SK4202002A3 - New cyclotrisiloxanes, new siloxane polymers and their preparation - Google Patents
New cyclotrisiloxanes, new siloxane polymers and their preparation Download PDFInfo
- Publication number
- SK4202002A3 SK4202002A3 SK420-2002A SK4202002A SK4202002A3 SK 4202002 A3 SK4202002 A3 SK 4202002A3 SK 4202002 A SK4202002 A SK 4202002A SK 4202002 A3 SK4202002 A3 SK 4202002A3
- Authority
- SK
- Slovakia
- Prior art keywords
- phenyl
- compound
- substituents
- same
- alkyl
- Prior art date
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 40
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 18
- JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N cyclotrisiloxane Chemical class O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 13
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- -1 alkyl lithium Chemical compound 0.000 claims description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 6
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 5
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000004032 superbase Substances 0.000 claims description 5
- 150000007525 superbases Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UCVHTYKWNMPBGD-UHFFFAOYSA-N dilithium oxido(diphenyl)silane Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][SiH](c1ccccc1)c1ccccc1.[O-][SiH](c1ccccc1)c1ccccc1 UCVHTYKWNMPBGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QCYIFDAFIXZTQO-UHFFFAOYSA-N lithium;diphenylmethylbenzene Chemical compound [Li+].C1=CC=CC=C1[C-](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QCYIFDAFIXZTQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 claims 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)phosphinimyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)P(=N)(N(C)C)N(C)C GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 3
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 3
- PFEAZKFNWPIFCV-UHFFFAOYSA-N hydroxy-[hydroxy(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(O)O[Si](C)(C)O PFEAZKFNWPIFCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLLGPOUIEZTFAW-UHFFFAOYSA-N C[SiH](C)O[Si](C)(Cl)Cl Chemical compound C[SiH](C)O[Si](C)(Cl)Cl GLLGPOUIEZTFAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000569 multi-angle light scattering Methods 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YOIAWAIKYVEKMF-UHFFFAOYSA-N trifluoromethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F.OS(=O)(=O)C(F)(F)F YOIAWAIKYVEKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMAEXHRALNMAJ-UHFFFAOYSA-N C[SiH](C)O[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C[SiH](C)O[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 YIMAEXHRALNMAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910002656 O–Si–O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007991 Si-N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006294 Si—N Inorganic materials 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N acetone d6 Chemical compound [2H]C([2H])([2H])C(=O)C([2H])([2H])[2H] CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C1=CC=CC=C1 KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVYQDQZEMGUESH-UHFFFAOYSA-N dimethylsilyloxy(dimethyl)silane Chemical compound C[SiH](C)O[SiH](C)C NVYQDQZEMGUESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- VDRQNMNLNVOILV-UHFFFAOYSA-N hydroxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SiH](O)C1=CC=CC=C1 VDRQNMNLNVOILV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- NSRBCQCXZAYQHF-UHFFFAOYSA-N n-[[tert-butylimino-bis[[tris(dimethylamino)-$l^{5}-phosphanylidene]amino]-$l^{5}-phosphanyl]imino-bis(dimethylamino)-$l^{5}-phosphanyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)P(N(C)C)(N(C)C)=NP(=NC(C)(C)C)(N=P(N(C)C)(N(C)C)N(C)C)N=P(N(C)C)(N(C)C)N(C)C NSRBCQCXZAYQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001208 nuclear magnetic resonance pulse sequence Methods 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920003257 polycarbosilane Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQIZMIMBOWVMCX-UHFFFAOYSA-N tris(dimethylsilyloxy)-ethenylsilane Chemical compound C[SiH](C)O[Si](O[SiH](C)C)(O[SiH](C)C)C=C XQIZMIMBOWVMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
- C08G77/08—Preparatory processes characterised by the catalysts used
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
(^yklotrisiloxány, siloxánové polyméry a spôsob ich prípravy ľ? ihZD-Zooá ft/J
Oblasť techniky
Tento vynález sa týka nových cyklotrisiloxánov, nových vysoko rozvetvených alebo lineárnych siloxánových polymérov a spôsobov ich prípravy.
Doterajší stav techniky
Publikácie a ďalšie materiály, ktoré sú tu použité slúžia na vysvetlenie doterajšieho stavu techniky a pomocou konkrétnych príkladov sú vysvetlené ďalšie detaily postupov.
Organokremičité dendritické a vysoko rozvetvené polyméry sú dobre známe. Dendrimérové jadro sa obvykle pripraví z tetraalyI- alebo -vinylsilánu, ktorý sa potom derivatizuje hydrosilylačnou reakciou (1, 2). Na druhej strane, vysoko rozvetvené polykarbosilány sa bežne pripravujú z vinyltris(dimetylsiloxy)silánu hydrosilylačnými reakciami. Obvykle 8 až 10 molárnych % východiskového materiálu cyklizuje pri vedľajšej reakcii (3). Pozri schému 1.
Je málo príkladov vysoko rozvetvených alebo dendritických polysiloxánov, napr. polymérov, ktorých hlavný reťazec pozostáva len z -SiRR’-O-väzieb. Pravdepodobne najvýznamnejší je spis od Uchicda a kol. (4), ktorý opisuje viacstupňový postup pre vysoko pravidelné dendritické polysiloxány tretej generácie s molekulovou hmotnosťou približne 15 000 g/mol. Pozri schému 2.
Rebrov (5) použil odlišnú metódu. Nechal reagovať MeSiCh s tromi ekvivalentami NaOSiMe(OEt)2. Etoxy skupiny kvantitatívne konvertovali na chlóry pri reakcii s tionylchlóridom. Výsledný produkt sa opäť nechal reagovať s NaOSiMe(OEt)2, následnou konverziou Si-OEt na Si-CI skupiny sa opakovane obdrží štvrtá generácia polyméru vo výťažku >75%. Pozri schéma 3.
Morikowa (6) využil pri syntéze ľahko štiepiteľnú Si-Ph väzbu. Jadro sa pripravilo zo zlúčeniny obsahujúcej tri Si-fenylové skupiny, ktoré sa premenili na Si-Br reakciou s Br2. Reakcia s HNMe2 poskytla Si-N funkčné skupiny, ktoré na oplátku môžu reagovat so silanolmi, ktoré nesú Si-fenylové skupiny. Tento cyklus sa opakoval dvakrát za poskytnutia dendriméru tretej generácie v 32% výťažku, s molekulovou hmotnosťou približne 4 800 g/mol. Pozri schému 4.
