SU1127477A1 - Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли - Google Patents
Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли Download PDFInfo
- Publication number
- SU1127477A1 SU1127477A1 SU833616868A SU3616868A SU1127477A1 SU 1127477 A1 SU1127477 A1 SU 1127477A1 SU 833616868 A SU833616868 A SU 833616868A SU 3616868 A SU3616868 A SU 3616868A SU 1127477 A1 SU1127477 A1 SU 1127477A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- acid
- gallium phosphide
- chemical polishing
- acetic acid
- monocrystals
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
ТР ИТЕЛЬ. ДЛЯ ЗШМИЧЕСКОГО nOJMPOBAIIH .1Ж)НОКРЙСТАЛЛОВ ФрСОТ(ДА: ГАЛЛИЯ, содержащий азотную и сол ную кислоту,-о т л,и ч а ю щ.и и с тем, что, с.цельюполучени при комнатной температуре зеркально-гладкой поверхности без окисных плёнок монокристаллов фосфида галли различного типа проводимости и уровн .легировани , он дополнительно содержит Tfccycную кислоту при сл.едующих соотношени х , компонентов, об.%; кислота 72%-на 46-55 Сол на кисльта 36%-на 15-18 Уксусна Кислота 98%-на 27-39
Description
t
Изобретение относитс к технике химического полировани полупроводг никовых материалов, в частности монокристаллов фосфида галли различного типа проводимости и уровн легировани i
Известен травитель дл;в химического полировани монокристаллов фосфида галли . Травитель состоит из раствора Brj в смес х метанола и воды.
Травитель такого состава высоко токсичен и не обеспечивает получение высокой гладкости поверхности, особенно легированных образцов монокристаллов GaP (ни Р-типов) .
Наиболее близким техническим решением вл етс травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли , содержащий азотную и сол ную кислоту.
Однако этот травитель как при комнатной температуре (при малой скорости травлени ), так и при температуре SO-SO C (при больших скорост х травлени ) не обеспечивает требуемого дл эпитаксиальной технологии качества поверхности (поверхность хот и зеркальна , но на ней имеютс мки травлени и часто образуютс окисные плейки).
Целью изобретени вл етс получение при крмнатной температуре зеркально-гладкой поверхности без окисных пленок монокристаллов фосфида галли различного типа проводимости и уровн легировани .
Поставленна цель достигаетс тем, что травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли , содержащий азотную и сол ную кислоту , дополнительно содержит уксусную кислоту при следующих соотношени х компонентов, об.%:
Азотна кислота 72%-на 46-55
Сол на кислота 36%-на 15-18
Уксусна кислота .98%-на 27-39
Отличительньп особенност ми данного состава травителей вл ютс наличие уксусной кислоты в полирующем растворе (введение в состав травител концентрированной уксусной кислоты приводит к снижению скорости травлени и стабилизации процесса полировани фосфида галли в растворах ,, .содержащих смеси концентрирован ных азотной и сол ной кислот, по всей веро тности, уксусна кислота взаимодействует с активным хлором, образующимс в смес х коЙ1ентрирован127477
ных НС1 и HNOg с образованием хлоруксусной кислоты, вл ющейс более сильной кислотой и лучшим комплексантом по отношению ко многим ионам металлов, .чем уксусна кислота. Это способствует лучшему отводу продуктов реакции окислени фосфида галди в системе HNOj -НС1 - , а следовательно; и повышению полирующей спо-. собности предлагаемых составов травител€ьй (по сравнению с прототипом);
лучшее по сравнению с прототипой качество поверхности полированных пластин, особенно монокристаллических
пластин, изготовленных из высоколегированньк образцов Р - GaP;
получение гладкой зеркальной поверхности образцов монокристаллов галли различного типа про0 водимости и уровн легировани без дефектов ( мок травлени , окисных пленок и др.) при работе с травителем при комнатной температуре.
При использовании составов травите5 лей вне указанных пределов концентрации исходных компонентов качество обрабатываемой поверхности монокристаллов Gap неудовлетворительное (см. примеры 4-5) . Примеры.
