SE469474B - Genom bestraalning haerdbara hartser, foerfarande foer framstaellning av dessa hartser och anvaendning daerav - Google Patents

Genom bestraalning haerdbara hartser, foerfarande foer framstaellning av dessa hartser och anvaendning daerav

Info

Publication number
SE469474B
SE469474B SE8800023A SE8800023A SE469474B SE 469474 B SE469474 B SE 469474B SE 8800023 A SE8800023 A SE 8800023A SE 8800023 A SE8800023 A SE 8800023A SE 469474 B SE469474 B SE 469474B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
bisphenol
resins
resin
resole
reaction
Prior art date
Application number
SE8800023A
Other languages
English (en)
Other versions
SE8800023D0 (sv
Inventor
A Mathes
Original Assignee
Ruetgerswerke Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ruetgerswerke Ag filed Critical Ruetgerswerke Ag
Publication of SE8800023D0 publication Critical patent/SE8800023D0/sv
Publication of SE469474B publication Critical patent/SE469474B/sv

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/14Polycondensates modified by chemical after-treatment
    • C08G59/1433Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds
    • C08G59/1438Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds containing oxygen
    • C08G59/1455Monocarboxylic acids, anhydrides, halides, or low-molecular-weight esters thereof
    • C08G59/1461Unsaturated monoacids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/02Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
    • C08G59/04Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof
    • C08G59/06Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols
    • C08G59/066Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols with chain extension or advancing agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • C08G59/62Alcohols or phenols
    • C08G59/621Phenols
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • H05K3/4673Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
    • H05K3/4676Single layer compositions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Emergency Medicine (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Description

