NL1007855C2 - Galvaniseerinrichting voor een stempelplaat voor het vervaardigen van een informatiedrager. - Google Patents
Galvaniseerinrichting voor een stempelplaat voor het vervaardigen van een informatiedrager. Download PDFInfo
- Publication number
- NL1007855C2 NL1007855C2 NL1007855A NL1007855A NL1007855C2 NL 1007855 C2 NL1007855 C2 NL 1007855C2 NL 1007855 A NL1007855 A NL 1007855A NL 1007855 A NL1007855 A NL 1007855A NL 1007855 C2 NL1007855 C2 NL 1007855C2
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- screen
- anode
- cathode
- electrolyte
- tray
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/10—Moulds; Masks; Masterforms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
Korte aanduiding: Galvaniseerinrichting voor een stempelplaat voor het vervaardigen van een informatiedrager.
De uitvinding heeft betrekking op een galvaniseerinrich-5 ting, voor het aanbrengen van een laag metaal op een schijfvormig substraat voor het vormen van een stempelplaat voor het vervaardigen van een informatiedrager zoals een CD ("Compact Disk"), omvattende een bak voor het opnemen van een elektrolyt, een in de bak geplaatste anode in de vorm van een houder voor oplosbaar anodemateriaal voor het vormen van de 10 metaal laag en een tegenover de anode, in de bak opgestelde kathode voor het dragen van het substraat.
Stempelplaten voor het vervaardigen van schijfvormige informatiedragers, in de Engelstalige vakliteratuur aangeduid als "stampers" of "stamper plates", bestaan in het algemeen uit een 15 schijfvormig substraat van glas of een ander stijf elektrisch isolerend materiaal. Voor het vervaardigen van dergelijke stempelplaten wordt op een oppervlak van het substraat een fotogevoelige laag aangebracht. Deze fotogevoelige laag wordt vervolgens bestraald volgens een optisch patroon dat correspondeert met te registreren data. De fotogevoel ige laag wordt 20 hierna ontwikkeld, hetgeen bijvoorbeeld in het geval van een CD of een andere optisch af te tasten informatiedrager resulteert in een patroon van putjes verspreid over het oppervlak van het substraat. Het op deze wijze gevormde oppervlak wordt in een galvaniseerinrichting van een laag metaal zoals nikkel voorzien. De aldus gevormde stempelplaat, die een 25 negatieve afbeelding van een registratie bevat, wordt vervolgens in een matrijs gespannen voor het in een kunststof materiaal vormen van een positieve afbeelding van de registratie, hetgeen resulteert in de uiteindelijke CD of andere schijfvormige informatiedrager.
Galvaniseerinrichtingen (in de Engelstalige vakli-30 teratuur aangeduid als "electroplating devices") voor het vormen van stempelplaten zijn op zichzelf in de praktijk bekend. Een galvaniseerin-richting van het in de aanhef omschreven type is bijvoorbeeld bekend uit het Europese octrooi EP-B2-0.020.008.
De kwaliteit van de stempelplaat wordt in hoge mate 35 bepaald door de homogeniteit en zuiverheid van de metaal laag. Om het insluiten van verontreinigingen in de metaallaag tijdens het galvaniseer- 1007855 2 proces zoveel mogelijk te voorkomen, is het noodzakelijk om verwerkt elektrolyt tussen de anode en de kathode af te voeren en constant te verversen.
Voor het, op het oppervlak van het substraat aanbrengen 5 van een metaal laag van uniforme dikte is voorts een homogeen elektrisch veld tussen de anode en de kathode vereist.
De middelen voor het verversen van elektrolyt worden in de praktijk bij voorkeur zo dicht mogelijk bij de kathode opgesteld, in het algemeen nabij de omtrek van het substraat. Deze middelen kunnen 10 variëren van een ringvormige toevoerbuis zoals bekend uit EP-B2-0.020.008 of een pijp, mondstuk of ander toevoermiddel voor elektrolyt.
