TH9443B - สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาแบบเชิงกล-เคมีที่ใช้กับวัสดุโลหะ - Google Patents
สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาแบบเชิงกล-เคมีที่ใช้กับวัสดุโลหะInfo
- Publication number
- TH9443B TH9443B TH9501002393A TH9501002393A TH9443B TH 9443 B TH9443 B TH 9443B TH 9501002393 A TH9501002393 A TH 9501002393A TH 9501002393 A TH9501002393 A TH 9501002393A TH 9443 B TH9443 B TH 9443B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- slurry
- surfactants
- salt
- alumina
- particles
- Prior art date
Links
- 239000002002 slurry Substances 0.000 title claims abstract 33
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract 7
- 239000007769 metal material Substances 0.000 title claims abstract 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 26
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims abstract 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 18
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 8
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 4
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical group [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 3
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 claims 3
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 3
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical group OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 claims 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims 2
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 claims 2
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 claims 2
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 claims 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 210000001217 buttock Anatomy 0.000 claims 1
- -1 chlorate peroxide Chemical class 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- MVFCKEFYUDZOCX-UHFFFAOYSA-N iron(2+);dinitrate Chemical group [Fe+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MVFCKEFYUDZOCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 claims 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims 1
- 150000002978 peroxides Chemical group 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 abstract 1
Abstract
สเลอร์รี่สำหรับใช้ในการขัดเงาเชิงกล-เคมี ให้แก่ชั้นวัสดุโลหะที่ประกอบด้วย อนุภาคของโลหะออกไซด์ความบริสุทธิ์สูง ที่กระจายตัวอย่างสม่ำเสมออยู่ในตัวกลางที่เป็นน้ำ ที่มีความเสถียร
Claims (9)
1. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งอนุภาคดังกล่าวมีศักย์ซีตาสูงสุดมากกว่า +- 10 มิลลิ โวลท์ 3
2. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว คือ เกลือโลหะ ชนิดที่ออกซิไดซ์ 3
3. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว คือ สารเชิงซ้อน ของโลหะชนิดที่ออกซิไดซ์ 3
4. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว เลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วยเกลือเหล็ก, เกลืออะลูมินา, เกลือโซเดียม, เกลือโปแตสเซียม, เกลือแอมโมเนียม, เกลือคลอเตอร์นารีแอมโมเนียม, เกลือฟอสโฟเนียม, เปอร์ออกไซด์ คลอเรท, เปอร์คลอเรท, เปอร์แมงกาเนท, เปอร์ซัลเฟต และของผสมของสารเหล่านี้ 3
5. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวประกอบต่อไปด้วยสารปรุงแต่งใน ปริมาณที่เพียงพอที่จะป้องกันการสลายตัวขององค์ประกอบออกซิไดซ์ และรักษาสภาพความ เสถียรในการเป็นคลอลอยด์ของสเลอร์รี่ 3
6. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 35 ซึ่งสารปรุงแต่งดังกล่าว คือ สารลดแรงตึงผิว 3
7. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 35 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวนั้นเลือก ได้จากกลุ่ม ที่ประกอบ ด้วย สารลดแรงตึงผิวไม่ถือประจุ, สารลดแรงตึงผิวถือประจุลบ, สารลดแรงตึงผิวถือประจุบวก, สารลดแรงตึงผิวทั้งประจุบวกและประจุลบ และของผสมของสารเหล่านี้ 3
8. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 36 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวดังกล่าวเลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วย โพลีอัลคิลไซลอกเซน, โพลีอาริลไซลอกเซน, โพลีออกซีอัลคิลลีนอีเธอร์ และ ของผสม และโคโพลีเมอร์ของสารเหล่านี้ 3
9. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าว คือ อะลูมินาที่ผ่านการ เป็นไอ ที่ประกอบด้วย แกมมาเฟสอย่างน้อย 50 เปอร์เซ็นต์ และองค์ประกอบออกซิไดซ์ดัง กล่าว คือ เหล็กไนเตรท
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH20338A TH20338A (th) | 1996-09-03 |
| TH9443B true TH9443B (th) | 2000-03-01 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR960013577A (ko) | 화학기계적 금속층 연마액 | |
| TW524836B (en) | Composition and method for planarizing surfaces | |
| US6402978B1 (en) | Magnetic polishing fluids for polishing metal substrates | |
| JP2857722B2 (ja) | 活性化研磨組成物 | |
| JPH0376782A (ja) | 金属表面を研磨する方法およびそのための組成物 | |
| Ramarajan et al. | Effect of pH and ionic strength on chemical mechanical polishing of tantalum | |
| US20030114083A1 (en) | Gel-free colloidal abrasive polishing compositions and associated methods | |
| WO2011070898A1 (ja) | 炭化珪素の研磨液及びその研磨方法 | |
| JP2006249129A (ja) | 研磨剤の製造方法及び研磨剤 | |
| CN116000782A (zh) | 用于金属合金cmp的化学机械抛光组合物 | |
| CN114514200A (zh) | 复合颗粒和复合颗粒的制造方法 | |
| DE50311351D1 (de) | Schleifmittel mit verbesserten schleifeigenschaften | |
| TH9443B (th) | สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาแบบเชิงกล-เคมีที่ใช้กับวัสดุโลหะ | |
| TW201942320A (zh) | 研磨用組合物 | |
| TH20338A (th) | สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาแบบเชิงกล-เคมีที่ใช้กับวัสดุโลหะ | |
| EP3838846A1 (en) | Tabular alumina particles and method of producing tabular alumina particles | |
| KR20020071735A (ko) | 금속 연마재 조성물 및 연마 방법 | |
| KR20020010910A (ko) | 자성 연마유체 | |
| JPH06330025A (ja) | ガラス研磨用研磨材 | |
| JPS61124506A (ja) | 亜鉛フレ−クの製造方法 | |
| Hauth | The Behavior of the Alumina-Water System. | |
| JPS62239B2 (th) | ||
| US20100083584A1 (en) | Dispersion comprising cerium oxide and sheet silicate | |
| JP2009172614A (ja) | アルミニウム系部材ろう付け用粉末状フラックスおよびその製造方法 | |
| US6896710B2 (en) | Abrasives for CMP applications |