SA516380628B1 - مغلف نموذج الفولتية الضوئية - Google Patents

مغلف نموذج الفولتية الضوئية Download PDF

Info

Publication number
SA516380628B1
SA516380628B1 SA516380628A SA516380628A SA516380628B1 SA 516380628 B1 SA516380628 B1 SA 516380628B1 SA 516380628 A SA516380628 A SA 516380628A SA 516380628 A SA516380628 A SA 516380628A SA 516380628 B1 SA516380628 B1 SA 516380628B1
Authority
SA
Saudi Arabia
Prior art keywords
encapsulant
copolymer
weight
compound
silane
Prior art date
Application number
SA516380628A
Other languages
English (en)
Inventor
ستيفان بيزيت
جويلاوم جاكويس
بينويت سافيجنات
مولى كانيت
Original Assignee
اركيما فرنسا
اس كيه جلوبال كيميكال كو.، ال تي دي
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=51570656&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=SA516380628(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by اركيما فرنسا, اس كيه جلوبال كيميكال كو.، ال تي دي filed Critical اركيما فرنسا
Publication of SA516380628B1 publication Critical patent/SA516380628B1/ar

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048—Encapsulation of modules
    • H01L31/0481—Encapsulation of modules characterised by the composition of the encapsulation material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F210/00—Copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
    • C08F210/02—Ethene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1804—C4-(meth)acrylate, e.g. butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate or tert-butyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/14—Peroxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/54—Silicon-containing compounds
    • C08K5/541—Silicon-containing compounds containing oxygen
    • C08K5/5415—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond
    • C08K5/5419—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond containing at least one Si—C bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/54—Silicon-containing compounds
    • C08K5/541—Silicon-containing compounds containing oxygen
    • C08K5/5425—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one C=C bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L23/00—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L23/02—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08L23/04—Homopolymers or copolymers of ethene
    • C08L23/08—Copolymers of ethene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L23/00—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L23/02—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08L23/04—Homopolymers or copolymers of ethene
    • C08L23/08—Copolymers of ethene
    • C08L23/0807—Copolymers of ethene with unsaturated hydrocarbons only containing more than three carbon atoms
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048—Encapsulation of modules
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048—Encapsulation of modules
    • H01L31/049—Protective back sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
    • C08F230/08—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
    • C08F230/08—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
    • C08F230/085—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon the monomer being a polymerisable silane, e.g. (meth)acryloyloxy trialkoxy silanes or vinyl trialkoxysilanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2500/00—Characteristics or properties of obtained polyolefins; Use thereof
    • C08F2500/12—Melt flow index or melt flow ratio
