SU694774A1 - Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников - Google Patents

Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников

Info

Publication number
SU694774A1
SU694774A1 SU782618192A SU2618192A SU694774A1 SU 694774 A1 SU694774 A1 SU 694774A1 SU 782618192 A SU782618192 A SU 782618192A SU 2618192 A SU2618192 A SU 2618192A SU 694774 A1 SU694774 A1 SU 694774A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
temperature
angle
semiconductors
ellipsometric
incidence
Prior art date
Application number
SU782618192A
Other languages
English (en)
Inventor
Вадим Васильевич КОРАБЛЕВ
Светлана Ефимовна Страковская
Сергей Алексеевич Станчиц
Original Assignee
Ленинградский Ордена Ленина Политехнический Институт Им. М.И.Калинина
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ленинградский Ордена Ленина Политехнический Институт Им. М.И.Калинина filed Critical Ленинградский Ордена Ленина Политехнический Институт Им. М.И.Калинина
Priority to SU782618192A priority Critical patent/SU694774A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU694774A1 publication Critical patent/SU694774A1/ru

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)

Description

На фиг. 1 показаны температурные зависимости эллипсометрического угла А дл  образца GaAs/111/B дл  трех углов падени  светового пучка на поверхность образца при длине волны ,6328 мкм: экспериментальные кривые, измеренные при углах падени  65° и 77°40 соответственно; крива , рассчитанна  дл  этого же образца дл  угла падени  . Расчет проводилс  на вычислительной машине по точным уравнени м Друде дл  следующей модели отражающей поверхности образца: поглощающа  подложка (GaAs) - поглоо
щающа  пленка, толщиной 60 А, исход  из температурных зависимостей оптических констант GaAs и пленки, оцененных из двух угловых измерений (при и (р 77°40); на фиг. 2 представлены зависимости изменени  эллипсометрического угла А, 6А при увеличении Т от комнатной до 420°С от угла падени  светового пучка на поверхность образца GaAs /111/S, вычисленные по точным уравнени м Друде дл  разных состо ний поверхности образца: крива  1 - GaAs без поверхностной пленки , кривые 2 и 3 -GaAs+прозрачна  окисна  пленка с показателем преломлени 
О
,65 с толщинами 40 и 100 А соответственно , крива  4 - GaAs+поглощающа  пленка с ,65 и показателем поглощеО
ни  и 0,27, толщиной 60 А. Как видно, зависимости 5А(ф) проход т через максимум при , больщем главного угла,
который дл  GaAs дл  А равен ,5°С. Оцененна  из приведенных на фиг. 2 результатов точность измерени  Г
(при ) в зависимости от состо ни  поверхности образца, равна 1-2°.
Насто щее изобретение имеет преимущество в точности бесконтактного измерени  5 Т полупроводников. Использование изобретени  в технологии позвол ет проводить технологические процессы в строго заданном температурном интервале, диктуемом услови ми используемой технологии, что 1; повышает качество продуктов технологического процесса.

Claims (1)

  1. Формула изобретени 
    Бесконтактный способ измерени  температуры полупроводников, включающий измерени  эллипсометрического угла при отражении монохроматического пол ризованного излучени  от поверхности полупроводника при температуре Ть близкой к
    0 комнатной, и при более высокой температуре Т2 и определение температуры полупроводника по отклонению величины эллипсометрического угла от величины угла, измеренной при температуре Tj, отличаю щ и и с   тем, что, с целью повышени  точности измерени  температуры, измер ют изменение эллипсометрического угла А в интервале температур Т и Т, определ емого относительной разностью фаз компонентов отраженного пол ризованного излучени  с электрическим вектором, параллельным и перпендикул рным плоскости падени  соответственно, при таком угле падени , большем главного, при котором
    5 угол А имеет наибольший температурный коэффициент, причем этот угол предварительно определ ют экспериментальным или расчетным путем.
    о100200300ifOO500 гС
    (риг.1
    S3
SU782618192A 1978-05-19 1978-05-19 Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников SU694774A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782618192A SU694774A1 (ru) 1978-05-19 1978-05-19 Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782618192A SU694774A1 (ru) 1978-05-19 1978-05-19 Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU694774A1 true SU694774A1 (ru) 1979-10-30

Family

ID=20765699

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU782618192A SU694774A1 (ru) 1978-05-19 1978-05-19 Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU694774A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2660765C1 (ru) * 2017-02-14 2018-07-09 Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр "Красноярский научный центр Сибирского отделения Российской академии наук" Способ бесконтактного измерения температуры in situ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2660765C1 (ru) * 2017-02-14 2018-07-09 Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр "Красноярский научный центр Сибирского отделения Российской академии наук" Способ бесконтактного измерения температуры in situ

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Jellison Jr Optical functions of GaAs, GaP, and Ge determined by two-channel polarization modulation ellipsometry
Paik et al. Exact ellipsometric measurement of thickness and optical properties of a thin light-absorbing film without auxiliary measurements
McCrackin et al. Measurement of the thickness and refractive index of very thin films and the optical properties of surfaces by ellipsometry
Rothen The ellipsometer, an apparatus to measure thicknesses of thin surface films
JPH0432704A (ja) ギャップ測定装置および表面形状測定装置
Stenberg et al. A new ellipsometric method for measurements on surfaces and surface layers
SU694774A1 (ru) Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников
JPH0640071B2 (ja) 水蒸気光吸収線の2次微分曲線を利用した高精度湿度測定方法
US4932780A (en) Interferometer
CN103674892A (zh) 一种基于全内反射偏振位相差测量来监控薄膜生长的方法
JPS5930004A (ja) 膜厚測定装置
JPS60122333A (ja) 偏光解析装置
JPS61200407A (ja) フーリェ変換方式赤外線膜厚測定方法
US5659393A (en) Method of and device for measuring the refractive index of wafers of vitreous material
Ohlídal et al. Analysis of semiconductor surfaces with very thin native oxide layers by combined immersion and multiple angle of incidence ellipsometry
RU2787807C1 (ru) Способ определения толщины пленки
Schneider et al. Temperature dependence of the refractive index of strontium titanate and prism coupling to lithium niobate optical waveguides
Fray et al. An absolute method of determining transmission and reflection coefficients
SU1024703A1 (ru) Способ контрол толщины и показател преломлени диэлектрической пленки на диэлектрической подложке
Edgar et al. Techniques for suppressing optical interference errors in infrared film thickness gauging
Spanier Double film thickness measurements in the semiconductor industry
Miller et al. The use of ellipsometry to study adsorption on hydrogels
JP2522480B2 (ja) 屈折率測定方法
Smartt A Variable Transmittance Beam Splitter
Wang et al. New correction method for FTIR online film-thickness measurement