SE501631C2 - Sätt och anordning för att pyrolytiskt bilda en kiseloxidbeläggning på ett varmt glassubstrat - Google Patents

Sätt och anordning för att pyrolytiskt bilda en kiseloxidbeläggning på ett varmt glassubstrat

Info

Publication number
SE501631C2
SE501631C2 SE9002132A SE9002132A SE501631C2 SE 501631 C2 SE501631 C2 SE 501631C2 SE 9002132 A SE9002132 A SE 9002132A SE 9002132 A SE9002132 A SE 9002132A SE 501631 C2 SE501631 C2 SE 501631C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
coating
chamber
oxygen
carrier gas
glass
Prior art date
Application number
SE9002132A
Other languages
English (en)
Other versions
SE9002132L (sv
SE9002132D0 (sv
Inventor
Robert Terneu
Jean-Francois Thomas
Original Assignee
Glaverbel
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Glaverbel filed Critical Glaverbel
Publication of SE9002132D0 publication Critical patent/SE9002132D0/xx
Publication of SE9002132L publication Critical patent/SE9002132L/sv
Publication of SE501631C2 publication Critical patent/SE501631C2/sv

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/245Oxides by deposition from the vapour phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/002General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/213SiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/15Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152Deposition methods from the vapour phase by cvd