ms G\ 10 15 20 25 30 35 lä 74 förnätning.av resol-epiklorhydrin-hartserna och/eller leder till förlust av kedjeuppbyggande epoxidringar. Härur fram- går syntetiska begränsningar: Om höga omsättningar och där- med höga utbyten och högmolekylära resol-epiklorhydrin- hartser eftersträvas, erhåller man genom bireaktioner för- nätade, olösliga hartser. Vid låga omsättningar och därmed kortkedjiga resol-epiklorhydrin-hartser är utbytet lågt och antalet hydroximetylgrupper per kedja är knappast högre än hos den insatta resolen. Härtill kommer den låga löslig-å heten för de kortkedjiga resol-epiklorhydrin-hartsen, som inte möjliggör någon fortsatt omsättning med fotokänsliga grupper. Men till och med om syntesen av längrekedjiga resol- epiklorhydrin-hartser skulle lyckas, vore en fortsatt om- sättning med syraklorider inte möjlig på grund av den än en gång lägre lösligheten.
Den delvisa substitutionen av resolen med fenolen borde prin- _ cipiellt förbättra lösligheten för resol-bisfenol-epiklor- hydrin-hartsen. Vid sidan av de redan nämnda bireaktionerna, vilka inte möjliggör syntes av resol-bisfenol-epiklorhydrin- hartser med medelkedjelängd, försvårar härgdessutom den skiljaktliga reaktiviteten för fenolgrupperna vid resolen och fenolen syntesen. Jämförande försök med samkondensation av bisfenol och tetrahydroximetyl-bisfenol med epiklorhydrin visar, att bisfenol företrädesvis reagerar med epiklorhyd- rin och mindre än 10 % av resolkomponenten byggs in i oli- gomererna. Samkondensat bestående av hydroximetyl-bisfenol och bisfenol kan därför endast framställas med låga utbyten, låga resolandelar och korta kedjelängder och erbjuder därför ur användningsteknisk synpunkt inte några fördelar i jäm- förelse med de kända med kanëlsyra och furylakrylsyra för- estrade bisfenol-A-epiklorhydrin-hartsen med medelkedje- längd och högre kedjelängd.
Förutom begränsningarna vad gäller syntesen uppvisar foto- lacker på basis av termiskt skonsamt framställda epiklor- hydrin-hartser för elektronisk användning - t.ex. fotolacker för integrerade kretsar - ofta för höra hydrolyserbara klor- halter. 10 15 20 25 30 35 469 474 Det är därför uppfinningens problem att framställa genom be- strålning härdbara hartser, vilka visserligen har samma goda termostabila egenskaper som resol-epiklorhydrin- eller resol- bisfenol-epiklorhydrin-hartserna men inte har de ovan skild- rade nackdelarna.
Problemets lösning sker genom hartser enligt kraven l till 3, förfaranden för deras framställning enligt kraven 4 till 6 och deras användning enligt kraven 7 och 8.
Man fann överraskande, att vid omsättningen av hydroximety- lerade bisfenoler (resoler) och diglycidyletern av en bis- fenol såsom visas som exempel i följande formelschema: _ cnzofl ïflzon CH; wa bas cH2-cH-cH2-o- -{- <:::) -o-caz-of-cnz + ao- -}- -OH --+ \ / 0/ CH3 J O I. CH3 I cnzoa cuzoa guzofl " fflzon _M_., cfl r .r -r,f_ CH ror. , 3 . _ _ .. . _ 3 . fl¿-o- -¶- -o-cn2-cs-ca2-o- -+- fo-CH2-$H-CH2 -E L CH3 ou CH3 OH n l I cnzofl cazoa I cazofl ïnzofl I C53 CH3 s: = -o- -+_ Q -o-caz-ca-cflz-o- Ü -i- -o-cnz-cåa-/cnz _ ca3\\"_ I ou CH3 0 I cflzofl cazofl uppkommer resol-epoxid-hartser av definierad struktur utan störande bireaktion, vilka beträffande sin kedjelängd kan inställas kontrollerat och vilka har ett tillräckligt lös- nings- och reaktionsuppförande för att kunna omsättas med etyleniskt omättade syrarester.
Därvid uppkommer fotokänsliga hartser såsom visas i form av .Is (TA 10 15 20 25 30 35 9 4.7! l .Its ett exempel i följande allmänna formel: cnzons cnzons \ I _ p__ i ; caa _ _ , _ _ CH3 J; y I A{-o- Û + -o-cuz-tfl-caz-o--F- -o-cuz-pu-cazíi- caa ons cn3 ons n Éazoas rszoas I R = : a -C0-CH=CH- b -CO-CEhCH-g å S O Dessa hartser är hanteringssäkra, termostabila och härdar mycket snabbt vid bestrålning med aktiniskt ljus. Det är en ytterligare fördel hos dessa hartser, att andelen hydro- lyserbart klor genom användning av högren diglycidyleter kan minimeras så att hartserna kan insättas i områden med högsta krav utan att någon risk för korrosiv skada uppkom- mer. På grund av denna egenskap lämpar sig hartserna spe- ciellt som fotolacker för integrerade kretsar och för fram- ställning av tryckta flerskiktskretsar.
Framställningen av resolerna sker på i och för sig känt sätt genom omsättning av en bisfenol eller bisfenolbland- ning med formaldehyd i alkaliskt medium. Resolerna eller deras alkalisalter isoleras därefter företrädesvis genom spruttorkning.
Likaså framställs diglycidyletræmm genom omsättning av bis- fenolerna (A, B eller F) med epiklorhydrin och renas ge- nom destillation.
Resol eller motsvarande alkalisalt och bisfenol-diglycidyl- eter löses i ett organiskt läsningsmedel, lösningarna, vil- ka innehåller omkring ekvimolära mängder, förenas och om- sätts vid temperaturer i omrâdet från 50 till 100°C, varvid 10 15 20 25 30 35 11 1.2. 947 O'\ -Ib- till reaktionsmediet successivt sätts syra. Efter en reak- tionstid av 5 till 8 h försätts reaktionslösningen med vatten och hartset isoleras på i och för sig känt sätt.
Detså framställda resol-epoxid-hartset löses för den fort- satta omsättningen i ett organiskt lösningsmedel och om- sättes i ett temperaturområde från 20 till 8OOC med ett derivat av en etyleniskt omättad syra. Lämpliga derivat är syraanhydrider, -klorider efler-estrar. Exempel på så- dana syror är kanel-, furylakryl-, fenylpropiol- eller cinnamalmalonsyra.