Op deze wijze opgestelde toevoermiddelen veroorzaken echter een ongewenste verstoring van het elektrische veld tussen de anode en de kathode waardoor, in het bijzonder aan de omtrek van een substraat, 15 de dikte van de opgebrachte metaallaag verschilt van de dikte van de laag in het midden van het substraat.
Dit vormt in het bijzonder een probleem bij het vervaardigen van stempelplaten voor registratiedragers van kleinere afmetingen met hoge data-opslagdichtheden, waarnaar in de praktijk wordt 20 gestreefd.
Aan de uitvinding ligt daarom in eerste instantie de opgave ten grondslag een verbeterde galvaniseerinrichting van het, in de aanhef genoemde type te verschaffen, waarmee een zo uniform mogelijke laagdikte kan worden verkregen, in het bijzonder voor stempelplaten van 25 (toekomstige) informatiedragers van relatief kleine diameter.
Volgens de'uitvinding wordt dit in eerste instantie daardoor bereikt, dat tussen de anode en de kathode een scherm van elektrisch geleidend materiaal is opgesteld, van welk scherm het tegenover de kathode gelegen deel een apertuur heeft voor het doorlaten van opgelost 30 anodemateri aal.
Aan de uitvinding ligt het inzicht ten grondslag, dat het elektrisch geleidende scherm een equipotentiaalvlak tussen de anode en de kathode vormt zodanig, dat een homogeen elektrisch veld tussen het scherm en de kathode wordt verkregen.
35 Voor het verversen van elektrolyt in het gedeelte van het galvanisch bad vóór de kathode zijn in een verdere uitvoeringsvorm 1007855 3 van de uitvinding in de bak aan de, van de kathode afgekeerde zijde van het scherm toevoermiddelen voor het verversen van elektrolyt opgesteld.
Doordat in deze uitvoeringsvorm van de uitvinding de toevoermiddelen voor de elektrolyt, vanaf de kathode gezien, achter het 5 elektrisch geleidende scherm c.q. het hierdoor gevormde equipotentiaalvlak zijn gelegen, treedt er in het gebied tussen het scherm en de kathode geen of een verwaarloosbare verstoring van het elektrische veld op.
Doordat zich tussen de kathode en het elektrische veld geen toevoermiddelen bevinden, kan de kathode dicht bij het scherm c.q. 10 kan het scherm dicht bij de kathode worden opgesteld, hetgeen de sterkte en de verdeling van de elektrische stroom op de kathode ten goede komt. In het algemeen geldt, dat hoe dichter het scherm bij de kathode ligt, hoe meer stroom er door de elektrolyt kan vloeien, waardoor kortere bewerkingstijden kunnen worden bereikt.
15 Doordat verder de toevoer van vers elektrolyt, gezien vanaf de kathode, vanaf de achterzijde van het scherm plaatsvindt, zullen in het gebied tussen het scherm en de kathode minder wervelingen en golvingen in de elektrolytstroming optreden, hetgeen bijdraagt aan het aanbrengen van een metaallaag van uniforme dikte.
20 In een nog weer verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding is tevens voorzien dat de bak door het scherm in een eerste en tweede compartiment wordt verdeeld, zodanig dat de anode in het eerste en de kathode in het tweede compartiment is gelegen, waarbij de toevoermiddelen voor vers elektrolyt en afvoermiddelen voor verwerkt 25 elektrolyt met het eerste compartiment in verbinding staan, voor het via de apertuur van het scherm geschikt toe- en afvoeren van elektrolyt van het tweede compartiment.
Met deze uitvoeringsvorm wordt een elektrolytstroming in de richting van het elektrische veld vanaf het scherm naar de kathode 30 bewerkstelligd. Het risico van opsluiting van verontreinigingen in de metaallaag wordt hierdoor effectief gereduceerd met een verwaarloosbare verstoring van de homogeniteit van het elektrische veld en de uniformiteit van de dikte van de aangebrachte metaallaag.
Het scherm wordt bij voorkeur elektrisch geïsoleerd, 35 dat wil zeggen elektrisch zwevend, in de bak opgesteld opdat zich een oquipotentiaal vl ak van willekeurig potentiaal kan instellen. Hot is echter 1007855 4 ook mogelijk om het scherm op een spanningsbron aan te sluiten voor het instellen van een gewenst schermpotentiaal.
