SU1127477A1 - Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли - Google Patents

Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли Download PDF

Info

Publication number
SU1127477A1
SU1127477A1 SU833616868A SU3616868A SU1127477A1 SU 1127477 A1 SU1127477 A1 SU 1127477A1 SU 833616868 A SU833616868 A SU 833616868A SU 3616868 A SU3616868 A SU 3616868A SU 1127477 A1 SU1127477 A1 SU 1127477A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
acid
gallium phosphide
chemical polishing
acetic acid
monocrystals
Prior art date
Application number
SU833616868A
Other languages
English (en)
Inventor
М.Л. Яссен
Б.Д. Луфт
Л.Б. Хусид
Г.В. Герасимова
Original Assignee
Ордена Трудового Красного Знамени Институт Радиотехники И Электроники Ан Ссср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ордена Трудового Красного Знамени Институт Радиотехники И Электроники Ан Ссср filed Critical Ордена Трудового Красного Знамени Институт Радиотехники И Электроники Ан Ссср
Priority to SU833616868A priority Critical patent/SU1127477A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1127477A1 publication Critical patent/SU1127477A1/ru

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Weting (AREA)

Abstract

ТР ИТЕЛЬ. ДЛЯ ЗШМИЧЕСКОГО nOJMPOBAIIH .1Ж)НОКРЙСТАЛЛОВ ФрСОТ(ДА: ГАЛЛИЯ, содержащий азотную и сол ную кислоту,-о т л,и ч а ю щ.и и с   тем, что, с.цельюполучени  при комнатной температуре зеркально-гладкой поверхности без окисных плёнок монокристаллов фосфида галли  различного типа проводимости и уровн  .легировани , он дополнительно содержит Tfccycную кислоту при сл.едующих соотношени х , компонентов, об.%; кислота 72%-на  46-55 Сол на  кисльта 36%-на  15-18 Уксусна  Кислота 98%-на  27-39

Description

t
Изобретение относитс  к технике химического полировани  полупроводг никовых материалов, в частности монокристаллов фосфида галли  различного типа проводимости и уровн  легировани  i
Известен травитель дл;в химического полировани  монокристаллов фосфида галли . Травитель состоит из раствора Brj в смес х метанола и воды.
Травитель такого состава высоко токсичен и не обеспечивает получение высокой гладкости поверхности, особенно легированных образцов монокристаллов GaP (ни Р-типов) .
Наиболее близким техническим решением  вл етс  травитель дл  химического полировани  монокристаллов фосфида галли , содержащий азотную и сол ную кислоту.
Однако этот травитель как при комнатной температуре (при малой скорости травлени ), так и при температуре SO-SO C (при больших скорост х травлени ) не обеспечивает требуемого дл  эпитаксиальной технологии качества поверхности (поверхность хот  и зеркальна , но на ней имеютс   мки травлени  и часто образуютс  окисные плейки).
Целью изобретени   вл етс  получение при крмнатной температуре зеркально-гладкой поверхности без окисных пленок монокристаллов фосфида галли  различного типа проводимости и уровн  легировани .
Поставленна  цель достигаетс  тем, что травитель дл  химического полировани  монокристаллов фосфида галли , содержащий азотную и сол ную кислоту , дополнительно содержит уксусную кислоту при следующих соотношени х компонентов, об.%:
Азотна  кислота 72%-на  46-55
Сол на  кислота 36%-на  15-18
Уксусна  кислота .98%-на  27-39
Отличительньп особенност ми данного состава травителей  вл ютс  наличие уксусной кислоты в полирующем растворе (введение в состав травител  концентрированной уксусной кислоты приводит к снижению скорости травлени  и стабилизации процесса полировани  фосфида галли  в растворах ,, .содержащих смеси концентрирован ных азотной и сол ной кислот, по всей веро тности, уксусна  кислота взаимодействует с активным хлором, образующимс  в смес х коЙ1ентрирован127477
ных НС1 и HNOg с образованием хлоруксусной кислоты,  вл ющейс  более сильной кислотой и лучшим комплексантом по отношению ко многим ионам металлов, .чем уксусна  кислота. Это способствует лучшему отводу продуктов реакции окислени  фосфида галди  в системе HNOj -НС1 - , а следовательно; и повышению полирующей спо-. собности предлагаемых составов травител€ьй (по сравнению с прототипом);
лучшее по сравнению с прототипой качество поверхности полированных пластин, особенно монокристаллических
пластин, изготовленных из высоколегированньк образцов Р - GaP;
получение гладкой зеркальной поверхности образцов монокристаллов галли  различного типа про0 водимости и уровн  легировани  без дефектов ( мок травлени , окисных пленок и др.) при работе с травителем при комнатной температуре.
При использовании составов травите5 лей вне указанных пределов концентрации исходных компонентов качество обрабатываемой поверхности монокристаллов Gap неудовлетворительное (см. примеры 4-5) . Примеры.
0 Травители приготавливают последовательным смещением НС1 о(осч. 36%), NHOj (осч. 70-72%) и лед ной уксусной кислоты (98%-ной) общеприн тым способом . Образцы - монокристаллические пластины GaP ориентащет {tOO) или
{lit}, толщиной 400-500 мкм, предварительно подвергают химико-механическому полированию и очистке от поверхностных загр знений по известной методике и подвергают химико-динаьмческому полированию в открытой фторопластовой кассете с бортиком высотой 3-4 мм. Затем кассету с образцом под слоем т равител  быстро промывают в проточной деионизованной воде не менее 5 мин и сушат на центрифуге. Пример 1. Состав травИтел , об.%
55 18 27
HNOj
НС1
CHjCOOH
Скорость травлени  при
0,6 мкм/мин. Глубина травлени  10 мкм. Нарушенный слой отсутствует, поверхность гладка , зеркальна , без окисеных пленок и других дефектов,
Пример 2 Состав травител , об.%:
50 16 34
HNOg
НС1 3 Скорость травлени  при 0,4 0,5 мкм/мин. Качество поверхности пр глубине травлени  10 мкм такое же, как в примере 1. Пример 3. Состав травител , об. % НС1 Скорость травлени  при 2,0с 0,30 ,4 мкм/мин. Качество поверхности пр глубине травлени  10-мкм такое же, как в примерах 1 и 2.Пример 4. Состав трабйтел , об.% HNO травлени  при Скорость 0,5 мкм/мин. При глубине травлени  10 мкм качество поверхности неудовлетворительное , поверхность матова  окислена. 77 Пример 5. Состав травител , об.%: Ш0„ НС1 CH.JCOOH CKopfocTb травлени  при 20 С 0,% мкм/мин. При глубине травлени  10 мкм поверхность зеркальна , отдельные  мки травлени , имеетс  окисна  пленка (на элёктронограммах от поверхности образцов виден сильный фон), Во всех примерах скорость травлени  воспроизводитс  с относительной погрешностью +10%. Таким образом, изобретение может широко использоватьс  в технологии изготовлени  эпитаксиальных структур на подножках из фосфида галли  различного типа проводимости, примен емого в технологии производства микроэлектронйых устройств (фотодидов , фотоэмиттёров с отрицательным электронным средством и др.).