-Eësmeel EXEMPEL l Syntes av a) 2,2-bis[(4-natriumoxi-3,5-di(hydroximetyl))-fenyl]- propan (resolat) b) 2,2-bis[(4-hydroxi-3,5-di(hydroximetyl))-fenyl]- propan (resol) 228,3 g (1,0 mol) bisfenol A och 88 g (2,2 mol) NaOH försät- tes med 650 ml vatten och löses i värme under skyddsgas- atmosfär. Den klara, färglösa lösningen kyls under kraftig omrörning. Efter uppnående av reaktionstemperaturen 25OC tillsätts 147,1 g (4,8 mol) paraformaldehyd. Man rör efter- åt till dess att det i början utfallna fenolatet löser sig och den exoterma fasen av reaktionen är avslutad (2 - 3 h).
Reaktionstiden uppgår,till 16 h. a) Resolat: Den klara, ljusgula lösningen (925 ml) späds med 740 ml aceton och spruttorkas. "Man erhåller ett fint ljusgult pulver, som torkas i vakuumtorkskâp_ över KOH och P O 4 10 gas. Utbyte: 338 g (86 %). vid rumstemperatur och förvaras under skydds- b) Resol: Den ljusgula lösningen surgörs under omrörning ("j\ 10 15 20 25 30 35 xO "Ils- - ~<| ~r> och kylning (0 - SCC) med 37 %-ig svavelsyra till pH 5 (indikator:_metylrött). Resolen sedimenterar vid rums- temperatur och avdekanteras efter 6 h och förvaras vid 4°C. Produkt: 330 g resol (utbyte: 95 %), en färglös, högviskös massa. K Antalet hydroximetylgrupper per resolenhet kan varieras steg3kt.från fyra till en genom förkortning av reaktions- tiden eller liten formaldehydtillsats.
EXEMPEL 2 Syntes av resoxi-hartset Variant A: 164,8 g (0,4 mol) resolat (exempel l a) löses under skydds- gas i 840 ml DMSO och försätts med en lösning av 16 g (0,l6 mol HCl) HCl konc. i 133,3 g vatten. Till detta sätts 136,2 g (0,4 mol) bisfenol-A-diglycidyleter, löst i 800 ml DMSO. Reaktionsblandningen värms till 60°C. Nu tillsätts efter 90, 150, 210 och 270 minuter vardera 8 g (0,08 mol) HCl konc. ma reaktionslösningen (2070 ml) under omrörning med 2070 ml Efter 390 minuter reaktionstid försätts den var- vatten och ställs i ett isbad.
Resoxihartset faller ut grötformigt, den överstående lös- ningen avdekanteras och hartset rörs intensivt med 1000 ml eter. Efter avdekantering kan hartset lösas i 400 ml DMF och förvaras vid 4oC eller torkas i vakuumskåp. Utbyte: 169,3 g (62 %) bärnstensfärgat resoxiharts.
Variant B: 139,4 g (0,4 mol) resol (exempel 1 b) och 136, 2 g (0,4 mol) bisfenol-A-diglycidyleter löses under skyddsgas i 1500 ml DMSO. Man tillsätter 20 g vatten och 20 g bensyltrimetyl- ammoniumklorid och rör 6 h vid 60°C. Därefter höjs reak- tionstemperaturen för ytterligare 2 h till 70°C. Den varma rekationslösningen rörs in i 2000 ml vatten och ställs i 10 15 20 25 30 35 A _;\ [Ls 7 I f ( I n' v isbad. Det utfallna resoxihartset avdekanteras, tas upp i DMF och fälls ut i vatten. Resoxihartset tas ånyo upp i DMF, drivs in till en koncentrerad lösning och filtreras.
Filtratet kan vidarebearbetas, torkas termiskt skonsamt i rotationsindunstare eller fällas ut ur vatten och tor- kas. Som resultat erhålles 220 g (81 % utbyte) bärnstens- färgat resoxiharts.
EXEMPEL 3 Förestring av resoxihartset från exempel 2 25 g resoxiharts eller en ekvivalent mängd koncentrerad DMF- lösning blandas under skyddsgas med 100 ml N-metyl-2-pyrro- 'lidon, 100 g pyridin och 48,3 g furylakrylsyraklorid vid OOC och rörs vidare 24 h vid rumstemperatur. Reaktions- blandningen droppas in i 1500 ml NaHCO3-lösning (5 %-ig).
Det utfallna hartset avdekanteras och löses i 150 ml DMF.
Hartset tvättas tre gånger med vardera 100 ml HCl-lösning (5 %-ig) och NaHCO3 håller man 38 g (61 % utbyte) brunt pulver. -lösning (5 %-ig). Efter torkning er- EXEMPEL 4 Förestring av tetrahydroximetyl-bisfenol-A från exempel 1 Variant A: . 17,8 g (45 mmol) resolat eller 15,7 g (45 mmol) resol upp- slammas i 90 g (l,14 mol) pyridin och 100 ml N-metyl-2- pyrrolidon (NMP) och 1,15 g 1,4-diazabicyklo(2,2,2)oktan tillsätts. 51,3 g furylakrylsyraklorid (297 mmol) löses i 25 ml NMP och tilldroppas vid 50°C inom 60 min. Efter yt- terligare 120 min filtrerar man den utfallna hydrokloriden och avlägsnar från filtratet 100 ml lösningsmedel (i rota- tionsindunstare). Reaktionsblandningen indroppas i 1400 ml 5 %-ig NaHCO3-lösning av 50OC. Det utfallna hartset av- dekanteras, löses i 100 ml DMF och indroppas ånyo i 1000 ml NaHCO -lösning. Den smuliga fällningen avfiltreras och 3 Fm. Ü\ 10 15 20 25 30 35 O. 74 tvättas tre gånger omväxlande med 100 ml HCl-lösning (5 %-ig) och NaHCO3-lösning (5 %-ig) och torkas. Den råa produkten rörs ut med 150 ml toluen och filtreras. Därefter avdrages lösningsmedlet från filtratet i vakuum. Den resulterande ljusgula, oljiga produkten erhålles med 50 %-igt utbyte (n:30 g) i hög renhet.
Variant B: 15,7 g (45 mmol) resol blandas vid OOC med 200 g pyridin och 51,3 g furylakrylsyraklorid och rörs vidare 24 h vid rumstemperatur. Upparbetningen sker såsom vid variant A.
Utbyte: 43 g (A179 %) ren produkt.
EXEMPEL 4 Fotoförnätning av hartsen från exempel 3 och 4 De förestrade resolerna (exempel 4) resp. förestrade resoxi- hartsen (exempel 3) eller blandningar därav löses i toluen och försätts med 1 - 10 % sensibilisator - t.ex. tioxanton eller Michlers keton. Torkade filmer av dessa lösningar kan förnätas fotokemiskt med UV-ljus (366 nm) till termiskt och mekaniskt höghållfasta filmer med hög upplösning. Så- lunda uppvisar den med furylakrylsyra förestrade resolen (exempel 4) efter fullständig fotokemisk förnätning en glasövergångstemperatur (T -värde) av över ZOOOC. De ana- loga furylakrylsyraestrarn: av resoxihartset (exempel 3) uppvisar TG-värden av 150 - l60oC. Genom tillblandning av den förestrade resolen till det förestrade resoxihartset kan TG-värdet varieras, varvid 'andelarna förestrat res- oxiharts säkerställer goda filmbildande egenskaper.
'V1