In een voorkeursuitvoeringsvorm van de uitvinding vormt het scherm een wand van de anodehouder. De anodehouder kan zodanig worden 5 geconstrueerd dat het scherm elektrisch zwevend dan wel op anodepotentiaal of elk gewenst ander potentiaal ligt.
In de galvaniseerinrichting volgens de uitvinding mag het oppervlak van de apertuur van het scherm in hoofdzaak ongeveer gelijk zijn aan het oppervlak van de stempelplaat. Dit mede daardoor, omdat het 10 scherm en de stempelplaat c.q. de kathode waarop de stempelplaat wordt gevormd, relatief dicht tegenover elkaar kunnen worden opgesteld. Hiermee kunnen stempelplaten voor informatiedragers van geringe afmetingen met voldoende nauwkeurigheid worden gegalvaniseerd. Dat wil zeggen informatiedragers met hoge dichtheid en een diameter die aanzienlijk kleiner kan 15 zijn dan de huidige afmetingen van bijvoorbeeld CD’s.
Voor het vervaardigen van stempelplaten voor informatiedragers met een straal van 120 mm kan met de verbeterde galvaniseerinrichting volgens de uitvinding zonder bezwaar uitgegaan worden van substraten met een radius van 138 mm, waarnaar momentaan wordt 20 gestreefd.
De apertuur van het scherm is bij voorkeur maas- of roostervormig, waarbij de maaswijdte kan worden gekozen voor het desgewenst verschaffen van een fi1terwerking tegen verontreinigingen in de elektrolytstroming. Voor dit doel kan ook een geschikt filter in of voor 25 de apertuur van het scherm worden geplaatst. Bij voorkeur aan de, naar de anode gekeerde zijde.
Het scherm volgens de uitvinding kan van een inert elektrisch geleidend materiaal zoals titaan worden gevormd en als geheel in een plaat van elektrisch isolerend materiaal zijn geplaatst, zoals 30 bijvoorbeeld een plaat van polypropeen.
De uitvinding heeft tevens betrekking op een stempelplaat voor het vervaardigen van een informatiedrager zoals een CD ("Compact Disk"), welke stempelplaat aan ten minste één oppervlak van een laag metaal met een nagenoeg homogene dikte is voorzien onder toepassing 35 van een galvaniseerinrichting volgens de uitvinding.
1007855 5
De uitvinding heeft voorts betrekking op informatiedragers, zoals een CD, vervaardigd met een stempelplaat overeenkomstig de uitvinding.
Voor een goed begrip van de uitvinding wordt deze in 5 het navolgende aan de hand van voorbeelduitvoeringsvormen onder verwijzing naar de bijgesloten tekeningen nader verklaard.
Fig. 1 toont schematisch, gedeeltelijk in doorsnede en aanzicht, een eerste voorbeelduitvoeringsvorm van een galvaniseerinrich-ting volgens de uitvinding.
10 Fig. 2 toont schematisch, gedeeltelijk in doorsnede en aanzicht, een voorkeursuitvoeringsvorm van een galvaniseerinrichting volgens de uitvinding.
Fig. 3 toont schematisch een detail van een weer verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding.
15 Fig. 1 toont een galvaniseerinrichting volgens de uitvinding, voorzien van een bak 1 van bijvoorbeeld kunststof zoals polypropyleen voor het opnemen van een elektrolyt 2.
In de bak 1 is een anode 3 in de vorm van een houder zoals een korf of zak opgesteld. In de anode 3 bevindt zich oplosbaar 20 anodemateriaal 5, zoals nikkel, bij voorkeur in de vorm van kogeltjes. De anode 3 bezit aan de bovenzijde een vulstuk 4 voor het bijvullen van anodemateriaal 5. De anode is tevens verbonden met een aansluitklem 6 voor het verbinden hiervan met de positieve pool van een gelijkspannings-voedingsbron (niet getoond).
25 De anode 3 is bij voorkeur van titaan met een open structuur voor het tijdens het galvaniseren doorlaten van opgelost anodemateriaal 5.
