TH20338A - สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาแบบเชิงกล-เคมีที่ใช้กับวัสดุโลหะ - Google Patents

สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาแบบเชิงกล-เคมีที่ใช้กับวัสดุโลหะ

Info

Publication number
TH20338A
TH20338A TH9501002393A TH9501002393A TH20338A TH 20338 A TH20338 A TH 20338A TH 9501002393 A TH9501002393 A TH 9501002393A TH 9501002393 A TH9501002393 A TH 9501002393A TH 20338 A TH20338 A TH 20338A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
slurry
surfactants
salt
alumina
particles
Prior art date
Application number
TH9501002393A
Other languages
English (en)
Other versions
TH9443B (th
Inventor
เจ. ฟลัค นายเดวิด
ฮัง นายเชง-ฮัง
เอ. ลูคาเรลิ นายไมเคิล
เนวิลล์ นายแมททิว
Original Assignee
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า filed Critical นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Publication of TH20338A publication Critical patent/TH20338A/th
Publication of TH9443B publication Critical patent/TH9443B/th

Links

Abstract

สเลอร์รี่สำหรับใช้ในการขัดเงาเชิงกล-เคมี ให้แก่ชั้นวัสดุโลหะที่ประกอบด้วย อนุภาคของโลหะออกไซด์ความบริสุทธิ์สูง ที่กระจายตัวอย่างสม่ำเสมออยู่ในตัวกลางที่เป็นน้ำ ที่มีความเสถียร

Claims (9)