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

15 20 25 30 35 501 631 2 tid svårt att oxidera sådan kiselbeläggning in situ för att bilda en kiseloxidbeläggning. Av detta skäl föredrager man att reagera silanen direkt med syre. För att denna reaktion bör äga rum för att avsätta kiseldioxid på glassubstratet hellre än på någon del av beläggningsanordningen har alla kända förslag för att använda ett silanhaltigt förbelägg- ningsmaterial vid bildning av en kiseloxidbeläggning insiste- rat på att förbeläggningsmaterialet endast bör tillåtas blan- da sig med syre inom en beläggningskammare, som är öppen för substratet som skall beläggas, i den plats där dessa material är fria att kontakta substratet direkt. Vi har emellertid funnit att detta ej är gynnsamt för framställning av kisel- oxidbeläggningar med hög och jämn kvalitet och särskilt fö- religger problem för att uppnå en beläggning med enhetlig tjocklek tvärs över bredden på substratet.
Det är ett ändamål med denna uppfinning att undanröja dessa problem.
Enligt föreliggande uppfinning avses ett sätt att pyrolytiskt bilda en kiseloxidbeläggning på ett varmt glassubstrat då det passerar förbi en beläggningskammare genom att kontakta substratet med silanhaltigt förbeläggningsmaterial, särskilt SiH4, i närvaro av syre, och utmärkes av att det silanhaltiga förbeläggningsmaterialet särskilt SiH4 i ångfas och syre i gasform intimt blandas före det att de inträder i belägg- ningskammaren för att kontakta substratet.
Ett sätt enligt föreliggande uppfinning beroende på den tidi- ga blandningen av beläggningsreagenserna, erbjuder stora för- delar för att uppnå en jämn beläggning tvärs över substratets bredd. Överraskande leder tidig blandning ej till sådana för tidiga reaktioner i förbeläggningsmaterialet, såsom skulle kunna förväntas genom vad som är känt tidigare och det är faktiskt gynnsamt för framställning av högkvalitativa kisel- oxidbeläggningar.
Det föredrages att substratet når beläggningskammaren vid en temperatur av åtminstone 400°C. Sådana temperaturer är mycket 10 15 20 25 30 35 3 501 631 lämpliga för snabb bildning av kiseloxidbeläggning ur ett si- lanhaltigt förbeläggningsmaterial. Som allmän regel kan man även notera att ju högre temperaturen på glaset är under be- läggningsbildningen, ju snabbare är beläggningsreaktionen, så att beläggningsutbytet, d v s andelen förbeläggningsmaterial, som omvandlas till användbar beläggningsoxid, ökas och för en given bandframmatningshastighet är det möjligt att bilda en tjockare beläggning om så önskas. Även av detta skäl före- drager man att förbeläggningsmaterialet först kontaktar glas- et, då glaset har en temperatur av åtminstone 650°C. För många ändamål kan glaset ha en temperatur av mellan 7000C och 750°C då det först kontaktas av förbeläggningsmaterialet.
Uppfinningen skulle kunna användas för bildning av en kisel- oxidbeläggning på förskurna och omvärmda glasskivor om detta erfordrades. Då men emellertid önskar tillverka pyrolytiskt belagt plant glas är det bäst att göra så då glaset just bil- dats. Att göra så har ekonomiska fördelar genom att det ej föreligger något behov att omvärma glaset för att de pyrolyt- iska reaktionerna skall äga rum och det har även fördelar när det gäller beläggningens kvalitet, eftersom man säkerställer att glasets yta befinner sig i jungfruligt tillstånd. Sådant förblandat syre och förbeläggningsmaterial bringas därför fö- reträdesvis till kontakt med en övre yta på ett varmt glas- substrat bestående av just bildat plant glas.
Beläggningskammaren skulle t ex kunna vara placerad i eller nära uppströmsänden av en kylkanalp genom vilket bandet förflyttas och bandet skulle kunna bildas antingen i en drag- maskin eller i en float-kammare.
Vi har emellertid funnit att vissa problem uppstår för att omvandla ett kylgalleri, som tidigare användes för att kyla obelagt glas och bilda en kylkanal och beläggningsstation för framställning av belagt glas. Sådana problem uppstår som resultat av de möjliga skilda temperaturförhållandena för att bilda en pyrolytisk beläggning å ena sidan och för riktig kylning av glaset å den andra och som resultat av begräns- ningar i tillgängligt utrymme för att placera en beläggnings- 10 15 20 25 30 35 501 651 4 station. Problemet förstoras om man önskar bilda en fler- skiktsbeläggning, då klart två eller flera olika beläggnings- stationer kan erfordras. Vidare har beläggningsreaktionerna en kylande verkan på glaset, ej endast i att glaset kyles totalt, men även att den belagda ytan tenderar att bli mera kyld än den obelagda ytan: sålunda måste ofta en skild tempe- raturomgivning upprättas inom en kylkanal utrustat med en eller flera beläggningsstationer, då man ändrar produktionen från framställning av belagt glas till obelagt glas och till- baka igen och ibland även då en väsentlig ändring göres när det gäller beläggningstjockleken, som anbringas på glaset.
För att undanröja dessa problem föredrager man mest att så- dant förblandat syre och förbeläggningsmaterial bringas till kontakt med en övre yta på ett varmt floatglassubstrat, under det att glaset befinner sig i en floatkammare där det till- verkas.
Genom att arbeta enligt denna föredragna utföringsform av uppfinningen och bilda beläggningen inom floatkammaren, und- viker man varje behov att finna utrymme för beläggningsstati- onen i eller nära uppströmsänden av ett kylgalleri. Vidare har vi funnit det möjligt att säkerställa att temperaturen på glasbandet som lämnar floatkammaren,är i huvudsak opåverk- ad vare sig bandet är belagt eller icke och därmed föreligger inget behov att modifiera temperaturförhållandena i kylkanal- en, då man sätter beläggningskammaren i drift eller tager den ur drift. Det är ganska överraskande att föreslå att bil- da en oxidbeläggning inom en floatkammare. Floatkammare inne- håller ett bad av smält metall, helt eller i huvudsak av tenn, som är ganska lätt oxiderbart vid de temperaturer som erfodras för att glasbandet skall spridas ut och bli eldpole- rat och därmed är det universell praxis att upprätthålla en reducerande atmosfär inom floatkammaren, emedan varje yt- slagg, som upptages av glasbandet från metallbadets yta skul- le vara en källa till defekter i det framställda glaset. Rep- resentativt innehåller sådan atmosfär omkring 95% kväve och omkring 5% väte och hålles vid ett lätt övertryck för att hindra syre