Schéma 1
-Sl-O-SkH O ‘
I •Si—
A
í· —Si“ i
Polymer
O-Sl-H '\-J\
8-10mo+%
O-SH4
Schéma 2
(o-s»Vh
I |o?tH h(S»-O>SÍ~ i
(O-Sj-H (p-SfcH
0—5»— (o-^H ľ· (/O-sfcH
HjO. Pďc\^
-S^SH»Š ^r°>. ,1 . .
OS^O-SH (
Si-H ukončený dendrimér, 1. generácie
I i (O-S»^OH
Schéma 3
MeSiCb
SOCfe α-ψ-α
F 9 α ο-^Ι-α
Atď.
Schéma 4
I I I I I Ph-Si-0-^-0“^-0-»-o-SH»h o
-ľPh
1. Br2
2. HNEt2
I I. I I I Et2N”®O-í|i-0-^-O”SÍ-O-á“NEt2 i
—Si— NEtj
Ph
I
-Si—
I
O
Ph ι ι i ι i ι i 9 ^i-O-Si-O“SI-O-S»-O-Si-O-ShO-SK>-^HO-Si9
-Si— «
Ph —Si— I o
I —Si— i
o
I —Si— i
o —Si— i
Ph
OH
P h— Št-O-Št-O-šl-Ph
Atď.
-4Podstata vynálezu
Cieľom tohoto vynálezu je poskytnúť vhodné spôsoby na prípravu vysoko sieťovaných siloxánových polymérov aniónovou polymerizáciou cyklotrisiloxánu obsahujúceho funkčnú skupinu Si-OH a na prípravu lineárnych siloxánových polymérov katiónovou alebo aniónovou polymerizáciou cyklotrisiloxánu obsahujúceho koncovú vinylovú funkčnú skupinu. Ďalším cieľom tohoto vynálezu je poskytnúť nové cyklotrisiloxány vhodné na prípravu vyššie uvedených polymérov.
Podľa jedného aspektu, sa tento vynález zaoberá novými cyklotrisiloxánmi všeobecného vzorca (I) , V\ /
R—Si Ji—R
O O /XR (I) kde Y je OSi(R)2H, OSi(R)2OH alebo O-Si(R)2-OSi(R)2-CH=CH2, a R substituenty môžu byť rovnaké alebo rozdielne, pričom ktorýkoľvek R substituent sa vybral zo skupiny pozostávajúcej z fenylu, nesubstituovaného alebo substituovaného alkylu s 1 až 6 uhlíkovými atómmi, kde voliteľný substituent je fenyl alebo jeden alebo viac atómov fluóru, pod podmienkou, že alfa alebo beta pozícia alkylového reťazca nemôže byť substituovaná fluórom.
Podľa ďalšieho aspektu sa tento vynález zaoberá spôsobmi prípravy vysoko sieťovaných siloxánových polymérov, kde zlúčenina všeobecného vzorca (II)
(Π)
- ο kde Y je OH alebo OSi(R)2OH, a R substituenty môžu byť rovnaké alebo rozdielne, pričom ktorýkoľvek R substituent sa vybral zo skupiny pozostávajúcej zfenylu, nesubstituovaného alebo substituovaného alkylu s 1 až 6 uhlíkovými atómami, kde voliteľný substituent je fenyl alebo jeden alebo viac atómov fluóru, za predpokladu, že alfa alebo beta pozícia alkylového reťazca nemôže byť substituovaná fluórom, je podrobená aniónovej polymerizácii v hmote alebo vhodnom rozpúšťadle, napr. THF, za poskytnutia vysoko sieťovaného polyméru, ktorý má všeobecný vzorec (lllal, Illa2, Illa3) alebo (lllbl, Illb2, Illb3)
(Dal
QIa2
ΙΠ*3 r R -i R—Si—O+Z ô
R-Si-R o
-Si-R o
R-Sj—O- “2 L Ŕ nibl • ?
R—S ŕ—O? e.
R-Si-O-Si- O“— _2
O Ŕ —ši-R R
Ί
R—Si—0+2 O
I
R-S r— 0+2
Ó
R-Si-R O
-Si-R R -J mb2
IHbj kde sustituenty R sú definované vyššie a kde každé Z v lllal-a3 je jedna zo skupín lllal-a3, a každej Z v lllbl-b3 je jedna zo skupín lllbl-b3, alebo Zje koncová skupina. Koncová skupina, ktorá môže byť rovnaká alebo rozdielna, môže byť vodík získaný neutralizáciou alebo radikál odvodený od halogénsilánu alebo halogénsiloxánu, napr. chlórsilán alebo chlórsiloxán, kde halogénsilán alebo halogénsiloxán môže niesť funkčné alebo nefunkčné skupiny. Ako príklady funkčných
-6alebo nefunkčných skupín môžu byť uvedené vodík, vinyl, substituent R ako je definovaný vyššie, amino, alkoxy alebo polyalkylenoxid. Zakončenie polyméru je možné tiež vytvoriť pomocou zmesi rôznych zlúčenín. Vhodným výberom koncovej skupiny je možné požadovanými spôsobmi modifikovať povrch polyméru.
Podľa ďalšieho aspektu sa tento vynález zaoberá spôsobom prípravy lineárneho siloxánového polyméru, kde zlúčenina všeobecného vzorca (IV)
kde Y je O-Si(R)2-OSi(R)2-CH=CH2 a R substituenty môžu byť rovnaké alebo rozdielne, pričom ktorýkoľvek R substituent sa vybral zo skupiny pozostávajúcej z fenylu, nesubstituovaného alebo substituovaného alkylu s 1 až 6 uhlíkovými atómmi, kde voliteľný substituent je fenyl alebo jeden alebo viac atómov fluóru, pod podmienkou, že alfa alebo beta pozícia alkylového reťazca nemôže byť substituovaná fluórom, je podrobená katiónovej alebo aniónovej polymerizácii za poskytnutia lineárneho polyméru, ktorý má všeobecný vzorec (V)
R-Si-R
R-Si-R
(V)
-7kde substltuenty R sú rovnaké ako v zlúčenine (IV) a m je 3 až 9000.
Vynález sa tiež zaoberá novými vysoko sieťovanými a lineárnymi siloxánovými polymérmi.
Podľa výhodného uskutočnenia je každý R-substituent v cyklotrisiloxáne všeobecného vzorca (I) rovnaký a je to alkyl s 1 až 4 atómmi uhlíka. Ešte výhodnejšie je ak každý R-substituent metyl.