Evenwijdig aan en op afstand van de anode 3 is een plaatvormige kathode 7 in de bak 1 opgesteld. De kathode 7 is via een 30 elektrisch geleidende as 8 met een elektrische aansluitklem 9 verbonden, voor het aansluiten van de negatieve pool van de gelijkspanningsvoedings-bron (niet getoond).
Via niet nader aangegeven middelen is de kathode 7 draaibaar en bij voorkeur in axiale en laterale richting verplaatsbaar 35 in de bak 1 opgesteld, zoals respectievelijk aangeduid met pijlen 10, 11, 1?. Voor dit doel geschikte middelen zijn bij een vakman bekend.
1007855 6
Voor het beschrijven van de uitvinding wordt verondersteld dat de kathode 7 een schijfvormig substraat 13 ondersteunt, dat aan zijn rand door klemmiddelen 14 stevig en vlak op de kathode 7 is ingespannen. De middelen 14 kunnen desgewenst voor het onder vacuüm tegen 5 de anode 7 houden van het substraat 13 zijn ingericht.
De anode 3 en de kathode 7 zijn, zoals getoond, bij voorkeur onder een hoek van circa 45° - 60° met de bodem van de bak 1 hierin opgesteld. Dit is echter geen vereiste.
Voor het afvoeren van verwerkt elektrolyt is de bak 10 1 van afvoer- of uitlaatmiddelen 15 voorzien, die kunnen aansluiten op fi 1 termiddelen voor het filtreren van verontreinigd elektrolyt. Desgewenst voor het vervolgens weer via toevoer- of inlaatmiddelen 16 aan de bak 1 toevoeren van vers respectievelijk gereinigd elektrolyt.
Overeenkomstig de uitvinding is tussen de anode 3 en 15 de kathode 7 een scherm 17 van een inert elektrisch geleidend materiaal opgesteld, zoals titaan, met een apertuur 18 die zich in hoofdzaak tot aan de omtrek van de kathode 7 uitstrekt.
Het scherm 17 is bij voorkeur elektrisch geïsoleerd ten opzichte van de kathode 7 en de anode 3 in de bak opgesteld, maar kan 20 desgewenst ook van een aansluitklem 32 voor het aanleggen van een gewenst elektrisch potentiaal zijn voorzien. Geschikte middelen voor het in de bak 1 opstellen van het scherm 17 zijn voor een deskundige op zichzelf bekend.
De apertuur 18 van het scherm 17 heeft bij voorkeur 25 een maas- of roostervormige structuur, met een zodanige maaswijdte dat ionen van opgelost anodemateriaal 5 de apertuur 18 ongehinderd kunnen passeren. De afmetingen kunnen worden gekozen voor het tegenhouden van verontreinigingsdeeltjes die bij het oplossen van anodemateriaal 5 vrijkomen. Voor dit doel kan in of voor de apertuur 18 ook een geschikt 30 fijnmazig filter worden opgesteld, bij voorkeur aan de tegenover de anode 3 gelegen zijde van het scherm 17 (niet getoond).
Zoals uit de figuur duidelijk is te zien, zijn de toevoermiddelen 16 voor het toevoeren van schoon c.q. gereinigd elektrolyt in het gebied 19 tussen het scherm 17 en de anode 3 opgesteld. In de 35 praktijk zullen de toevoermiddelen 16 via een regelklep op een reservoir voor elektrolyt zijn aangesloten (niet getoond).
1007855 7
In bedrijf, dat wil zeggen wanneer een elektrische spanning op de aansluitklemmen 6 en 9 is aangesloten, zal een elektrische stroom vanaf de anode 3 naar de kathode 7 vloeien. Deze stroom voert ionen van opgelost anodemateriaal 5 met zich mee, welke ionen op het substraat 5 13 neerslaan, zodat zich hierop een metaal laag 23 vormt.