Claims (8)

10 15 20 25 30 35 469 474 P A T E N T K R A V
1. Genom bestràlning härdbara hartser, vilka kan er- hållas genom omsättning av hydroximetylerade fenoler (resoler) med diglycidyletrar av en eller flera bis- fenoler i det molära förhållandet från 1:2 till 2:1 vid temperaturer i området 50-l00°C och förestring av reaktionsprodukternas hydroxylgrupper med etyleniskt omättade syror eller dessas anhydrider, klorider eller estrar i temperaturområdet 20-80°C.
2. Hartser enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a d e av att bisfenolkomponenten är bisfenol A.
3. Hartser enligt kraven 1 och 2, k ä n n e t e c k - n a d e av att syraestrarna är rester av kanelsyra eller furylakrylsyra.
4. Förfarande för framställning av hartserna enligt krav 1 till 3, av att resoler- na omsättes med diglycidyletrarna av en eller flera bis- fenoler i det molära förhållandet från 1:2 till 2:1 och reaktionsprodukternas hydroxylgrupper förestras med etyleniskt omättade syror vid temperaturer i om- rådet zo-so°c. k ä n n e t e c k n a t
5. Förfarande enligt krav 4, k ä R H 2 t 2 C K H a t av att resoler och bisfenol-A-diglycidyleter omsättes.
6. Förfarande enligt kraven 4 och 5, k ä n n e t e c k - n a t av att förestringen. av hydroxylgrupperna sker ge- nom omsättning med kanel- eller furylakrylsyraklorid.
7. Användningen av hartserna enligt kraven 1 till 3 som fotolacker för integrerade kretsar.
8. Användningen av hartserna enligt kraven 1 till 3 för framställning av tryckta flerskiktskretsar.
SE8800023A 1987-02-11 1988-01-07 Genom bestraalning haerdbara hartser, foerfarande foer framstaellning av dessa hartser och anvaendning daerav SE469474B (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19873704149 DE3704149A1 (de) 1987-02-11 1987-02-11 Durch bestrahlung haertbare harze, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SE8800023D0 SE8800023D0 (sv) 1988-01-07
SE469474B true SE469474B (sv) 1993-07-12

Family

ID=6320703

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE8800023A SE469474B (sv) 1987-02-11 1988-01-07 Genom bestraalning haerdbara hartser, foerfarande foer framstaellning av dessa hartser och anvaendning daerav
SE9102977A SE9102977L (sv) 1987-02-11 1991-10-14 Genom bestraalning haerdbara hartser, foerfarande foer deras framstaellning och anvaendning