att läcka in i floatkammaren från omgivande at- 10 15 20 25 30 35 s 501 631 mosfären. Mycken forskning har även gått till att avlägsna slagg som nästan alltid bildas på metallbadets yta trots alla iakttagna försiktighetsåtgärder för att undvika att låta syre komma in i floatkamaren. Man går därför mot vad som utläres vid framställningen av floatglas genom att avsiktligt upp- rätthålla oxiderande förhållanden i floatkamaren. Vi har emellertid funnit att det är möjligt att skapa oxiderande förhållanden inom en floatkammare utan att ge anledning till förväntade problem. Vi förmodar att detta är åtminstone del- vis beroende på det faktum att förbeläggningsmaterialet bringas till kontakt med ytan i en beläggningskammare. An- vändning av en beläggningskammare underlättar ingränsning av de oxiderande förhållandena för förbeläggningsmaterialet och för beläggningsreaktionsprodukterna så att deras inverkan på metallbadet i floatkammaren kan göras liten eller försumbar.
Beläggningen kan bildas vid något ställe utmed floatkammaren nedströms om det läge där bandet har nått sin slutliga bredd och det aktuellt utvalda läget beror på den önskade tempera- turen för att initiera glasets beläggning. Glaset utdrages från floatkamaren för passage till kylgalleriet vid en tem- peratur som vanligen ligger i området 570°C. Bandteperaturer över 570°C är medfött lämpliga för att de pyrolytiska belägg- ningsreaktionerna skall äga rum, så att beläggningsreaktionen aktivt kan vara placerad ganska nära floatkamarens utträdes- ände. Förbeläggningsmaterialet kontaktar emellertid företräd- esvis glaset i ett läge utmed floatkammaren, så att glaset har en temperatur, som är åtminstone 50°C och företrädesvis åtminstone 100°C högre än den temperatur vid vilken glaset skulle utträda från floatkammaren om ingen beläggning bild- ades däri. Anpassningen till detta föredragna särdrag enligt uppfinningen erbjuder fördelen att det finns gott om tid för bandet, att återtaga värme som avgivits under beläggnings- reaktionerna, så att då det lämnar floatkammaren dess tempe- ratur är i huvudsak opåverkad av beläggningsoperationen.
Förbeläggningsmaterialet kontaktar med fördel glaset inom en sådan beläggningskammare, vilken kammare begränsas av sub- stratvägen och en sig nedåt öppnande huv och beläggningskam- 10 15 20 25 30 35 501 651 s maren utsuges omkring i huvudsak hela sin omkrets. Detta hjälper till att förhindra utträde av oanvänt förbeläggnings- material och beläggningsreaktionsprodukter från beläggnings- kamaren till omgivande utrymme.
Företrädesvis framkallar sådan utsugning ett inåtgående flöde av omgivande atmosfär omgivande i huvudsak hela omkretsen på beläggningskammaren. Detta skapar en pneumatisk tätning mel- lan de oxiderande förhållandena inom beläggningskammaren och den omgivande atmosfären.
Vid föredragna utföringsformer av uppfinningen ledes silan som förbeläggningsmaterial mot beläggningskammaren i ångfas i en i huvudsak inert bärgasströ och syre införes i den silan- haltiga bärgasströmmen innan den inträder i heläggningskam- maren. Under det att det är väsentligt då man arbetar enligt föreliggande uppfinning att ha syret och förbeläggningssilan- en intimt blandade innan de inträder i beläggningskammaren, är det även en fördel att vara i stånd att reglera längden på den tid under vilken dessa reagenser blandas före matning till beläggningskammaren. Att leda silanet mot beläggnings- kamaren i en i huvudsak inert bärgasström och därefter in- föra syre så att bärgasströmmen medger val av den punkt där syre skall införas för att uppnå den regleringen.
Med fördel användes kväve som i huvudsak inert bärgas. Kväve är tillräckligt inert för avsedda ändamål och det är billigt jämfört med ädelgaserna.
Det erforderliga syret kan införas som rent syre, men detta ökar onödigt kostnaderna och företrädesvis tillföres luft till bärgasströmmen för att införa syre däri.
Förbeläggningsmaterialet och/eller syret kan lämpligen inför- as i bärgasströmmen medelst en venturianordning.
Vid föredragna utföringsformer framkallas turbulens i bärgas- strömen för att säkerställa intim blandning av i huvudsak inert bärgas och silanet. En viss grad av turbulens komer 10 15 20 25 30 35 1 501 651 att frakallas om en venturianordning användes som nämnts, men detta kan t ex förstärkas genom att använda en matarled- ning som har en tvärsektionsminskning nedströms om stället där förbeläggningsmaterialet införes. En sådan tvärsektions- begränsning kan vara asymetrisk. Intim blandning av för- beläggningsmaterialet in i bärgasströmmen säkerställas genom att framkalla turbulens.
Av liknande skäl är det fördelaktigt att turbulens framkallas i bärgasströmmen efter införande av syre för att säkerställa intim blandning av den silanhaltiga bärgasströmmen och syret.
Den hastighet med vilken beläggningsreagenserna skall till- föras är i viss utsträckning beroende på den önskade tjock- leken på beläggningen som skall bildas och på den hastighet med vilket substratet passerar beläggningskammaren. Företräd- esvis införes silan som förbeläggningsmaterial i beläggninga- kamaren ed ett partialtryck av mellan 0,l% och 1,5%. En koncentration inom detta område är lämplig för att bilda be- läggningar från omkring 30 nm till omkring 240 nm på ett sub- strat som förflyttas med upp till 20 m/min.
För framställning av belagt glas, som förflyttas med en hast- ighet av mindre än omkring 10 m/min, införes silan som för- beläggningsmaterial i beläggningskammaren med ett partial- tryck av mellan 0,1% och 0,4%.
Företrädesvis införes syre i beläggningskammaren med ett par- tialtryck av mellan 0,6% och 20%. En koncentration inom det området är återigen lämplig för att bilda beläggningar från omkring 30 nm till omkring 240 nm på ett substrat som för- flyttas med upp till 20 m/min.
För framställning av belagt glas som förflyttas med en hast- ighet av mindre än omkring 10 m/min är det fördelaktigt att syre införes i beläggningskammaren med ett partialtryck av mellan 0,6% och 6,5%.
Företrädesvis vidtages åtgärder för att begränsa överföringen 10 15 20 25 30 35 501 631 8 av värmeenergi till förbeläggningsmaterialet då det går mot glaset. Detta upprätthåller temperaturen på beläggningsrea- genserna vid en lägre nivå än omgivande förhållanden annars skulle föreskriva och hjälper vidare till med att minska var- je tendens för för tidig reaktion.
