SU1110824A1 - Способ нанесени гальванических покрытий - Google Patents

Abstract

1. СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ с применением экранов, отличающийс  тем, что, с целью обеспечени  равномерности покрыти  и упрощени  процесса, изделие располагают внутри электропроводного замкнутого перфорированного экрана, выполненного из непокрьшающегос  материала. 2. Способ по п. 1, отлича ю щ и и с   тем, что экран выполнен , например из титана. (Л с 00 k)

Description

I

Изобретение относитс  к гальваностегии и может быть использовано в машиностроении, приборостроении дл  получени  равномерного покрыти  на поверхност х деталей, преимущественно сложной формы, при нанесении гальванических покрытий.

Известны способы гальванической обработки деталей сложной формы, содержащих, например, глубокие полости и выемки, сквозные или глухие отверсти  и т.п., заключающиес  в выполнении анода фигурным либ повтор ющим, форму отверсти  или впадины, либо имеющим специальную форму С 1D.

Однако анодыj как правило, выполн ютс  растворимыми и при нанесении гальванопокрытий быстро измен ют свою форму. Кроме того, выполнение анодов специальной формы представл ет собой достаточно сложную трудоемкую работу, эффект от которой особенно низок при мелкосерийном производстве с большой номенклатурой деталей.

Известны также способы гальванической обработки деталей с помощь различных экранов, выполненных, как правило, из непровод щего материала Дл  дополнительного выравнивани  толщины покрыти  используют непровод щие экраны с отверстви ми различного диаметрга |27.

Использование экранов из непровод щих материалов технологически .более эффективно, однако расчет формы экранов и их располЪжени  относительно детали представл ют собо технически сложную задачу, что затрудн ет их применение в мелкосерийном многономенклатурном производстве .

Целью изобретени   вл етс  обеспечение равномерности покрыти  и упрощение процесса.

Поставленна  цель достигаетс  . тем, что согласно способу нанесени  гальванических покрытий с применением экранов изделие располагают внутри электропроводного замкнутого перфорированного экрана, выполненного из непокрывающегос  материала .

Экран выполнен, например, из титана .

Таким образом достигаетс  выравнивание плотности тока на обрабаты108242

ваемой детали, так как экран  вл етс  эквипотенциальной поверхностью.,

На чертеже изображено устройство дл  реализации предлагаемого способа. В ванне 1 с электролитом установлены аноды 2, изделие 3, помещено в разъемный замкнутый экран 4, выполненный из непокрывающегос  материала , например титана. В зкране выJQ полнены отверсти . Источник питани 

5подключен к анодам 2 и через штангу

6к изделию 3. Б ванне 1 расположены упоры 7 дл  установки экрана 4. Изделие 3 завешивают в. центральной части экрана 4 без касани  со стенками .

Способ осуществл ют следующим образом.

При подключении анодов 2 к положительному зажиму источника питани  5, а детали 3 к его отрицательному зажиму в ванне 1 протекает ток. При этом разъемный экран 4  вл етс  эквипотенциальной поверхностью,

-- внутри которой распределение силовых . ЛИНИЙ пол  близко к равномерному. Эта равномерность будет тем выше, чем точнее форма разъемного экрана 4 повтор ет форму детали 3. Например , дл  круглых деталей наиболее целесорбразно выполнение разъемного экрана 4 в виде пустотелого шара с отверстви ми небольшого диаметра, обеспечивающими достаточно хорошую циркул цию электролита с нонами

5 анодного металла внутри экрана 4.

. Заключение обрабатываемой детали в провод пщй замкнутый разъемный экран с отверсти ми из непокрывающегос  материала, например из тита на, обеспечивает более равномерное распределение плотности тока на поверхности обрабатываемой детали. Происходит это потому, что независимо от положени  детали относитепь но анодов поле внутри разъемного экрана определ етс  только рассто нием от стенок экрана до детали. Которое существенно меньше, чем рассто ние от анодов до детали. Разность же плотностей тока в основном возникает из-за различной длины силовых линий пол  от анода до детали (различного сопротивлени  электролита на этих пут х). Кроме

5 того, деталь получаетс  окруженной анодами со всех сторон, причем эти аноды (разъемный экран))имеют одинаковый потенциал, что при J

сравнительно небольшом рассто нии от стенок экрана до детали обеспечивает близкие значени  плотности тока на всей поверхности обрабатываемой детали. При этом любые неравномерности в распределении плотности тока в объеме ванны, вызванные неодинаковостью площадей анодов ,.различным сопротивлением.подвод щих проводов, различными рассто ни ми от каждого из анодов до детали и т.п. автоматически устран ютс , поскольку поле внутри разъемного экрана определ етс  только его формой и взаимным расположением детали внутри него.

П р и м э р. Дл  проверки преимуществ способа проводилась проверка качества покрыти  зубчатого колеса и изготовлени  по этому колесу (по мастер-модели) матрицы методом гальванопластики.

Основной брак при нанесении покрыти  (хром, не менее 6-8 мкм) на указанное зубчатое колесо по способу-прототипу (с применением непровод щих экранов) - неравномерное покрытие зубьев колеса. В углублени х между зубь ми толщина покрыти  .обычно 2-3 мкм.

При помещении указанной детали в экран цилиндрической формы, завеске детали вертикально (плоскость колеса горизонтальна) внутри экрана в его центре и обработке ее в течение заданного времени минимальна 

толщина покрыти  мсжду зубь ми колеса 4-5 мкм, т.е. неравномерность покрыти  существенно уменьшилась.

При изготовлении матрицы по мастер-модели указанного зубчатого колеса по способу-прототипу основной брак возникал из-за недопокрыти  впадин между зубь ми. Покрытие (Vi - Со) наращивалось таким образом , что осажденный металл на концах зубьев (в местах максимальной плотности тока) смыкалс , перекрыва  впадину между зубь ми.

При наращивании покрыти  предлагаемым способом на 22 образцах пе было ни одного случа  браковки матрицы по указанной причине. Слой металла наращивалс  достаточно равномерный с хорошими физико-техническими характеристиками.

Таким образом, предлагаемый способ позвол ет повысить равномерность распределени  плотности тока на детали и добитьс  более равномерной толщины покрыти . Очевидно также, что повьщ1аютс  эксплуатационные характеристики, поскольку станов тс  несущественными соотнощени  площадей анодов, необходимость завески деталей строго в середине между анодами, не нужно в больщинстве случаев изготавливать аноды специальной формы или рассчитывать, изготовл ть и устанавливать непровод щие экраны и т.п. Все это облегчает и упрощает процесс нанесени  гальванопокрытий.

Claims (2)

1. СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ с применением экранов, отличающийся тем, что, с целью обеспечения равномерности покрытия и упрощения· процесса, изделие располагают внутри электропроводного замкнутого перфорированного экрана, выполненного из непокрывающегося материала.

2. Способ поп. 1, отличающийся тем, что экран выполнен, например^ из титана.

, SU ... 1110824 >

1 1110824 2