Het scherm 17 volgens de uitvinding vormt een equipo-tentiaalvlak tussen de anode 3 en de kathode 7, zodanig dat zich een elektrisch veld loodrecht op de kathode 7 c.q. het scherm 17 in het gebied 20 tussen het scherm 17 en de kathode 7 vormt. Een en ander zoals 10 aangegeven met pijlen 21. Omdat het scherm 17 op een relatief korte afstand van de kathode 7 c.q. het substraat 13 kan worden geplaatst, zal er een zeer homogeen elektrisch veld 21 in de ruimte 20 ontstaan. Hierdoor zal over het gehele oppervlak van het substraat 13 een constante elektrische stroom vloeien met als gevolg een uniforme neerslag van metaalionen op 15 het substraat 13, resulterend in een metaallaag 23 van uniforme dikte. Hierbij geldt in het algemeen dat hoe dichter het scherm 17 bij de kathode 7 kan worden geplaatst, hoe hoger de elektrische stroom door de elektrolyt is, waardoor kortere cyclus- of bewerkingstijden kunnen worden bereikt.
Doordat de toevoermiddelen 16 voor elektrolyt, gezien 20 vanaf de kathode 7, in de ruimte 19 achter het scherm 17 zijn geplaatst, ontstaat er een elektrolytstroming 22 door de apertuur 18 naar het gebied 20. Wervelingen in de elektrolytstroming nabij de uitlaatopening 24 van de toevoermiddelen 16 zullen voornamelijk in het gebied 19 optreden, zodat in het gebied 20 een gelijkmatige, stabiele elektrolytstroming ontstaat. 25 Dit draagt eveneens bij aan het vormen van een metaallaag 23 van uniforme dikte.
Fig. 2 toont een voorkeursuitvoeringsvorm van de galvaniseerinrichting volgens de uitvinding, waarbij dezelfde delen van dezelfde verwijzingscijfers zijn voorzien.
30 Afwijkend van de in fig. 1 getoonde uitvoeringsvorm, is het scherm 17 van elektrisch geleidend materiaal opgenomen in een plaat 30 van elektrisch isolerend materiaal zoals polypropeen. Deze plaat 30 strekt zich zodanig in de bak 1 uit, dat de einden 29 hiervan aansluiten op de bovenzijde en de onderzijde van de bak 1, voor het vormen van twee 35 in principe afzonderl ijke compartimenten. Te weten een eerste compartiment 25 en een tweede compartiment 26 waarin zich de kathode 7 bevindt. Zoals
100785S
8 in het voorgaande opgemerkt, kan het scherm 17 ook in deze uitvoeringsvorm van een aansluitklem voor het aanleggen van een geschikte elektrische spanning zijn voorzien (niet getoond), of bijvoorbeeld met de aansluitklem 6 zijn verbonden.
5 De apertuur 18 is bij voorkeur maas- of roostervormig.
Het scherm 17 en de apertuur 18 strekken zich daarbij dan in hoofdzaak evenwijdig aan en tegenover de kathode 7 uit.
In deze uitvoeringsvorm van de galvaniseerinrichting volgens de uitvinding bestaat de anode uit een plaat 28 van elektrisch 10 geleidend materiaal die in een anodezak 27 is aangebracht en elektrisch contact maakt met anodemateriaal 5 in de anodezak 27. De anodezak 27 is van een materiaal dat doorlatend is voor opgelost anodemateriaal 5, dat wil zeggen ionen van het anodemateriaal 5. De anodeplaat 28 bezit een elektrische aansluitklem 6 voor het aansluiten van de positieve pool van 15 een voedingsbron (niet getoond). De anodezak 27 sluit aan op het trechtervormige vulstuk 4 voor het desgewenst continu bijvullen van anodemateriaal 5. De anodeplaat 28 en de anodezak 27 bevinden zich in het eerste compartiment 25 van de bak 1.
Het eerste compartiment 25 is tevens voorzien van 20 toevoermiddelen 15 voor vers elektrolyt en afvoermiddelen 31 voor het afvoeren van afgewerkt elektrolyt. Evenals in de uitvoeringsvorm volgens fig. 1, is de uitlaatopening 24 van de toevoermiddelen 16, gezien van de kathode 7, aan de achterzijde van het scherm 17 gelegen.
