TH50872A - กระบวนการสำหรับทำให้สารละลายของการซักแห้งมีความเสถียร - Google Patents

Abstract

DC60 (29/01/44) วิธีการสำหรับทำให้เกิดความเสถียรต่อตัวทำละลายของการซักแห้งที่เป็น ซิลิโคนที่ประกอบด้วยสารเจือปน ซึ่งประกอบด้วยการสัมผัสตัวทำละลายที่เป็นซิลิโคนกับ สารดูดซับ, สารทำให้เป็นกลาง หรือสารผสมร่วมของสารเหล่านี้ เพื่อทำให้ตัวทำละลายบริสุทธิ์ และป้องกันการเกิดสมดุลใหม่ และการเกิดโพลีเมอร์ และการแยกตัวทำละลายที่เป็นซิลิโคน วิธีการสำหรับทำให้เกิดความเสถียรต่อตัวทำละลายของการซักแห้งที่เป็น ซิลิโคนที่ประกอบด้วยสารเจือปน ซึ่งประกอบด้วยการสัมผัสตัวทำละลายที่เป็นซิลิโคนกับ สารดูดซับ, สารทำให้เป็นกลาง หรือสารผสมร่วมของสารเหล่านี้ เพื่อทำให้ตัวทำละลายบริสุทธิ์ และป้องกันการเกิดสมดุลใหม่ และการเกิดโพลีเมอร์ และการแยกตัวทำละลายที่เป็นซิลิโคน

Claims (16)

1. วิธีการสำหรับการทำให้เกิดความเสถียรต่อตัวทำละลายของการ ซักแห้งที่เป็นซิลิโคน ที่อาจประกอบด้วยสารเจือปนที่เป็นกรดที่ไม่ถึงประสงค์ที่สามารถก่อ ให้เกิดไซคลิคไซลอกเซน ซึ่งประกอบด้วยการสัมผัสตัวทำละลายของการซักแห้งที่เป็นซิลิโคน กับการดูดซับ, สารทำให้เป็นกลาง หรือสารผสมร่วมของสารเหล่านี้ ละการแยกตัวทำละลาย ที่เป็นซิลิโคนออกจากสารดูดซับ

2. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งปริมาณของสารดูดซับ, สารทำให้ เป็นกลาง หรือสารผสมร่วมของสารเหล่านี้ที่ใช้ไม่เกิน 100 ส่วนโดยน้ำหนักต่อ 100 ส่วน โดยน้ำหนักของตัวทำละลายี่เป็นซิลิโคน

3. วิธีการของข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งตัวทำละลายสัมผัสสารดูดซับ, สารทำให้ เป็นกลางหรือสารผสมร่วมของสารเหล่านี้ เป็นเวลาประมาณ 0.0025 ถึงประมาณ 6 ชั่วโมง

4. วิธีการของข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งตัวทำละลายสัมผัสสารดูดซับ, สารทำให้ เป็นกลาง หรือสารผสมร่วมของสารเหล่านี้ที่อุณหภูมิตั้งแต่ประมาณ 10 ถึงประมาณ 80 องศาเซลเซียส

5. วิธีการของข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งสารดูดซับที่ใช้เลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วยซิลิคาเจล ดินไดอะตอม, ดินฟุลเลอร์, ดินเหนียวที่เป็นกรด, โมเลคคิวลาร์ซีฟ 4A, โมเลคคิวลาร์ซีฟ 13X และถ่านฟอกสี

6. วิธีการของข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งตัวทำละลายเป็นไซลอกเซนที่มีเชนตรง หรือเชนแตกแขนง ที่ประกอบด้วยสารหนึ่งชนิด หรือมากกว่าที่มีสูตรโครงสร้างดังนี้ M2+y+2zDxTyQz ซึ่ง M คือ R13 SiO1/2; D คือ R22 SiO 2/2; T คือ R3 SiO3/2; และ Q คือ SiO 4/2 R1, R2 และ R3 แต่ละสัญลักษณ์เป็นอนุมูลโฆโนเวเลนท์ไฮโตรคาร์บอน อย่างอิสระ และ x และ y แต่ละสัญลักษณ์เป็นเลขจำนวนเต็ม ซึ่ง O น้อยกว่าหรือเท่ากับ x น้อยกว่าหรือเท่ากับ 10 และ O น้อยกว่าหรือเท่ากับ y น้อยกว่าหรือเท่ากับ 10 และ O น้อยกว่าหรือเท่ากับ z น้อยกว่าหรือเท่ากับ 10

7. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 6 ซึ่งไซลอกเซนที่ระเหยได้ที่มีเชนตรง หรือ เชนแตกแขนงของการประดิษฐ์นี้ประกอบด้วยอตตาเมทธิลไตรไซลอกเซน, เดคคาเมทธิล เตตราไซลอกเซน หรือโดเดคคาเมทธิลเพนตาไซลอกเซน หรือเมทธิลคริส (ไตรเมทธิล ไซอลกซี) ไซเลน

8. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งซิลิโคเป็นไซคลิคไซลอกเซนที่ ประกอบด้วยสารหนึ่งชนิด หรือมากกว่าที่มีสูตรโครงสร้างดังนี้ (สูตรเคมี) (II) ซึ่ง R5, R6, R7 และ R8 แต่ละสัญญเป็นหมู่โมโนเวเลนท์ไฮโดรคาร์บอน อย่างอสระ และ a และ b แต่ละสัญลักษณ์เป็นเลขจำนวนเต็มซึ่ง O น้อยกว่าหรือเท่ากับ a น้อยกว่าหรือเท่ากับ 10 และ O น้อยกว่าหรือเท่ากับ b น้อยกว่าหรือเท่ากับ 10 โดยที่มีเงื่อนไขว่า 3 น้อยกว่าหรือเท่ากับ (a+b) น้อยกว่าหรือเท่ากับ 10

9. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 8 ซึ่งไซคลิคไซลอกเซน คือ ออตตาเมทธิล ไซโครเดตราไซลอกเซน หรือเตคคาเมทธิลไซโคลเพนตาไซลอกเซน

10. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสารเจือปนที่เป็นกรดที่ถูกเอาออกจาก ตัวทำละลาย ได้แก่ ฟอสโฟไนตริลลิตคลอไรด์เซนตรง, กรดกำมะถัน, กรดเกลือ, กรดมีเธน ซัลโฟนิค, กรดโคเดคซิลเบนซีนซัลโฟนิค, กรดพาราโทลูอีนซัลโฟนิค, กรดอาซิติค, กรดฟอสฟอริค, กรดำมะถัน หรือกรดเหล่านี้ร่วมกัน

11. ของไหลของการซักแห้ง ที่เป็นซิลิโคนที่ได้รับการทำกรรมวิธีโดย วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1

12. สารดูดซับที่ใช้ในวิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสารดูดับประกอบด้วย สารเจือปนที่เอาออกมาจากตัวทำละลายที่เป็นฟสโฟไนตริลลิคคลอไรด์เซนตรง, กรดกำมะถัน, กรดเกลือ, กรดมีเธนซัลโฟนิค, กรดโตเดคซิลเบนซินซัลโฟนิค, กรดพาราโทลูอีนซัลโฟนิค, กรดอาซีติค, กรดฟอสฟอริค, หรือกรดกำมะถัน หรือกรดเหล่านี้ร่วมกัน

13. กระบวนการซักแห้งที่ประกอบด้วย (a) การสัมผัสสิ่งของกับตัวทำละลายที่เป็นวิลิโคน และ (b) การเอาตัวทำละลายที่เป็นซิลิโคนออก และ (c) การสัมผัสตัวทำละลายที่เป็นซิลิโคนที่เอาออกมากับสารดูดซับ สารที่ ทำให้เป็นกลาง หรือสารผสมร่วมของสารเหล่านี้ และ (d) การยกตัวทำละลายที่เป็นซิลิโคนออกจากสารดูดซับ

14. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 13 ซึ่งมีส่วนเพิ่มเติมที่ประกอบด้วย การนำตัวทำละลายที่เป็นวิลิโคนที่ได้รับการทำกรรมวิธีแล้วในขั้นตอน (1) มาใช้ใหม่

15. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 13 ซึ่งสารดูดซับที่ใช้เลือก ได้จากกลุ่ม ที่ประกอบด้วยซิลิคาเจล, ดินไดอะตอม, ดินฟุลเลอร์, ดินเหนียวที่เป็นกรด, โมเลคคิลลาร์ซีฟ 4A, โมเลคคิวลาร์ซีฟ 13X และถ่ายฟอกสี

16. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 13 ซึ่งกระบวนการซักแห้งประกอบด้วย วัฏจักรของการซักแห้งหลายวัฏจักรที่ประกอบด้วยขั้นตอน (a) และ (b) และวัฏจักรของการทำ ให้เสถียรหลายวัฏจักรที่ประกอบด้วยขั้นตอน (c) และ (d) ซึ่งวัฏจักรของการซักแห้งได้รับการ ทำซ้ำหนึ่งครั้ง หรือมากกว่าต่อแต่ละวัฏจักรของการทำให้เสถียร