TH4419B

TH4419B - สำหรับผลิตกระเบื้องเซอรามิกเคลือบและกระเบื้องที่ได้จากกระบวนการและเครื่องมือดังกล่าว

Info

Publication number: TH4419B
Application number: TH8601000081A
Authority: TH
Inventors: มาราสซี นายฟิลิปโป
Original assignee: นายดำเนิน การเด่น; นายดำเนิน การเด่น นายวิรัช ศรีเอนกราธา; นายวิรัช ศรีเอนกราธา
Filing date: 1986-02-20
Publication date: 1995-04-03

Abstract

กระบวนการซึ่งจัดไว้สำหรับเผาวัสดุเซอรามิคในเตาเผาและการเคลือบวัสดุเซอรามิกในสภาวะที่ร้อนแรงลงบนด้านหนึ่งด้วยสารเคลือบที่เป็นเม็ดหรือผงแห้ง เมื่อปฏิกิริยาการเผาของวัสดุเซอรามิคเกือบสมบูรณ์แล้ว การกระทำด้วยความร้อนขั้นต่อมา เป็นการเผาสารเคลือบและค่อย ๆ ให้กระเบื้องเย็นลง อุปกรณ์สำหรับดำเนินกระบวนการ ซึ่งจัดไว้สำหรับเตาสำหรับเผาวัสดุเซอรามิค เตาถูกแบ่งออกเป็นสองส่วน ซึ่งมีอุปกรณ์สำหรับกระจายสารเคลือบลงบนวัสดุเซอรามิคที่เคลื่อนที่ผ่านเตาอยู่ระหว่างกลาง

Claims

1. กระบวนการสำหรับผลิตกระเบื้องเซอรามิคเคลือบจากวัสดุเซอรามิกดิบ ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอน (ก) การให้วัสดุเซอรามิกผ่านกรรมวิธีด้วยความร้อนในเขตการให้ผ่านกรรมวิธีเซตที่หนึ่งเพื่อเผาวัสดุเซอรามิก ทำให้ปฏิกิริยาทางเคมีและทางกายภาพที่เหมาะสมกับวัสดุเซอรามิกดิบเสร็จสมบูรณ์และแก๊สที่ถูกกักอยู่ถูกปล่อยออกมา (ข) การกระจายสารเคลือบที่แห้งร่วมลงบนวัสดุเซอรามิกในขณะที่วัสดุเซอรามิกอยู่ในสภาพพลาสติก (ค) การให้วัสดุเซอรามิกผ่านกรรมวิธีด้วยความร้อนในเขตการให้ผ่านกรรมวิธีเขตที่สองเพื่อทำให้สารเคลือบสุกตัวและเพื่อบ่มสารเคลือบ และ (ง) การให้วัสดุเซอรามิกเย็นลงที่อุณหภูมิแวดล้อม ดังนั้นก็จะผลิตได้เป็นกระเบื้องเซอรามิกเคลือบ

2. กระบวนการดังกล่าวในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งขั้นตอนการกระจายสารเคลือบทำที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิของขั้นตอนการให้ผ่านกรรมวิธีด้วยความร้อนเพื่อทำให้สารเคลือบสุกตัวและบ่มสารเคลือบ

3. กระบวนการดังกล่าวในข้อถือสิทธิข้อที่ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งขั้นตอนการกระจายสารเคลือบประกอบด้วยการปล่อยให้สารเคลือบตกอย่างอิสระลงบนวัสดุเซอรามิก

4. กระบวนการดังกล่าวในข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่งที่ยังประกอบเพิ่มเติมด้วยการควบคุมอุณหภูมิในเซตการกระจายสารเคลือบให้ต่ำกว่าอุณหภูมิที่สารเคลือบหลอมเหลวหรือข้นขึ้น