Voor wat betreft het neerslaan van een metaal laag 23 25 op het substraat 13 voor het vormen van een stempelplaat, werkt deze uitvoeringsvorm op dezelfde wijze als de uitvoeringsvorm volgens fig. 1. De afvoer van afgewerkt elektrolyt vindt nu echter in hoofdzaak plaats via de apertuur 18 van het elektrisch geleidende scherm 17. Hiertoe wordt via de toevoermiddelen 15 en de afvoermiddelen 31 een geschikte elektrolyt-30 stroming 22 in het eerste compartiment 25 in stand gehouden middels geschikte regel apparatuur welke aansluit op een reservoir van elektrolyt (niet getoond). Hiermee wordt bereikt dat de elektrolytstroming 22 in het gebied 20 tussen het elektrisch geleidende scherm 17 en de kathode 7 nagenoeg evenwijdig aan het elektrische veld 21 plaatsvindt, waardoor een 35 zoveel mogelijk uniforme neerslag van metaal op het substraat 13 wordt 1007855 9 bereikt. De uitlaatopening 24 van de toevoermiddelen 16 kan op elke geschikte positie ten opzichte van de apparatuur 18 worden geplaatst.
Het elektrisch geleidende scherm 17 en de anodeplaat 28 samen met de anodezak 27 kunnen als één geïntegreerde eenheid worden 5 uitgevoerd, die losneembaar in de bak 1 kan worden geplaatst.
Voor het galvaniseren van substraten 13 van verschillende afmetingen kan naar keuze het elektrische geleidende scherm 17, het boven beschreven samenstel van de elektrisch isolerende plaat 30 en het elektrisch geleidend scherm 17 of het elektrisch geleidend scherm en anode 10 worden vervangen door een verwisselbare, losneembare eenheid waarbij de apertuur 18 van het elektrisch geleidende scherm 17 optimaal op de afmetingen van het substraat 13 is afgestemd, voor het bewerkstelligen van een metaallaag 23 van uniforme dikte.
Fig. 3 toont schematisch, een detail van de galvaniseer-15 inrichting volgens een weer verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding met een desgewenst verwisselbare, losneembare eenheid 33 bestaande uit een kunststof anodehouder 34 van bijvoorbeeld polypropeen met daarin opgesteld een anodeplaat 28 en een elektrisch geleidend scherm 17 met apertuur 18. Het scherm 17 vormt een wand van de anodehouder 34 die zich in gemonteerde 20 toestand van de eenheid 33 tegenover de kathode 7 bevindt. Zowel de anodeplaat 28 als het scherm 17 kunnen van titaan zijn gevormd. De anodehouder 34 is voorts voorzien van een inlaat 16 voor toevoer van vers resp. gereinigd elektrolyt.
De inrichting volgens de uitvinding is zonder probleem 25 toepasbaar voor het galvaniseren van cirkelvormige substraatschijven 13 voor het vervaardigen van een Informatiedrager met standaardafmetingen, zoals een CD, CD-ROM e.d. Met de galvaniseerinrichting volgens de uitvinding kunnen met voordeel ook kleinere substraten 13 worden gegalvaniseerd, welke een hoge informatiedichtheid hebben. Dit, omdat de 30 dikte van de metaallaag 23 over het gehele oppervlak van het substraat 13 nagenoeg uniform is, hetgeen voor het realiseren van informatiedragers met een hoge data-opslagdichtheid een voorwaarde is.
Hoewel de uitvinding is beschreven aan de hand van twee voorbeelduitvoeringsvormen, is deze hiertoe geenszins beperkt. Een 35 deskundige kan, zonder verdere inventieve vaardigheden, wijzigingen en 1007855 5 10 aanvullingen op de galvaniseerinrichting aanbrengen, zonder af te wijken van de in het voorgaande en de conclusies neergelegde uitvindingsgedachte.