Aniónová polymerizácia Si-OH funkčnej skupiny cyklotrisiloxánu (zlúčenina (II)) sa môže uskutočniť za prítomnosti bázy obsahujúcej lítium, napríklad alkyllítium ako je n-butyllítium alebo trifenylmetyllítium alebo lítiumdiizopropylamid. Polymizácia sa môže uskutočniť v hmote alebo vo vhodnom rozpúšťadle. Príkladom vhodného rozpúšťadla môže byť zmienený THF.
Eventuelne môže sa aniónová polymerizácia uskutočniť reakciou cyklotrisiloxánu obsahujúceho Si-OH funkčnú skupinu s katalytickým množstvom superbázy ako je fosfazén. Obzvlášť použiteľná superbáza je fosfazénová báza P4-t-Bu [1-terc-butyl-4,4,4-tris(dimetylamino)-2,2-bis[tris(dimetylamino)fosforanylidenamino]2X5,4k5-katenadi(fosfazén)].
Príprava lineárnych siloxánových polymérov môže sa uskutočniť katiónovou polymerizáciou iniciovanou kyselinou ako je trifluórmetánsulfónová kyselina (triflic acid) alebo aniónovou polymerizáciou iniciovanou bázami ako je dilítiumdifenylsilanolát alebo dilítiumtetrametylsiloxándiolát.
Príklady uskutočnenia vynálezu
Vynález bude detailnejšie opísaný v následujúcej experimentálnej časti v príkladoch, ktoré nie sú limitujúce pre tento vynález.
Experimentálna časť:
Spektroskopická analýza 1H, 13C a MSi NMR spektrá sa získali na Bruker AMX-500 MHz spektrometri operujúcom v FT móde. 1H NMR spektrá sa merala v 5 % hmotn./obj. chloroform-d roztokoch. Štyridsať percent hmotn./obj. roztokov v acetóne-d6 sa použilo na získanie 29Si a 13C NMR spektier. 13C NMR spektrá sa získali pomocou širokého pásma zrušenia spin-spinovej interakcie protónov. Na zistenie 29Si NMR spektier sa použila inverzná pulzná sekvencia rušiaca spin-spinovú interakciu s oneskorením 60 sekúnd. Tetrametylsilán (TMS) sa použil ako vnútorný štandard pre 1H, 13C a 29Si NMR spektrá.
-8IR spektrá na čistých filmolch na NaCI doskách sa zaznamanali na Perkin Elmer Spectrum 2000 FT-IR spektrometri. GPC analýza rozloženia molekulových hmotností polymérov sa uskutočnila na systéme Watters opatrenom detektorom indexu lomu. Dve
7,8 mm x 300 mm Styragel kolóny naplnené <5 pm divinylbenzénu zosieťovaného polystyrénom HR4 a HR2 v sérii sa použili na analýzu. Elučné rozpúšťadlo bol toluén pri prietoku 0,3 ml/minútu. Retenčné časy sa kalibrovali oproti známym monodisperzným polystyrénovým štandardom. TGA polymérov sa merali na prístroji Shimadzu TGA-50 . Teplotný program bol 4 °C/minútu od 25 do 850 °C.
Tg polymérov sa určilo pomocou DSC na Perkin-Elmer DSC-7. Teplotný program pre analýzu začínal na -150 °C. Teplota rástla rýchlosťou 10 °C/minútu. Rozptyl svetla CPS/MALLS sa uskutočnil s Wyatt Dawn-DSP MALLS detektorom, ktorý sa vložil medzi GPC kolóny a R410 Rl detektor. Dáta sa analyzovali pomocou systému Wyatt Astra. Ako eluent sa použil THF.
Všetky reakcie sa uskutočnili v skle vysušenom v plameni, pod atmosférou argónu.
Príklad 1
Príprava 1 -dimetylsiloxy-1,3,3,5,5-pentametylcyklotrisiloxánu
a) 1,1 -d ichlór-1,3,3-trimetyldisiloxán
1,3-dihydridotetrametyldisiloxán (57 g, 0,42 mol) a metyltrichlórsilán (96 g, 0,64 mol) sa umiestni do 200 ml rb banky opatrenej magnetickým miešadlom potiahnutým teflonom a hermeticky uzavretej gumovým šeptom. Roztok katalyzátora (500 μΙ) sa vstriekne do banky pri teplote miestnosti (TM). Nedôjde k žiadnej reakcii. Do roztoku sa pomaly prebublává bezvodý HCI plyn. Prebytočný tlak sa uvoľní cez ihlu injekčnej striekačky, ktorá sa pripevní k sušiacej trubici, ktorá je naplnená Drieritom. Nastane exotermická reakcia. Obsah v banke sa zahreje na asi 35 °C počas 10 minút. Pridávanie plynného HCI plynu pokračuje po dobu 2 hodín. Reakčná zmes sa destiluje cez 50 cm kolónu s vákouvým plášťom, ktorá je naplnená nehrdzavejúcimi sedlami. Frakcia, 33,6 g (42% výťažok), teplota varu 116 °C, sa zhromažďuje. 1H NMR δ: 0,32 (d, 6H, J = 3 Hz), 0,84 (s, 3H), 4,77 (septet, 1H, J = 3 Hz); 13C NMR δ: -0,17, 5,97; 29Si NMR δ: -17,10 (1Si), 0,94 (1 Si). IR v: 2966, 2151, 1414, 1258, 1088, 904, 797 cm'1.
b) Tetrametyldisiloxan-1,3-diol
Zlúčenina sa pripraví riadenou hydrolýzou dimetyldichlórsilánu (5).
-9c) 1 -dimetylsiloxy-1,3,3,5,5-pentametylcyklotrisiloxán
1,1 -dichlór-1,3,3-trimetyldisiloxán (25,0 g, 0,13 mol) v 30 ml Et2O a tetrametyldisiloxan-1,3-diol (22,0 g, 0,13 mol) v 30 ml Et2O sa po kvapkách pridajú k roztoku Et3N (28,0 g, 0,28 mol) a 170 ml Et2O po dobu jednej hodiny pri teplote miestnosti. Po miešaní po dobu 2 hodín, sa reakčná zmes sfiltruje a premyje vodou, zriedi roztokom H3PO4 a nasýteným NaHCO3. Vysuší sa nad bezvodým MgSO4, sfiltruje a prchavé látky sa odstránia odparením za zníženého tlaku. Frakčná destilácia cez 10cm kolónu s vákuovým plášťom poskytne frakciu, 26,9 g (72% výťažok), teplota varu 81 °C (40 mm Hg). 1H NMR δ: 0,09 (s, 3H), 0,12 (s, 6H), 0,14 (s, 6H), 0,20 (d, 6H, J = 3 Hz),
4,75 (sept., 1H, J = 3 Hz); 13C NMR δ: -3,11, 0,52, 0,72, 0,82.29Si NMR δ: -56,20 (1Si), -8,50 (2Si), -5,72 (1 Si). IR v: 2966, 2907, 2133, 1406, 1260, 1089, 1020, 907, 862, 810, 770, 624 cm'1.