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE9102977A SE9102977L (sv) 1987-02-11 1991-10-14 Genom bestraalning haerdbara hartser, foerfarande foer deras framstaellning och anvaendning

Country Status (4)

Country Link
DE (1) DE3704149A1 (sv)
DK (1) DK56288A (sv)
NO (1) NO169720C (sv)
SE (2) SE469474B (sv)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0365844A3 (de) * 1988-10-28 1991-02-06 Siemens Aktiengesellschaft Gut aushärtbarer Photolack
DE4038895C2 (de) * 1990-12-06 1998-07-02 Harald Dr Mueller Licht- und strahlungsempfindliche Gemische
JP3331222B2 (ja) * 1992-02-27 2002-10-07 ジャパンエポキシレジン株式会社 エポキシ樹脂及びエポキシ樹脂組成物
KR100342950B1 (ko) * 1997-11-11 2002-10-19 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 경화성수지및수지조성물
CN100358953C (zh) * 2005-05-23 2008-01-02 容大油墨(惠州)有限公司 一种液态感光防焊油墨及其电路板
JP6557155B2 (ja) 2015-02-02 2019-08-07 株式会社日本触媒 硬化性樹脂およびその製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3230560A1 (de) * 1981-08-20 1983-05-05 Hussain Kashif Dr. 8003 Zürich El-Ghatta Polymere und verfahren zu deren herstellung
DE3565546D1 (en) * 1984-06-29 1988-11-17 Siemens Ag Thermostable and irradiation-curable polymer system based on bisphenol and epichlorohydrine, and method for its preparation

Also Published As

Publication number Publication date
DK56288D0 (da) 1988-02-04
NO880592D0 (no) 1988-02-10
SE8800023D0 (sv) 1988-01-07
SE9102977D0 (sv) 1991-10-14
NO169720B (no) 1992-04-21
NO169720C (no) 1992-07-29
SE9102977L (sv) 1993-04-15
DK56288A (da) 1988-08-12
DE3704149C2 (sv) 1990-09-27
DE3704149A1 (de) 1988-08-25
NO880592L (no) 1988-08-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR930003866B1 (ko) 설포늄염 및 이의 제조방법
ES2834440T3 (es) Monómero basado en benzoxazina para resinas termoestables
US6632960B2 (en) Diaryliodonium salt catalysts made from iodotoluene and a method for preparing them
JP4057704B2 (ja) 9,9−ビス(アルキル置換−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン類とその製造方法
SE469474B (sv) Genom bestraalning haerdbara hartser, foerfarande foer framstaellning av dessa hartser och anvaendning daerav
US2659710A (en) Phenol alcohol-epichlorohydrin reaction products
US3579591A (en) 4,4&#39;-bis-(hydroxyarloxy)-phenylsulfone
US3716549A (en) Pyridine-bis-(hydroxyaryl ethers) and derivatives thereof
Kricheldorf et al. Polymers of carbonic acid, 26. Synthesis and ionic polymerization of 1, 3‐dioxane‐2‐thione
Korshak et al. Synthesis and properties of polycondensation polymers from compounds with asymmetric functional groups
US3449340A (en) Triazines containing oxetane groups
US3357931A (en) Sulfonated polymeric phosphonitriles
US4273915A (en) Process for the preparation of glycidyl polyethers of polyphenols
SU763369A1 (ru) Способ получени фосфазенсодержащих эпоксидных смол
US3832329A (en) Polyesters prepared from hydroxyarylthio anhydrides
JP2593276B2 (ja) 1,3−ジヒドロキシ−4,6−ビス〔α−メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル) エチル〕ベンゼンの製造方法
RU2005737C1 (ru) Способ получения поли- и сополиэфирсульфонов
US2540794A (en) Copolymers of maleic anhydride and thiophene compounds
US5306789A (en) Amorphous, soluble, aromatic polymers with high glass transition temperatures
JPH06107577A (ja) 新規なトリスフェノール誘導体及びその製造方法
EP0425049A2 (en) Polythiocarbonates and a process for their preparation
Gupta et al. Studies on new chemical resistant polyesters based on bisphenol‐a derivatives
SU745899A1 (ru) Глицидиловые эфиры 9-(о-оксибензил)карбазолов дл получени олигомеров, обладающих фоточувствительными свойствами
JPH07330646A (ja) 新規なポリフェノール及びその製造方法
JPH06306162A (ja) ハロゲン化合物の製造法および合成樹脂用難燃剤

Legal Events

Date Code Title Description
NAL Patent in force

Ref document number: 8800023-7

Format of ref document f/p: F

NUG Patent has lapsed

Ref document number: 8800023-7

Format of ref document f/p: F