Claims (1)

  1. ТРАВИТЕЛЬ ДЛЯ ХИМИЧЕСКОГО ПОЛИРОВАНИЯМОНОКРЙСТАЛЛОВ ФОСФИДА ГАЛЛИЯ, содержащий азотную и соляную кислоту, о т ли я а ю щи й с я тем, что, с целью получения при комнатной. температуре зеркально-гладкой поверхности без окисных плёнок моно кристаллов фосфида галлия различного типа проводимости и уровня .легирования, он дополнительно 'содержит уксусную кислоту при следующих соотношениях компонентов, об.2:
    • Азртная кислота 722-ная Соляная кислота 362-ная Уксусная кислота 982-ная
    46-55
    15-18
    27-39
SU833616868A 1983-07-08 1983-07-08 Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли SU1127477A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU833616868A SU1127477A1 (ru) 1983-07-08 1983-07-08 Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU833616868A SU1127477A1 (ru) 1983-07-08 1983-07-08 Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1127477A1 true SU1127477A1 (ru) 1986-10-15

Family

ID=21072634

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU833616868A SU1127477A1 (ru) 1983-07-08 1983-07-08 Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1127477A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Kern W. Chemical Etching of Silicon Germani B/ Callium Arsenide and GalliuiB Prospide. RCA Review, 1978 V. 39 p 300. фрсг Диё. Тра1вление срединен ; А В . Травление волупррвЪдаиксн). М.: 1965, с. 224, 228. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0133584B1 (en) Etchant composition
US3964942A (en) Chemical polishing of single crystal dielectrics
JPH0317372B2 (ru)
EP0989600A2 (en) Surface cleaning method for manufacturing II-VI compound semiconductor epitaxial wafers
US3738882A (en) Method for polishing semiconductor gallium arsenide planar surfaces
SU1127477A1 (ru) Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли
JPH10335304A (ja) 半導体ウエハエッチング方法
JPS62252140A (ja) InPウエ−ハの洗浄方法
JPH1167742A (ja) 半導体基板用エッチング液およびエッチング方法
JPS5839374B2 (ja) 半導体基板の処理方法
JP2006093453A (ja) アルカリエッチング液及びアルカリエッチング方法
US3947304A (en) Etching of group III-V semiconductors
US5913980A (en) Method for removing complex oxide film growth on silicon crystal
SU1660407A1 (ru) Травитель дл ниобата бари -стронци
RU2006981C1 (ru) Полирующий травитель для обработки кристаллов дифторида бария
SU816331A1 (ru) Полирующий травитель дл иодида ртути
JP3359434B2 (ja) エピタキシャルウェーハの製造方法
US3485731A (en) Process for electrolytically etching indium arsenide
JPH06101456B2 (ja) CdTeウェーハの鏡面研磨液ならびに鏡面研磨方法
JPH0697153A (ja) エッチング液及びそれを用いたエッチング方法
KR100370695B1 (ko) 실리콘웨이퍼세정액및이를사용하는실리콘웨이퍼의세정방법
JPS63127531A (ja) 半導体装置の製造方法
US4713145A (en) Method of etching etch-resistant materials
JPH06101457B2 (ja) GaAsウェーハの鏡面研磨液ならびに鏡面研磨方法
JPS62290137A (ja) InPウェーハの鏡面研磨液ならびに鏡面研磨方法