SU1758913A1 - Нагревательное устройство дл выращивани кристаллов - Google Patents
Нагревательное устройство дл выращивани кристаллов Download PDFInfo
- Publication number
- SU1758913A1 SU1758913A1 SU894714077A SU4714077A SU1758913A1 SU 1758913 A1 SU1758913 A1 SU 1758913A1 SU 894714077 A SU894714077 A SU 894714077A SU 4714077 A SU4714077 A SU 4714077A SU 1758913 A1 SU1758913 A1 SU 1758913A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- heat
- zone
- temperature
- conducting element
- heat exchangers
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к устройствам дл выращивани кристаллов, В трубчатой рабочей камере установлены нагоеватели крайних зон и кольцевой теплопроводы.: элемент, охватывающий центральную зону . В камере установлены два автономных вод ных теплообменника, теплоизол ционные вставки и дополнительный нагреватель , который установлен на внутренней стороне теплопроводного элемента. Последний выполнен из двух разделенных теплоизол ционных колец. Каждое кольцо контактирует с одним из теплообменников . Теплоизол ционные вставки установлены между центральной и крайними зонами. 3 ил.
Description
сл
с
Изобретение относитс к электротехнике и может быть использовано дл выращивани монокристаллов полупроводниковых материалов и их соединений.
Известно устройство, содержащее нагреватель , выравниватель температуры в виде тепловой трубы и теплоизол цию. Данное устройство имеет тот недостаток, что позвол ет получить чрезмерно широкую высокотемпературную зону. А это, в свою очередь , неблагопри тно сказываетс на качестве выращиваемого кристалла. К недостаткам также можно отнести и низкие функциональные возможности из-за отсутстви механического регулировани температурного пол в средней зоне устройства.
Наиболее близким к изобретению вл етс нагревательное устройство дл выращивани кристаллов, содержащее выравниватель, выполненный в виде двух
установленных на одной оси с зазором отрезков цилиндрических тепловых труб.
Недостатком известного устройства вл етс следующее.
Устройство не позвол ет получить желаемое качество кристалла, дл достижени которого необходимо сократить ширину высокотемпературной зоны, обеспечив ее стабильность , а также сократить ширину зоны перепада температур при направленной кристаллизации расплава по методу Бридж- мена с об зательным обеспечением стабильности температур в начале зоны и в ее конце. Это возможно лишь при достаточной эффективности регулировани температурного пол в центральной зоне. Устройство решено таким образом, что теплоотвод от диска осуществл етс воздухом, что само по себе предполагает недостаточную эффективность данного процесса. Кроме того, рею
вй
w
гулирование температуры в переходной зоне возможно за счет изменени зазора и величины тока, пропускаемого по обмоткам нагревателей. Однако увеличение зазора приводит к расширению ответственной температурной зоны, что недопустимо дл получени высококачественного кристалла. Недостаточна герметичность тепловых камер , а особенно в тепловой зоне, приводит к стабильности температур, а это, в свою очередь, к снижению качества конечного продукта.
Целью изобретени вл етс повышение эффективности регулировани температурного пол в центральной зоне.
Поставленна цель достигаетс тем, что конструкци дополнительно содержит нагреватель , два вод ных теплообменника и теплоизол ционные вставки. Дополнительный нагреватель установлен на внутренней стороне теплопроводного элемента, выполненного из разделенных теплоизол цией колец, каждое из которых контактирует с одним из теплообменников, а теплоизол ционные вставки установлены между центральной и крайними зонами рабочей камеры.
Сравнение за вл емого решени с другими техническими решени ми показывает , что введение в устройство дополнительного нагревател , вод ных теплообменников, теплоизол ционных вставок, а также установка дополнительного нагревател на внутренней стороне теплопроводного элемента, выполненного из разделенных теплоизол цией колец, повышает эффективность регулировани температурного пол в центральной зоне. При этом каждое из колец контактирует с одним из теплообменников, а теплоизол ционные вставки установлены между центральной и крайними зонами рабочей камеры.
На фиг. 1 изображено устройство дл выращивани кристаллов; на фиг. 2 - конструкци теплопроводного элемента; на фиг. 3 - графики температурных полей при различных режимах работы устройства.
