Claims (9)
1. วิธีการสำหรับขัดเงาเชิงกล-เคมี ให้แก่ ชั้นวัสดุโลหะของซับสเตรท ซึ่งวิธีการ ประกอบด้วยขั้นตอนของ (a) การจัดเตรียมสเลอร์รี่สำหรับขัดเงาเชิงกล-เคมีที่ประกอบด้วยอนุภาคของอะลูมินา ที่มีความบริสุทธิ์สูงที่ประจายตัวอย่างสม่ำเสมออยู่ในตัวกลางที่เป็นน้ำ ซึงมีพื้นผิวในช่วงตั้งแต่ 40 ตารางเมตร/กรัม ถึง 430 ตารางเมตร/กรัม มีการกระจายของขนาดอนุภาครวมตัวต่ำกว่า 1.0 ไมครอน มีเส้นผ่าศูนย์กลางของอนุภาครวมตัวโดยเฉลี่ยต่ำกว่า0.4 ไมครอน และมีแรงเพียงพอ ที่จะผลักดันและเอาชนะแรงแวนเดอร์วาลส์ระหว่างอนุภาคได้ ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวมีความเสถียร และ (b) การขัดเงาเชิงกล-เคมี ให้แก่ชั้นวัสดุโลหะบนซับสเตรทกึ่งตัวนำด้วยสเลอร์รี่ดัง กล่าว 2. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งชั้นวัสดุโลหะดังกล่าวเลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบ ด้วย ทังสเตน, อะลูมินัม, ทองแดง, ดิเตเนียม และโลหะผสมของโละเหล่านี้ 3. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 2 ซึ่งชั้นวัสดุโลหะดังกล่าว คือ ทังสเตน 4. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 3 ซึ่งชั้นทังสเตนดังกล่าว ประกอบต่อไปด้วย ชั้นวัสดุที่อยู่ ข้างใต้อย่างน้อยหนึ่งชั้นที่เลือกได้จากกลุ่ม ที่ประกอบด้วย ติเตเนียม, ติเตเนียมไนไตร์ด และ ติเตเนียมทังสเตน และของผสมของสารเหล่านี้ 5. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งมีอนุภาคดังกล่าวในช่วงตั้งแต่ 0.5 เปอร์เซ็นต์ ถึง55 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 6. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าวมีพื้นที่ผิวต่ำกว่า 70 ตาราง เมตร/กรัม และมีอยู่ในสเลอร์รี่ดังกล่าว ในช่วงที่ต่ำกว่า 7 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก 7. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าวมีพื้นที่ผิวในช่วงตั้งแต่ 70 ตารางเมตร/กรัม ถึง 170 ตารางเมตร/กรัม และมีอยู่ในสเลอร์รี่ดังกล่าวในช่วงที่ต่ำกว่า 12 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก 8. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 6 หรือ 7 ซึ่งอะลูมินาดังกล่าวเป็นอะลูมินาที่ได้จากการตก ตะกอนหรืออะลูมินาที่ผ่านการเป็นไอ 9. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุภาคดังกล่าวมีศักย์ซีตาสูงสุดมากกว่า +- 10 มิลลิ โวลท์ 1 0. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวประกอบเพิ่มเติมด้วยองค์ประกอบ ออกซิไดซ์ 1 1. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 10 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว คือ เกลือโลหะชนิด ที่ออกซิไดซ์ 1 2. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 10 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว คือ สารเชิงซ้อน ของโลหะชนิดที่ออกซิไดซ์ 1 3. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 10 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว เลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วย เกลือเหล็ก, เกลืออะลูมินัม, เกลือโซเดียม, เกลือโปแตสเซียม, เกลือแอมโมเนียม, เกลือควอเตอร์นารีแอมโมเนียม, เกลือฟอสโฟเนียม, เปอร์ออกไซด์, คลอเรท, เปอร์คลอเรท, เปอร์แมงกาเนท, เปอร์ซัลเฟต และของผสมของสารเหล่านี้ 1 4. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวประกอบเพิ่มเติมด้วยสารลดแรงตึง ผิว 1 5. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 14 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวนั้นเลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วย สารลดแรงตึงผิวไม่ถือประจุ, สารลดแรงตึงผิวถือประจุลบ, สารลดแรงตึงผิวถือประจุบวก, สาร ลดแรงตึงผิวถือทั้งประจุบวดและลบ และของผสมของสารเหล่านี้ 1 6. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 14 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวดังกล่าวเลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบ ด้วย โพลีอัลคิลไซลอกเซน, โพลีอาริลไซลอกเซน, โพลีออกซีอัลคิลีนอีเธอร์ และของผสมของ สารเหล่านี้ 1 7. สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาเชิงกล-เคมี สำหรับการขัดเงาให้แก่ชั้นวัสดุโลหะ ซึ่ง ประกอบด้วย อนุภาคของอะลูมินาที่มีความบริสุทธิ์สูงที่ประจายตัวอย่างสม่ำเสมออยู่ในตัวกลาง ที่เป็นน้ำ ซึ่งมีพื้นผิวในช่วงตั้งแต่ 40 ตารางเมตร/กรัม ถึง 430 ตารางเมตร/กรัม มีการกระจาย ของขนาดอนุภาครวมตัวต่ำกว่า 1.0 ไมครอน มีเส้นผ่าศูนย์กลางของอนุภาครวมตัวโดยเฉลี่ยต่ำ กว่า 0.4 ไมครอน และมีแรงเพียงพอที่จะผลักดันและเอาชนะแรงแวนเดอร์วาลส์ระหว่างอนุภาค ได้ และองค์ประกอบของออกซิไดซ์ ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวมีความเสถียรในการเป็นคอลลอยด์ 1 8. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิ 17 ซึ่งมีอนุภาคดังกล่าวในช่วงตั้งแต่ 0.5 เปอร์เซ็นต์ ถึง 55 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก 1 9. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 17 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าวมีพื้นที่ผิวต่ำกว่า 70 ตาราง เมตร/กรัม และมีอยู่ในสเลอร์รี่ดังกล่าว ในช่วงที่ต่ำกว่า 7 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 2 0. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 17 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าวมีพื้นที่ผิวในช่วงตั้งแต่ 70 ตารางเมตร/กรัม ถึง 170 ตารางเมตร/กรัม และมีอยู่ใสเลอร์รี่ดังกล่าวในช่วงที่ต่ำกว่า 12 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 2 1. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 19 หรือ 20 ซึ่งอะลูมินาดังกล่าวเป็นอะลูมินาที่ได้จากการ ตกตะกอนหรืออะลูมินาที่ผ่านการเป็นไอ 2 2. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 17 ซึ่งอนุภาคดังกล่าวมีศักย์ซีตาสูงสุดกว่า +- 10 มิลลิ โวลท์ 2 3. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 17 ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวประกอบต่อไปด้วยสารลดแรงตึง ผิว 2 4. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 23 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวนั้นเลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบ ด้วย สาลดแรงตึวผิวไม่ถือประจุ, สารลดแรงตึวผิวถือประจุลบ, สารลดแรงตึงผิวถือประจุบวก, สารลดแรงตึงผิวทั้งประจุบวกและประจุลย และของผสมของสารเหล่านี้ 2 5. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 23 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวดังกล่าวเลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วย โพลีอัลคิลไซลอกเซน, โพลีอาริลไซลอกเซน, โพลีออกซีอัลคิลลีนอีเธอร์ และ ของผสม และโคโพลีเมอร์ของสารเหล่านี้ 2 6. สเลอร์รี่สำหรับขัดเงาเชิงกล-เคมี สำหรับการขัดเงาให้แก่ชั้นวัสดุโลหะ ซึ่ง ประกอบด้วย อนุภาคของอะลูมินาที่มีความบริสุทธิ์สูงที่กระจายตัวอย่างสม่ำเสมออยู่ในตัวกลาง ที่เป็นน้ำ ซึ่งมีพื้นผิวในช่วงตั้งแต่ 40 ตารางเมตร/กรัม ถึง 430 ตารางเมตร/กรัม มีการกระจาย ของขนาดอนุภารวมตัวต่ำกว่า 1.0 ไมครอน มีเส้นผ่าศูนย์กลางของอนุภาครวมตัวโดยเฉลี่ยต่ำ กว่า 0.4 ไมครอน และมีแรงเพียงพอที่จะผลักดันและเอาชนะแรงแวนเดอร์วาลส์ระหว่างอนุภาค ได้ ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวมีความเสถียรในการเป็นคอลลอยด์ 2 7. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งมีอนุภาคดังกล่าวในช่วงตั้งแต่ 0.5 เปอร์เซ็นต์ ถึง 55 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก 2 8. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าวมีพื้นที่ผิวต่ำกว่า 70 ตาราง เมตร/กรัม และมีอยู่ในสเลอร์รี่ดังกล่าว ในช่วงที่ต่ำกว่า 7 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก 2 9. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าวมีพื้นที่ผิว ในช่วงตั้งแต่70 ตารางเมตร/กรัม ถึงประมาณ 170 ตารางเมตร/กรัม และมีอยู่ในสเลอร์รี่ดังกล่าวในช่วงที่ต่ำกว่า 12 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก 3 0. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 28 หรือ 29 ซึ่งอะลูมินาดังกล่าวเป็นอะลูมินาที่ได้จากการ ตกตะกอนหรืออะลูมินาที่ผ่านการเป็นไอ 31. A method for mechanical-chemical polishing of substrates metallic substrates, in which the method consists of a procedure of (a) preparation of a mechanical-chemical polish containing alumi particles. Field High purity uniformly distributed in aqueous medium The surface area ranges from 40 square meter / gram to 430 square meter / g. It had a particle size distribution of less than 1.0 microns, an average aggregate particle diameter of less than 0.4 microns, and sufficient strength. To drive and overcome the van der Waals force between particles Which is stable and (b) mechanical-chemical polishing The slurry is given to the metal material layer on the semi-conductor substrate. 2. Method of claim 1 where such metal material layer can be selected from the group consisting of tungsten, aluminum, copper, dite. 3. Clause 2. Method of claim 2 in which the metal material class is tungsten 4. Method of claim 3 where the tungsten layer is Continue with Address material layer Below at least one selectable floor from the group. Containing titenium, titenium nitride and titenium tungsten. 5. Method of claim 1, where such particles range from 0.5% to 55% by weight. 6. Method of claim 1 in which the alumina particles are classified as such. It has a surface area of less than 70 square meters / g and is contained in the said slurry. In the range below 7% by weight 7. Method of claim 1, the alumina particles have a surface area of 70 sq m / g to 170 sq m / g. And it is present in the slurry in the lower 12 percent by weight 8. Method of claim 6 or 7, where such alumina is a fall-derived alumina. Sediment or vapor-treated alumina 9. Method of claim 1 in which the particle has a maximum zeta potential greater than + - 10 millivolt 1 0. Method of claim 1, where The aforementioned compound consists of an oxidizing element 1 1. Method of claim 10 in which the said oxidized element is an oxidized metal salt 1 2. Method of claim that 10 where such oxidizing element is a complex of oxidized metal type 1 3. Method of claim 10 in which such oxidizing element is Choose from groups containing iron salt, aluminum salt, sodium salt, potassium salt, ammonium salt, ammonium quaternary salt, phosphonium salt, peroxide, chlorate, perchlorate, perchlorate. Manganates, persulphates and their mixtures 1 4. Method of claim 1, in which the aforementioned slurry is supplemented with surfactants 1 5. Method of claim that 14 which surfactants were selected from the group containing Nonionic surfactants, Anionic Surfactants, Cationic Surfactants, Surfactants both charge and Negative. And their mixtures 1 6. Method of claim 14, in which the surfactant was selected from the group containing polyalkylsyloxane, polyaryl siloxane, Zen, polyoxymalkylene ether and their mixtures 1 7. Slurry for mechanical-chemical polishing For the polishing of metallic substrates consisting of uniformly distributed high purity alumina particles in aqueous media with surface ranges from 40 m2 / g to 430 sq m. It had a particle size distribution of less than 1.0 microns, an average aggregate particle diameter of less than 0.4 microns, and sufficient force to push and overcome the van der Waals force between the particle and its exit composition. Oxidized The slurry is colloidal stability 1 8. Slurry of claim 17 has such particles in the range from 0.5% to 55% by weight of 1 9. slurry of clause 17. Holds the 17th right that alumina particles have a surface area of less than 70 square meters / g and are contained in the said slurry. In the range below 7% by weight of claim 17, the alumina particles have a surface area of the range from 70 sq m / g to 170 sq m / g. And there are those in the range below 12 percent by weight 2. 1. Slurry of claim 19 or 20, which is alumina obtained by Precipitated or vapor-treated alumina 2 2. Slurry of claim 17 where such particle has a maximum zeta potential greater than + - 10 millivolt 2. 3. Slurry of claim No. 17, where the aforementioned slurry is made up of surfactant 2. 4. Slurry of claim 23, which surfactants are selectable from a group containing surfactants. Surface nonionic, anion-carrying surfactant, cation-carrying surfactant, both cation-charged and charged surfactants 2. 5. Slurry of claim 23, which surfactants are selected from a group containing polyalkylsyloxane, polyarylsythe. Lacsen, polyoxymalkylene ether and mixtures and copolymers of them 2 6. Slurry for mechanical-chemical polishing. For the polishing of metal substrates consisting of evenly distributed high purity alumina particles in a watery medium with a surface range from 40 m2 / g to 430 m2 / g. It has a particle size distribution of less than 1.0 microns, an average aggregate particle diameter of less than 0.4 microns, and sufficient force to push and overcome the van der Waals force between particles. It is colloidal stability 2. 7. Slurry of claim 26, which contains such particles in the range from 0.5 percent to 55 percent by weight 2. 8. Slurry of claim 26. The alumina particles have a surface area of less than 70 square meters / g and are contained in the slurry. In the range below 7% by weight 2. 9. Slurry of claim 26, which alumina particles have a surface area. In the period since 70 Square meter / gram to about 170 square meter / gram It is present in the slurry in the lower 12 percent by weight 3 0. Slurry of claim 28 or 29, which is alumina derived from Precipitated or vapor-treated alumina 3
1. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งอนุภาคดังกล่าวมีศักย์ซีตาสูงสุดมากกว่า +- 10 มิลลิ โวลท์ 31. Slurry of claim 26, in which the particle has a maximum zeta potential greater than + - 10 millivolt 3.
2. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว คือ เกลือโลหะ ชนิดที่ออกซิไดซ์ 32. Slurry of claim 26, whose oxidizing element is oxidized metal salt type 3.
3. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว คือ สารเชิงซ้อน ของโลหะชนิดที่ออกซิไดซ์ 33. Slurry of claim 26, in which the said oxidizing element is a complex of oxidized metal type 3.
4. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งองค์ประกอบออกซิไดซ์ดังกล่าว เลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วยเกลือเหล็ก, เกลืออะลูมินา, เกลือโซเดียม, เกลือโปแตสเซียม, เกลือแอมโมเนียม, เกลือคลอเตอร์นารีแอมโมเนียม, เกลือฟอสโฟเนียม, เปอร์ออกไซด์ คลอเรท, เปอร์คลอเรท, เปอร์แมงกาเนท, เปอร์ซัลเฟต และของผสมของสารเหล่านี้ 34. Slurry of claim 26 in which such oxidized elements Choose from a group Contains iron salt, alumina salt, sodium salt, potassium salt, ammonium salt, ammonium chlorinated salt, phosphonium salt, chlorate peroxide, perchlorate, permanga. Nates, persulfates and their mixtures 3
5. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งสเลอร์รี่ดังกล่าวประกอบต่อไปด้วยสารปรุงแต่งใน ปริมาณที่เพียงพอที่จะป้องกันการสลายตัวขององค์ประกอบออกซิไดซ์ และรักษาสภาพความ เสถียรในการเป็นคลอลอยด์ของสเลอร์รี่ 35. Slurry of claim 26, which the slurry additionally contains as an additive in Sufficient amount to prevent decomposition of oxidizing elements. And maintain Stable as chloroid 3
6. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 35 ซึ่งสารปรุงแต่งดังกล่าว คือ สารลดแรงตึงผิว 36. Slurry of claim 35, where the additive is Surfactant 3.
7. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 35 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวนั้นเลือก ได้จากกลุ่ม ที่ประกอบ ด้วย สารลดแรงตึงผิวไม่ถือประจุ, สารลดแรงตึงผิวถือประจุลบ, สารลดแรงตึงผิวถือประจุบวก, สารลดแรงตึงผิวทั้งประจุบวกและประจุลบ และของผสมของสารเหล่านี้ 37. Slurry of claim 35, where surfactants are selectable from a group consisting of non-ionic-carrying surfactants, anion-carrying surfactants, anion-carrying surfactant. Cationic, both cationic and anionic surfactants And a mixture of these 3
8. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 36 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวดังกล่าวเลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วย โพลีอัลคิลไซลอกเซน, โพลีอาริลไซลอกเซน, โพลีออกซีอัลคิลลีนอีเธอร์ และ ของผสม และโคโพลีเมอร์ของสารเหล่านี้ 38. Slerry of claim 36, which such surfactants are selected from a group containing polyalkylsyloxane, polyarylsyloxane, polyoxide. The alkyline ether and its mixtures and copolymers 3
9. สเลอร์รี่ของข้อถือสิทธิที่ 26 ซึ่งอนุภาคอะลูมินาดังกล่าว คือ อะลูมินาที่ผ่านการ เป็นไอ ที่ประกอบด้วย แกมมาเฟสอย่างน้อย 50 เปอร์เซ็นต์ และองค์ประกอบออกซิไดซ์ดัง กล่าว คือ เหล็กไนเตรท9. Slurry of claim 26, in which the alumina particles are vaporized alumina containing At least 50 percent of the gamma phase, and the said oxidizing element is iron nitrate.