Med fördel tillföres förbeläggningsmaterial för att kontakta glaset via åtminstone en springa, som sträcker sig eller-vil- ka tillsammans sträcker sig tvärs över åtminstone huvuddelen av beläggningens bredd, som skall bildas på glaset. Detta un- derlättar bildningen av en beläggning med enhetlig tjocklek tvärs över glassubstratets bredd.
Uppfinningen utsträcker sig till anordning för att pyrolyt- iskt bilda en oxidbeläggning på en övre yta av ett varmt glassubstrat, och utmärkes av att anordningen omfattar stöd- anordning för att transportera substratet utmed en väg förbi en beläggningskammare, begränsad av substratväggen och ett sig nedåt öppnande huv, anordning för att till beläggnings- kammaren tillföra förbeläggningsmaterial i ångfas, som är förblandat med syre och anordningar för att utsuga atmosfär inbegripande beläggningsreaktionsprodukter och oanvänt för- beläggningsmaterial från beläggningskammaren.
En sådan anordning kan konstrueras mycket enkelt för att upp- nå tidig blandning av gasformigt syre och förbeläggningsmate- rialet innan de når beläggningskammaren. Vi har funnit att denna tidiga blandning av beläggningsreagenserna i ångfas i sin tur erbjuder stora fördelar för att uppnå en enhetlig be- läggning tvärs över substratets bredd. Överraskande leder den tidiga blandningen ej till sådan för tidig reaktion av för- beläggningsmaterialet som skulle förväntas och det är fakt- iskt gynnsamt för framställningen av högkvalitativa belägg- ningar.
En sådan anordning kan användas för att belägga individuella omvärmda skivor av glas om så önskas. Alternativt såsom i vissa föredragna utföringsformer av uppfinningen är belägg- ningsstationen placerad inom eller uppströms om en horison- É 10 15 20 25 30 35 9 501 651 tell kylkanal matad med glas av en.glasbandformningsmaskin.
Detta har fördelen att man undviker behovet av omvärmnings- anordning.
Det föredrages emellertid allmänt att stödanordningen är ett bad av smält metall i en floatkammare och beläggningskammaren är placerad inom floatkammaren.
En sådan anordning har fördelen att förenkla konstruktionen av en kylkänälf som matas med glas från floatkammaren.
Detta är så p g a att under den tid det tar för bandet att passera från beläggningsstationen vidare utmed floatkammaren och in i kylkanalen kan det belagda bandets temperaturpro- fil återgå till ett jämviktstillstånd, som kommer att ha störts inom den värme som uttages under det aktuella belägg- ningsförfarandet. Därmed behöver anordning för att reglera temperaturen inom kylgalleriet ej taga hänsyn till några skillnader mellan framställningen av glas då beläggningssta- tionen kopplas in i och ut ur drift så att temperaturregler- ingen inom kylgalleriet kan vara mycket förenklad. Fördelen att förenkla konstruktionen av en kylkanal som matas med glas är ännu större då man önskar framställa glas som har en flerskiktsbeläggning, emedan det gäller förhandenvarande glasframställningsanläggning, kan det helt enkelt ej vara plats utanför floatkammaren för önskade antal beläggningssta- tioner utan större omkonstruktion av den anläggningen.
Beläggningskammaren begränsas med fördel av substratvägen och en sig nedåt öppnande huv och utsugningsanordning finnes om- kring i huvudsak hela beläggningskammarens omkrets. Detta hjälper till att undvika utträde av oanvända beläggningsrea- genser och beläggningsreaktionsprodukter, som kan ha en för- därvlig effekt på anordning inom beläggningsstationens när- het.
Utsugningsanordningen är företrädesvis anpassad att upprätt- hålla ett inåtgående flöde av omgivande atmosfärmaterial om- givande i huvudsak hela beläggningskammarens omkrets. Detta 10 15 20 25 30 35 501 631 .10 underlättar förhindrande av materialutträde under huven och skapar en pneumatisk tätning omkring beläggningskamaren.
Anordning finnes med fördel för att införa förbeläggnings- material i en bärgasström och för att i följd därefter införa syre i den förbeläggningsmaterialhaltiga bärgasströmen innan den inträder i beläggningskammaren. Under det att det är önskvärt då man arbetar enligt den första sidan av uppfin- ningen och verkligen väsentligt då man arbetar enligt den andra sidan av denna uppfinning att tillhandahålla medel för blandning av syret och förbeläggningssilanet för inträde i beläggningskammaren, är det även fördel att vara i stånd att reglera tidslängden under vilken dessa reagenser blandas före tillförsel till beläggningskammaren. Transport av silanet mot beläggningskammaren i en i huvudsak inert bärgasström och därefter införa syret till den bärgasströmmen medger val av den punkt där syre skall införas för att uppnå den reglering- en. Åtminstone en venturianordning är företrädesvis anordnad för att införa åtminstone ett av förbeläggningsmaterialet och gasformigt syre in i bärgasströmen. Det är ett mycket enkelt sätt att införa resp. material i bärgasströmmen på ett sådant sätt att det införda materialet blir blandat med den gas- strömen.
Vid föredragna utföringsformer finnes anordningar för att framkalla turbulens i bärgasströmen för att säkerställa in- tim blandning mellan bärgasen och förbeläggningsmaterialet.
Turbulens kan framkallas t ex genom att använda en tillförs- elledning, som har en tvärsektionsminskning nedströms om in- förselpunkten för förbeläggningsmaterialet. En sådan tvärsek- tionsminskning kan vara asymmetrisk. Intim blandning av för- beläggningsmaterialet in i bärgasen säkerställas genom att framkalla turbulens.
Av liknande skäl är det fördelaktigt att anordningar finnes för att framkalla turbulens i bärgasströmmen efter införandet 10 15 20 25 30 35 n 501 631 av syre in i densamma för att säkerställa intim blandning mellan den förbeläggningsmaterialha1tiga bärgasen och syret.
För att införa förbeläggningsmaterialet in i beläggningskam-A maren finnes med fördel åtminstone en springa, som sträcker sig eller vilka tillsammans sträcker sig tvärs över åtmins- tone huvuddelen av beläggningskammarens bredd. Detta under- lättar bildning av en beläggning med en jämn tjocklek tvärs över substratets bredd. En enda springa kan t ex vara anord- nad vid huvens mitt i räta vinklar mot substratets väg.
Företrädesvis finnes anordning för att begränsa överföringen av värmeenergi till förbeläggningsmaterialet då det rör sig mot beläggningskammaren. Detta håller temperaturen på belägg- ningsreagenserna vid en lägre nivå än annars omgivande för- hållande skulle diktera och hjälper vidare till med att mins- ka varje tendens för för tidig reaktion.