100785f
Claims (12)
1. Galvaniseerinrichting, voor het aanbrengen van een laag metaal op een schijfvormig substraat voor het vormen van een stempel plaat 5 voor het vervaardigen van een informatiedrager zoals een CD ("Compact Disk"), omvattende een bak voor het opnemen van een elektrolyt, een in de bak geplaatste anode in de vorm van een houder voor oplosbaar anodemateriaal voor het vormen van de metaal laag en een tegenover de anode, in de bak opgestelde kathode voor het dragen van het substraat, met het 10 kenmerk, dat tussen de anode en de kathode een scherm van elektrisch geleidend materiaal is opgesteld, van welk scherm het tegenover de kathode gelegen deel een apertuur heeft voor het doorlaten van opgelost anodemateriaal.
2. Galvaniseerinrichting volgens conclusie 1, met het 15 kenmerk, dat in de bak aan de, van de kathode afgekeerde zijde van het scherm toevoermiddelen voor het verversen van elektrolyt zijn opgesteld.
3. Galvaniseerinrichting volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de bak door het scherm in een eerste en tweede compartiment wordt verdeeld, zodanig dat de anode in het eerste en de kathode in het 20 tweede compartiment is gelegen, waarbij de toevoermiddelen voor vers elektrolyt en afvoermiddelen voor verwerkt elektrolyt met het eerste compartiment in verbinding staan, voor het via de apertuur van het scherm geschikt toe- en afvoeren van elektrolyt van het tweede compartiment.
4. Galvaniseerinrichting volgens elk van de voorgaande 25 conclusies, met het kenmerk, dat het scherm elektrisch geïsoleerd in de bak is opgesteld.
5. Galvaniseerinrichting volgens elk van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het scherm een wand van de anodehouder vormt.
6. Galvaniseerinrichting volgens elk van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de afmetingen van de apertuur van het scherm in hoofdzaak ongeveer gelijk zijn aan de afmetingen van de stempel plaat.
7. Galvaniseerinrichting volgens elk van de voorafgaande 35 conclusies, met het kenmerk, dat de apertuur van het scherm maasvormig i s. 1007855
8. Galvaniseerinrichting volgens elk van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de kathode evenwijdig aan en op een afstand tegenover het scherm is gelegen.
9. Galvaniseerinrichting volgens elk van de voorgaande 5 conclusies, met het kenmerk, dat het scherm van een inert elektrisch geleidend materiaal zoals titaan is vervaardigd.
10. Galvaniseerinrichting volgens elk van de voorafgaande conclusies, met ket kenmerk, dat het scherm in een plaat van elektrisch isolerend materiaal is geplaatst.
11. Stempelplaat voor het vervaardigen van een informatie drager zoals een CD ("Compact Disk"), met het kenmerk, dat de stempelplaat aan ten minste één oppervlak van een laag metaal met een nagenoeg homogene dikte is voorzien met behulp van een galvaniseerinrichting volgens elk van de voorgaande conclusies.
12. Informatiedrager, zoals een CD ("Compact Disk"), met het kenmerk, dat deze informatiedrager is vervaardigd onder toepassing van een stempelplaat volgens conclusie 10. 100785S
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL1007855A NL1007855C2 (nl) | 1997-12-19 | 1997-12-19 | Galvaniseerinrichting voor een stempelplaat voor het vervaardigen van een informatiedrager. |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL1007855 | 1997-12-19 | ||
NL1007855A NL1007855C2 (nl) | 1997-12-19 | 1997-12-19 | Galvaniseerinrichting voor een stempelplaat voor het vervaardigen van een informatiedrager. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL1007855C2 true NL1007855C2 (nl) | 1999-06-22 |
Family
ID=19766224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL1007855A NL1007855C2 (nl) | 1997-12-19 | 1997-12-19 | Galvaniseerinrichting voor een stempelplaat voor het vervaardigen van een informatiedrager. |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
NL (1) | NL1007855C2 (nl) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0058649A1 (en) * | 1981-02-16 | 1982-08-25 | Aktiebolaget Europa Film | Apparatus in electrodeposition plants, particularly for use in making master phonograph records and the like |
