่ว่าอิเล็กโทรไลต์มี สารประกอบหนึ่งชนิดหรือมากกว่านี้ซึ่งได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย อะมิโนฟอสโฟนิกแอซิด AP 1-อะมิโนเมธิลฟอสโฟนิกแอซิด AMP อะมิโนทริส(เมธิลีนฟอสโฟ นิกแอซิด) ATMP 1-อะมิโนเมธิลฟอสโฟนิกแอซิด AMP 1-อะมิโนโพรพิลฟอสโฟนิกแอซิด APP (1-อะเซทิลอะมิโน-2,2,2-ไตรคลอโรเอธิล)-ฟอสโฟนิกแอซิด (1-อะมิโน-1-ฟอสโฟโนออคทิล) ฟอสโฟนิกแอซิด (1-เบนโซอิลอะมิโน-2,2,2-ไตรคลอโรเอธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด (1-เบนโซอิล อะมิโน-2,2-ไดคลอโรไวนิล)ฟอสโฟนิกแอซิด (4-คลอโรเฟนิลไฮดรอกซีเมธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด ไดเอธิลีนไตรอะมีนเพนทะ(เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) DTPMP เอธิลีนไดอะมินเททรา(เมธิลีนฟอส โฟนิกแอซิด) EDTMP 1-ไฮดรอกซีอีเทน (1,1-ไดฟอสโฟนิกแอซิด) HEDP ไฮดรอกซีเอธิลอะมิโน ได(เมธิลีนฟอสโฟนิกแอซิด) HEMPA เฮกซะเมธิลีนไดอะมีนเททรา(เมธิลฟอสโฟนิกแอซิด) HDTMP ((ไฮดรอกซีเมธิลฟอสโฟโนเมธิลอะมิโน)เมธิล)ฟอสโฟนิกแอซิด ไนทริลโลทริส(เมธิลีน ฟอสโฟนิกแอซิด) NTMP 2,2,2-ไตรคลอโร-1-(ฟูแรน-2-คาร์บอนิล)อะมิโนเอธิลฟอสโฟนิก แอซิด เกลือที่ได้จากอนุพันธ์ของส่วนที่กล่าวนี้ หรือของเหลวผลควบแน่นที่ได้จากที่กล่าวนี้ หรือ การผสมผสานของที่กล่าวนี้ ในฐานะเป็นฟอสโฟนิกแอซิด

5. อิเล็กโทรไลต์ตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 4 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษ ที่ว่าอิเล็กโทรไลต์นี้มีอนุพันธ์ฟอสโฟนิกแอซิดตั้งแต่ 0.1 ถึง 20 กรัม ต่อลิตรของอิเล็กโทรไลต์

6. อิเล็กโทรไลต์ตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 4 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษ ที่ว่า ค่าพีเอชของอิเล็กโทรไลต์ตั้งแต่ 0 ถึง 3

7. อิเล็กโทรไลต์ตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 6 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษ ที่ว่าอิเล็กโทรไลต์มีกรดแร่อนินทรีย์ซึ่งได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย ไฮโดรคลอริกแอซิด ไฮโดรโบรมิกแอซิด ไฮดดริออดิกแอซิด ไนตริกแอซิด ไนตรัสแอซิด อะมิโนซัลโฟนิกแอซิด ซัลฟิวริกแอซิด ซัลฟิวรัสแอซิด ไดซัลฟิวริกแอซิด ไดไธโอนิกแอซิด ไดซัลฟิวรัสแอซิด และ ไดไธโอเนียสแอซิด หรือการผสมผสานของส่วนที่กล่าวนี้

8. อิเล็กโทรไลต์ตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 4 ถึงข้อ 7 ข้อใดข้อหนึ่ง ได้รับการ กำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์นี้ สารประกอบหนึ่งชนิดหรือมากกว่านี้ได้รับการเลือก จากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยอัลเคนซัลโฟนิกแอซิด หรือสารลดแรงตึงผิวแบบไอออนิกและแบบ นอนไอออนิกหรือการผสมผสานของที่กล่าวนี้ในฐานะเป็นเอเจนต์เพื่อการทำให้เปียกตัว

9. วิธีการสำหรับการใช้เชิงไฟฟ้าเคมีของชั้นตกแต่งและชั้นเทคนิคของรูเธเนียมซึ่งมีค่า ความดำเฉพาะ ("แบล็ครูเธเนียม") กับชิ้นงานของอัญมณี สินค้าตกแต่ง สินค้าผู้บริโภค และ ผลิตภัณฑ์เทคนิค ซับสเตรทที่จะได้รับการเคลือบซึ่งจะมีการจุ่มในอิเล็กโทรไลต์ซึ่งมีรูเธเนียมใน รูปแบบที่มีการละลาย ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าอิเล็กโทรไลต์ซึ่งมีอนุพันธ์ฟอสโฟนิก แอซิดหนึ่งชนิดหรือมากกว่านี้ในฐานนะเป็นสารเติมแต่งเพื่อการเพิ่มความดำ จะได้รับการนำมาใช้

10. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 9 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า อิเล็กโทรไลต์ได้รับการควบคุมแบบเทอร์มอสแตตในพิสัยตั้งแต่ 20 ถึง 80 องศาเซลเซียส

11. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 10 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่า ความหนาแน่นกระแสซึ่งอยู่ในพิสัยตั้งแต่ 0.01 ถึง 10 แอมแปร์ต่อตารางเดซิเมตร ได้รับการสร้างขึ้น

12. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ได้รับการกำหนดรูปลักษณะพิเศษที่ว่าแอโนดแบบไม่ ละลายซึ่งประกอบรวมด้วยโลหะที่ได้รับการเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยไทเทเนียมเคลือบแพล ตินัม แกร์ไฟต์ ออกไซด์ผสมของโลหะแทรนซิชันอิริเดียม และวัสดุคาร์บอนพิเศษ ("คาร์บอนที่ คล้ายเพชร" DLC) หรือการผสมผสานของแอโนดเหล่านี้ ได้รับการนำมาใช้