En föredragen utföringsform av uppfinningen kommer nu att be- skrivas mera detaljerat som exempel enbart och med hänvisning till de bifogade schematiska ritningarna där: Fig. 1 visar en tvärgående tvärsektion av en beläggnings- anordning enligt uppfinningen placerad i en floatkammare, Fig. 2 en längsgående tvärsektion av beläggningsanordningen i fig. 1, Fig. 3 en schematisk planvy av beläggningsanordningen, och Fig. 4 visar slutligen tillförsel av beläggningsreagenser till en matarledning, som matar beläggningsstationen.
På ritningarna föres ett band 1 av glas fram utmed en väg även betecknad med 1, under det att det uppbäres av ett bad av smält metall 2 innehållet i en floatkammare 3. En belägg- ningsstation är omgiven av en vägg och takkonstruktion all- mänt betecknad med 4. 10 15 20 25 30 35 501 631 12 Beläggningsstationen 4 omfattar en huv 5, som begränsar en beläggningskammare 6, som öppnar sig nedåt mot bandvägen l, en matarledning 7 för att mata beläggningsreagens till be- läggningskammaren 6 och en skorsten 8 för utsugning perifert omkring beläggningskammaren.
Matarledningen 7 matas med en i huvudsak inert bärgas såsom kväve från en källa, ej visad och få beläggningsmaterialet såsom silan införes i bärgasströmmen vid en första venturi- anordning 9. Bärgasströmmen med dispergerat förbeläggnings- material strömmar utmed matarledningen 7 till en första tvär- sektionsminskning 10, som är anordnad för att bibringa bär- gasströmmen turbulens för att säkerställa intim blandning mellan bärgasen och det medbringade förbeläggningsmaterialet.
Ytterligare nedströms är en andra venturianordning 11 anord- nad för införandet av syre, t ex som en beståndsdel i luft.
En ytterligare turbulensframkallande tvärsektionsminskning 12 säkerställer intim blandning mellan syret och det medbringade förbeläggningsmaterialet i bärgasströmmen. Beläggningsreagen- serna matas genom matarledningen 7 till ett flödesreglerings- block 13, försett med en utträdesspringa 14, som sträcker sig tvärs över huvuddelen av huvens 5 bredd.
Det är lämpligt att mata förbeläggningsmaterial och syre till matarledningen 7 utanför floatkammaren 3. Vid alla delar inom floatkammaren 3 är matarledningen omgiven med en kylmantel 15, som är utrustad med kylvatteninlopp 16 och utlopp 17 så- som visas i fig. 1. Om så önskas kan kylmanteln utsträckas inom flödesregleringsblocket 13 såsom visas vid 18 med prick- ade linjer i fig. 2 och 4, så att beläggningsreagenserna skyddas mot överhettning till dess de utträder från springan 14 för kontakt med bandet 1 i beläggningskammaren 6.
Såsom visas i fig. 2 är huven 5 och flödesregleringsblocket 13 lämpligen upphängda från floatkammarens 3 tak medelst strävor 19. Det är önskvärt att använda gängade strävor 19, så att huvens 5 bas i höjd kan justeras för litet spel, t ex 2 cm eller mindre från bandvägen 1. 10 15 20 25 30 35 13 501 631 Huven 5, beläggningskammaren 6 och flödesregleringsblocket 13 är omgivna av en perifer passage 20 via vilken beläggnings- reaktionsprodukter och oanvänt förbeläggningsmaterial till- sammans med, om så önskas, inåt suget omgivande atmosfäriskt material från floatkammaren kan sugas uppåt genom skorstenen 8. Huven 5 och beläggningsstationsväggkonstruktionen 4 visas försedda med valfria perifert sig sträckande klglar 21 vid den perifera passagens 20 nedre del. Dessa kjolar utgöres lämpligen av flexibla eldfasta gardiner t ek tillverkade av Refrasil (registrerat varumärke).
Exempel l Vid en särskild praktisk utföringsform för att belägga float- glas som rör sig med en hastighet av 7 m/min med en floatkam- mare, är en beläggningsstation placerad vid ett läge utmed floatkammaren, där glaset befinner sig vid en temperatur av omkring 700oC. Matarledningen matas med kväve, och silan in- föres däri med ett partialtryck av 0,25% och syre införes med ett partíaltryck av 0,5% (förhållande 0,5). materialet i dess bärgas matas utmed matarledningen 7 för att Förbeläggnings- utträda i en springa omkring 4 mm bred med en sådan hastighet att det tillförda materialet strömmar utmed mellan glaset och huven 5, som är 15 mm ovanför glasets väg 1 med en hastighet av omkring 2-3 m/sek i båda riktningarna parallellt med band- ets rörelseriktning. Huven 5 har en längd i den riktningen av omkring 40 cm. Atmosfäriskt material suges genom skorstenen 8 med en sådan hastighet så att man alstrar ett uppåtgående gasflöde i den perifera passagen 20 med en hastighet av om- kring 7-8 m/sek och detta förorsakar ett kontinuerligt in- flöde av gas från floatkammaren in i passagens 20 nederdel omkring hela omkretsen på beläggningskammaren 6, varigenom utläckning in i floatkammaren av beläggningsreagenserna eller deras reaktionsprodukter förhindras. Givetvis drager sådan utsugning även bort beläggningsreaktionsprodukter och oanvän- da beläggningsreagenser.
Den beläggning som bildas är kiseldioxid omkring 90 nm tjock.
Vid ett efterföljande beläggningssteg, utfört på ett sätt 10 15 20 25 5101 631 14 känt i och för sig i en beläggningsstation placerad nära upp- strömsänden av ett horisontellt kylgalleri, bildas ett övre beläggningsskikt av dopad SnO2 med en tjocklek av omkring 500 nm. Den kombinerade beläggningen är i huvudsak fri från icke önskade färgvariationer beroende på interferenseffekten.
Vid varierande utföringsformer enligt enbart den andra sidan av föreliggande uppfinning är den på ritningarna visade be- läggningsstationen placerad i en kylkanal, Vid beskriv- ningen av ritningarna, kan hänvisningen till floatkammaren ersättas med hänvisningar till en kvlkanal och hänvisning- ar till badet av smälömetall kan ersättas med hänvisningar till transportrullar.
Exempel 2 Vid en särskilt praktisk utföringsform för att belägga float- glas efter det att det uttagits från floatkammaren är belägg- ningsstationen placerad i en kylkanal, där temperaturen pâ glaset är omkring SOOOC, nedströms om en annan beläggnings- station för att bilda ett beläggningsskikt av dopad SnO2, omkring 250 nm tjockt. Huven har en längd omkring 1 m. För- beläggningsreagens införes i samma proportioner som i Ex- empel 1 för att bilda ett överskikt av kiseldioxid omkring 100 nm tjockt. Återigen är den kombinerade beläggningen väs- entligen fri från icke önskade färgvariationer beroende på interferenseffekter.

