SU694774A1 - Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников - Google Patents
Бесконтактный способ измерени температуры полупроводниковInfo
- Publication number
- SU694774A1 SU694774A1 SU782618192A SU2618192A SU694774A1 SU 694774 A1 SU694774 A1 SU 694774A1 SU 782618192 A SU782618192 A SU 782618192A SU 2618192 A SU2618192 A SU 2618192A SU 694774 A1 SU694774 A1 SU 694774A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- temperature
- angle
- semiconductors
- ellipsometric
- incidence
- Prior art date
Links
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)
Description
На фиг. 1 показаны температурные зависимости эллипсометрического угла А дл образца GaAs/111/B дл трех углов падени светового пучка на поверхность образца при длине волны ,6328 мкм: экспериментальные кривые, измеренные при углах падени 65° и 77°40 соответственно; крива , рассчитанна дл этого же образца дл угла падени . Расчет проводилс на вычислительной машине по точным уравнени м Друде дл следующей модели отражающей поверхности образца: поглощающа подложка (GaAs) - поглоо
щающа пленка, толщиной 60 А, исход из температурных зависимостей оптических констант GaAs и пленки, оцененных из двух угловых измерений (при и (р 77°40); на фиг. 2 представлены зависимости изменени эллипсометрического угла А, 6А при увеличении Т от комнатной до 420°С от угла падени светового пучка на поверхность образца GaAs /111/S, вычисленные по точным уравнени м Друде дл разных состо ний поверхности образца: крива 1 - GaAs без поверхностной пленки , кривые 2 и 3 -GaAs+прозрачна окисна пленка с показателем преломлени
О
,65 с толщинами 40 и 100 А соответственно , крива 4 - GaAs+поглощающа пленка с ,65 и показателем поглощеО
ни и 0,27, толщиной 60 А. Как видно, зависимости 5А(ф) проход т через максимум при , больщем главного угла,
который дл GaAs дл А равен ,5°С. Оцененна из приведенных на фиг. 2 результатов точность измерени Г
(при ) в зависимости от состо ни поверхности образца, равна 1-2°.
Насто щее изобретение имеет преимущество в точности бесконтактного измерени 5 Т полупроводников. Использование изобретени в технологии позвол ет проводить технологические процессы в строго заданном температурном интервале, диктуемом услови ми используемой технологии, что 1; повышает качество продуктов технологического процесса.
Claims (1)
- Формула изобретениБесконтактный способ измерени температуры полупроводников, включающий измерени эллипсометрического угла при отражении монохроматического пол ризованного излучени от поверхности полупроводника при температуре Ть близкой к0 комнатной, и при более высокой температуре Т2 и определение температуры полупроводника по отклонению величины эллипсометрического угла от величины угла, измеренной при температуре Tj, отличаю щ и и с тем, что, с целью повышени точности измерени температуры, измер ют изменение эллипсометрического угла А в интервале температур Т и Т, определ емого относительной разностью фаз компонентов отраженного пол ризованного излучени с электрическим вектором, параллельным и перпендикул рным плоскости падени соответственно, при таком угле падени , большем главного, при котором5 угол А имеет наибольший температурный коэффициент, причем этот угол предварительно определ ют экспериментальным или расчетным путем.о100200300ifOO500 гС(риг.1S3
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782618192A SU694774A1 (ru) | 1978-05-19 | 1978-05-19 | Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782618192A SU694774A1 (ru) | 1978-05-19 | 1978-05-19 | Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU694774A1 true SU694774A1 (ru) | 1979-10-30 |
Family
ID=20765699
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU782618192A SU694774A1 (ru) | 1978-05-19 | 1978-05-19 | Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU694774A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2660765C1 (ru) * | 2017-02-14 | 2018-07-09 | Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр "Красноярский научный центр Сибирского отделения Российской академии наук" | Способ бесконтактного измерения температуры in situ |
-
1978
- 1978-05-19 SU SU782618192A patent/SU694774A1/ru active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2660765C1 (ru) * | 2017-02-14 | 2018-07-09 | Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр "Красноярский научный центр Сибирского отделения Российской академии наук" | Способ бесконтактного измерения температуры in situ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Jellison Jr | Optical functions of GaAs, GaP, and Ge determined by two-channel polarization modulation ellipsometry | |
Paik et al. | Exact ellipsometric measurement of thickness and optical properties of a thin light-absorbing film without auxiliary measurements | |
McCrackin et al. | Measurement of the thickness and refractive index of very thin films and the optical properties of surfaces by ellipsometry | |
Rothen | The ellipsometer, an apparatus to measure thicknesses of thin surface films | |
JPH0432704A (ja) | ギャップ測定装置および表面形状測定装置 | |
Stenberg et al. | A new ellipsometric method for measurements on surfaces and surface layers | |
SU694774A1 (ru) | Бесконтактный способ измерени температуры полупроводников | |
JPH0640071B2 (ja) | 水蒸気光吸収線の2次微分曲線を利用した高精度湿度測定方法 | |
US4932780A (en) | Interferometer | |
CN103674892A (zh) | 一种基于全内反射偏振位相差测量来监控薄膜生长的方法 | |
JPS5930004A (ja) | 膜厚測定装置 | |
JPS60122333A (ja) | 偏光解析装置 | |
JPS61200407A (ja) | フーリェ変換方式赤外線膜厚測定方法 | |
US5659393A (en) | Method of and device for measuring the refractive index of wafers of vitreous material | |
Ohlídal et al. | Analysis of semiconductor surfaces with very thin native oxide layers by combined immersion and multiple angle of incidence ellipsometry | |
RU2787807C1 (ru) | Способ определения толщины пленки | |
Schneider et al. | Temperature dependence of the refractive index of strontium titanate and prism coupling to lithium niobate optical waveguides | |
Fray et al. | An absolute method of determining transmission and reflection coefficients | |
SU1024703A1 (ru) | Способ контрол толщины и показател преломлени диэлектрической пленки на диэлектрической подложке | |
Edgar et al. | Techniques for suppressing optical interference errors in infrared film thickness gauging | |
Spanier | Double film thickness measurements in the semiconductor industry | |
Miller et al. | The use of ellipsometry to study adsorption on hydrogels | |
JP2522480B2 (ja) | 屈折率測定方法 | |
Smartt | A Variable Transmittance Beam Splitter | |
Wang et al. | New correction method for FTIR online film-thickness measurement |