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Sealing Material Composition (AREA)

Abstract

يتعلق الاختراع الحالي بمغلف encapsulant (22) نموذج الفولتية الضوئية photovoltaic module (20)، والذي يعد لتغليف الخلية الضوئية photovoltaic cell (10)، والتي تتضمن: البوليمر المشترك copolymer من الإيثيلين-ألكيل أكريليت ethylene-alkyl acrylate، يكون معيار تدفق المصهور melt flow index (MFI) للبوليمر المذكور من 1جرام/10 دقيقة حتى 40 جرام/10 دقيقة ويعد السيلان silane ليكون من 0.1٪ حتي 0.5٪ من وزن المركب المذكور؛ والذي يتصف بأن يتضمن المغلف المذكور أيضا عامل تشبيك crosslinking agent معد من 0.1٪ حتى 0.5٪ من وزن المركب والموجود في البوليمر المشترك المذكور والمعد ليكون 99٪ على الأقل من وزن المركب المذكور. يتعلق أيضا الاختراع الحالي باستخدام مثل هذا المغلف في نموذج الفولتية الضوئية نظرا لأن نموذج الفولتية الضوئية يتضمن المغلف. شكل 2

Description

مغلف نموذج الفولتية الضوئية ‎ENCAPSULANT OF A PHOTOVOLTAIC MODULE‏ الوصف الكامل
خلفية الاختراع
تتعلق ‎sale‏ الاختراع الحالي بمغلف نموذج الفولتية الضوئية ‎photovoltaic module encapsulant‏
الذي يعتمد على البوليمر المشترك من إيثيلين /ألكيل أكربليت ‎ethylene/alkyl acrylate copolymer‏
‎Allg‏ بها عامل التشخبيك ‎crosslinking agent‏ (بيروكسيدات ‎peroxides‏ أو ايزوسيانات ‎isocyanates 5‏ أو أي مكون ‎AT‏ ذو وظيفة عامل التشضبيك) ويكون موجودا فقط في كميات قليلة
‏جدا. أيضا يتعلق الاختراع الحالي بنموذج الفولتية الضوئية؛ أو استخدام تركيب هذا المغلف في
‏مثل هذا النموذج» ‎cai Sug‏ بجانب طبقة التغليف ‎cencapsulant layer‏ على طبقة واحدة مقابلة
‏على الأقل وتكون 'اللوح الأمامي ‎"frontsheet‏ أو 'اللوح الخلفي ‎¢"backsheet‏ أكثر إجمالا الثلاثة
‏طبقات المتسلسلة هي : "اللوح الأمامي”؛ "المغلف" و"اللوح الخلفي".
‏0 ارتفاع درجة حرارة الكرة الأرضية؛ يتعلق بالغازات الدفيئة المنبعثة من الوقود ‎fossil fuels all‏ والتي تشير إلى تطوير محاليل الطاقة ‎energy solutions‏ البديلة والتي لا ينبعث منها مثل تلك الغازات خلال التشغيل الخاص به؛ مثل؛ على سبيل المثال؛ نماذج الفولتية الضوئية ‎photovoltaic‏ ‏00005. يشتمل نموذج الفولتية الضوئية على "خلية ضوئية ‎‘photovoltaic cell‏ وتكون هذه الخلية قادرة على تحويل الطاقة الضوئية إلى الكهربائية.
‏5 ييوجد العديد من أنواع هياكل جهاز الفولتية الضوئية ‎.photovoltaic panel structures‏ تم تمثيل الخلية الضوئية التقليدية في شكل 1؛ هذه الخلية الضوئية 10 تشتمل على خلايا مستقلة 2. تحتوي واحدة من الخلية المستقلة على مستشعر الفولتية الضوئية ‎photovoltaic sensor‏ 14« إجمالا يعتمد على السيليكون ‎silicon‏ المعالج لكي يحصل على الخصائص الكهروضوئية؛ مع الاتصال بمجمعات الألكترون ‎electron collectors‏ 16 الموضوعة أعلى (المجمعات العلوية
‎(upper collectors 0‏ وأسفل (المجمعات السفلية ‎(lower collectors‏ لمستشعر الفولتية الضوئية. تتصل المجمعات العلوية للخلية المستقلة 16 بالمجمعات السفلية 16 لخلية مستقلة ‎al‏ 12 عن طريق قضبان موصلة ‎Yaa) ¢18 conducting bars‏ تتكون من سبيكة من المعادن. تتصل كل هذه الخلايا 12 بواحدة أخرى»؛ على التوالي و/أو على التوازي؛ لتكوين الخلية الضوئية 10. عندما
تكون الخلية الضوئية 10 موضوعة أسفل مصدر ضوئي؛ وتستقبل التيار الكهربي المباشر ‎direct‏
.10 ‏الذي يمكن أن يتم استردادها عند الأطراف 19 للخلية‎ electric current
بالإشارة إلى الشكل 2 يشتمل نموذج الفولتية الضوئية 20 على خلية ضوئية 10 للشكل 1 مغلفة
في ‎lal‏ يتكون الأخير من جزءٍ علوي 32522 سفلي 23. طبقة الحماية العلوية ‎upper‏ ‎protective layer 5‏ 24 ) والمعروفة أيضا باللفظ "اللوح ‎١‏ لأمامي"؛ المستخدمة هنا فيما بعد) والطبقة
التي تحمي ظهر النموذج (المعروفة باللفظ "اللوح الخلفي"؛ أيضا مستخدمة هنا فيما بعد) 26 تكون
موضوعة على كلا الجانبين من الخلية المغلفة ‎.encapsulated cell‏
تتوفر الحماية من الرطوية والتصادم للخلية الضوئية 10 بواسطة طبقة الحماية العلوية 24 والتي
تكون مصنوعة كليا من الزجاج.
0 الوح الخلفي 26 على سبيل المثال طبقة متعددة الطبقات ‎multilayer film‏ وتعتمد على البوليمر الفلوريني ‎fluoropolymer‏ وتريفثالات الإيثيلين المتعدد ‎terephthalate‏ 0016071608 التي تساهم في الحماية من الرطوية لنموذج الفولتية الضوئية 20 والعزل الكهربائي للخلايا المستقلة 12 لكي يمنع أي اتصال مع البيئة الخارجية. لابد أن يطبق المغلف 22 بشكل مثالي مع شكل الفراغ الموجود بين الخلية الضوئية 10 وطبقات
الحماية ‎protective layers‏ 24 و26 لكي يتجنب وجود الهواء» والذي سوف يحدد كفاءة نموذج الفولتية الضوئية. لابد أن يمنع أيضا المغلف 22 اتصال الخلايا المستقلة 12 مع أكسجين الهواء الجوي ‎atmospheric oxygen‏ والماء؛ لكي تحد من الصاً بعد ذلك. يكون ‎hall‏ العلوي للمغلف ‎encapsulant‏ 22 بين الخلية 10 وطبقة الحماية العلوية 24. يكون الجزء السفلي للمغلف 22 بين الخلية 10 واللوح الخلفي 26.
0 في وجود الإشعاع الشمسي؛ يحدث التسخين داخل النموذج الشمسي ‎solar module‏ ومن الممكن أن تصل درجات الحرارة 80 درجة مئوية (أو أكثر)؛ ‎Ally‏ يستوجب على الطبقات أن تكون مرتبطة بشكل مثالي الواحدة بالأخري خلال دورة حياة النموذج. ‎(Wa‏ يتمثل أغلبية سوق مغلف الفولتية الضوئية ‎photovoltaic encapsulation market‏ في المركبات التي تعتمد على إيثيلين ‎Jd‏ أسيتات ‎lly (EVA) Ethylene vinyl acetate‏ مثل
5 بيروكسيد ‎peroxide‏ السيلان ‎silane‏ ويتم إضافة إضافات ذات وظيفة مختلفة. توضح إيثيلين فينيل أسيتات العديد من الجودة والخصائص المناسبة لهذا التطبيق.
ويكون هذا بسبب أنها تمنح بصورة رئيسية خصائص جيدة جدا من الشفافية؛ للقوة الميكانيكية ومقاومة التعتيق وممتازة كليا في الميكانيكية الحرارية والخصائص الميكانيكية. أيضاء يكون هذا البلاستيك الحراري ‎thermoplastic‏ رخيص ‎(IM cb wd‏ استخدامه من أجل هذا التطبيق أصبح عمليا لا ‎jae‏ منه. لكنء يعتمد نوع المغلف على إيثيلين فينيل أسيتات؛ مع البيروكسيد والسيلان» والذي لديه عيب رئيسي. ‎cialis‏ عندما تتدهور الظروف البيئية؛ والذي يمكن أن يقال عندما يتعتق مغلف إيثيلين فينيل أسيتات تحت ظروف الحرارة والرطوية ((اختبار الحرارة والرطوية ‎:((DHT) damp heat test‏ 85 درجة مئوية /785 من الرطوية النسبية ‎(RH) relative humidity‏ ؛ يكون هذا المكون هو مادة 0 التحليل بالماء ‎Aly‏ تجلب تقريبا وجود حمض الأسيتيك ‎cacetic acid‏ مصدر الاصفرار للمغلف وصداأً وصلات المعادن ‎metal connections‏ لنموذج الفولتية الضوئية. الشخص المهتم بهذا المجال من الممكن أن يتراءى له استبدال إيثيلين فينيل أسيتات بالبوليمر المشترك إيثيلين/ألكيل أكريليت ولكن هذا المحلول؛ بالرغم من إعتراف الجميع بتجنب المشاكل المحددة المتعلقة بإيثيلين فينيل أسيتات عندما يكون الأخير حاضرا في البيئات الصعبة؛ لايمكن 5 جعلها ممكنه للحصول على نموذج الفولتية الضوئية الصحيح. ويكون هذا بسبب؛ خلال الصفيحة الرقيقة؛ وتتكون الفقاقيع الكثيرة خلال التشبيك نتيجة للبيروكسيد؛ الموجود في الكميات الملائمة. أيضاء توفر الوثيقة الدولية رقم 095911/2005 حل بواسطة استخدام المركب المعتمد على البوليمر المشترك إيثيلين/ألكيل ‎cub SF‏ « نقطة الاتنصهار ‎melting point‏ التي (1 بالدرجة المئوية)؛ التي يتم الحصول عليها طبقا ل 167121 ‎JIS‏ الأساسي؛ والتي ستتمثل في الصيغة الآتية: ‎3.0X+125 > 7 >-3.0X+109 0‏ ؛ يمثل المكون ‎X‏ المدلول المولاري للمونومر القطبي (أكربليت) ‎.polar comonomer (acrylate)‏ أيضاء توفر هذه الوثيقة دمج هذا البوليمر المشترك ‎copolymer‏ ‏مع السيلان لكي يقدم الخصائص الملتصقة على الزجاج. ‎cpl‏ مثل هذا المركب لايمكن أن يكون حدوثه ممكنا للحصول على المغلف والتي تكون مؤثرة على المدي البعيد. ويكون هذا بسبب أن السيلان يبرز عيوب عدم إمكانية صنع مستوى جيد من 5 الالتصاق بالزجاج عندما لا يكون مرتبط كيميائيا بالبوليمر.
لذلك؛ يعتمد محلول المغلف على مكون إيثيلين فينيل أسيتات ولكن يبرز الخصائص التي تكون
مناسبة؛ عندما يتم ‎Al)‏ خطر إخراج حمض الأسيتك؛ كما هو متوقع حاليا.
يمكن لهذا المحلول أيضا أن يسمح باستخدام السيلان؛ يتم عمل المتاح بالأخص بالنسبة للملحق
بحوائط اللوح ‎١‏ لأمامي؛ والذي يتم ذكره بالمكون المصنوع من السيراميك- الزجاجي ‎glass-ceramic‏
أو الزجاج الصناعي ‎synthetic glass‏ (بولي (ميثيل أكريلات) ‎Poly(methyl methacrylate)‏
‎(PMMA)‏ التقليدي).
‏الوصف العام للاختراع
‏لقد وجد أن؛ بواسطة الشركة المتقدمة؛ بعد العديد من التجارب؛ بأن يعتمد المركب على البوليمر
‏المشترك إيثيلين/ألكيل أكريليت وعلى السيلان المتاح مع محتوى قليل جدا من عامل التشضبيك 0 (عوامل) ‎crosslinking agent(s)‏ وتظهر إرضاء مرتفع للخصائص الميكانيكية الحرارية ومميزات
‏الكيمياء الفيزيائية.
‎(IN‏ يتعلق الاختراع الحالي بمغلف نموذج الفولتية الضوئية المعد ليغلف ‎LIAN‏ الضوئية؛ وتشتمل
‏على:
‏البوليمر ‎dn Gd)‏ إيثيلين/ألكيل أكربليت؛ معيار تدفق المصهور ‎(MFI) melt flow index‏ لبوليمر المشترك المذكور ويكون بين [جرام/10 دقيقة و40جرام/10 دقيقة؛
‏السيلان» يتمثل بين 70.1 و70.5 من وزن المركب المذكور؛ ويتميز في أنه أيضا يشتمل على
‏عامل التشبيك الممثل بين 70.1 و70.5 من وزن المركب وفي البوليمر المشترك المذكور والذي
‏يمثل على الأقل 799 من وزن المركب المذكور.
‏في الحقيقة لقد أكتشفت الشركة المتقدمة أنه يوجد ميزة محددة جدا في تطبيق "عامل التشبيك غير 0 المكتمل". عامل ‎edly ail‏ المفضل يكون مختارا من عائلة البيروكسي كربونيت الأحادية
‎monoperoxycarbonate family‏ وأكثر توضيحا يتكون من ‎Luperox® TBEC‏ أو (0ه-تيترت-
‏بيتيل 0-(2-إيثيل هيكسيل) بيروكسي كربونيت الأحادي) ‎(OO-tert-butyl O-(2-ethylhexyl)‏
‎((TBEC) monoperoxycarbonate)‏ الموجود في كمية صغيرة جداء تسمح تركيب السيلان
‏للبوليمر المشترك بوصلات كافية بالأخير لكي يجعله معارض للتغير التدريجي بدون إمكانية 5 تحقيق مستوى هلامي كبير. تكون هذه مادة صغيرة جدا من البيروكسيد لتجنب أي مشكلة لظهور
‏الفقاعات في خطوة التصفيح. ‎lamination step‏
يحتوي ' عامل التشبيك غير المكتمل ‎incomplete crosslinking‏ " على ميزة بأنه يكون قادرا على التحقق في خطوة التصفيح؛ كما هو متحقق حالياء ولكن أيضا يبدأ عندما يتم إبعاد طبقة المغلف ‎lly‏ يسمح للتصفيح بأن يكون أسرع. المركب طبقا للاختراع يوضح أولا المميزات الآتية:
استحالة ظهور حمض الأسيتيك؛ أكثر توضيحا أي حمض؛ خلال استخدامه؛ مهما كانت الظروف البيثية؛ المحافظة على الخصائص الملصقة الممتازة للتركيب خلال فترة ‎sla‏ المركب؛ وبالأخص خلال استخدامه كمغلف لنموذج الفولتية الضوئية؛ تحسين الخصائص البصرية خلال التعتيق في البيئة الصلبة؛
0 المحافظة على الخصائص الميكانيكية الحرارية والمميزات الكيميائية الفيزيائية. على الأقل يكون مرضيا أن محلول التيار ‎current solution‏ يعتمد على إيثيلين ‎Jud‏ أسيتات (عامل التشبيك والسيلان). المميزات الأخري والسمة المميزة للخليط الأول للاختراع يتم توضيحها بالأسفل: على نحو مفيد؛ ينتمي عامل التشبيك إلى عائلة بيروكسي كربونيت الأحادية؛ المفضل أن تتكون
5 من 0ه-تيترت-بيتيله -(2-إيثيل هيكسيل) بيروكسي كربونيت الأحادية؛ المفضل؛ للبوليمر المشترك المذكور بالأعلى؛ يكون وزن مادة الإيثيلين بين 750 71855 والمفضل أكثر بين 760 و784؛ ويكون وزن مادة الألكيل أكريليت ‎alkyl acrylate‏ بين 715 و750؛ والمفضل بين 716 و740؛ على نحو مفيد؛ يتكون السيلان من سيلان الفينيل ‎vinyl silane‏ أو(ميث) أكريليك السيلانات
‎¢(meth)acrylic silanes 0‏ طبقا للخصائص غير المحدودة للاختراع» يتكون السيلان من ميثاكريلوكسي بروييل سيلان ‎¢methacryloxypropylsilane‏ ‏على نحو مفيد؛ يمثل عامل التشبيك أقل من 70.3 من وزن المركب؛ والمفضل أن يحتوي البوليمر المشترك المذكور بالأعلى على معيار تدفق المصهور؛ بين
‏5 2جرام/10 دقيقة و10جرام/0 [دقيقة؛
طبقا لاحتمالية واحدة مقدمة بواسطة الاختراع؛ يتكون المركب بمفرده من البوليمر المشترك المذكور
‎code‏ عامل التشبيك المذكور أعلاه والسيلان المذكور أعلاه؛
‏طبقا لاحتمالية أخرى مقدمة بواسطة الاختراع؛ إضافيا يشتمل المركب على إضافات تهدف إلى
‏إحداث خصائص إضافية محددة؛ وبخاصة الملدنات ‎¢plasticizers‏ محسنات اللصق ‎adhesion‏ ‏5 «عامصسه«م؛ مثبتات ‎stabilizers‏ الأشضعة فوق البنفسجية والمواد الماصة ‎absorbers‏ للأشضعة فوق
‏البنفسجية؛ مضادات التأكسد ‎antioxidants‏ منقصات الاشتعال ‎flame retardants‏ و/أو الحشوات
‎fillers
‏يتعلق أيضا الاختراع الحالي باستخدام المغلف كما هو موضح أعلاه في نموذج الفولتية الضوئية.
‏في النهاية؛ يتعلق الاختراع الحالي بنموذج الفولتية الضوئية الذي يشتمل على البنية التي تشتمل
‏0 على مجموعة من مغلف واحد على الأقل ولوح أمامي أو لوح خلفي؛ وبتصف بهذا المغلف الذي تم توضيحه بالأعلى. شرح مختصر للرسومات الوصف الذي يلي يكون مقدما منفردا بواسطة طريقة عزل وبدون القيود المتضمنة بالإشارة إلى الأشكال الملحقة؛ والتي:
‏5 شكل 1 والذي بالفعل تم توضيحه؛ يتمثل في مثال الخلية الضوئية؛ الأجزاء (أ) و(ب) تكون 4/3 مناظر؛ يوضح الشكل (أ) الخلية المستقلة قبل الاتصال والجزء (ب) منظر بعد الاتصال ب 2 من الخلايا المستقلة؛ ‎eal‏ (ج) عبارة عن منظر علوي للخلية الضوية التامة. شكل 2 والذي بالفعل تم توضيحه؛ ويتمثل في المقطع العرضي لنموذج الفولتية الضوتية؛ التقليدي" مستشعر الفولتية الضوئية والذي يكون مغلفا بواسطة طبقة المغلف العلوية وطبقة المغلف
‏0 السفلية ‎.Jower encapsulant film‏ فيما يتعلق بالبوليمر المشترك الإيثيلين/آلكيل أكريليت؛ ويعد مكون معروف جيدا للشخص المهتم بهذا المجال. السمات المميزة المحددة لهذا البوليمر المشترك؛ خلال سياق الاختراع الحالي؛ أساسيا يصدر من نسب وزن الإيثيلين والألكيل أكريليت ومن معيار تدفق المصهور » للبوليمر المشترك؛
‏5 الممثل بالجرامات لكل 10 دقائق ويقاس عند 190 درجة مئوية تحت حمل 2.16 كيلوجرام.