Claims (18)

10 15 20 25 30 35 15 , 501 631 Patentkrav
1. Sätt att pyrolytiskt bilda en kiseloxidbeläggning på ett varmt glassubstrat, då det passerar förbi en beläggnings- kammare, genom att kontakta substratet med ett silanhaltigt förbeläggningsmaterial, särskilt SiH4, i närvaro av syre, kännetecknat av att det silanhaltiga förbeläggnings- materialet, särskilt SiH4, i ångfas och syre i gasform intimt blandas före det att de inträder i beläggningskammaren.
2. Sätt enligt krav 1, kännetecknat av att substratet når beläggningskammaren med en temperatur av åtminstone 400°C.
3. Sätt enligt krav 2, kännetecknat av att glassubstratet har en temperatur av åtminstone 650°C då förbeläggningsmaterialet bringas i kontakt med detsamma för första gången.
4. Sätt enligt något av de föregående kraven, kännetecknat av att sådant förblandat syre och förbeläggningsmaterial bringas till kontakt med en övre yta på ett varmt glassubstrat be- stående av just bildat plant glas.
5. Sätt enligt krav 4, kännetecknat av att sådant förblandat syre och förbeläggningsmaterial bringas till kontakt med en övre yta på ett varmt floatglassubstrat under det att glaset befinner sig inom floatkammaren i vilken det tillverkas.
6. Sätt enligt krav 5, kännetecknat av att förbeläggnings- materialet kontaktar glaset vid ett läge utmed floatkammaren, så att glaset har en temperatur som är åtminstone 50°C och företrädesvis åtminstone lO0°C högre än temperaturen vid vilket glaset skulle utträda från floatkammaren och ingen beläggning bildades däri.
7. Sätt enligt något av de föregående kraven, kännetecknat av att silanet som förbeläggningsmaterial ledes mot beläggnings- kammaren i ångfas i en i huvudsak inert bärgasström, före- trädesvis av kväve och syre införes i den silanhaltiga bär- 10 15 20 25 30 35 S01 651 16 gasströmmen före det att den inträder i beläggningskammaren, varvid luft tillföres bärgasströmmen för att införa syre i densamma.
8. Sätt enligt krav 7, kännetecknat av att turbulens fram- kallas i bärgasströmmen för att säkerställa intim blandning av bärgasen och silanet och efter att ha infört syre för att säkerställa intim blandning av den silanhaltiga bärgasen och syret.
9. Sätt enligt något av de föregående kraven, kännetecknat av att silan som förbeläggningsmaterial införes i beläggnings- kammaren med ett partialtryck av mellan 0,1% och 1,5%, före- trädesvis mellan 0,1% och 0,4%.
10. Sätt enligt krav 9, kännetecknat av att syre införes i beläggningskammaren med ett partialtryck av mellan 0,6% och 20%, företrädesvis mellan 0,6% och 6,5%.
11. ll. Anordning för att pyrolytiskt bilda en oxidbeläggning på en övre yta av ett varmt glassubstrat (1), kännetecknad av att sådan anordning omfattar - stödanordning för att transportera substratet utmed en väg (1) förbi en beläggningskammare (6), begränsad av substrat- vägen (1) och en sig nedåt öppnande huv (5), - anordning (9) för att införa förbeläggningsmaterial i en bärgasström. - anordning (10) för att framkalla turbulens i bärgasströmmen för att säkerställa intim blandning mellan bärgasen och förbeläggningsmaterialet, - åtminstone en venturianordning (11) för att införa syre i den förbeläggningsmateria1-haltiga bärgasströmmen, - anordning (7) för att till beläggningskammaren (6) tillföra förbeläggningsmaterial-haltig bärgas förblandad med syre, och - anordning (20) för utsugning av atmosfär inbegripet belägg ningsreaktionsprodukter och outnyttjat förbeläggnings material från beläggningskammaren (6). 10 15 20 25 30 11 501 631
12. Anordning enligt krav 11, kännetecknad av att belägg- ningskammaren (6) är placerad inom eller uppströms av en horisontell kylkanal matad med just bildat glasband.
13. Anordning enligt krav 12, kännetecknad av att stödanord- ningen utgöres av ett smält metallbad (2) i en floatkammare (3) och att beläggningskammaren (6) är placerad inom float- kammaren.
14. Anordning enligt något av kraven 11-13, kännetecknad av att utsugningsanordningen (20) finnes omkring i huvudsak hela beläggningskammarens (6) omkrets.
15. Anordning enigt något av kraven 11-14, kännetecknad av att åtminstone en venturianordning (9) finnes för att införa förbeläggningsmaterial i bärgasströmmen.
16. Anordning enligt något av kraven 11-15, kännetecknad av att anordning (12) finnes för att alstra turbulens i den förbeläggningsmateria1-haltiga bärgasströmmen, efter det att syre införts däri för att säkerställa intim blandning mellan den förbeläggningsmaterial-haltiga bärgasen och syret.
17. Anordning enligt något av kraven 11-16, kännetecknad av att för att införa förbeläggningsmaterialet i beläggnings- kammaren (6) finnes åtminstone en springa (14), som sträcker sig eller vilka tillsammans sträcker sig tvärs över åtmins- tone huvuddelen av beläggningskammarens (6) bredd.
18. Anordning enligt något av kraven 11-17, kännetecknad av att anordningar (15, 16, 17) finnes för att begränsa över- föringen av värmeenergi till förbeläggningsmaterialet, då det föres mot beläggningskammaren (6).
SE9002132A 1989-06-19 1990-06-15 Sätt och anordning för att pyrolytiskt bilda en kiseloxidbeläggning på ett varmt glassubstrat SE501631C2 (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB898914047A GB8914047D0 (en) 1989-06-19 1989-06-19 Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE9002132D0 SE9002132D0 (sv) 1990-06-15
SE9002132L SE9002132L (sv) 1990-12-20
SE501631C2 true SE501631C2 (sv) 1995-04-03

