SU1569530A1 - Способ измерени толщины тонких диэлектрических пленок - Google Patents

Способ измерени толщины тонких диэлектрических пленок Download PDF

Info

Publication number
SU1569530A1
SU1569530A1 SU874389637A SU4389637A SU1569530A1 SU 1569530 A1 SU1569530 A1 SU 1569530A1 SU 874389637 A SU874389637 A SU 874389637A SU 4389637 A SU4389637 A SU 4389637A SU 1569530 A1 SU1569530 A1 SU 1569530A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
film
substrate
thickness
electromagnetic radiation
gap
Prior art date
Application number
SU874389637A
Other languages
English (en)
Inventor
Герман Николаевич Жижин
Искандер Исмаилович Хаммадов
Владимир Александрович Яковлев
Original Assignee
Центральное Проектно-Конструкторское И Технологическое Бюро Научного Приборостроения Ан Узсср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Центральное Проектно-Конструкторское И Технологическое Бюро Научного Приборостроения Ан Узсср filed Critical Центральное Проектно-Конструкторское И Технологическое Бюро Научного Приборостроения Ан Узсср
Priority to SU874389637A priority Critical patent/SU1569530A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1569530A1 publication Critical patent/SU1569530A1/ru

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к измерительной технике и может использоватьс  в электронной промышленности при неразрушающем контроле толщины тонких пленок. Целью изобретени   вл етс  повышение точности измерени  за счет определени  толщины пленки по ширине щели в энергетическом спектре поверхностных пол ритонов подложки, на которую нанесена пленка. Сущность способа заключаетс  в том, что измер емую пленку, нанесенную на подложку, прижимают к призме с зазором, величина которого близка к длине волны электромагнитного излучени , которое направл ют на призму под различными углами, в услови х нарушенного полного внутреннего отражени  регистрируют спектр поглощени  поверхностных пол ритонов подложки и определ ют толщину пленки по формуле D=2Δ2λ3, где D - толщина пленки
Δ - ширина щели в энергетическом спектре пол ритонов
λ - длина волны электромагнитного излучени .

Description

Иэобретение относитс  к измерительной технике и может использоватьс  в электронной промышленности при неразрушающем контроле толщины тонких пленок.
Целью изобретени   вл етс  повышение точности измерени  за счет определени  толщины пленки по ширине щели в энергетическом спектре поверх-- ностных пол ритонов подложки, на которую нанесена пленка.
В основе способа лежит резонансное взаимодействие элементарных возбуждений пленки и поверхностных пол ритонов подложки.
Сущность способа заключаетс  в следующем.
Измер емую пленку, нанесенную на диэлектрическую подложку, прижимают к призме с зазором, величина которого близка к длине волны электромагнитного излучени , которое направл ют на призму под различными углами, регистрируют спектр поглощени  поверхностных пол ритонов подложки в успо- ви х нарушенного полного внутреннесо сл
00
го отражени , толщину пленки опреде.- л ют по ширине щели в энергетическом спектре в соответствии с формулой
d -
. т
где d - толщина измер емой пленки; и - ширина щели энергетического
спектра;
А - длина волны электромагнитного излучени .

Claims (1)

  1. Формула изобретени 
    Способ измерени  толщины тонких диэлектрических пленок на диэлектрических подложках, заключающийс  в том, что линейно пол ризованное
    5
    электромагнитное излучение направл ют под различными углами на подложку с измер емой пленкой, регистрируют отраженное излучение и определ ют толщину пленки, отличающий- с   тем, что, с целью повышени  точности измерени , подложку с измер емой пленкой прижимают к призме с зазором , близким к длине волны электромагнитного излучени , регистрируют спектр поглощени  поверхностных пот л ритоиов подложки в услови х нарушенного полного внутреннего отражени  и толщину пленки определ ют по величине щели в энергетическом спектре поверхностных пол ритонов подложки при резонансе с уровнем энергии тонкой плёнки.
SU874389637A 1987-12-28 1987-12-28 Способ измерени толщины тонких диэлектрических пленок SU1569530A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU874389637A SU1569530A1 (ru) 1987-12-28 1987-12-28 Способ измерени толщины тонких диэлектрических пленок

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU874389637A SU1569530A1 (ru) 1987-12-28 1987-12-28 Способ измерени толщины тонких диэлектрических пленок

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1569530A1 true SU1569530A1 (ru) 1990-06-07

Family

ID=21360158

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU874389637A SU1569530A1 (ru) 1987-12-28 1987-12-28 Способ измерени толщины тонких диэлектрических пленок

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1569530A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Бабаджанов Л.С., Джорбенадзе Н.Н., Николаишвили Ю.Н. Расчетно- экспериментальный метод учета неплоскостности подл ожки по аттестации мер толщины покрытий. - Измерительна техника, 1977, } 2, с. 24. Свешникова Г.В., Кольцов С.И. Эллипсометри - метод исследовани поверхности твердых веществ: Уч.пособие. - Л., 1975, с. 20-25. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0246846B1 (en) Method and apparatus for assaying a species in a sample
EP0278577B1 (en) A process for determining thicknesses of layers, application thereof in determining certain interactions and a means for carrying out this process
GB2069130A (en) Thin film thickness monitor
US4695162A (en) Film thickness measuring apparatus
US4701052A (en) Dew point hygrometer
Trivedi et al. Measurement of large electro‐optic coefficients in thin films of strontium barium niobate (Sr0. 6Ba0. 4Nb2O6)
SU1569530A1 (ru) Способ измерени толщины тонких диэлектрических пленок
JPH07159319A (ja) センサ装置
Krokstad et al. Scattering of light by ultrasonic surface waves in quartz
US6687015B1 (en) Method and device for measuring the thickness of a layer
EP0019724B1 (en) Method of monitoring the thickness of thin dielectric films and performance of the method
SU815484A1 (ru) Устройство дл контрол тонкихплЕНОК
SU1193459A1 (ru) Способ определени параметров диэлектрической пленки
SU1210091A1 (ru) Способ определени параметров диэлектрических материалов
SU1681279A1 (ru) Способ измерени диэлектрической проницаемости жидкостей
JP3321886B2 (ja) 減衰全反射型薄膜評価装置
SU1280311A1 (ru) Способ измерени толщины тонких пленок,нанесенных на подложку
JPS6179142A (ja) 赤外吸収分析法
SU1116364A1 (ru) Способ определени оптических констант ферромагнетиков
SU694774A1 (ru) Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников
Tsukahara et al. An instrument for layer thickness measurement using pseudo-Sezawa waves
RU2133956C1 (ru) Способ эллипсометрического исследования тонких пленок на плоских подложках
SU1126849A1 (ru) Измерительна чейка дл исследовани диэлектрических параметров жидкостей
SU1051476A1 (ru) Способ измерени периода страйп-структуры в доменосодержащих пленках
SU1168871A1 (ru) Способ измерени поверхностного сопротивлени высокоомного покрыти на диэлектрической подложке