Príklad 2
-(hydroxydimetylsiloxy)-l ,3,3,5,5-pentametylcyklotrísiloxán
Vytvorí sa homogénny roztok z 1 -dimetylsiloxy-1,3,3,5,5-pentametylcyklotrisiloxánu získaného v Príklade 1 (20,0 g, 70 mmol), 250 ml dioxánu a 30 ml destilovanej vody. K roztoku sa pridá paládiový katalyzátor (10 % Pd/C, 0,5 g) v troch podieloch pri teplote miestnosti a systém sa nechá reagovať po dobu 12 hodín. Keď sa pridá ďalšie malé množstvo katalyzátora, nevyvíja sa ďalší H2. Po filtrácii a odstránení prchavých látok odparením poskytne frakčná destilácia frakciu, 19,6 g (66 mmol, 93% výťažok), teplota varu 52 °C (0,1 mm Hg). 1H NMR δ; 0,10 (6H), 0,11 (3H), 0,12 (6H), 0,15 (6H),
5,15 (1H); 13C NMR δ: -2,81, 0,34, 0,78, 0,85. 29Si NMR δ: -57,63 (1 Si), -12,45 (1Si), 8,32 (2Si). IR v: 3339 (br), 2966, 2907, 1411, 1262, 1092, 1023, 880, 867, 809, 764, 624 cm'1.
Príklad 3
-dimetylsiloxy-1 -fenyl-3,3,5,5-tetrametylcyklotrísiloxán
Príprava sa vykoná podľa postupu opísaného v Príklade 1 z 1 -fenyl-1,1 -dichlór-3,3-dimetyldisiloxáne (22,0 g, 88 mmol), tetrametyldisiloxan-1,3-diolu (14,56 g, 88 mmol) a Et3N (18,6 g, 184 mmol) v 210 ml dietyléteru. 13,02 g (výťažok 43%), teplota varu 86 °C (1 mm Hg). 1H NMR δ: 0,17 (s, 6H), 0,24 (s, 6H), 0,26 (d, 6H, J =
2,5 Hz), 4,82 (sept. 1H, J = 2,5 Hz), 7,42 (m, 3H), 7,65 (m, 2H). 13C NMR δ: 0,80, 0,98,
-ιοί,23, 128,42, 130,86, 133,73, 134,30. 19F NMR δ: 29 S i NMR δ: -70,00 (1 Si), -7,27 (2Si),
-3,90 (1 Si). IR v: 2964, 2133, 1431, 1261, 1133, 1084, 1021, 998, 902, 851, 808, 771,
699, 641 cm'1.
Príklad 4
1-(hydroxydimetylsiloxy)-1-fenyl-3,3,5,5-tetrametylcyklotrisiloxán
Príprava sa uskutoční podľa postupu opísaného v Príklade 2 z 1-dimetylsiloxy-1-fenyl-3,3,5,5-tetrametylcyklotrisiloxánu z Príkladu 2 (8,34 g, 24 mmol), destilovanej vody (10 ml), katalyzovanej pomocou 0,4 g 10% Pd/C. 6,18 g (výťažok 71 %), teplota varu 94 °C (0,2 mm Hg). 1H NMR δ: 0,13 (s, 6H), 0,16 (s, 6H), 0,23 (s, 6H), 5,37 (s, 1H), 7,41 (m, 3H), 7,67 (m, 2H). 13C NMR δ: 0,62, 0,90, 1,10, 128,31, 130,72, 134,38. ^Si NMR δ: -71,73 (1 Si), -11,97 (1 Si), -7,35 (2Si). IR v: 3392, 2964, 1595, 1431, 1262, 1133, 1189, 1020, 998, 879, 852, 808, 745, 717, 699, 641, 593 cm'1.
Príklad 5
3’-vinyl-ľ,1’,3’,3’-tetrametyldisiloxy-1,3,3,5,5-pentametylcyklotrisiloxán
Vinyldimetylchlórsilán (4,0 g, 33 mmol) v 10 ml Et2O sa po kvpkách pridá k roztoku 1-dimetylhydroxysiloxyl-1,3,3,5,5-pentametylcyklotrisiloxánu pripraveného v Príklade 2 (4,85 g, 16 mmol), 60 ml Et2O aEt3N (4,0 g, 40 mmol) pri teplote miestnosti počas 20 minút. Po 5 hodinách sa reakčný produkt sfiltruje. Filtrát sa premyje vodou, zriedi vodným roztokom H3PO4 a nasýteným NaHCO3 na odstránenie trietylamóniumchloridu, vysuší nad bezvodým MgSO4 a sfiltruje. Výsledný produkt 4,91 g (0,13 mol, výťažok 79 %) sa získa frakčnou destiláciou pri 50 °C/(0,15 mm Hg). 1H NMR δ: 0,09 (s, 6H), 0,11 (s, 3H), 0,13 (s, 6H), 0,15 (d, 6H, J = 0,5 Hz), 0,17 (s, 6H),
5,76 (dd, 1H, J = 21 a 4 Hz), 5,93 (dd, 1H, J = 15 a 4 Hz), 6,14 (dd, 1H, J = 21 a 15). 13C NMR δ: -2,73, 0,36, 0,77, 0,93, 1,07, 132,08, 139,69. ^Si NMR δ: -58,11 (1Si), 20,30 (1Si), -8,40 (2Si), -3,53 (1 Si). IR v: 3052, 2965, 2906, 1596, 1408, 1261, 1068, 1021, 862, 839, 808, 763, 710, 625 cm'1.