Family

ID=10658679

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE9002132A SE501631C2 (sv) 1989-06-19 1990-06-15 Sätt och anordning för att pyrolytiskt bilda en kiseloxidbeläggning på ett varmt glassubstrat

Country Status (15)

Country Link
US (1) US5089039A (sv)
JP (1) JP3026823B2 (sv)
AT (1) AT403909B (sv)
BE (1) BE1004216A3 (sv)
CA (1) CA2019191C (sv)
CH (1) CH681804A5 (sv)
DE (1) DE4018996C2 (sv)
ES (1) ES2020479A6 (sv)
FR (1) FR2648453B1 (sv)
GB (2) GB8914047D0 (sv)
IT (1) IT1241245B (sv)
LU (1) LU87745A1 (sv)
NL (1) NL194885C (sv)
NO (1) NO303981B1 (sv)
SE (1) SE501631C2 (sv)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2247691B (en) * 1990-08-31 1994-11-23 Glaverbel Method of coating glass
GB2264957B (en) * 1992-03-12 1995-09-20 Bell Communications Res Deflected flow in a chemical vapor deposition cell
FR2689118B1 (fr) * 1992-03-26 1997-11-14 Air Liquide Procede de formation d'un depot de silice sur une surface d'un objet en verre.
GB9300400D0 (en) * 1993-01-11 1993-03-03 Glaverbel A device and method for forming a coating by pyrolysis
FR2704309B1 (fr) * 1993-04-19 1995-06-09 Quartz Silice Sa Creuset comportant un revetement protecteur en couche mince, procede de fabrication et applications.
GB9408359D0 (en) * 1994-04-27 1994-06-15 Glaverbel Glazing panel and process for forming the same
US5721054A (en) * 1994-04-27 1998-02-24 Glaverbel Glazing panel and process for forming the same
DE4433206A1 (de) * 1994-09-17 1996-03-21 Goldschmidt Ag Th Verfahren zur pyrolytischen Beschichtung von Glas-, Glaskeramik- und Emailprodukten
CA2159296C (en) * 1994-10-14 2007-01-30 Michel J. Soubeyrand Glass coating method and glass coated thereby
US6231971B1 (en) * 1995-06-09 2001-05-15 Glaverbel Glazing panel having solar screening properties
CA2178032A1 (en) * 1995-06-09 1996-12-10 Robert Terneu Glazing panel having solar screening properties
FR2738813B1 (fr) 1995-09-15 1997-10-17 Saint Gobain Vitrage Substrat a revetement photo-catalytique
US5910371A (en) 1996-01-04 1999-06-08 Francel; Josef Composite glass article and method of manufacture
GB9710547D0 (en) * 1997-05-23 1997-07-16 Pilkington Plc Coating method
GB9723222D0 (en) * 1997-11-04 1998-01-07 Pilkington Plc Coating glass
US6103015A (en) * 1998-01-19 2000-08-15 Libbey-Owens-Ford Co. Symmetrical CVD coater with lower upstream exhaust toe
GB9806027D0 (en) 1998-03-20 1998-05-20 Glaverbel Coated substrate with high reflectance
US7776460B2 (en) 1998-03-20 2010-08-17 Agc Glass Europe Coated substrate with high reflectance
US6881505B2 (en) 1998-03-20 2005-04-19 Glaverbel Coated substrate with high reflectance
GB9822338D0 (en) 1998-10-13 1998-12-09 Glaverbel Solar control coated glass
WO2002026583A1 (en) * 2000-05-03 2002-04-04 Jung Min Lee A spout assembly having a plurality of fluid passages
FI20060288A0 (sv) * 2006-03-27 2006-03-27 Abr Innova Oy Beläggningsförfarande
FI20061014A0 (sv) * 2006-11-17 2006-11-17 Beneq Oy Förfarande för diffusionsbeläggning
US20100051932A1 (en) * 2008-08-28 2010-03-04 Seo-Yong Cho Nanostructure and uses thereof
EP2733125A4 (en) * 2011-07-12 2015-09-09 Asahi Glass Co Ltd METHOD FOR MANUFACTURING A GLASS SUBSTRATE CARRYING A LAYERED FILM
TW201309838A (zh) 2011-07-12 2013-03-01 Asahi Glass Co Ltd 附積層膜之玻璃基板之製造方法
TW201309611A (zh) 2011-07-12 2013-03-01 Asahi Glass Co Ltd 附積層膜之玻璃基板之製造方法
GB201507330D0 (en) 2015-04-29 2015-06-10 Pilkington Group Ltd Splash screen
PL3697737T3 (pl) * 2017-10-19 2023-03-13 Pilkington Group Limited Sposób wytwarzania wyrobu ze szkła refleksyjnego

