TH146019A - สารผสมสำหรับเคลือบและวิธีการสำหรับการผลิตฟิล์มเคลือบ - Google Patents

สารผสมสำหรับเคลือบและวิธีการสำหรับการผลิตฟิล์มเคลือบ

Info

Publication number
TH146019A
TH146019A TH1301006567A TH1301006567A TH146019A TH 146019 A TH146019 A TH 146019A TH 1301006567 A TH1301006567 A TH 1301006567A TH 1301006567 A TH1301006567 A TH 1301006567A TH 146019 A TH146019 A TH 146019A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
coating
mass
resin
radiation
page
Prior art date
Application number
TH1301006567A
Other languages
English (en)
Other versions
TH1301006567B (th
TH67767B (th
Inventor
อินาดะ
ยูอิชิ
คอนโดห์
มิตสึรุ
อิชิกูโระ
มาซาฮารุ
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายบุญมา เตชะวณิช
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายบุญมา เตชะวณิช, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH1301006567B publication Critical patent/TH1301006567B/th
Publication of TH146019A publication Critical patent/TH146019A/th
Publication of TH67767B publication Critical patent/TH67767B/th

Links

Abstract

หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า บทสรุปการประดิษฐ์ การประดิษฐ์นี้จะจัดหาสารผสมสำหรับเคลือบซึ่งประกอบรวมด้วย (A) ยูรีเธน อะคริเลตซึ่งมี สมมูลไม่อิ่มตัวเป็น 100 ถึง 900 และน้ำหนักโมเลกุลเฉลี่ยโดยน้ำหนักเป็น 500 ถึง 2500, (B) อะคริลิค เรซินที่มีไฮดรอกซิ, ส่วนประกอบในการโคพอลิเมอไรเซชันของอะคริลิค เรซินที่มีไฮดรอกซิซึ่ง ประกอบรวมด้วย, ซึ่งจะประกอบรวมด้วย (a) 65 ถึง 90%โดยมวลของเมธิล เมธอะคริเลต, (b) 10 ถึง 35%โดยมวลของมอนอเมอร์ไม่อิ่มตัวซึ่งสามารถพอลิเมอไรซ์ได้ที่มีไฮดรอกซิ, และ (c) 0 ถึง 25% โดยมวลของมอนอเมอร์ไม่อิ่มตัวซึ่งสามารถพอลิเมอไรซ์ได้อื่นๆ, (C) สารประกอบพอลิไอโซไซยา- เนต, และ (E) ตัวริเริ่มการโฟโต้พอลิเมอไรเซชัน

Claims (9)