1. วิธีการสำหรับขัดเงาเชิงกล-เคมี ให้แก่ ชั้นวัสดุโลหะของซับสเตรท ซึ่งวิธีการ ประกอบด้วยขั้นตอนของ (a) การจัดเตรียมสเลอร์รี่สำหรับขัดเงาเชิงกล-เคมีที่ประกอบด้วยอนุภาคของอะลูมินา ที่มีความบริสุทธิ์สูงที่ประจายตัวอย่างสม่ำเสมออยู่ในตัวกลางที่เป็นน้ำ ซึงมีพื้นผิวในช่วงตั้งแต่ 40 ตารางเมตร/กรัม ถึง 430 ตารางเมตร/กรัม มีการกระจายของขนาดอนุภาครวมตัวต่ำกว่า 1.0 ไมครอน มีเส้นผ่าศูนย์กลางของอนุภาครวมตัวโดยเฉลี่ยต่ำกว่า0.4 ไมครอน และมีแรงเพียงพอ ที่จะผลักดันและเอาชนะแรงแวนเดอร์วาลส์ระหว่างอนุภาคได้ ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวมีความเสถียร และ (b) การขัดเงาเชิงกล-เคมี ให้แก่ชั้นวัสดุโลหะบนซับสเตรทกึ่งตัวนำด้วยสเลอร์รี่ดัง กล่าว 2. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งชั้นวัสดุโลหะดังกล่าวเลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบ ด้วย ทังสเตน, อะลูมินัม, ทองแดง, ดิเตเนียม และโลหะผสมของโละเหล่านี้ 3. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 2 ซึ่งชั้นวัสดุโลหะดังกล่าว คือ ทังสเตน 4. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 3 ซึ่งชั้นทังสเตนดังกล่าว ประกอบต่อไปด้วย ชั้นวัสดุที่อยู่ ข้างใต้อย่างน้อยหนึ่งชั้นที่เลือกได้จากกลุ่ม ที่ประกอบด้วย ติเตเนียม, ติเตเนียมไนไตร์ด และ ติเตเนียมทังสเตน และของผสมของสารเหล่านี้ 5. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งมีอนุภาคดังกล่าวในช่วงตั้งแต่ 0.5 เปอร์เซ็นต์ ถึง55 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 6. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าวมีพื้นที่ผิวต่ำกว่า 70 ตาราง เมตร/กรัม และมีอยู่ในสเลอร์รี่ดังกล่าว ในช่วงที่ต่ำกว่า 7 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก 7. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าวมีพื้นที่ผิวในช่วงตั้งแต่ 70 ตารางเมตร/กรัม ถึง 170 ตารางเมตร/กรัม และมีอยู่ในสเลอร์รี่ดังกล่าวในช่วงที่ต่ำกว่า 12 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก 8. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 6 หรือ 7 ซึ่งอะลูมินาดังกล่าวเป็นอะลูมินาที่ได้จากการตก ตะกอนหรืออะลูมินาที่ผ่านการเป็นไอ 9. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุภาคดังกล่าวมีศักย์ซีตาสูงสุดมากกว่า +- 10 มิลลิ โวลท์ 1 0. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวประกอบเพิ่มเติมด้วยองค์ประกอบ ออกซิไดซ์ 1 1. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 10 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว คือ เกลือโลหะชนิด ที่ออกซิไดซ์ 1 2. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 10 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว คือ สารเชิงซ้อน ของโลหะชนิดที่ออกซิไดซ์ 1 3. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 10 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว เลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วย เกลือเหล็ก, เกลืออะลูมินัม, เกลือโซเดียม, เกลือโปแตสเซียม, เกลือแอมโมเนียม, เกลือควอเตอร์นารีแอมโมเนียม, เกลือฟอสโฟเนียม, เปอร์ออกไซด์, คลอเรท, เปอร์คลอเรท, เปอร์แมงกาเนท, เปอร์ซัลเฟต และของผสมของสารเหล่านี้ 1 4. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวประกอบเพิ่มเติมด้วยสารลดแรงตึง ผิว 1 5. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 14 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวนั้นเลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วย สารลดแรงตึงผิวไม่ถือประจุ, สารลดแรงตึงผิวถือประจุลบ, สารลดแรงตึงผิวถือประจุบวก, สาร ลดแรงตึงผิวถือทั้งประจุบวดและลบ และของผสมของสารเหล่านี้ 1 6. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 14 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวดังกล่าวเลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบ ด้วย โพลีอัลคิลไซลอกเซน, โพลีอาริลไซลอกเซน, โพลีออกซีอัลคิลีนอีเธอร์ และของผสมของ สารเหล่านี้ 1 7. สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาเชิงกล-เคมี สำหรับการขัดเงาให้แก่ชั้นวัสดุโลหะ ซึ่ง ประกอบด้วย อนุภาคของอะลูมินาที่มีความบริสุทธิ์สูงที่ประจายตัวอย่างสม่ำเสมออยู่ในตัวกลาง ที่เป็นน้ำ ซึ่งมีพื้นผิวในช่วงตั้งแต่ 40 ตารางเมตร/กรัม ถึง 430 ตารางเมตร/กรัม มีการกระจาย ของขนาดอนุภาครวมตัวต่ำกว่า 1.0 ไมครอน มีเส้นผ่าศูนย์กลางของอนุภาครวมตัวโดยเฉลี่ยต่ำ กว่า 0.4 ไมครอน และมีแรงเพียงพอที่จะผลักดันและเอาชนะแรงแวนเดอร์วาลส์ระหว่างอนุภาค ได้ และองค์ประกอบของออกซิไดซ์ ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวมีความเสถียรในการเป็นคอลลอยด์ 1 8. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิ 17 ซึ่งมีอนุภาคดังกล่าวในช่วงตั้งแต่ 0.5 เปอร์เซ็นต์ ถึง 55 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก 1 9. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 17 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าวมีพื้นที่ผิวต่ำกว่า 70 ตาราง เมตร/กรัม และมีอยู่ในสเลอร์รี่ดังกล่าว ในช่วงที่ต่ำกว่า 7 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 2 0. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 17 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าวมีพื้นที่ผิวในช่วงตั้งแต่ 70 ตารางเมตร/กรัม ถึง 170 ตารางเมตร/กรัม และมีอยู่ใสเลอร์รี่ดังกล่าวในช่วงที่ต่ำกว่า 12 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 2 1. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 19 หรือ 20 ซึ่งอะลูมินาดังกล่าวเป็นอะลูมินาที่ได้จากการ ตกตะกอนหรืออะลูมินาที่ผ่านการเป็นไอ 2 2. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 17 ซึ่งอนุภาคดังกล่าวมีศักย์ซีตาสูงสุดกว่า +- 10 มิลลิ โวลท์ 2 3. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 17 ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวประกอบต่อไปด้วยสารลดแรงตึง ผิว 2 4. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 23 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวนั้นเลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบ ด้วย สาลดแรงตึวผิวไม่ถือประจุ, สารลดแรงตึวผิวถือประจุลบ, สารลดแรงตึงผิวถือประจุบวก, สารลดแรงตึงผิวทั้งประจุบวกและประจุลย และของผสมของสารเหล่านี้ 2 5. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 23 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวดังกล่าวเลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วย โพลีอัลคิลไซลอกเซน, โพลีอาริลไซลอกเซน, โพลีออกซีอัลคิลลีนอีเธอร์ และ ของผสม และโคโพลีเมอร์ของสารเหล่านี้ 2 6. สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาเชิงกล-เคมี สำหรับการขัดเงาให้แก่ชั้นวัสดุโลหะ ซึ่ง ประกอบด้วย อนุภาคของอะลูมินาที่มีความบริสุทธิ์สูงที่กระจายตัวอย่างสม่ำเสมออยู่ในตัวกลาง ที่เป็นน้ำ ซึ่งมีพื้นผิวในช่วงตั้งแต่ 40 ตารางเมตร/กรัม ถึง 430 ตารางเมตร/กรัม มีการกระจาย ของขนาดอนุภารวมตัวต่ำกว่า 1.0 ไมครอน มีเส้นผ่าศูนย์กลางของอนุภาครวมตัวโดยเฉลี่ยต่ำ กว่า 0.4 ไมครอน และมีแรงเพียงพอที่จะผลักดันและเอาชนะแรงแวนเดอร์วาลส์ระหว่างอนุภาค ได้ ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวมีความเสถียรในการเป็นคอลลอยด์ 2 7. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งมีอนุภาคดังกล่าวในช่วงตั้งแต่ 0.5 เปอร์เซ็นต์ ถึง 55 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก 2 8. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าวมีพื้นที่ผิวต่ำกว่า 70 ตาราง เมตร/กรัม และมีอยู่ในสเลอร์รี่ดังกล่าว ในช่วงที่ต่ำกว่า 7 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก 2 9. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าวมีพื้นที่ผิว ในช่วงตั้งแต่70 ตารางเมตร/กรัม ถึงประมาณ 170 ตารางเมตร/กรัม และมีอยู่ในสเลอร์รี่ดังกล่าวในช่วงที่ต่ำกว่า 12 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก 3 0. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 28 หรือ 29 ซึ่งอะลูมินาดังกล่าวเป็นอะลูมินาที่ได้จากการ ตกตะกอนหรืออะลูมินาที่ผ่านการเป็นไอ 3
1. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งอนุภาคดังกล่าวมีศักย์ซีตาสูงสุดมากกว่า +- 10 มิลลิ โวลท์ 3
2. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว คือ เกลือโลหะ ชนิดที่ออกซิไดซ์ 3
3. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว คือ สารเชิงซ้อน ของโลหะชนิดที่ออกซิไดซ์ 3
4. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว เลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วยเกลือเหล็ก, เกลืออะลูมินา, เกลือโซเดียม, เกลือโปแตสเซียม, เกลือแอมโมเนียม, เกลือคลอเตอร์นารีแอมโมเนียม, เกลือฟอสโฟเนียม, เปอร์ออกไซด์ คลอเรท, เปอร์คลอเรท, เปอร์แมงกาเนท, เปอร์ซัลเฟต และของผสมของสารเหล่านี้ 3
5. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวประกอบต่อไปด้วยสารปรุงแต่งใน ปริมาณที่เพียงพอที่จะป้องกันการสลายตัวขององค์ประกอบออกซิไดซ์ และรักษาสภาพความ เสถียรในการเป็นคลอลอยด์ของสเลอร์รี่ 3
6. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 35 ซึ่งสารปรุงแต่งดังกล่าว คือ สารลดแรงตึงผิว 3
7. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 35 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวนั้นเลือก ได้จากกลุ่ม ที่ประกอบ ด้วย สารลดแรงตึงผิวไม่ถือประจุ, สารลดแรงตึงผิวถือประจุลบ, สารลดแรงตึงผิวถือประจุบวก, สารลดแรงตึงผิวทั้งประจุบวกและประจุลบ และของผสมของสารเหล่านี้ 3
8. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 36 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวดังกล่าวเลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วย โพลีอัลคิลไซลอกเซน, โพลีอาริลไซลอกเซน, โพลีออกซีอัลคิลลีนอีเธอร์ และ ของผสม และโคโพลีเมอร์ของสารเหล่านี้ 3
9. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าว คือ อะลูมินาที่ผ่านการ เป็นไอ ที่ประกอบด้วย แกมมาเฟสอย่างน้อย 50 เปอร์เซ็นต์ และองค์ประกอบออกซิไดซ์ดัง กล่าว คือ เหล็กไนเตรท
TH9501002393A 1995-09-26 สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาแบบเชิงกล-เคมีที่ใช้กับวัสดุโลหะ TH9443B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH20338A true TH20338A (th) 1996-09-03
TH9443B TH9443B (th) 2000-03-01