5. กระบวนการดังกล่าวในข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่งยังประกอบต่อไปด้วยการควบคุมอุณหภูมิในเขตการกระจายสารเคลือบให้ต่ำกว่าอุณหภูมิที่สารเคลือบระเหิด

6. กระบวนการดังกล่าวในข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่งที่ประกอบด้วยการเลือกอุณหภูมิในตอนท้ายของขั้นตอนการให้ผ่านกรรมวิธีด้วยความร้อนเพื่อเผาวัสดุเซอรามิกและ/หรือเวลาพำนักของวัสดุเซอรามิกในขั้นตอนการกระจายสารเคลือบเพื่อให้แน่นใจว่าวัสดุเซอรามิกอยู่ในสภาพพลาสติกในขณะที่สารเคลือบถูกกระจายลงบนวัสดุเซอรามิก

7. เครื่องสำหรับเผาวัสดุเซอรามิกและเคลือบวัสดุเซอรามิกเพื่อทำเป็นกระเบื้องเซอรามิก ที่ประกอบด้วย (ก) เขตการให้ผ่านกรรมวิธีด้วยความร้อนเขตที่หนึ่งสำหรับเผาวัสดุเซอรามิกเพื่อให้ปฏิกิริยาเคมีและกายภาพที่เหมาะสมสำหรับวัสดุเซอรามิกดิบเสร็จสมบูรณ์และแก๊สที่ถูกกักอยู่ถูกปล่อยออกมา (ข) เขตการกระจายสารเคลือบสำหรับกระจายสารเคลือบที่แห้งร่วนลงบนวัสดุเซอรามิกที่เผาแล้วในขณะที่วัสดุเซอรามิกอยู่ในสภาพพลาสติก (ค) เขตการให้ผ่านกรรมวิธีด้วยความร้อนเขตที่สองสำหรับทำให้สารเคลือบสุกตัวและบ่มสารเคลือบ และในลำดับต่อมาสำหรับทำให้วัสดุเซอรามิกเคลือบที่ทำขึ้นค่อยๆ เย็นลงถึงอุณหภูมิแวดล้อม และ (ง) วิถีทางส่งวัสดุเซอรามิกผ่านเขตการให้ผ่านกรรมวิธีด้วยความร้อนเขตที่หนึ่งเขตการกระจายสารเคลือบและเขตการให้ผ่านกรรมวิธีด้วยความร้อนเขตที่สองตามลำดับ

8. เครื่องดังกล่าวในข้อถือสิทธิข้อที่ 7 ยังประกอบต่อไปด้วยวิถีทางควบคุมอุณหภูมิเพื่อควบคุมอุณหภูมิในเขตการกระจายสารเคลือบให้ต่ำกว่าอุณหภูมิที่ซึ่งสารเคลือบสุกตัว

9. เครื่องดังกล่าวในข้อถือสิทธิข้อที่ 8 ที่ซึ่งวิถีทางส่งจะส่งวัสดุเซอรามิกผ่านเขตการกระจายสารเคลือบแบบที่ว่าหน้าหนึ่งของวัสดุเซอรามิกอยู่ในแนวระนาบ และเขตการกระจายสารเคลือบประกอบด้วยวิถีทางที่จะกระจายสารเคลือบแบบที่จะตกอย่างอิสระลงบนหน้านั้นและแผ่ออกทั่วส่วนกว้างทั้งหมดของหน้านั้น 1

0. เครื่องดังกล่าวในข้อถือสิทธิข้อที่ 9 ซึ่งวิถีทางส่งถูกปรับให้เหมาะที่จะรองรับวัสดุเซอรามิกดังกล่าวจำนวนหนึ่งที่อยู่ห่างกันเป็นระยะๆ ตามแนววิถีทางส่ง และเขตการกระจายสารเคลือบประกอบด้วยส่วนรับที่อยู่ใต้วิถีทางส่งเพื่อรับสารเคลือบที่ไม่ได้จับเกาะลงบนวัสดุเซอรามิก