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :หน้า 1 ของจำนวน 2 หน้า ข้อถือสิทธิ
1. สารผสมสำหรับเคลือบซึ่งจะประกอบรวมด้วย (A) ยูรีเธน อะคริเลตซึ่งมีสมมูลไม่อิ่มตัวเป็น 100 ถึง 900 และนํ้าหนักโมเลกุลเฉลี่ยโดย น้ำหนักเป็น 500 ถึง 2500, (B) อะคริลิค เรซินที่มีไฮดรอกซิ, ส่วนประกอบในการโคพอลิเมอไรเซชันของอะคริลิค เรซิน ที่มีไฮดรอกซิซึ่งประกอบรวมด้วย, (a) 65 ถึง 90%โดยมวลของเมธิล เมธอะคริเลต, (b) 10 ถึง 35%โดยมวลของมอนอเมอร์ไม่อิ่มตัวซึ่งสามารถพอลิเมอไรซ์ได้ที่มี ไฮดรอกซิ, และ (c) 0 ถึง 25%โดยมวลของมอนอเมอร์ไม่อิ่มตัวซึ่งสามารถพอลิเมอไรซ์ได้อื่นๆ, ที่มีพื้นฐานอยู่บนปริมาณทั้งหมดของส่วนประกอบในการโคพอลิเมอไรเซชัน, (C) สารประกอบพอลิไอโซไซยาเนต, และ (E) ตัวริเริ่มการโฟโต้พอลิเมอไรเซชัน
2. สารผสมสำหรับเคลือบตามข้อถือสิทธิที่ 1, ที่ซึ่งยูรีเธน อะคริเลต (A) จะมีอยู่ในปริมาณ เป็น 10 ถึง 70 ส่วนโดยมวล, ที่มีพื้นฐานอยู่บน 100 ส่วนโดยมวลจากปริมาณของแข็งของเรซิน ทั้งหมดในสารผสมสำหรับเคลือบ
3. สารผสมสำหรับเคลือบตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2, ซึ่งจะประกอบรวมต่อไปด้วย (D) ส่วนประกอบแต่งสี
4. สารผสมสำหรับเคลือบตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ซึ่งฟิล์มเคลือบของ สารผสมสำหรับเคลือบจะแสดงการส่องผ่านของแสงเป็น 3.0% หรือมากกว่าที่ความยาวคลื่นเป็น 375 นาโนเมตรที่ความหนาของฟิล์มแห้งเป็น 30 ไมโครเมตร
5. วิธีการสำหรับการสร้างฟิล์มเคลือบซึ่งจะประกอบรวมด้วย: การใช้สารผสมสำหรับเคลือบตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ต่อซับสเตรท; การกำหนดขึ้น และ/หรือ การทำความร้อนไว้ก่อนสำหรับสารผสมเพื่อสร้างฟิล์มเคลือบซึ่งมี ปริมาณของแข็งเป็น 90%โดยมวลหรือมากกว่า; และ การฉายรังสีฟิล์มเคลือบด้วยรังสีของพลังงานที่ออกฤทธิ์
6. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 5, ซึ่งจะประกอบรวมต่อไปด้วยการทำความร้อนหลังจากการฉาย รังสีด้วยรังสีของพลังงานที่ออกฤทธิ์ หน้า 2 ของจำนวน 2 หน้า
7. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 5 หรือ 6, ที่ซึ่งซับสเตรทคือ อะคริโลไนไทรล์-บิวทาไดอีน- สไทรีน เรซิน, อะคริโลไนไทรล์-สไทรีน-อะคริเลต เรซิน, พอลิคาร์บอเนต เรซิน, พอลิบิวทิลีน ทีเรปธาเลต เรซิน, หรือลูกผสมของอย่างน้อยสองชนิดจากเรซินเหล่านี้
8. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 5 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ซึ่งอุณหภูมิที่พื้นผิวซึ่งมากที่สุดของ ซับสเตรทจะตํ่ากว่า 90(สัญลักษณ์)ซ ในระหว่างการฉายรังสีด้วยรังสีของพลังงานที่ออกฤทธิ์
9. ผลิตภัณฑ์ที่ถูกเคลือบด้วยสารผสมสำหรับเคลือบตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง 1
0. วิธีสำหรับการผลิตผลิตภัณฑ์ที่ถูกเคลือบซึ่งประกอบรวมด้วยการสร้างฟิล์มเคลือบบน ซับสเตรทตามวิธีการตามข้อลือสิทธิที่ 5 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง
TH1301006567A 2012-04-10 สารผสมสำหรับเคลือบและวิธีการสำหรับการผลิตฟิล์มเคลือบ TH67767B (th)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH1301006567B TH1301006567B (th) 2016-03-04
TH146019A true TH146019A (th) 2016-03-04
TH67767B TH67767B (th) 2019-01-28

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7172118B2 (ja) 積層体の製造方法
EP2535184B1 (en) Sheet for forming hard coating
EP2535383B1 (en) Resin composite for forming hard coat layer
JP6085830B2 (ja) ハードコーティング用組成物およびこれを含む黄変が改善された装飾用フィルム、およびそれらの製造方法
US20120301629A1 (en) Hard coating forming method
JP2016166346A5 (th)
JP2018522967A5 (th)
KR101402105B1 (ko) 실세스퀴옥산을 포함하는 조성물과 그 제조 방법, 및 이를 이용한 하드 코팅막과 그 제조 방법
KR20150010942A (ko) 공-압출된 충격-개질 pmma 필름
RU2011126658A (ru) Мраморная крошка для искусственного мрамора, способ ее получения и искусственный мрамор, ее содержащий
TWI689567B (zh) 光反應性透明黏著薄片用組成物、光反應性透明黏著薄片、觸控面板、影像顯示裝置
CN102763010A (zh) 偏光板、其制备方法以及包括该偏光板的图像显示装置
TW201241131A (en) Manufacturing method of pressure sensitive adhesive composition, pressure sensitive adhesive composition, and pressure sensitive adhesive tape used for the same
WO2014080769A1 (ja) 光硬化性組成物
KR20190003653A (ko) 공중합체, 및 조성물
JP2010275491A (ja) 含フッ素高分岐ポリマーを用いた界面接着性制御
TH146019A (th) สารผสมสำหรับเคลือบและวิธีการสำหรับการผลิตฟิล์มเคลือบ
JP2014211513A (ja) 光学積層体
Hong et al. Radical polymerization of acrylate copolymer‐based GMA for use as a UV‐curable layer via thin coating
TH67767B (th) สารผสมสำหรับเคลือบและวิธีการสำหรับการผลิตฟิล์มเคลือบ
US20110057359A1 (en) Manufacturing method for an article of photo-curing compose resin
TW201900689A (zh) 濾藍光膜用紫外線硬化型樹脂組成物及使用此組成物之濾藍光膜
JP5974632B2 (ja) 塗工フィルムの製造方法
TWI616495B (zh) 低注油塗覆之聚碳酸酯薄膜
KR102395686B1 (ko) 필름의 제조 방법