TH67767B

TH67767B - สารผสมสำหรับเคลือบและวิธีการสำหรับการผลิตฟิล์มเคลือบ

Info

Publication number: TH67767B
Application number: TH1301006567A
Authority: TH
Inventors: คอนโดห์; มาซาฮารุ; มิตสึรุ; ยูอิชิ; อิชิกูโระ; อินาดะ
Original assignee: นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์; นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์; นายต่อพงศ์ โทณะวณิก; นายบุญมา เตชะวณิช
Filing date: 2012-04-10
Publication date: 2019-01-28

Abstract

หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า บทสรุปการประดิษฐ์ การประดิษฐ์นี้จะจัดหาสารผสมสำหรับเคลือบซึ่งประกอบรวมด้วย (A) ยูรีเธน อะคริเลตซึ่งมี สมมูลไม่อิ่มตัวเป็น 100 ถึง 900 และน้ำหนักโมเลกุลเฉลี่ยโดยน้ำหนักเป็น 500 ถึง 2500, (B) อะคริลิค เรซินที่มีไฮดรอกซิ, ส่วนประกอบในการโคพอลิเมอไรเซชันของอะคริลิค เรซินที่มีไฮดรอกซิซึ่ง ประกอบรวมด้วย, ซึ่งจะประกอบรวมด้วย (a) 65 ถึง 90%โดยมวลของเมธิล เมธอะคริเลต, (b) 10 ถึง 35%โดยมวลของมอนอเมอร์ไม่อิ่มตัวซึ่งสามารถพอลิเมอไรซ์ได้ที่มีไฮดรอกซิ, และ (c) 0 ถึง 25% โดยมวลของมอนอเมอร์ไม่อิ่มตัวซึ่งสามารถพอลิเมอไรซ์ได้อื่นๆ, (C) สารประกอบพอลิไอโซไซยา- เนต, และ (E) ตัวริเริ่มการโฟโต้พอลิเมอไรเซชัน

Claims

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :หน้า 1 ของจำนวน 2 หน้า ข้อถือสิทธิ

1. สารผสมสำหรับเคลือบซึ่งจะประกอบรวมด้วย (A) ยูรีเธน อะคริเลตซึ่งมีสมมูลไม่อิ่มตัวเป็น 100 ถึง 900 และนํ้าหนักโมเลกุลเฉลี่ยโดย น้ำหนักเป็น 500 ถึง 2500, (B) อะคริลิค เรซินที่มีไฮดรอกซิ, ส่วนประกอบในการโคพอลิเมอไรเซชันของอะคริลิค เรซิน ที่มีไฮดรอกซิซึ่งประกอบรวมด้วย, (a) 65 ถึง 90%โดยมวลของเมธิล เมธอะคริเลต, (b) 10 ถึง 35%โดยมวลของมอนอเมอร์ไม่อิ่มตัวซึ่งสามารถพอลิเมอไรซ์ได้ที่มี ไฮดรอกซิ, และ (c) 0 ถึง 25%โดยมวลของมอนอเมอร์ไม่อิ่มตัวซึ่งสามารถพอลิเมอไรซ์ได้อื่นๆ, ที่มีพื้นฐานอยู่บนปริมาณทั้งหมดของส่วนประกอบในการโคพอลิเมอไรเซชัน, (C) สารประกอบพอลิไอโซไซยาเนต, และ (E) ตัวริเริ่มการโฟโต้พอลิเมอไรเซชัน

2. สารผสมสำหรับเคลือบตามข้อถือสิทธิที่ 1, ที่ซึ่งยูรีเธน อะคริเลต (A) จะมีอยู่ในปริมาณ เป็น 10 ถึง 70 ส่วนโดยมวล, ที่มีพื้นฐานอยู่บน 100 ส่วนโดยมวลจากปริมาณของแข็งของเรซิน ทั้งหมดในสารผสมสำหรับเคลือบ

3. สารผสมสำหรับเคลือบตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2, ซึ่งจะประกอบรวมต่อไปด้วย (D) ส่วนประกอบแต่งสี

4. สารผสมสำหรับเคลือบตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ซึ่งฟิล์มเคลือบของ สารผสมสำหรับเคลือบจะแสดงการส่องผ่านของแสงเป็น 3.0% หรือมากกว่าที่ความยาวคลื่นเป็น 375 นาโนเมตรที่ความหนาของฟิล์มแห้งเป็น 30 ไมโครเมตร

5. วิธีการสำหรับการสร้างฟิล์มเคลือบซึ่งจะประกอบรวมด้วย: การใช้สารผสมสำหรับเคลือบตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ต่อซับสเตรท; การกำหนดขึ้น และ/หรือ การทำความร้อนไว้ก่อนสำหรับสารผสมเพื่อสร้างฟิล์มเคลือบซึ่งมี ปริมาณของแข็งเป็น 90%โดยมวลหรือมากกว่า; และ การฉายรังสีฟิล์มเคลือบด้วยรังสีของพลังงานที่ออกฤทธิ์

6. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 5, ซึ่งจะประกอบรวมต่อไปด้วยการทำความร้อนหลังจากการฉาย รังสีด้วยรังสีของพลังงานที่ออกฤทธิ์ หน้า 2 ของจำนวน 2 หน้า

7. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 5 หรือ 6, ที่ซึ่งซับสเตรทคือ อะคริโลไนไทรล์-บิวทาไดอีน- สไทรีน เรซิน, อะคริโลไนไทรล์-สไทรีน-อะคริเลต เรซิน, พอลิคาร์บอเนต เรซิน, พอลิบิวทิลีน ทีเรปธาเลต เรซิน, หรือลูกผสมของอย่างน้อยสองชนิดจากเรซินเหล่านี้

8. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 5 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ซึ่งอุณหภูมิที่พื้นผิวซึ่งมากที่สุดของ ซับสเตรทจะตํ่ากว่า 90(สัญลักษณ์)ซ ในระหว่างการฉายรังสีด้วยรังสีของพลังงานที่ออกฤทธิ์

9. ผลิตภัณฑ์ที่ถูกเคลือบด้วยสารผสมสำหรับเคลือบตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง 1

0. วิธีสำหรับการผลิตผลิตภัณฑ์ที่ถูกเคลือบซึ่งประกอบรวมด้วยการสร้างฟิล์มเคลือบบน ซับสเตรทตามวิธีการตามข้อลือสิทธิที่ 5 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง