CZ20021272A3 - Nové cyklotrisiloxany, nové siloxanové polymery a jejich příprava - Google Patents
Nové cyklotrisiloxany, nové siloxanové polymery a jejich příprava Download PDFInfo
- Publication number
- CZ20021272A3 CZ20021272A3 CZ20021272A CZ20021272A CZ20021272A3 CZ 20021272 A3 CZ20021272 A3 CZ 20021272A3 CZ 20021272 A CZ20021272 A CZ 20021272A CZ 20021272 A CZ20021272 A CZ 20021272A CZ 20021272 A3 CZ20021272 A3 CZ 20021272A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- phenyl
- compound
- general formula
- substituents
- same
- Prior art date
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 39
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 17
- JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N cyclotrisiloxane Chemical class O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 13
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 14
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 12
- -1 alkyl lithium Chemical compound 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 6
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 5
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000004032 superbase Substances 0.000 claims description 5
- 150000007525 superbases Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UCVHTYKWNMPBGD-UHFFFAOYSA-N dilithium oxido(diphenyl)silane Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][SiH](c1ccccc1)c1ccccc1.[O-][SiH](c1ccccc1)c1ccccc1 UCVHTYKWNMPBGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- YOIAWAIKYVEKMF-UHFFFAOYSA-N trifluoromethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F.OS(=O)(=O)C(F)(F)F YOIAWAIKYVEKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QCYIFDAFIXZTQO-UHFFFAOYSA-N lithium;diphenylmethylbenzene Chemical compound [Li+].C1=CC=CC=C1[C-](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QCYIFDAFIXZTQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)phosphinimyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)P(=N)(N(C)C)N(C)C GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 3
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 3
- PFEAZKFNWPIFCV-UHFFFAOYSA-N hydroxy-[hydroxy(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(O)O[Si](C)(C)O PFEAZKFNWPIFCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLLGPOUIEZTFAW-UHFFFAOYSA-N C[SiH](C)O[Si](C)(Cl)Cl Chemical compound C[SiH](C)O[Si](C)(Cl)Cl GLLGPOUIEZTFAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000569 multi-angle light scattering Methods 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMAEXHRALNMAJ-UHFFFAOYSA-N C[SiH](C)O[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C[SiH](C)O[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 YIMAEXHRALNMAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 241000234435 Lilium Species 0.000 description 1
- 241001181114 Neta Species 0.000 description 1
- 229910007991 Si-N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006294 Si—N Inorganic materials 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C1=CC=CC=C1 KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVYQDQZEMGUESH-UHFFFAOYSA-N dimethylsilyloxy(dimethyl)silane Chemical compound C[SiH](C)O[SiH](C)C NVYQDQZEMGUESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- NSRBCQCXZAYQHF-UHFFFAOYSA-N n-[[tert-butylimino-bis[[tris(dimethylamino)-$l^{5}-phosphanylidene]amino]-$l^{5}-phosphanyl]imino-bis(dimethylamino)-$l^{5}-phosphanyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)P(N(C)C)(N(C)C)=NP(=NC(C)(C)C)(N=P(N(C)C)(N(C)C)N(C)C)N=P(N(C)C)(N(C)C)N(C)C NSRBCQCXZAYQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001208 nuclear magnetic resonance pulse sequence Methods 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920003257 polycarbosilane Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQIZMIMBOWVMCX-UHFFFAOYSA-N tris(dimethylsilyloxy)-ethenylsilane Chemical compound C[SiH](C)O[Si](O[SiH](C)C)(O[SiH](C)C)C=C XQIZMIMBOWVMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
- C08G77/08—Preparatory processes characterised by the catalysts used
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
NOVÉ CYKLOTRISILOXANY, NOVÉ SILOXANOVÉ POLYMERY A JEJICH PŘÍPRAVA
Oblast techniky
Tento vynález se zabývá novými cyklotrisiloxany, novými vysoce rozvětvenými nebo lineárními siloxanovými polymery a jejich přípravou.
Dosavadní stav techniky
Publikace a další materiály zde použité slouží k osvětlení dosavadního stavu techniky a pomocí konkrétních příkladů jsou vysvětleny další detaily postupů.
Organokřemičité dendritické a vysoce rozvětvené polymery jsou dobře známy. Dendrimerové jádro se obvykle připraví z tetraallyl- nebo -vinylsilanu, který se potom derivatizuje hydrosilylační reakcí (1, 2). Na druhé straně, vysoce rozvětvené polykarbosilany se běžně připravují z vinyltris(dimethylsiloxy)silanu hydrosilylačními reakcemi. Obvykle 8 až 10 molárních % výchozího materiálu cyklizuje při vedlejší reakci (3). Viz Viz schéma 1.
Je málo příkladů vysoce větvených nebo dendritických polysiloxanů, např. polymerů, jejichž hlavní řetězec sestává pouze z -SiRR’-O-vazeb. Pravděpodobně nejvýznamnější je spis od Uchicda a kol. (4), který popisuje vícestupňový postup pro vysoce pravidelné dendritické polysiloxany třetí generace s molekulovou hmotností přibližně 15 000 g/mol. Viz Viz schéma 2.
Rebrov (5) použil odlišnou metodu. Nechal reagovat MeSiCb se třemi ekvivalenty NaOSiMe(OEt)2. Ethoxy skupiny kvantitativně konvertovaly na chlory při reakci s thionylchloridem. Výsledný produkt se opět nechal reagovat s NaOSiMe(OEt)2, následnou konverzí Si-OEt na Si-CI skupiny se opakovaně obdrží čtvrtá generace polymeru ve výtěžku >75%. Viz schéma 3.
Morikowa (6) využil při syntéze lehce štěpitelnou Si-Ph vazbu. Jádro se připravilo ze sloučeniny obsahující tři Si-fenylové skupiny, které se přeměnily na Si-Br reakcí s Br2. Reakce s HNMe2 poskytla Si-N funkční skupiny, které na oplátku mohou reagovat se silanoly, které nesou Si-fenylové skupiny. Tento cyklus se opakoval dvakrát za poskytnutí dendrimeru třetí generace v 32% výtěžku, s molekulovou hmotností přibližně 4 800 g/mol. Viz schéma 4.
Schéma 1
XS< Si 8-10 mol·*
Schéma 2
M«SCI,
-HO h4sí-o).
-?*-o-{s<-o^sí
KfSHO)
I (μ^ΓΊ / (O-«-H (o-SiX-H / ΙΎ (O-St^-O-Sr— l‘ II (O-S*)-b·
Si-H ukončený dendrimer, 1. generace ·· ♦· » · · t · · · ·
Schéma 3
-EMtSiOa
SOOj
Atd.
Schéma 4 lilii
Ph-Si-o-^-O-^O-Si-O-Si-Ph θ
—Si— i
O
I —Si— »
Ph lilii
1. Br2
2. HNEt8 —Si— i —Sb— NEta
Ph
I
-Si—
I
O
Ph
-Sji
-Si—O”Si”O*^i*‘O'|i'O“’Ši,“0,’*SI-0'“^i“0**^i*‘0—Ši— i i i n»-s-o-e-o-«-n» I e '
-Si— i
Ph —Si— i
O
I —Si— i
O t
—Si—i 9 i
Ph-Si-O-St-O-Si-Ph —Si— i
Ph
Atd.
Podstata vynálezu
Cílem tohoto vynálezu je poskytnout vhodné způsoby pro přípravu vysoce síťovaných siloxanových polymerů aniontovou polymerací cyklotrisiloxanu obsahujícího funkční skupinu Si-OH a pro přípravu lineárních siloxanových polymerů kationtovou nebo aniontovou polymerací cyklotrisiloxanu obsahujícího koncovou vinylovou funkční skupinu. Dalším cílem tohoto vynálezu je poskytnout nové cyklotrisiloxany vhodné pro přípravu výše zmíněných polymerů.
Podle jednoho aspektu, se tento vynález zabývá novými cyklotrisiloxany o obecném vzorci (I) •R
kde Y je OSi(R)2H, OSi(R)2OH nebo O-Si(R)2-OSi(R)2-CH=CH2, a R substituenty mohou být stejné nebo rozdílné, přičemž kterýkoli R substituent se vybral ze skupiny sestávající zfenylu, nesubstituovaného nebo substituovaného alkylu o 1 až 6 uhlíkových atomech, kde volitelný substituent je fenyl nebo jeden nebo více atomů fluoru, pod podmínkou, že alfa nebo beta pozice alkylového řetězce nemůže být substituována fluorem.
Podle dalšího aspektu se tento vynález zabývá způsoby pro přípravu vysoce síťovaných siloxanových polymerů, kde sloučenina obecného vzorce (II) .0 (Π) kde Y je OH nebo OSi(R)2OH, a R substituenty mohou být stejné nebo rozdílné, přičemž kterýkoli R substituent se vybral ze skupiny sestávající z fenylu, nesubstituovaného nebo substituovaného alkylu o 1 až 6 uhlíkových atomech, kde volitelný substitu·· ·· ·· ·· • · · · * · • · · · · · · • · · · · · · • · ···· · · · •·» · ·· ·· ······ ent je fenyl nebo jeden nebo více atomů fluoru, za předpokladu, že alfa nebo beta pozice alkylového řetězce nemůže být substituována fluorem, je podrobena aniontové polymeraci ve hmotě nebo vhodném rozpouštědle, např. THF, za poskytnutí vysoce síťovaného polymeru, který má obecný vzorec (lllal, Illa2, Illa3) nebo (lllbl, Illb2, Illb3)
IQal r R —i
R J lllbl
R-Sr-O-j-z O
R—Si— O-f-Z 9 —Sí-R
ΙΠ*3
HIa2
IHb2 r- ?
R-St—O0
R-Sr-O•2
R-Shr
O
-Sí-R R
IHb3 kde sustituenty R jsou definovány výše a kde každé Z v lllal-a3 je jedna ze skupin Illa1-a3, a každé Z v Illb1-b3 je jedna ze skupin Illb1-b3, nebo Z je koncová skupina. Koncová skupina, která může být stejná nebo rozdílná, může být vodík získaný neutralizací nebo radikál odvozený od halosilanu nebo halosiloxanu, např. chlorsilan nebo chlorsiloxan, kde halosilan nebo halosiloxan může nést funkční nebo nefunkční skupiny. Jako příklady funkčních nebo nefunkčních skupin mohou být uvedeny vodík, vinyl, substituent R jak je definován výše, amino, alkoxy nebo polyalkylenoxid. Zakončení polymeru lze také vytvořit pomocí směsi různých sloučenin. Vhodným výběrem koncové skupiny lze požadovanými způsoby modifikovat povrch polymeru.
Podle dalšího aspektu se tento vynález zabývá způsobem přípravy lineárního siloxanového polymeru, kde sloučenina o obecném vzorci (IV) • ·
(IV) kde Y je O-Si(R)2-OSi(R)2-CH=CH2 a R substituenty mohou být stejné nebo rozdílné, přičemž kterýkoli R substituent se vybral ze skupiny sestávající z fenylu, nesubstituovaného nebo substituovaného alkylu o 1 až 6 uhlíkových atomech, kde volitelný substituent je fenyl nebo jeden nebo více atomů fluoru, pod podmínkou, že alfa nebo beta pozice alkylového řetězce nemůže být substituována fluorem, je podrobena kationtové nebo aniontové polymeraci za poskytnutí lineárního polymeru, který má obecný vzorec (V)
Γ
R-Si-R l
kde substituenty R jsou stejné jako v sloučenině (IV) a m je 3 až 9000.
Vynález se také zabývá novými vysoce síťovanými a lineárními siloxanovými polymery.
Podle výhodného provedení je každý R-substituent v cyklotrisiloxanu o obecném vzorci (I) stejný a je to alkyl o 1 až 4 atomech uhlíku. Ještě výhodněji je každý R-substituent methyl.
Aniontová polymerace Si-OH funkční skupiny cyklotrisiloxanu (sloučenina (II)) se může provést za přítomnosti báze obsahující lithium, například alkyllithium jako je nbutyllithium nebo trifenylmethyllithium nebo lithiumdiisopropylamid. Polymerace může
• · ···« · · ··«« · · · · «· být provedena ve hmotě nebo ve vhodném rozpouštědle. Příkladem vhodného rozpouštědla může být zmíněný THF.
Eventuelně může být aniontová polymerace provedena reakcí cyklotrisiloxanu obsahujícího Si-OH funkční skupinu s katalytickým množstvím superbáze jako je fosfazen. Obzvlášť použitelná superbáze je fosfazenová báze P4-t-Bu [1-terc-butyl-4,4,4tris(dimethylamino)-2,2-bis[tris(dimethylamino)fosforanylidenamino]-2X5,4X5katenadi(fosfazen)].
Příprava lineárních siloxanových polymerů může být provedena kationtovou polymerací iniciovanou kyselinou jako je trifluormethansulfonová kyselina (triflic acid) nebo aniontovou polymerací iniciovanou bázemi jako je dilithiumdifenylsilanolát nebo dilithiumtetramethylsiloxandiolát.
Příklady provedení vynálezu
Vynález bude detailněji popsán v následující experimentální části v příkladech, které nejsou limitující pro tento vynález.
Experimentální část:
Spektroskopická analýza 1H, 13C a 29Si NMR spektra se obdržela na Bruker AMX-500 MHz spektrometru operujícím v FT modu. 1H NMR spektra se měřila v 5 % hmotn./obj. chloroform-d roztocích. Čtyřicet procent hmotn./obj. roztoků v acetonu-ofe se použilo pro získání 29Si a 13C NMR spekter. 13C NMR spektra se získaly pomocí širokého pásma zrušení spin-spinové interakce protonů. Pro zjištění 29Si NMR spekter se použila inverzní pulsní sekvence rušící spin-spinovou interakci se zpožděním 60 sekund. Tetramethyisilan (TMS) se použil jako vnitřní standard pro 1H, 13C a 29Si NMR spektra.
IR spektra na čistých filmech na NaCI deskách se zaznamenala na Perkin Elmer Spectrum 2000 FT-IR spektrometru. GPC analýza rozložení molekulových hmotností polymerů se provedla na systému Watters opatřeném detektorem indexu lomu. Dvě 7,8 mm x 300 mm Styragel kolony naplněné <5 μιτι divinylbenzenu zesítěného polystyrenem HR4 a HR2 v sérii se použily pro analýzu. Eluční rozpouštědlo byl toluen při průtoku 0,3 ml/minutu. Retenční časy se kalibrovaly oproti známým monodisperzním polystyrénovým standardům. TGA polymerů se měřila na přístroji Shimadzu TGA-50 . Teplotní program byl 4 °C/minutu od 25 do 850 °C.
Tg polymerů se určila pomocí DSC na Perkin-Elmer DSC-7. Teplotní program pro analýzu začínal na -150 °C. Teplota rostla rychlostí 10°C/minutu. Rozptyl světla
CPS/MALLS se provedl s Wyatt Dawn-DSP MALLS detektorem, který se vložil mezi
GPC kolony a R410 Rl detektor. Data se analyzovala pomocí systému Wyatt Astra.
Jako eluent se použil THF.
Všechny reakce se prováděly ve skle vysušeném v plamenu, pod atmosférou argonu.
Příklad 1
Příprava 1 -dimethylsiloxy-1,3,3,5,5-pentamethylcyklotrisiloxanu
a) 1,1-dichlor-1,3,3-trimethyldisiloxan
1,3-dihydridotetramethyldisiloxan (57 g, 0,42 mol) a methyltrichlorsilan (96 g, 0,64 mol) se umístí do 200 ml rb baňky opatřené magnetickým míchadlem potaženým teflonem a hermeticky uzavřené gumovým šeptem. Roztok katalyzátoru (500 μΙ) se vstříkne do baňky při teplotě místnosti (TM). Nedojde k žádné reakci. Do roztoku se pomalu probublává bezvodý HCI plyn. Přebytečný tlak se uvolní přes jehlu injekční stříkačky, která se připevní k sušící trubici, která je naplněná Drieritem. Nastane exotermická reakce. Obsah v baňce se zahřeje na asi 35 °C v 10 minutách. Přidávání plynného HCI plynu pokračuje po dobu 2 hodin. Reakční směs se destiluje přes 50 cm kolonu s vakouvým pláštěm, která je naplněná nerezovými sedly. Frakce, 33,6 g (42% výtěžek), teplota varu 116 °C, se shromažďuje. 1H NMR δ: 0,32 (d, 6H, J = 3 Hz), 0,84 (s, 3H), 4,77 (septet, 1H, J = 3 Hz); 13C NMR δ: -0,17, 5,97; 29Si NMR δ; -17,10 (1Si), 0,94 (1Si). IR v: 2966, 2151, 1414, 1258, 1088, 904,797 cm’1.
b) T etramethyldisiloxan-1,3-diol
Sloučenina se připraví řízenou hydrolýzou dimethyldichlorsilanu (5).
c) 1 -dimethylsiloxy-1,3,3,5,5-pentamethylcyklotrisiloxan
1,1-dichlor-1,3,3-trimethyldisiloxan (25,0 g, 0,13 mol) v 30 ml Et2O a tetramethyldisiloxan-1,3-diol (22,0 g, 0,13 mol) v 30 ml Et2O se po kapkách přidají k roztoku Et3N (28,0 g, 0,28 mol) a 170 ml Et2O po dobu jedné hodiny při teplotě místnosti. Po míchání po dobu 2 hodin, se reakční směs zfiltruje a promyje vodou, zředí roztokem H3PO4 a nasyceným NaHCO3. Vysuší se nad bezvodým MgSC>4, zfiltruje a těkavé látky se odstraní odpařením za sníženého tlaku. Frakční destilace přes 10cm kolonu s vakuovým pláštěm poskytne frakci, 26,9 g (72% výtěžek), teplota varu 81 °C (40 mm Hg). 1H NMR δ: 0,09 (s, 3H), 0,12 (s, 6H), 0,14 (s, 6H), 0,20 (d, 6H, J = 3 Hz), 4,75 (sept., 1H, J = 3 Hz); 13C NMR δ: -3,11, 0,52, 0,72, 0,82. 29Si NMR δ: -56,20 (1Si), -8,50 (2Si), -5,72 (1Si). IR v; 2966, 2907, 2133, 1406, 1260, 1089, 1020, 907, 862, 810, 770, 624 cm'1.
«* · · ·· ··
Příklad 2
1-(hydroxydimethylsiloxy)-1,3,3,5,5-pentamethylcyklotrisiloxan
Vytvoří se homogenní roztok z 1-dimethylsiloxy-1,3,3,5,5-pentamethylcyklotrisiloxanu získaného v Příkladu 1 (20,0 g, 70 mmol), 250 ml dioxanu a 30 ml destilované vody. K roztoku se přidá palladiový katalyzátor (10 % Pd/C, 0,5 g) ve třech alikvotech při teplotě místnosti a systém se nechá reagovat po dobu 12 hodin. Když se přidá další malé množství katalyzátoru, nevyvíjí se další H2. Po filtraci a odstranění těkavých látek odpařením poskytne frakční destilace frakci, 19,6 g (66 mmol, 93% výtěžek), teplota varu 52 °C (0,1 mm Hg). 1H NMR δ: 0,10 (6H), 0,11 (3H), 0,12 (6H), 0,15 (6H), 5,15 (1H); 13C NMR δ: -2,81, 0,34, 0,78, 0,85. 29Si NMR δ: -57,63 (1Si), -12,45 (1Si), -8,32 (2Si). IR v: 3339 (br), 2966, 2907, 1411, 1262, 1092, 1023, 880, 867, 809, 764, 624 cm'1.
Příklad 3
-dimethylsiloxy-1 -fenyl-3,3,5,5-tetramethylcyklotrisiloxan
Příprava se provede podle postupu popsaného v Příkladu 1 z 1-fenyl-1,1-dichlor-3,3-dimethyldisiloxanu (22,0 g, 88 mmol), tetramethyldisiloxan-1,3-diolu (14,56 g, 88 mmol) a Et3N (18,6 g, 184 mmol) v 210 ml diethyletheru. 13,02 g (výtěžek 43 %), teplota varu 86 °C (1 mm Hg). 1H NMR δ: 0,17 (s, 6H), 0,24 (s, 6H), 0,26 (d, 6H, J =
2,5 Hz), 4,82 (sept. 1H, J = 2,5 Hz), 7,42 (m, 3H), 7,65 (m, 2H). 13C NMR δ: 0,80, 0,98, 1,23, 128,42, 130,86, 133,73, 134,30. 19F NMR δ; 29Si NMR δ: -70,00 (1SÍ), -7,27 (2Si), -3,90 (1Si). IR v: 2964, 2133, 1431, 1261, 1133, 1084, 1021, 998, 902, 851, 808, 771, 699, 641 cm'1.
Příklad 4
1-(hydroxydimethylsiloxy)-1-fenyl-3,3,5,5-tetramethylcyklotrisiloxan
Příprava se provede podle postupu popsaného v Příkladu 2 z 1-dimethylsiloxy-1 -fenyl-3,3,5,5-tetramethylcyklotrisiloxanu z Příkladu 2 (8,34 g, 24 mmol), destilované vody (10 ml), katalyzované pomocí 0,4 g 10% Pd/C. 6,18 g (výtěžek 71 %), teplota varu 94 °C (0,2 mm Hg). 1H NMR δ: 0,13 (s, 6H), 0,16 (s, 6H), 0,23 (s, 6H), 5,37 (s, 1H), 7,41 (m, 3H), 7,67 (m, 2H). 13C NMR δ: 0,62, 0,90, 1,10, 128,31, 130,72, 134,38. 29Si NMR δ: -71,73 (1Si), -11,97 (1Si), -7,35 (2Si). IR v: 3392, 2964, 1595, 1431, 1262, 1133,1189,1020, 998, 879, 852, 808, 745, 717, 699, 641,593 cm'1.
·« ·« ·· ·· • · · ♦ · · · • *··· · · · • ·* ··· · · • · · · · · · • · « « ·· ····
Příklad 5
3’-viny 1-1 ’, 1 ’,3’,3’-tetramethyldisiloxy-1,3,3,5,5-pentamethylcyklotrisiloxan
Vinyldimethylchlorsilan (4,0 g, 33 mmol) v 10 ml Et2O se po kapkách přidá k roztoku 1-dimethylhydroxysiloxyl-1,3,3,5,5-pentamethylcyklotrisiloxanu připraveného v Příkladu 2 (4,85 g, 16 mmol), 60 ml Et2O a Et3N (4,0 g, 40 mmol) při teplotě místnosti během 20 minut. Po 5 hodinách se reakce zfiltruje. Filtrát se promyje vodou, zředí vodným roztokem H3PO4 a nasyceným NaHCO3 pro odstranění triethylamoniumchloridu, vysuší nad bezvodým MgSO4 a zfiltruje. Výsledný produkt 4,91 g (0,13 mol, výtěžek 79 %) se obdrží frakční destilací při 50 °C/(0.15 mm Hg). 1H NMR δ: 0,09 (s, 6H), 0,11 (s, 3H), 0,13 (s, 6H), 0,15 (d, 6H, J = 0,5 Hz), 0,17 (s, 6H), 5,76 (dd, 1H, J = 21 a 4 Hz), 5,93 (dd, 1H, J = 15 a 4 Hz), 6,14 (dd, 1H, J = 21 a 15). 13C NMR δ: -2,73, 0,36, 0,77, 0,93, 1,07, 132,08, 139,69. 29Si NMR δ: -58,11 (1Si), -20,30 (1Si), -8,40 (2Si), -3,53 (1Si). IR v: 3052, 2965, 2906, 1596, 1408, 1261, 1068, 1021, 862, 839, 808, 763, 710, 625 cm'1.
Příklad 6
Příprava lineárního siloxanového polymeru kationtovou polymerací
3’-vinyl-1’,1’,3’,3’-tetramethyldisiloxyl-1,3,3,5,5-pentamethylcyklotrisiloxan z Příkladu 5 (1,0 g, 2,6 mmol) v 250 μί 1,1,2-trichlortrifluorethanu se ochladí na -78 °C a do roztoku se vstříkne 5 μΙ trifluormethansulfonové kyseliny (triflic acid). Když se systém stane příliš viskózním, až zabraňuje míchání, přidá se další 1,1,2-trichlortrifluorethan (3 x 250 ml). Reakce se ukončí po 0,5 hodině přidáním 20 mg, 0,12 mmol hexamethyldisilazanu. Polymer se třikrát vysráží ze směsi Et2O/MeOH a suší pod vakuem po dobu 12 hodin. Touto cestou se obdrží 0,48 g (48% výtěžek) polymeru. Mn/Mw = 83 900/28 300. 1H NMR δ: 0,08-0,18 (m, 27H), 5,75 (dd, 1H, J = 20,5 a 4 Hz), 5,92 (dd, 1H, J = 15 a 4 Hz), 6,13 (dd, 1H, J = 20,5 a 15 Hz). 13C NMR δ: -2,04, -2,02, -0,39, 1,11, 1,15, 1,18, 1,20, 1,23, 1,28, 131,96, 139,57. 29Si NMR δ: -67,17, -67,11, -21,93, -21,92, -21,84, -21,76, -21,75, -21,68, -21,04, -3,95, 3,94. IR v: 3053, 2964, 2906, 1596, 1408, 1261, 1094, 1030, 956, 839, 799, 756, 707, 518 cm’1.
»· »· • · · · · · · • · · · * · · · • ·» · · · · · • · · · · · · · ···· ·· ·· ♦·····
Příklad 7
Příprava lineárního siloxanového polymeru aniontovou polymerací
a) Iniciátor
Dilithiumdifenylsilanolát se připraví reakcí difenylsilandiolu s n-butyllíthiem v THF. Jako indikátor se použije styren (8).
b) Aniontová polymerace
Iniciátor (22 μΙ, 10pmol) se vstříkne k roztoku 3’-vinyl-r,T,3’,3’-tetramethyldisiloxyl-1,3,3,5,5-pentamethylcyklotrisiloxanu z Příkladu 5 (1,0 g, 2,6 mmol) v 250 μί THF při teplotě místnosti. Polymerace se provádí po dobu 24 hodin, po kterých se ukončí vinyldimethylchlorsilanem (0,1 g, 0,8 mmol). Polymer se třikrát vysráží s Et2O/MeOH a suší ve vakuu po dobu 10 hodin, výtěžek 0,92 g, (92%) produktu. Mw/Mn = 29 100/12 400. TGA: Rozklad začíná při 425 °C. Při 530 °C zůstává 90 % materiálu. Při 655 °C se ztratí polovina celkové váhy. Při 850 °C zbude čtyřicet pět procent výchozího materiálu.
Příklad 8
Příprava lineárního siloxanového polymeru aniontovou polymerací použitím superbáze
Superbáze (Phosphazene Base P4-t-Bu) (1M vn-hexanu) (2 μΙ, 2 μιτιοί) se nastříkne do roztoku 3‘-vinyl-1‘,1‘,3‘,3‘-tetramethyldisiloxyl-1,3,3,5,5-pentamethylcyklotrisiloxanu (1,0 g, 2,6 mmol) v 250 μί THF při teplotě místnosti. Po 0,5 hodině se reakce ukončí dimethylvinylchlorsilanem (0,1 g, 0,8 mmol). Těkavé látky se odstraní ve vakuu. Reakční produkt je nízkoviskózní kapalina o molekulových hmotnostech Mw/Ma = 8 700/2 100.
Příklad 9
Příprava vysocerozvětveného polymeru aniontovou polymerací
Monomer (1-dimethylhydroxysiloxyl-1,3,3,5,5-pentamethylcyklotrisiloxan), 2,0 g, 6,7 mmol a THF 1,0 ml se ochladí na -9 °C a vstříkne se báze (Prt-Bu) (8 μί, 8 μιηοΙ). Po 4 hodinách se přidá 1 ml THF, Et3N (2 ml, 7,3 mmol) a 1 ml vinyldimethylchlorsilanu a míchání pokračuje po dobu 12 hodin. Polymer se extrahuje do hexamethyldísiloxanu, promyje vodným roztokem NaCI a třikrát vysráží z THF/MeOH. Výtěžek 2,47 g (96 %), Mw/Mn = 15 400/5 900. 1H NMR δ: 0,05-0,20 (m, 27H), 5,74 (dd, 0.65H, J = 20,5 a
4,5 Hz), 5,76 (dd, 0.35H, J = 20,5 a 4,5 Hz), 5,91 (dd, 0.65H, J = 14 a 4,5), 5,92 (dd,
0.35H, J = 14 a 4,5 Hz), ), 6,13 (dd, 0.65H, J = 20,5 a 14,5 Hz), ), 6,13 (dd, 0.35H, J =
20,5 a 14,5 Hz). 13C NMR δ: -2,79, -2,11, 0,25, 0,36, 0,75-1,23 (m), 131,84, 131,97, 139,27, 139,49. 29Si NMR δ: -67,27, -67,20, -67,14, -67,06, -66,20, -66,14, -66,06,
-22,05, -21,97, -21,89, -21,82, -21,80, -21,76, -21,74, -21,11, -8,55, -4,00, -3,66, 3,64.
IR v: 3053, 2964, 2906, 1596, 1408, 1261, 1093, 1028, 956, 839, 799, 756, 707, 519 cm'1.
Příklad 10
Příprava vysoce rozvětveného polymeru z 1 -hydroxy-1,3,3,5,5-pentamethylcyklotrisiloxanu, ukončeného fenyldimethylsiloxy skupinou
THF (0,3 ml) a roztok Phosphazene Base Solution P4-t-Bu (10 μΙ, Fluka Chemie AG) se umístí do zkumavky opatřené magnetickým míchadlem potaženým teflonem a hermeticky uzavřené gumovým šeptem. Zchladí se na -15 °C a pomalu se po dobu 30 minut přidává pentamethylcyklotrisiloxan-1-ol (1,70g, 7,57 mmol). Systém se nechá reagovat při -15 °C po dobu 5 hodin a následně po další 4 dny při teplotě místnosti, po kterých se přidá Et3N (1,5 ml, 10,8 mmol), fenyldimethylchlorsilan (1,5 ml, 9,07 mmol) a 3 ml THF na zakončení polymeru. Po 24 hodinách se roztok zfiltruje a odstraní se amonná sůl. Těkavé látky se odpaří pod vakuem a polymer se třikrát vysráží zEt2O/MeOH. Výtěžek 1,72 g, (63,3%). Mw/Mn = 32 020/11 320 (GPC), Mw/Mn = 62 980/13 240 (Rozptyl světla). Tg = -98 °C, Tm = -56 °C. 1H NMR δ: 0,13 (m, 15,8H), 0,37 (m, 5,2H), 7,29 (s, 2,6H), 7,56 (s, 0,9H), 7,59 (s, 0,8H). 13C NMR δ: -2,01 (m), 0,80 (m), 1,20 (m), 127,97, 129,57, 129,60, 133,21, 133,27, 133,29, 139,41, 139,44,
139,64, 139,68. 29Si NMR δ: -67,78, -67,34, -67,25, -66,29, -65,86, -65,79, -21,73, -21,58, -21,53, -21,37, -21,34, -20,53, -8,29, -8,15, -2,25, -2,12, -1,76, -1,62. IR v: 3091,3072, 3053, 3025, 3012, 2963, 2905, 1592, 1488, 1429, 1412, 1261, 1120, 1090, 1027, 999, 857, 831, 800, 755, 726, 699, 668 cm'1. TGA: 95 % zůstalo při 437 °C. Při 576 °C zůstalo 50 %. Po 600 °C zůstalo 25 % zbytku.
Ocení se, že způsoby tohoto vynálezu mohou být začleněny ve formě mnoha provedení, přičemž zde jich je uvedeno jenom několik. Odborníkovi v oboru bude zřejmé, že existují další provedení a neodchylují se od myšlenky vynálezu. Proto jsou popsaná provedení vynálezu ilustrativní a neměla by být chápána jako omezující.
• *
Odkazy
1. Rebrov, E.A; Vasilenko, N.G; Muzafarov, A.M; a kol.; Polym. Preprints, (1998) 39(1), 479,481,581.
2. Kazakova, V; Myakushev, V; Střelková, T; Muzafarov, A; Preprints, (1998) 39(1), 483.
3. Herzig, C; Deubzer, B; Polym Preprints, (1998) 39(1), 477.
4. Uchida, H; Kabe, Y; Yoshino, K; Kawamata, A; Tsumuraya, T; Masamune, S;
J. Am. Chem. Soc. (1990) 112, 7077.
5. Rebrov, E.A; Muzafarov, A.M; Papkov, V.S; Zhdanov, A.A; Dokl. Akad. Nauk. SSSR, (1989) 309(2), 367.
6. Morikawa, A; Kakimoto, M; Imai, Y; Macromolecules, (1991) 24(12), 3469.
7. Harris, G.I.; J. Chem. Soc., (1963), 5978.
8. Battjes, K.; Kuo, C-M.; Miller, R.L.; Saam, J.C. Macromolecules (1995), 28, 790.
9. Masatoshi, A.; Sáto, S. Jpn. Patent JP 61 167 694 [86 167 694], (1986), CA 106: P 102 803 p, (1987).
Claims (12)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Cyklotrisiloxan o obecném vzorci (I) (I).kde Y je OSi(R)2H, OSi(R)2OH nebo O-Si(R)2-OSi(R)2-CH=CH2, a R substituenty mohou být stejné nebo rozdílné, přičemž kterýkoli R substituent se vybere ze skupiny sestávající z fenylu, nesubstituovaného nebo substituovaného alkylu o 1 až 6 atomech uhlíku, kde volitelný substituent je fenyl nebo jeden nebo více atomů fluoru, pod podmínkou, že alfa nebo beta poloha alkylového řetězce nemůže být substituována fluorem.
- 2. Sloučenina podle nároku 1, kde každý z R-substituentú v obecném vzorci (I) je stejný a je to alkyl o 1 až 4 atomech uhlíku.
- 3. Sloučenina podle nároku 2, kde každý z R-substituentů je methyl.
- 4. Způsob přípravy vysoce síťovaného siloxanového polymeru, vyznačující se tím, že sloučenina o obecném vzorci (II)R C) Y \ / \ / R-Si Si—.R (Π), kde Y je OH nebo OSi(R)2OH, a R substituenty mohou být stejné nebo rozdílné, přičemž kterýkoli R substituent je vybrán ze skupiny sestávající z fenylu, nesubstituovaného nebo substituovaného alkylu o 1 až 6 atomech uhlíku, kde volitelný9· · substituent je fenyl nebo jeden nebo více atomů fluoru, pod podmínkou, že alfa nebo beta poloha alkylového řetězce nemůže být substituována fluorem, je podrobena aniontové polymeraci ve hmotě nebo ve vhodném rozpouštědle, za poskytnutí vysoce rozvětveného polymeru, který má obecný vzorec (lllal, Illa2, Illa3) nebo (lllbl, Illb2, Illb3) r ? 1 R-Sr—O-+;OR-SkR O —sí—o-+;. A nuiR-^H O™ -ZR—Sř—O—^Z 9R ΙΠι2IIU3 r * ΊR~Sr~O- -2R-Shr • ?R-Sř-OSf-R OR~SHO- “Z - R R-Sí-O-Ši-O—9 R —Shr R ?R-Sf-O+Z OR—Sr—O-f~ZÓR-Sí-rI 0 r-šKR L R lllblIUb2MbJ kde sustituenty R jsou definovány výše a kde každé Z v Illa 1 -a3 je jedna ze skupin Illa1-a3, a každé Z v Illb1-b3 je jedna ze skupin lllbl -b3, nebo Z je koncová skupina, která je stejná nebo rozdílná, a která je vodík nebo radikál odvozený od halosilanu nebo halosiloxanu, kde halosilan nebo halosiloxan může nést funkční nebo nefunkční skupiny.
- 5. Způsob podle nároku 4, vyznačující se tím, že sloučenina (II) reaguje s bází obsahující lithium.
- 6. Způsob podle nároku 5, vyznačující se tím, že báze obsahující lithium je alkyllithium jako n-butyllithium nebo trifenylmethyllithium nebo lithiumdiisopropylamid.«··· * · » · · « · · * »t 99 ·«·«
- 7. Způsob podle nároku 4, vyznačující se tím, že sloučenina (II) reaguje se superbází.
- 8. Vysoce rozvětvený siloxanový odvozený polymer obecného vzorce (lllal, Illa2, Illa3) nebo (lllbl, Iilb2, Illb3)
- 9 ΊH-^i—O-+ZR-SP-R O —Sř-O-+Z . R ra«i r ? Ί R-^ř-O- -Z ?R—Sl—O— Z O —^-R RITT·-?IILú r 9R-SřI oR-Shr 9 —ái-R oR—Sr— O- “Z- Ř • 9R-Sř-O--(~Z ? 9R-Si-o-Si-o—j-z O R —Sl—R R r φ η R-Sř— O+Z óR-Sř-O+Z 9R-Ši-R 9 ~ SkR L R ·HlblIUb2IHb3 kde substituenty R a také Z jsou definovány v nároku 4.9. Způsob přípravy lineárního siloxanového polymeru, vyznačující se tím, že sloučenina o obecném vzorci (IV)R Ό ,Y R·—Si^ R (IV), vkde Y je O-Si(R)2-OSi(R)2-CH=CH2 a R substituenty mohou být stejné nebo rozdílné, přičemž kterýkoli R substituent je vybrán ze skupiny sestávající z fenylu, nesubstituovaného nebo substituovaného alkylu o 1 až 6 atomech uhlíku, kde volitelný substituent je fenyl nebo jeden nebo více atomů fluoru, pod podmínkou, že alfa nebo beta poloha alkylového řetězce nemůže být substituována fluorem, je podrobena kationtové nebo aniontové polymerací za poskytnutí lineárního polymeru, který má obecný vzorec (V) (V), kde substituenty R jsou stejné jako ve sloučenině (IV) a m je 3 až 9 000.
- 10. Způsob podle nároku 9, vyznačující se tím, že polymerace je kationtová polymerace iniciovaná trifluormethansulfonovou kyselinou (triflic acid).
- 11. Způsob podle nároku 9, vyznačující se tím, že polymerace je aniontová polymerace iniciovaná dilithiumdifenylsilanolátem.
- 12. Lineární siloxanový polymer o obecném vzorci (V) (V), kde substituenty R jsou stejné jako ve sloučenině (IV) a m je 3 až 9 000.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US41626599A | 1999-10-12 | 1999-10-12 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ20021272A3 true CZ20021272A3 (cs) | 2002-08-14 |
Family
ID=23649263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ20021272A CZ20021272A3 (cs) | 1999-10-12 | 2000-10-04 | Nové cyklotrisiloxany, nové siloxanové polymery a jejich příprava |
Country Status (20)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6284906B1 (cs) |
EP (1) | EP1237986A1 (cs) |
JP (1) | JP2003511465A (cs) |
KR (1) | KR20020053068A (cs) |
CN (1) | CN1399657A (cs) |
AU (1) | AU7666400A (cs) |
CA (1) | CA2386324A1 (cs) |
CZ (1) | CZ20021272A3 (cs) |
DE (1) | DE1237986T1 (cs) |
EE (1) | EE200200188A (cs) |
HK (1) | HK1047118A1 (cs) |
HU (1) | HUP0203328A2 (cs) |
IL (1) | IL148852A0 (cs) |
MX (1) | MXPA02003413A (cs) |
NO (1) | NO20021702L (cs) |
PL (1) | PL354403A1 (cs) |
RU (1) | RU2002112333A (cs) |
SK (1) | SK4202002A3 (cs) |
TW (1) | TW499451B (cs) |
WO (1) | WO2001027187A1 (cs) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7101643B2 (en) * | 2001-05-31 | 2006-09-05 | The Regents Of The University Of California | Polymeric electrolytes based on hydrosilyation reactions |
TW200637869A (en) | 2005-01-28 | 2006-11-01 | Chugai Pharmaceutical Co Ltd | The spiroketal derivatives and the use as therapeutical agent for diabetes of the same |
EP1963402A2 (en) * | 2005-03-17 | 2008-09-03 | Johnson and Johnson Vision Care, Inc. | Process for the production of monodisperse and narrow disperse monofunctional silicones |
DE102005018628A1 (de) * | 2005-04-21 | 2006-10-26 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Silanolgruppen aufweisenden Organopolysiloxanen |
DE102005018629A1 (de) * | 2005-04-21 | 2006-10-26 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Triorganosiloxygruppen aufweisenden Organopolysiloxanen |
KR101484509B1 (ko) * | 2007-03-12 | 2015-01-21 | 베이어 오와이 | 토코페롤을 사용하는 방법 |
CN101724226B (zh) * | 2009-11-20 | 2011-12-07 | 苏州大学 | 一种改性热固性树脂及其制备方法 |
JP2012232975A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-29 | Central Glass Co Ltd | シロキサン化合物およびその硬化物 |
US10756241B2 (en) | 2014-07-22 | 2020-08-25 | Lumileds Llc | Siloxane ligands to be used for dispersing quantum dots in silicone hosts to obtain color converters for LED lighting |
CN104327269B (zh) * | 2014-09-15 | 2017-04-05 | 杭州师范大学 | 一种含有大环结构的超支化聚硅氧烷及其合成方法 |
US9695316B2 (en) * | 2015-05-18 | 2017-07-04 | Milliken & Company | Cyclic siloxane compounds and compositions comprising the same |
CN109843982B (zh) | 2017-04-04 | 2021-11-19 | 瓦克化学股份公司 | 反应性硅氧烷及其制备方法 |
JP6948501B2 (ja) * | 2018-04-17 | 2021-10-13 | ジェレスト, インコーポレイテッド | ヒドリドシロキサニル置換シクロトリシロキサン、その製造方法、及びそれから誘導されるポリマー製品 |
CN112119111A (zh) * | 2018-05-17 | 2020-12-22 | 赢创运营有限公司 | Aba结构类型的线性聚二甲基硅氧烷-聚氧化烯嵌段共聚物 |
CN110156826B (zh) * | 2019-06-20 | 2021-08-31 | 威海新元化工有限公司 | 二苯基环三硅氧烷及其制备方法与应用 |
CN114456208B (zh) * | 2020-11-09 | 2023-06-23 | 中昊晨光化工研究院有限公司 | 一种二苯基二甲基硅氧烷环体的制备方法 |
CN113502690B (zh) * | 2021-06-25 | 2022-08-19 | 浙江纳美新材料股份有限公司 | 一种用于食品包装纸染色的水性色浆 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3364244A (en) * | 1964-07-01 | 1968-01-16 | Gen Electric | Cyclic siloxanes |
US5246703A (en) * | 1991-12-27 | 1993-09-21 | Dow Corning Corporation | Siloxy-functional cyclopolysiloxanes |
JP3123351B2 (ja) * | 1994-06-15 | 2001-01-09 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性シリコーン組成物 |
US5693735A (en) * | 1995-07-12 | 1997-12-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Trimethylsiloxy group-containing polysiloxane and a process for producing the same |
-
2000
- 2000-07-06 US US09/612,617 patent/US6284906B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-10-04 AU AU76664/00A patent/AU7666400A/en not_active Abandoned
- 2000-10-04 WO PCT/FI2000/000854 patent/WO2001027187A1/en not_active Application Discontinuation
- 2000-10-04 CZ CZ20021272A patent/CZ20021272A3/cs unknown
- 2000-10-04 HU HU0203328A patent/HUP0203328A2/hu unknown
- 2000-10-04 RU RU2002112333/04A patent/RU2002112333A/ru not_active Application Discontinuation
- 2000-10-04 EE EEP200200188A patent/EE200200188A/xx unknown
- 2000-10-04 IL IL14885200A patent/IL148852A0/xx unknown
- 2000-10-04 EP EP00966188A patent/EP1237986A1/en not_active Withdrawn
- 2000-10-04 JP JP2001530401A patent/JP2003511465A/ja active Pending
- 2000-10-04 PL PL00354403A patent/PL354403A1/xx unknown
- 2000-10-04 DE DE1237986T patent/DE1237986T1/de active Pending
- 2000-10-04 MX MXPA02003413A patent/MXPA02003413A/es not_active Application Discontinuation
- 2000-10-04 SK SK420-2002A patent/SK4202002A3/sk unknown
- 2000-10-04 CN CN00814252A patent/CN1399657A/zh active Pending
- 2000-10-04 KR KR1020027004648A patent/KR20020053068A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-10-04 CA CA002386324A patent/CA2386324A1/en not_active Abandoned
- 2000-10-09 TW TW089121110A patent/TW499451B/zh not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-04-11 NO NO20021702A patent/NO20021702L/no not_active Application Discontinuation
- 2002-11-28 HK HK02108587.0A patent/HK1047118A1/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6284906B1 (en) | 2001-09-04 |
EP1237986A1 (en) | 2002-09-11 |
WO2001027187A1 (en) | 2001-04-19 |
AU7666400A (en) | 2001-04-23 |
DE1237986T1 (de) | 2003-01-09 |
NO20021702D0 (no) | 2002-04-11 |
NO20021702L (no) | 2002-04-11 |
SK4202002A3 (en) | 2002-09-10 |
KR20020053068A (ko) | 2002-07-04 |
CA2386324A1 (en) | 2001-04-19 |
JP2003511465A (ja) | 2003-03-25 |
RU2002112333A (ru) | 2004-01-27 |
IL148852A0 (en) | 2002-09-12 |
MXPA02003413A (es) | 2004-09-10 |
EE200200188A (et) | 2003-04-15 |
HK1047118A1 (zh) | 2003-02-07 |
CN1399657A (zh) | 2003-02-26 |
TW499451B (en) | 2002-08-21 |
PL354403A1 (en) | 2004-01-12 |
HUP0203328A2 (en) | 2003-02-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CZ20021272A3 (cs) | Nové cyklotrisiloxany, nové siloxanové polymery a jejich příprava | |
EP0629648B1 (en) | Method for preparation of carbinol-functional siloxanes | |
Marschner | Preparation and reactions of polysilanyl anions and dianions | |
EP3153518B1 (en) | Mono-functional branched organosiloxane compound and method for producing the same | |
EP1220860B1 (en) | Novel fluoroalkylsubstituted cyclotrisiloxanes, their use for preparation of new polymers and novel polymers | |
Paulasaari et al. | Base catalyzed proton transfer polymerization of 1‐hydroxypentamethylcyclotrisiloxane. Comparison of hyperbranched polymer microstructure and properties to those of highly regular linear analogs | |
WO2023053885A1 (ja) | アルコキシシリルアルキルアミノプロピル変性ポリシロキサン化合物の製造方法 | |
JPS62153322A (ja) | 末端ジヒドロオルガノシロキサンの製造方法 | |
JP6390473B2 (ja) | 両末端変性されたシラシクロブタン開環重合物及びその製造方法 | |
JP4276805B2 (ja) | 新規シラザン化合物及びその製造方法、並びに新規シラザン化合物重合体及びその製造方法 | |
KR20230029859A (ko) | 플루오르화 아릴보란 루이스 산에 의해 촉매되는 유기규소 화합물과 실릴 하이드라이드의 반응을 위한 조성물 및 방법 | |
KR20240070628A (ko) | 알콕시실릴알킬아미노프로필 변성 폴리실록산 화합물의 제조 방법 | |
JP3257414B2 (ja) | 環状エーテル基を有するオルガノポリシロキサン | |
JPH07145178A (ja) | 有機けい素化合物及びその製造方法 | |
Zhang | Synthesis and characterization of octasilsesquioxane-based molecular composite precursors with potential applications as dental restoratives | |
JPH04331234A (ja) | ポリシロキサンスターポリマーおよびその製造方法 | |
Scott | Studies in Organosilicon Chemistry | |
US20100280189A1 (en) | Synthesis of cycloaliphatic substituted silane monomers and polysiloxanes for photo-curing | |
JP2000154194A (ja) | 3−アミノプロピル基含有有機ケイ素化合物の安定化方法 | |
JPH06298938A (ja) | 熱硬化性重合体及びその製造方法 | |
JPH01240530A (ja) | 鎖状ポリオルガノシロキサンの製造方法 | |
JPH0426610B2 (cs) | ||
KR20070018993A (ko) | 실리콘 축합 반응 |