0 Травители приготавливают последовательным смещением НС1 о(осч. 36%), NHOj (осч. 70-72%) и лед ной уксусной кислоты (98%-ной) общеприн тым способом . Образцы - монокристаллические пластины GaP ориентащет {tOO) или
{lit}, толщиной 400-500 мкм, предварительно подвергают химико-механическому полированию и очистке от поверхностных загр знений по известной методике и подвергают химико-динаьмческому полированию в открытой фторопластовой кассете с бортиком высотой 3-4 мм. Затем кассету с образцом под слоем т равител быстро промывают в проточной деионизованной воде не менее 5 мин и сушат на центрифуге. Пример 1. Состав травИтел , об.%
55 18 27
HNOj
НС1
CHjCOOH
Скорость травлени при
0,6 мкм/мин. Глубина травлени 10 мкм. Нарушенный слой отсутствует, поверхность гладка , зеркальна , без окисеных пленок и других дефектов,
Пример 2 Состав травител , об.%:
50 16 34
HNOg
НС1 3 Скорость травлени при 0,4 0,5 мкм/мин. Качество поверхности пр глубине травлени 10 мкм такое же, как в примере 1. Пример 3. Состав травител , об. % НС1 Скорость травлени при 2,0с 0,30 ,4 мкм/мин. Качество поверхности пр глубине травлени 10-мкм такое же, как в примерах 1 и 2.Пример 4. Состав трабйтел , об.% HNO травлени при Скорость 0,5 мкм/мин. При глубине травлени 10 мкм качество поверхности неудовлетворительное , поверхность матова окислена. 77 Пример 5. Состав травител , об.%: Ш0„ НС1 CH.JCOOH CKopfocTb травлени при 20 С 0,% мкм/мин. При глубине травлени 10 мкм поверхность зеркальна , отдельные мки травлени , имеетс окисна пленка (на элёктронограммах от поверхности образцов виден сильный фон), Во всех примерах скорость травлени воспроизводитс с относительной погрешностью +10%. Таким образом, изобретение может широко использоватьс в технологии изготовлени эпитаксиальных структур на подножках из фосфида галли различного типа проводимости, примен емого в технологии производства микроэлектронйых устройств (фотодидов , фотоэмиттёров с отрицательным электронным средством и др.).
Claims (1)
- ТРАВИТЕЛЬ ДЛЯ ХИМИЧЕСКОГО ПОЛИРОВАНИЯМОНОКРЙСТАЛЛОВ ФОСФИДА ГАЛЛИЯ, содержащий азотную и соляную кислоту, о т ли я а ю щи й с я тем, что, с целью получения при комнатной. температуре зеркально-гладкой поверхности без окисных плёнок моно кристаллов фосфида галлия различного типа проводимости и уровня .легирования, он дополнительно 'содержит уксусную кислоту при следующих соотношениях компонентов, об.2:• Азртная кислота 722-ная Соляная кислота 362-ная Уксусная кислота 982-ная46-5515-1827-39
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU833616868A SU1127477A1 (ru) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU833616868A SU1127477A1 (ru) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1127477A1 true SU1127477A1 (ru) | 1986-10-15 |
Family
ID=21072634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU833616868A SU1127477A1 (ru) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1127477A1 (ru) |
-
1983
- 1983-07-08 SU SU833616868A patent/SU1127477A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Kern W. Chemical Etching of Silicon Germani B/ Callium Arsenide and GalliuiB Prospide. RCA Review, 1978 V. 39 p 300. фрсг Диё. Тра1вление срединен ; А В . Травление волупррвЪдаиксн). М.: 1965, с. 224, 228. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0133584B1 (en) | Etchant composition | |
US3964942A (en) | Chemical polishing of single crystal dielectrics | |
JPH0317372B2 (ru) | ||
EP0989600A2 (en) | Surface cleaning method for manufacturing II-VI compound semiconductor epitaxial wafers | |
US3738882A (en) | Method for polishing semiconductor gallium arsenide planar surfaces | |
SU1127477A1 (ru) | Травитель дл химического полировани монокристаллов фосфида галли | |
JPH10335304A (ja) | 半導体ウエハエッチング方法 | |
JPS62252140A (ja) | InPウエ−ハの洗浄方法 | |
JPH1167742A (ja) | 半導体基板用エッチング液およびエッチング方法 | |
JPS5839374B2 (ja) | 半導体基板の処理方法 | |
JP2006093453A (ja) | アルカリエッチング液及びアルカリエッチング方法 | |
US3947304A (en) | Etching of group III-V semiconductors | |
US5913980A (en) | Method for removing complex oxide film growth on silicon crystal | |
SU1660407A1 (ru) | Травитель дл ниобата бари -стронци | |
RU2006981C1 (ru) | Полирующий травитель для обработки кристаллов дифторида бария | |
SU816331A1 (ru) | Полирующий травитель дл иодида ртути | |
JP3359434B2 (ja) | エピタキシャルウェーハの製造方法 | |
US3485731A (en) | Process for electrolytically etching indium arsenide | |
JPH06101456B2 (ja) | CdTeウェーハの鏡面研磨液ならびに鏡面研磨方法 | |
JPH0697153A (ja) | エッチング液及びそれを用いたエッチング方法 | |
KR100370695B1 (ko) | 실리콘웨이퍼세정액및이를사용하는실리콘웨이퍼의세정방법 | |
JPS63127531A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US4713145A (en) | Method of etching etch-resistant materials | |
JPH06101457B2 (ja) | GaAsウェーハの鏡面研磨液ならびに鏡面研磨方法 | |
JPS62290137A (ja) | InPウェーハの鏡面研磨液ならびに鏡面研磨方法 |