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3481781A (en) * 1967-03-17 1969-12-02 Rca Corp Silicate glass coating of semiconductor devices
US3887726A (en) * 1973-06-29 1975-06-03 Ibm Method of chemical vapor deposition to provide silicon dioxide films with reduced surface state charge on semiconductor substrates
US3923484A (en) * 1974-01-11 1975-12-02 Corning Glass Works Flame method of producing glass
GB1507465A (en) * 1974-06-14 1978-04-12 Pilkington Brothers Ltd Coating glass
GB1507996A (en) * 1975-06-11 1978-04-19 Pilkington Brothers Ltd Coating glass
GB1524326A (en) * 1976-04-13 1978-09-13 Bfg Glassgroup Coating of glass
US4425146A (en) * 1979-12-17 1984-01-10 Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation Method of making glass waveguide for optical circuit
JPS5772318A (en) * 1980-10-24 1982-05-06 Seiko Epson Corp Vapor growth method
JPS57163204A (en) * 1981-04-02 1982-10-07 Nec Corp Production of optical waveguide on glass substrate
US4401507A (en) * 1982-07-14 1983-08-30 Advanced Semiconductor Materials/Am. Method and apparatus for achieving spatially uniform externally excited non-thermal chemical reactions
GB8420534D0 (en) * 1984-08-13 1984-09-19 Pilkington Brothers Plc Coated products
CA1272661A (en) * 1985-05-11 1990-08-14 Yuji Chiba Reaction apparatus
JPS6244573A (ja) * 1985-08-20 1987-02-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd 二酸化珪素含有被膜の製造方法
GB8624825D0 (en) * 1986-10-16 1986-11-19 Glaverbel Vehicle windows
GB8630918D0 (en) * 1986-12-24 1987-02-04 Pilkington Brothers Plc Coatings on glass
GB2209176A (en) * 1987-08-28 1989-05-04 Pilkington Plc Coating glass
GB2227754A (en) * 1988-10-14 1990-08-08 Pilkington Plc Gas flow restrictor for glass coating apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
GB8914047D0 (en) 1989-08-09
US5089039A (en) 1992-02-18
ES2020479A6 (es) 1991-08-01
DE4018996A1 (de) 1990-12-20
GB2234264B (en) 1993-07-28
CH681804A5 (sv) 1993-05-28
CA2019191C (en) 2001-10-16
CA2019191A1 (en) 1990-12-19
NO902701D0 (no) 1990-06-18
NO902701L (no) 1990-12-20
LU87745A1 (fr) 1990-12-11
IT9067414A1 (it) 1991-12-08
IT1241245B (it) 1993-12-29
JP3026823B2 (ja) 2000-03-27
SE9002132L (sv) 1990-12-20
IT9067414A0 (it) 1990-06-08
NL194885B (nl) 2003-02-03
FR2648453B1 (fr) 1993-03-19
AT403909B (de) 1998-06-25
GB2234264A (en) 1991-01-30
BE1004216A3 (fr) 1992-10-13
NL9001349A (nl) 1991-01-16
ATA125590A (de) 1997-11-15
DE4018996C2 (de) 2003-03-27
GB9013639D0 (en) 1990-08-08
JPH0333036A (ja) 1991-02-13
NL194885C (nl) 2003-06-04
FR2648453A1 (fr) 1990-12-21
NO303981B1 (no) 1998-10-05
SE9002132D0 (sv) 1990-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE501631C2 (sv) Sätt och anordning för att pyrolytiskt bilda en kiseloxidbeläggning på ett varmt glassubstrat
US4123244A (en) Process of forming a metal or metal compound coating on a face of a glass substrate and apparatus suitable for use in forming such coating
US3674453A (en) Production of float glass having an oxidized metal-modified surface
KR100411656B1 (ko) 글라스시트리본에피복하는방법및장치와피복글라스시트
US5221352A (en) Apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate
CA1138725A (en) Glass coating
US20110039401A1 (en) Apparatus and Method for Depositing a Material on a Substrate
CN1228067A (zh) 在平板玻璃上沉积氧化锡和二氧化钛涂层的方法及所获得的涂覆玻璃
US2159297A (en) Apparatus for coating metal
JP3214713B2 (ja) ガラスを被覆する方法
NO149621B (no) Farve- og raderbaandmekanisme for skrivemaskier eller lignende
CN102267798A (zh) 用于制造浮法玻璃的设备和方法
ITTO930987A1 (it) Dispositivo e metodo per formare un rivestimento mediante pirolisi
US3351451A (en) Apparatus for forming glass ribbon on molten metal with gas seal means
SE463767B (sv) Saett vid pyrolytisk bildning av en metalloxidbelaeggning paa glas och anordning haerfoer
SE445561B (sv) Ytbehandlingforfarande for kontinuerlig tvasidig metallisering av ett jernband med smelt overdragsmetall samt apparatur for genomforande av forfarandet
US3337322A (en) Method of manufacture of flat glass with reducing atmosphere
SE465219B (sv) Saett och anordning foer pyrolytisk belaeggning av glas
CN105705663B (zh) 连续退火设备和连续退火方法
US3351450A (en) Apparatus for the manufacture of flat glass on a molten metal bath
FI85364B (fi) Foerfarande foer bildande av planglas.
US4236906A (en) Reducing tin drip with sulfur containing gas
JPS6048459B2 (ja) 金属酸化物被膜を付着した帯状ガラスを製造する方法及び装置
SU583736A3 (ru) Способ изго овлени листового стекла
GB1074314A (en) Improvements in or relating to the manufacture of flat glass

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed
NUG Patent has lapsed