Нагревательное устройство содержит верхний 1 и нижний 2 теплоизол ционные кожухи (фиг. 1). Внутри кожухов 1 и 2 расположены теплопроводные (тепловые) трубы 3-6. Вокруг труб 3 и 6 намотаны электронагреватели 7 и 8. Трубы 3 и 6 создают соответственно верхнюю и нижнюю рабочие камеры. Данные камеры разделены между собой теплопроводным элементом, создающим переходную температурную зону. Теплопроводный элемент (фиг. 1 и 2) состоит из верхнего 9 и нижнего 10 теплопроводных колец, разделенных между собой теплоизо
л ционной прокладкой 11, позвол ющей производить теплообмен каждого кольца автономно. Дл отвода теплоты от колец на них установлены с помощью кронштейнов
12 и 13 теплообменники 14 и 15. Дл более качественного разделени температурных камер примен ютс теплоизол ционные вставки 16 и 17. Дл создани высокотемпературной зоны теплопроводный элемент ос0 нащен теплопроводной трубой 18, вокруг которой намотан электронагреватель 19. Перифери теплопроводного элемента помещена в теплоизол ционный кожух 20 (фиг. 1) во избежание травмировани при создании
5 нагревательным элементом высокотемпературной зоны. Дл контрол и управлени режимами работы, а также дл поддержани стабильности температур используютс два термодатчика 21, установленных в нача0 ле и в конце переходной зоны. Нагревательное устройство установлено на четырех опорах 22.
Работа при зонной плавке осуществл етс следующим образом.
5 Пропусканием тока по обмоткам 7 и 8 добиваютс стабильной заданной температуры в верхней и нижней камерах. Затем, пропуска ток через обмотку 19 теплопроводного элемента (каждый виток которой
0 управл етс автономно), создают высокотемпературную зону заданной характеристики . Стабильность достигаетс тем, что от верхней и нижней камер высокотемпературную зону защищают теплоизол ци5 онные вставки 16, 17 (фиг. 1 и 2). Таким образом, теплопроводный элемент при зонной плавке, позвол ет получить заданную стабильную высокотемпературную зону , ограниченную участком АС (фиг. 3). При
0 направленной кристаллизации расплава нагревательные элементы 7 и 8 создают необходимые температуры в своих камерах, а теплопроводный элемент обеспечивает градиентную температурную зону заданной
5 конфигурации и наклона (фиг. 3). Заданные параметры достигаютс путем пропускани через теплообменники 14 и 15, выполненные в виде труб спиральной формы, охлаждающего вещества. Регулиру его расход
0 можно добиватьс различной интенсивности отвода тепла, измен тем самым конфигурацию градиентной зоны ВС. При этом наличие между кольцами 9 и 10 теплоизол ционной прокладки 11 позвол ет стабили5 зировать температуру в точках перехода от высокотемпературной изотермической зоны к градиентной и от градиентной к низкотемпературной изометрической зоне, так как при таком конструктивном решении теп- лоотвод от колец 9 и 10 можно осуществить
автономно с разной степенью интенсивности , при этом один теплообменник может быть отключен дл сокращени прот женности и стабилизации градиентной зоны. Контролируют и управл ют режимами работы теплообменников 14 и 15 и нагревател 10 термодатчики 21.
Применение такого устройства позвол ет повысить однородность состава получаемых зонной плавкой кристаллов, улучшить их качество за счет создани более узких и стабильных высокотемпературной и градиентной зон. а также большей эффективности регулировани температур в этих зонах.