SU1110824A1 (ru) * | 1982-03-26 | 1984-08-30 | Уфимский Ордена "Знак Почета" Приборостроительный Завод Им.В.И.Ленина | Способ нанесени гальванических покрытий |
GB2136449A (en) * | 1983-03-14 | 1984-09-19 | Philips Nv | Electrodepositing uniformly thick metal layers |
EP0131857A2 (en) * | 1983-07-06 | 1985-01-23 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Method and apparatus for electroforming a stamper for producing a high-density information recording carrier |
DE19602182A1 (de) * | 1996-01-23 | 1997-07-24 | Technotrans Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Prozessteuerung bei der elektrolytischen Beschichtung von Werkzeugen für die Herstellung von CD-Datenträgern oder dergleichen |
-
1997
- 1997-12-19 NL NL1007855A patent/NL1007855C2/nl not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0058649A1 (en) * | 1981-02-16 | 1982-08-25 | Aktiebolaget Europa Film | Apparatus in electrodeposition plants, particularly for use in making master phonograph records and the like |
SU1110824A1 (ru) * | 1982-03-26 | 1984-08-30 | Уфимский Ордена "Знак Почета" Приборостроительный Завод Им.В.И.Ленина | Способ нанесени гальванических покрытий |
GB2136449A (en) * | 1983-03-14 | 1984-09-19 | Philips Nv | Electrodepositing uniformly thick metal layers |
EP0131857A2 (en) * | 1983-07-06 | 1985-01-23 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Method and apparatus for electroforming a stamper for producing a high-density information recording carrier |
DE19602182A1 (de) * | 1996-01-23 | 1997-07-24 | Technotrans Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Prozessteuerung bei der elektrolytischen Beschichtung von Werkzeugen für die Herstellung von CD-Datenträgern oder dergleichen |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
DATABASE WPI Section Ch Week 8514, Derwent World Patents Index; Class M11, AN 85-085196, XP002078537 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6521102B1 (en) | Perforated anode for uniform deposition of a metal layer | |
US4359375A (en) | Anode assembly for electroforming record matrixes | |
US5985123A (en) | Continuous vertical plating system and method of plating | |
US6179983B1 (en) | Method and apparatus for treating surface including virtual anode | |
US6126798A (en) | Electroplating anode including membrane partition system and method of preventing passivation of same | |
US5391285A (en) | Adjustable plating cell for uniform bump plating of semiconductor wafers | |
FR2763343A1 (fr) | Procede de depot d'une couche de matiere sur un substrat a l'aide d'un systeme de placage | |
US4729940A (en) | Method of manufacturing master for optical information carrier | |
EP0837158A1 (en) | Plating cell with fluid powered wiper | |
US5244563A (en) | Apparatus and method for electroplating | |
US6080288A (en) | System for forming nickel stampers utilized in optical disc production | |
NL1007855C2 (nl) | Galvaniseerinrichting voor een stempelplaat voor het vervaardigen van een informatiedrager. | |
TW201123297A (en) | Apparatus and methods for supporting workpieces during plasma processing | |
US4539079A (en) | Method and apparatus for electroforming a stamper for producing a high-density information recording carrier | |
JPH04263090A (ja) | 金属を電着させるための装置とその装置に使用される陽極アセンブリおよび陽極 | |
NL1010750C1 (nl) | Galvaniseerinrichting voor een stempelplaat voor het vervaardigen van een informatiedrager. | |
JPH0418376B2 (nl) | ||
US5997701A (en) | Galvanic deposition cell with a substrate holder | |
US4507180A (en) | Method of electrodepositing a homogeneously thick metal layer, metal layer thus obtained and the use of the metal layer thus obtained, device for carrying out the method and resulting matrix | |
US5976329A (en) | Galvanic deposition cell with an adjusting device | |
FR2566932A1 (fr) | Appareil de developpement utilisant un revelateur liquide et destine a une machine a copier electrophotographique | |
JPH0246680B2 (nl) | ||
JP3637214B2 (ja) | ウエハのメッキ方法 | |
JP3884150B2 (ja) | 高速メッキ装置及び高速メッキ方法 | |
JP2650779B2 (ja) | スタンパ製造用治具 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD2B | A search report has been drawn up | ||
VD1 | Lapsed due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20020701 |