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2937264B2 (ja) 金属表面を研磨する方法およびそのための組成物
TWI262939B (en) Slurry composition and method of chemical mechanical polishing using same
KR960013577A (ko) 화학기계적 금속층 연마액
US6402978B1 (en) Magnetic polishing fluids for polishing metal substrates
TW524836B (en) Composition and method for planarizing surfaces
JP2857722B2 (ja) 活性化研磨組成物
AU2008308583B2 (en) Polishing of sapphire with composite slurries
US6743267B2 (en) Gel-free colloidal abrasive polishing compositions and associated methods
WO2004009726A1 (en) Cerium salt coated abrasive particles for glass polishing
Ramarajan et al. Effect of pH and ionic strength on chemical mechanical polishing of tantalum
WO2011070898A1 (ja) 炭化珪素の研磨液及びその研磨方法
JP2006249129A (ja) 研磨剤の製造方法及び研磨剤
WO2024139039A1 (zh) 用于金属合金cmp的化学机械抛光组合物
DE50311351D1 (de) Schleifmittel mit verbesserten schleifeigenschaften
TW201942320A (zh) 研磨用組合物
TH20338A (th) สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาแบบเชิงกล-เคมีที่ใช้กับวัสดุโลหะ
JP2000269169A (ja) 半導体装置の製造方法及び埋め込み配線の形成方法
TH9443B (th) สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาแบบเชิงกล-เคมีที่ใช้กับวัสดุโลหะ
EP3838846A1 (en) Tabular alumina particles and method of producing tabular alumina particles
KR20020010910A (ko) 자성 연마유체
JPH06330025A (ja) ガラス研磨用研磨材
JPS62239B2 (th)
US20100083584A1 (en) Dispersion comprising cerium oxide and sheet silicate
JP2009172614A (ja) アルミニウム系部材ろう付け用粉末状フラックスおよびその製造方法
Lin et al. Kinetics of the Massicot‐Litharge Transformation During Comminution