Claims (1)
- Формула изобретени Нагревательное устройство дл выращивани кристаллов, содержащее трубчатую рабочую камеру, снабжрнную нагревател ми крайних зон, и охватывающий центральную зону камеры кольцевой теплопроводный элемент, отличающее с тем, что, с целью повышени эффективности регулировани температурного пол в центральной зоне, оно снабжено дополнительным нагревателем, двум автономными вод ными теплообменниками итеплоизол ционными вставками, дополнительный нагреватель установлен на внутренней стороне теплопроводного элемента, выполненного из двух разделенных теплоизол цией колец, каждое из которых контактирует с одним из теплообменников, а теплоизол ционные вставки установлены между центральной и крайними зонами рабочей камеры.Фаг 1пч 4444s vsss:fcrzzy ax.J t.fSffSffffSfSffSSSSSSSSstsr157в с фиг.З,мм
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU894714077A SU1758913A1 (ru) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | Нагревательное устройство дл выращивани кристаллов |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU894714077A SU1758913A1 (ru) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | Нагревательное устройство дл выращивани кристаллов |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1758913A1 true SU1758913A1 (ru) | 1992-08-30 |
Family
ID=21458470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU894714077A SU1758913A1 (ru) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | Нагревательное устройство дл выращивани кристаллов |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1758913A1 (ru) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7584689B2 (en) | 2005-06-10 | 2009-09-08 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Transparent ceramic composite armor |
US8157913B2 (en) | 2004-04-08 | 2012-04-17 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Method of forming a sapphire single crystal |
US11047650B2 (en) | 2017-09-29 | 2021-06-29 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Transparent composite having a laminated structure |
-
1989
- 1989-07-03 SU SU894714077A patent/SU1758913A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР № 1137783, кл. С 30 В 13/16, 1983. Авторское свидетельство СССР № 1412580, кл. Н 05 В 3/64, 1985. * |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8157913B2 (en) | 2004-04-08 | 2012-04-17 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Method of forming a sapphire single crystal |
USRE43469E1 (en) | 2004-04-08 | 2012-06-12 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Single crystals and methods for fabricating same |
US8685161B2 (en) | 2004-04-08 | 2014-04-01 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Method of forming a sapphire crystal using a melt fixture including thermal shields having a stepped configuration |
US9926645B2 (en) | 2004-04-08 | 2018-03-27 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Method of forming a single crystal sheet using a die having a thermal gradient along its length |
US9963800B2 (en) | 2004-04-08 | 2018-05-08 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Method of making a sapphire component including machining a sapphire single crystal |
US7584689B2 (en) | 2005-06-10 | 2009-09-08 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Transparent ceramic composite armor |
US7793580B2 (en) | 2005-06-10 | 2010-09-14 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Transparent ceramic composite |
US8025004B2 (en) | 2005-06-10 | 2011-09-27 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Transparent ceramic composite |
US8297168B2 (en) | 2005-06-10 | 2012-10-30 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Transparent ceramic composite |
US11047650B2 (en) | 2017-09-29 | 2021-06-29 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Transparent composite having a laminated structure |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SU1433420A3 (ru) | Холодный тигель | |
US4597949A (en) | Apparatus for growing crystals | |
SU1758913A1 (ru) | Нагревательное устройство дл выращивани кристаллов | |
JP2000290096A (ja) | 結晶シリコン製造装置 | |
US6712904B1 (en) | Device for producing single crystals | |
CN104532353A (zh) | 掺铬硒化锌单晶的布里奇曼生长装置及方法 | |
CN102753736B (zh) | 一种用于获得多晶硅半导体材料,特别是硅的设备,以及一种控制其温度的方法 | |
US3860736A (en) | Crystal furnace | |
JPH10139580A (ja) | 一方向凝固材の製造方法および一方向凝固装置 | |
EP0196243A2 (en) | Temperature gradient furnace for materials processing | |
US6290773B1 (en) | Method and apparatus for fabricating single crystal | |
RU2038356C1 (ru) | Устройство для выращивания кристаллов в печи с двухзонным электрическим нагревом | |
JPS6041033B2 (ja) | 結晶成長装置 | |
GB1491123A (en) | Production of a compound or alloy | |
CN218115660U (zh) | 一种单晶炉双制冷系统 | |
RU200993U1 (ru) | Тепловой узел для выращивания монокристаллов | |
US10900141B2 (en) | Heater for ingot growing apparatus | |
JPS55158196A (en) | Manufacture of single crystal | |
JPH0234592A (ja) | 化合物半導体単結晶の成長方法 | |
JPS62187193A (ja) | 単結晶育成方法および装置 | |
JPS63176388A (ja) | 単結晶引上げ装置 | |
JP2830392B2 (ja) | 化合物半導体単結晶の製造方法及び製造装置 | |
JPH0343365B2 (ru) | ||
JPH09251959A (ja) | 加熱装置 | |
SU615316A1 (ru) | Устройство дл регулировани расхода газа через патрубок горелки |