Príklad 6
Príprava lineárneho siloxánového polyméru katiónovou polymerizáciou
S’-vinyl-ľ.ľ.S’.S’-tetrametyldisiloxyl-I.S.S.S.S-pentametylcyklotrisiloxán z Príkladu 5 (1,0 g, 2,6 mmol) v 250 μΙ 1,1,2-trichlórtrifluóretánu sa ochladí na -78 °C a do roztoku sa vstrekne 5 μΙ trifluórmetánsulfónovej kyseliny (triflic acid). Keď sa sys- 11 tém stane príliš viskózny, až zabraňuje miešaniu, pridá sa ďalší 1,1,2-trichlórtrifluóretán (3 x 250 ml). Reakcia sa ukončí po 0,5 hodine pridaním 20 mg, 0,12 mmol hexametyldisilazánu. Polymér sa trikrát vyzráža zo zmesi Et2O/MeOH a suší pod vákuom po dobu 12 hodín. Touto cestou sa získa 0,48 g (48% výťažok) polyméru. Mn/Mw = 83 900/28 300. 1H NMR δ: 0,08-0,18 (m, 27H), 5,75 (dd, 1H, J = 20,5 a 4 Hz), 5,92 (dd, 1 H, J = 15 a 4 Hz), 6,13 (dd, 1H, J = 20,5 a 15 Hz). 13C NMR δ: -2,04, -2,02, -0,39, 1,11, 1,15, 1,18, 1,20, 1,23, 1,28, 131,96, 139,57. 29Si NMR δ: -67,17, -67,11, -21,93, -21,92, -21,84, -21,76, -21,75, -21,68, -21,04, -3,95, 3,94. IR v: 3053, 2964, 2906, 1596, 1408, 1261, 1094, 1030, 956, 839, 799, 756, 707, 518 cm'1.
Príklad 7
Príprava lineárneho siloxánového polyméru aniónovou polymerizáciou
a) Iniciátor
Dilítiumdifenylsilanolát sa pripraví reakciou difenylsilándiolu s n-butyllítiom v THF. Ako indikátor sa použije styrén (8).
b) Aniónová polymerizácia
Iniciátor (22 μΙ, 10 pmol) sa vstrekne k roztoku 3’-vinyl-ľ,ľ,3’,3’-tetrametyldisiloxyl-1,3,3,5,5-pentametylcyklotrisiloxánu z Príkladu 5 (1,0 g, 2,6 mmol) v 250 μΙ THF pri teplote miestnosti. Polymerizácia sa uskutočňuje po dobu 24 hodín, po ktorých sa ukončí vinyldimetylchlórsilánom (0,1 g, 0,8 mmol). Polymér sa trikrát vyzráža s Et2O/MeOH a suší vo vákuu po dobu 10 hodín, výťažok 0,92 g, (92%) produktu. M„/Mn = 29 100/12 400. TGA: Rozklad začína pri 425 °C. Pri 530 °C zostáva 90% materiálu. Pri 655 °C sa stratí polovica celkovej hmotnosti. Pri 850 °C zostane štyridsať päť percent východiskového materiálu.
Príklad 8
Príprava lineárneho siloxánového polyméru aniónovou polymerizáciou použitím superbázy
Superbáza (Phosphazene Base P4-t-Bu) (1M v n-hexáne) (2 μΙ, 2 pmol) sa nastriekne do roztoku S'-vinyl-ľJ'.S'.S'-tetrametyldisiloxyl-I^.S.S.S-pentametylcyklotrisiloxánu (1,0 g, 2,6 mmol) v 250 μΙ THF pri teplote miestnosti. Po 0,5 hodine sa reakcia ukončí dimetylvinylchlórsilánom (0,1 g, 0,8 mmol). Prchavé látky sa odstránia vo vákuu.
- 12Reakčný produkt je nízkoviskózna kvapalina o molekulových hmotnostiach
M7Ma = 8 700/2 100.
Príklad 9
Príprava vysokorozvetveného polyméru aniónovou polymerizáciou
Monomér (1-dimetylľiydroxysiloxyl-1,3,3,5,5-pentametylcyklotrisiloxán), 2,0 g, 6,7 mmol a THF 1,0 ml sa ochladí na -9 °C a vstriekne sa báza (P4-t-Bu) (8 μΙ, 8 μηηοΙ). Po 4 hodinách sa pridá 1 ml THF, Et3N (2 ml, 7,3 mmol) a 1 ml vinyldimetylchlórsilánu a miešanie pokračuje po dobu 12 hodín. Polymér sa extrahuje do hexametyldisiloxánu, premyje vodným roztokom NaCl a trikrát vyzráža z THF/MeOH. Výťažok 2,47 g (96 %), Mw/Mn = 15 400/5 900. 1H NMR δ: 0,05-0,20 (m, 27H), 5,74 (dd, 0,65H, J = 20,5 a
4.5 Hz), 5,76 (dd, 0,35H, J = 20,5 a 4,5 Hz), 5,91 (dd, 0.65H, J = 14 a 4,5), 5,92 (dd, 0,35H, J = 14 a 4,5 Hz), ), 6,13 (dd, 0.65H, J = 20,5 a 14,5 Hz), ), 6,13 (dd, 0,35H, J =
20.5 a 14,5 Hz). 13C NMR δ: -2,79, -2,11, 0,25, 0,36, 0,75-1,23 (m), 131,84, 131,97, 139,27, 139,49. 29Si NMR δ: -67,27, -67,20, -67,14, -67,06, -66,20, -66,14, -66,06, -22,05, -21,97, -21,89, -21,82, -21,80, -21,76, -21,74, -21,11, -8,55, -4,00, -3,66, 3,64. IR v: 3053, 2964, 2906, 1596, 1408, 1261, 1093, 1028, 956, 839, 799, 756, 707, 519 cm'1.
Príklad 10
Príprava vysoko rozvetveného polyméru z 1-hydroxy-1,3,3,5,5-pentametylcyklotrisiloxánu, ukončeného fenyldimetylsiloxy skupinou
THF (0,3 ml) a roztok Phosphazene Base Solution P4-t-Bu (10 μΙ, Fluka Chemie AG) sa umiestni do skúmavky opatrenej magnetickým miešadlom potiahnutým teflonom a hermeticky uzatvorenej gumovým uzáverom. Ochladí sa na -15 °C a pomaly sa po dobu 30 minút pridáva pentametylcyklotrisiloxan-1-ol (1,70 g, 7,57 mmol). Systém sa nechá reagovať pri -15 °C po dobu 5 hodín a následne po ďalšie 4 dni pri teplote miestnosti, po ktorých sa pridá Et3N (1,5 ml, 10,8 mmol), fenyldimetylchlórsilán (1,5 ml, 9,07 mmol) a 3 ml THF na zakončenie polyméru. Po 24 hodinách sa roztok sfiltruje a odstráni sa amónna soľ. Prchavé látky sa odparia pod vákuom a polymér sa trikrát vyzráža z Et2O/MeOH. Výťažok 1,72 g, (63,3 %). Μ«/Μη = 32 020/11 320 (GPC), Mw/Mn = 62 980/13 240 (Rozptyl svetla). Tg = -98 °C, Tm = -56 °C. 1H NMR δ: 0,13 (m, 15,8H), 0,37 (m, 5,2H), 7,29 (s, 2,6H), 7,56 (s, 0,9H), 7,59 (s, 0,8H). 13C NMR δ: -2,01 (m), 0,80
- 13 (m), 1,20 (m), 127,97, 129,57, 129,60, 133,21, 133,27, 133,29, 139,41, 139,44,
139,64, 139,68. 29Si NMR δ: -67,78, -67,34, -67,25, -66,29, -65,86, -65,79, -21,73, -21,58, -21,53, -21,37, -21,34, -20,53, -8,29, -8,15, -2,25, -2,12, -1,76, -1,62. IR v: 3091, 3072, 3053, 3025, 3012, 2963, 2905, 1592, 1488, 1429, 1412, 1261, 1120, 1090, 1027, 999, 857, 831, 800, 755, 726, 699, 668 cm'1. TGA. 95 % zostalo pri 437 °C. Pri 576 °C zostalo 50 %. Po 600 °C zostalo 25 % zvyšku.
Je cenné, že spôsoby tohto vynálezu môžu byť začlenené vo forme mnohých uskutočnení, pričom tu ich je uvedené len niekoľko. Odborníkovi v odbore bude zrejmé, že existujú ďalšie uskutočnenia a neodchyľujú sa od myšlienky vynálezu. Preto sú opísané uskutočnenia vynálezu ilustratívne a nemali by byť chápané ako omedzujúce.
Odkazy
1. Rebrov, E.A; Vasilenko, N.G; Muzafarov, A.M; a kol.; Polym. Preprints, (1998)39(1), 479, 481, 581.
2. Kazakova, V; Myakushev, V; Strelkova, T; Muzafarov, A; Preprints, (1998) 39(1), 483.
3. Herzig, C; Deubzer, B; Polym Preprints, (1998) 39(1), 477.
4. Uchida, H; Kabe, Y; Yoshino, K; Kawamata, A; Tsumuraya, T; Masamune, S; J. Am. Chem. Soc. (1990) 112, 7077.
5. Rebrov, E.A; Muzafarov, A.M; Papkov, V.S; Zhdanov, A.A; Dokl. Akad. Náuk. SSSR, (1989) 309(2), 367.
6. Morikawa, A; Kakimoto, M; Imai, Y; Macromolecules, (1991) 24(12), 3469.
7. Harris, G.I.; J. Chem. Soc., (1963), 5978.
8. Battjes, K.; Kuo, C-M.; Miller, R.L.; Saam, J.C. Macromolecules (1995), 28, 790.
9. Masatoshi, A.; Sato, S. Jpn. Patent JP 61 167 694 [86 167 694], (1986), CA 106: P 102 803 p, (1987).
Claims (11)
- PATENTOVÉ NÁROKYCyklotrisiloxán všeobecného vzorca (I) (I)
- 2.
- 3.
- 4.2.3.4.kde Y je OSi(R)2H, OSi(R)2OH alebo O-Si(R)2-OSi(R)2-CH=CH2, a R substituenty môžu byť rovnaké alebo rozdielne, pričom ktorýkoľvek R substituent sa vyberie zo skupiny pozostávajúcej žfenylu, nesubstituovaného alebo substituovaného alkylu s 1 až 6 atómmi uhlíka, kde voliteľný substituent je fenyl alebo jeden alebo viac atómov fluóru, pod podmienkou, že alfa alebo beta poloha alkylového reťazca nemôže byť substituovaná fluórom.Zlúčenina podľa nároku 1, kde každý z R-substituentov všeobecného vzorca (I) je rovnaký a je to alkyl s 1 až 4 atómmi uhlíka.Zlúčenina podľa nároku 2, kde každý z R-substituentov je metyl.Spôsob prípravy vysoko sieťovaného siloxánového polyméru, vyznačujúci sa tým, že zlúčenina všeobecného vzorca (II) .0 (Π)- 15kde Y je OH alebo OSi(R)2OH, a R substituenty môžu byť rovnaké alebo rozdielne, pričom ktorýkoľvek R substituent je vybraný zo skupiny pozostávajúci zfenylu, nesubstituovaného alebo substituovaného alkylu s 1 až 6 atómmi uhlíka, kde voliteľný substituent je fenyl alebo jeden alebo viac atómov fluóru, pod podmienkou, že alfa alebo beta poloha alkylového reťazca nemôže byť substituovaná fluórom, sa podrobí aniónovej polymerizácii v hmote alebo vo vhodnom rozpúšťadle, za poskytnutia vysoko rozvetveného polyméru, ktorý má všeobecný vzorec (lllal, Illa2, Illa3) alebo (lllbl, Illb2, Illb3)IQal r 9R—Sr- O—j-Z OR—Sr-O— -2Ó-^i-RRIIIa2ΙΠ>3Γ R -IHĺbi ’ 9R—Si—09 9R-Sí-Q-Si-O“ -Z-Sí-RRIHb2 r“ ?R—S'r—O-“2R-Si—O-fZ OR-Si-R O ’Si-R RIHbj kde sustituenty R sú definované vyššie a kde každé Z v lllal -a3 je jedna zo skupín lllal-a3, a každé Z v lllbl-b3 je jedna zo skupín lllbl-b3, alebo Zje koncová skupina, ktorá je rovnaká alebo rozdielna, a ktorá je vodík alebo radikál odvodený od halogénsilánu alebo halogénsiloxánu, kde halogénsilán alebo halogénsiloxán môže niesť funkčné alebo nefunkčné skupiny.- 165. Spôsob podľa nároku 4, vyznačujúci sa tým, že zlúčenina (II) reaguje s bázou obsahujúcou lítium.
- 6. Spôsob podľa nároku 5, vyznačujúci sa tým, že báza obsahujúca lítium je alkyllítium jako n-butyllítium alebo trifenylmetyllítium alebo lítiumdiisopropylamid.
- 7. Spôsob podľa nároku 4, vyznačujúci sa tým, že zlúčenina (II) reaguje so superbázou.
- 8. Vysoko rozvetvený siloxánový odvodený polymér všeobecného vzorca (lllal, Illa2, Illa3) alebo (lllbl, Illb2, Illb3) mal r p.R~Sŕ-O“ *ZR“Sr—O-fZ O-Si-RRHla2R~Sŕ—O- -ZR-Si-RO —Si—R . RΙΠ*3R-Si—Ôj-Z OR-Si-R O —Si-R OR—Si—O- **2 - R nibl ?R—Si—O——?R— Si—Q— Si—Q— ~2 r- ?R-Sr-O+Z OR-Si—O+Z óR-Si-R OSi-RRSi-R R -JIQb2IHb3 kde substituenty R a tiež Z sú definované v nároku 4.
- 9. Spôsob prípravy lineárneho siloxánového polyméru, vyznačujúci sa tým, že zlúčenina všeobecného vzorca (IV)- 17(IV) kde Y je O-Si(R)2-OSi(R)2-CH=CH2 a R substituenty môžu byť rovnaké alebo rozdielne, pričom ktorýkoľvek R substituent je vybraný zo skupiny pozostávajúcej zfenylu, nesubstituovaného alebo substituovaného alkylu s 1 až 6 atómmi uhlíka, kde voliteľný substituent je fenyl alebo jeden alebo viac atómov fluóru, pod podmienkou, že alfa alebo beta poloha alkylového reťazca nemôže byť substituovaná fluórom, sa podrobí katiónovej alebo aniónovej polymerizácii za poskytnutia lineárneho polyméru, ktorý má všeobecný vzorec (V)R-Si-RO kde substituenty R sú rovnaké ako v zlúčenine (IV) a m je 3 až 9 000.
- 10. Spôsob podľa nároku 9, vyznačujúci sa tým, že polymerizácia je katiónová polymerizácia iniciovaná trifluórmetánsulfónovou kyselinou (triflic acid).
- 11. Spôsob podľa nároku 9, vyznačujúci sa tým, že polymerizácia je aniónová polymerizácia iniciovaná dilítiumdifenylsilanolátom.
- 12. Lineárny siloxánový polymér všeobecného vzorca (V)- 18R-Si-R tOIR-^i-R v v v /W\O-)e(V) kde substituenty R sú rovnaké ako v zlúčenine (IV) a m je 3 až 9 000.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US41626599A | 1999-10-12 | 1999-10-12 | |
PCT/FI2000/000854 WO2001027187A1 (en) | 1999-10-12 | 2000-10-04 | New cyclotrisiloxanes, new siloxane polymers and their preparation |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SK4202002A3 true SK4202002A3 (en) | 2002-09-10 |
Family
ID=23649263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SK420-2002A SK4202002A3 (en) | 1999-10-12 | 2000-10-04 | New cyclotrisiloxanes, new siloxane polymers and their preparation |
Country Status (20)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6284906B1 (sk) |
EP (1) | EP1237986A1 (sk) |
JP (1) | JP2003511465A (sk) |
KR (1) | KR20020053068A (sk) |
CN (1) | CN1399657A (sk) |
AU (1) | AU7666400A (sk) |
CA (1) | CA2386324A1 (sk) |
CZ (1) | CZ20021272A3 (sk) |
DE (1) | DE1237986T1 (sk) |
EE (1) | EE200200188A (sk) |
HK (1) | HK1047118A1 (sk) |
HU (1) | HUP0203328A2 (sk) |
IL (1) | IL148852A0 (sk) |
MX (1) | MXPA02003413A (sk) |
NO (1) | NO20021702D0 (sk) |
PL (1) | PL354403A1 (sk) |
RU (1) | RU2002112333A (sk) |
SK (1) | SK4202002A3 (sk) |
TW (1) | TW499451B (sk) |
WO (1) | WO2001027187A1 (sk) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7101643B2 (en) * | 2001-05-31 | 2006-09-05 | The Regents Of The University Of California | Polymeric electrolytes based on hydrosilyation reactions |
TW200637869A (en) | 2005-01-28 | 2006-11-01 | Chugai Pharmaceutical Co Ltd | The spiroketal derivatives and the use as therapeutical agent for diabetes of the same |
EP1963402A2 (en) * | 2005-03-17 | 2008-09-03 | Johnson and Johnson Vision Care, Inc. | Process for the production of monodisperse and narrow disperse monofunctional silicones |
DE102005018628A1 (de) * | 2005-04-21 | 2006-10-26 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Silanolgruppen aufweisenden Organopolysiloxanen |
DE102005018629A1 (de) * | 2005-04-21 | 2006-10-26 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Triorganosiloxygruppen aufweisenden Organopolysiloxanen |
US8044161B2 (en) * | 2007-03-12 | 2011-10-25 | Bayer Shering Pharma Oy | Use of tocopherol |
CN101724226B (zh) * | 2009-11-20 | 2011-12-07 | 苏州大学 | 一种改性热固性树脂及其制备方法 |
JP2012232975A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-29 | Central Glass Co Ltd | シロキサン化合物およびその硬化物 |
WO2016012433A1 (en) * | 2014-07-22 | 2016-01-28 | Koninklijke Philips N.V. | Siloxane ligands to be used for dispersing quantum dots in silicone hosts to obtain color converters for led lighting |
CN104327269B (zh) * | 2014-09-15 | 2017-04-05 | 杭州师范大学 | 一种含有大环结构的超支化聚硅氧烷及其合成方法 |
US9695316B2 (en) * | 2015-05-18 | 2017-07-04 | Milliken & Company | Cyclic siloxane compounds and compositions comprising the same |
JP6786716B2 (ja) | 2017-04-04 | 2020-11-18 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG | 反応性シロキサンおよびその製造方法 |
US10875968B2 (en) * | 2018-04-17 | 2020-12-29 | Gelest Technologies, Inc. | Hydridosiloxanyl substituted cyclotrisiloxanes, preparation method thereof, and polymeric products derived therefrom |
WO2019219452A1 (de) * | 2018-05-17 | 2019-11-21 | Evonik Degussa Gmbh | Lineare polydimethylsiloxan-polyoxyalkylen-blockcopolymere des strukturtyps aba |
CN110156826B (zh) * | 2019-06-20 | 2021-08-31 | 威海新元化工有限公司 | 二苯基环三硅氧烷及其制备方法与应用 |
CN114456208B (zh) * | 2020-11-09 | 2023-06-23 | 中昊晨光化工研究院有限公司 | 一种二苯基二甲基硅氧烷环体的制备方法 |
CN113502690B (zh) * | 2021-06-25 | 2022-08-19 | 浙江纳美新材料股份有限公司 | 一种用于食品包装纸染色的水性色浆 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3364244A (en) * | 1964-07-01 | 1968-01-16 | Gen Electric | Cyclic siloxanes |
US5246703A (en) * | 1991-12-27 | 1993-09-21 | Dow Corning Corporation | Siloxy-functional cyclopolysiloxanes |
JP3123351B2 (ja) * | 1994-06-15 | 2001-01-09 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性シリコーン組成物 |
US5693735A (en) * | 1995-07-12 | 1997-12-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Trimethylsiloxy group-containing polysiloxane and a process for producing the same |
-
2000
- 2000-07-06 US US09/612,617 patent/US6284906B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-10-04 HU HU0203328A patent/HUP0203328A2/hu unknown
- 2000-10-04 KR KR1020027004648A patent/KR20020053068A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-10-04 MX MXPA02003413A patent/MXPA02003413A/es not_active Application Discontinuation
- 2000-10-04 EP EP00966188A patent/EP1237986A1/en not_active Withdrawn
- 2000-10-04 RU RU2002112333/04A patent/RU2002112333A/ru not_active Application Discontinuation
- 2000-10-04 CN CN00814252A patent/CN1399657A/zh active Pending
- 2000-10-04 JP JP2001530401A patent/JP2003511465A/ja active Pending
- 2000-10-04 DE DE1237986T patent/DE1237986T1/de active Pending
- 2000-10-04 CA CA002386324A patent/CA2386324A1/en not_active Abandoned
- 2000-10-04 WO PCT/FI2000/000854 patent/WO2001027187A1/en not_active Application Discontinuation
- 2000-10-04 IL IL14885200A patent/IL148852A0/xx unknown
- 2000-10-04 EE EEP200200188A patent/EE200200188A/xx unknown
- 2000-10-04 AU AU76664/00A patent/AU7666400A/en not_active Abandoned
- 2000-10-04 PL PL00354403A patent/PL354403A1/xx unknown
- 2000-10-04 CZ CZ20021272A patent/CZ20021272A3/cs unknown
- 2000-10-04 SK SK420-2002A patent/SK4202002A3/sk unknown
- 2000-10-09 TW TW089121110A patent/TW499451B/zh not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-04-11 NO NO20021702A patent/NO20021702D0/no not_active Application Discontinuation
- 2002-11-28 HK HK02108587.0A patent/HK1047118A1/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6284906B1 (en) | 2001-09-04 |
JP2003511465A (ja) | 2003-03-25 |
KR20020053068A (ko) | 2002-07-04 |
NO20021702L (no) | 2002-04-11 |
WO2001027187A1 (en) | 2001-04-19 |
PL354403A1 (en) | 2004-01-12 |
TW499451B (en) | 2002-08-21 |
CN1399657A (zh) | 2003-02-26 |
IL148852A0 (en) | 2002-09-12 |
MXPA02003413A (es) | 2004-09-10 |
EP1237986A1 (en) | 2002-09-11 |
HUP0203328A2 (en) | 2003-02-28 |
HK1047118A1 (zh) | 2003-02-07 |
EE200200188A (et) | 2003-04-15 |
CA2386324A1 (en) | 2001-04-19 |
AU7666400A (en) | 2001-04-23 |
RU2002112333A (ru) | 2004-01-27 |
NO20021702D0 (no) | 2002-04-11 |
CZ20021272A3 (cs) | 2002-08-14 |
DE1237986T1 (de) | 2003-01-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SK4202002A3 (en) | New cyclotrisiloxanes, new siloxane polymers and their preparation | |
Whitmarsh et al. | Synthesis and structure of a highly branched polycarbosilane derived from (chloromethyl) trichlorosilane | |
US5650474A (en) | Process for preparing organic functional group-containing organopolysiloxanes, organopolysiloxanes obtained by the process and novel mercapto group and alkoxy group-containing organopolysiloxanes and preparation thereof | |
ES2434333T3 (es) | Procedimiento de fabricación de un oligómero de siloxano con una funcionalidad Si-H | |
JP2857203B2 (ja) | オルガノシリコーン縮合生成物の製造方法 | |
EP0629648B1 (en) | Method for preparation of carbinol-functional siloxanes | |
EP3153518B1 (en) | Mono-functional branched organosiloxane compound and method for producing the same | |
Sugiyama et al. | Synthesis of polycyclic and cage siloxanes by hydrolysis and intramolecular condensation of alkoxysilylated cyclosiloxanes | |
EP1600450B1 (en) | Silane compound having at least two protected functional groups and method for preparing the same | |
Paulasaari et al. | Base catalyzed proton transfer polymerization of 1‐hydroxypentamethylcyclotrisiloxane. Comparison of hyperbranched polymer microstructure and properties to those of highly regular linear analogs | |
EP4172241B1 (en) | Composition and method for reacting an organosilicon compound and a silyl hydride catalyzed by a fluorinated arylborane lewis acid | |
JPS62153322A (ja) | 末端ジヒドロオルガノシロキサンの製造方法 | |
EP4410796A1 (en) | Method for producing alkoxysilyl alkylaminopropyl-modified polysiloxane compound | |
US20080051525A1 (en) | Process for preparing substituted polysiloxane coatings | |
Whitmarsh et al. | Synthesis and characterization of mono-, bis-, tris-and tetrakis (trimethylsilylmethyl) silanes:(Me3SiCH2) xSiH4− x (x= 1− 4) | |
Zhang | Synthesis and characterization of octasilsesquioxane-based molecular composite precursors with potential applications as dental restoratives | |
WO2024026197A1 (en) | Synthesis and use of a carbamate-functional alkoxysilalkylenesilane compound | |
JP3714386B2 (ja) | 3−アミノプロピル基含有有機ケイ素化合物の安定化方法 | |
Oben | Synthesis of Advanced Hybrid Polymeric Nanomaterials and Characterization of Novel Silsesquioxanes with Desirable Superhydrophobic Coating Properties | |
US20100280189A1 (en) | Synthesis of cycloaliphatic substituted silane monomers and polysiloxanes for photo-curing | |
JP3257414B2 (ja) | 環状エーテル基を有するオルガノポリシロキサン | |
Thompson et al. | · Synthesis of Functional Silicone Architectures via Tris {pentafluorophenyl} borane-Catalyzed Dehydrocarbonative Coupling | |
Scott | Studies in Organosilicon Chemistry | |
Bones | Synthetic structural and kinetic studies of polyethoxy-silanes | |
KR20070018993A (ko) | 실리콘 축합 반응 |