يكون وزن ‎sale‏ الإيثيلين بين 750 5 7/85 والمفضل بين 760 و7284 ويكون وزن مادة الألكيل أكريليت بين 715 و7250؛ والمفضل بين 716 و740؛ يكون معيار تدفق المصهور بين [جرام/0 1دقيقة و40جرام/0[دقيقة؛ والمفضل بين 2جرام/0 22831 و10 جرام/10 دقيقة. مثال ليس ‎cane‏ الشركة المقدمة تجعل الاستخدام المتاح تجاريا للمكون يعرف ب ‎(LOTRYL®‏ ‏والتي تعد البوليمر المشترك إيثيلين/ألكيل أكربليت. الشخص المهتم في هذا المجال يعرف ‎WIS‏ كيفية تقديم/إتصنيع مثل هذا البوليمر المشترك؛ طبقا للكميات المختلفة لكل من اثنين من المونمرات ‎.monomers‏ ‏في مايلي؛ يقدم الاختراع بالبوليمر المشترك إيثيلين/ألكيل أكربليت لنوع محدد ولكن لابد من أن يتم 0 إثباته بواسطة المالك لتركيب المغلف طبقا للاختراع الذي يواجه الأهداف المحددة عندما يتغير البوليمر المشترك داخل نطاقات ‎sale‏ الإيثيلين والألكيل أكريليت والتي تم توضيحها بالأعلى؛ واحتمالية أن تكون الطريقة أفضل قليلا عندما يحتوي البوليمر المشترك المذكور على مواد من الإيثيلين والألكيل أكربليت والتي تكون مختارة داخل الفترات المفضلة لاثنين من المونمرات هذه. فيما يتعلق بالسيلان؛ وتكون تلك المركبات الكيميائية والتي تسمح بإمكانية تفاعلات الالتصاق بين 5 المغلف والزجاج. كما في أمثلة السيلان؛ تشير إلى أنه يمكن صنع 3-(ثلاثي ميثوكسي سيليل) ‎dug‏ ميثاكريلات ‎3-(trimethoxysilyl)propyl methacrylate‏ فينيل ‎SU‏ مينوؤكسي سيلان ‎vinyltrimethoxysilane‏ أو أي سيلان آخر محمل بالوظيفة التي تؤثر بالنسبة لعامل التشبيك ذو نوع البيروكسيد. المفضل؛ يكون السيلان في المركب طبقا للاختراع عبارة عن 3-( ثلاثي ‎Sse‏ ‏سيليل) بروبيل ميثاكريلات. لكن؛ المكافئ أو النتائج المكافئة الأساسية يمكن الحصول عليها 0 بواسطة اختيار سيلان ‎AT‏ من عائلة الفينيل سيلان ‎vinylsilanes‏ أو (ميث) أكريليك سيالانات ‎.(meth)acrylic silanes‏ بشأن عامل التشضبيك؛ هذا العنصر؛ والذي يتحلل ‎Tad‏ وتكاثر التفاعلات الكيميائية (مع السيلان لتركيب الأخير لسلاسل البوليمر المشترك ‎(copolymer chains‏ وتفاعلات عامل التشبيك (للبوليمر المشترك)؛ ويكون معروفا للشخص المهتم في هذا المجال ولا يقدم أي صعويات 5 لللتصنيع/التجهيزات.
لابد أن يتم الملاحظة هنا وهي أن العائلة المميزة لعوامل التنبيك التي تقدر الأفضل للأهداف المحددة داخل المحتوى لتطبيق البراءة الحالية: وتكون هي بيروكسي كربونيتات الأحادية ‎cmonoperoxycarbonates‏ وضمن هذه بالأخص 0ه-تيترت-بيتيل 0-(2-إيثيل هيكسيل) بيروكسي كربونيت الأحادي والتي تم بيعها بالأخص بواسطة الشركة المتقدمة تحت العلامة التجارية
.Luperox® TBEC
يتشكل المركب المغلف طبقا للاختراع الحالي والذي يشتمل اختياريا على عدد معين من الإضافات والتي تنوي لإحداث خصائص محددة إضافية.
من الممكن أن يتم إضافة الملدنات لكي تسهل المعالجة ولتحسين إنتاجية العملية لتصنيع المركب
0 والهياكل. سوف يتم التنوية؛ على سبيل الأمثلة؛ البرافين ‎eparaffinic‏ الأروماتي ‎aromatic‏ أو الزيوت المعدنية النفتالينية ‎ls «naphthalenic mineral oils‏ ستجعلها ممكنة أيضا لتحسين التصاق المركب طبقا للاختراع. يمكن أيضا التنوية؛ مثل الملدنات؛ للفثالات ‎«phthalates‏ أزيلات ‎cazelates‏ أديبات ‎adipates‏ أو ثلاثي كربسيل فوسفات ‎-tricresyl phosphate‏
5 محسنات اللصقء بالرغم من أنها ليست ضرورية؛ وممكن أن تكون مفيدة عند إضافتها لكي يعمل على تحسين التصاق المركب بالأخص عندما يكون الالتصاق مرتفع. تكون محسنات اللصق عبارة عن عنصر لا بوليمري ‎¢nonpolymeric ingredient‏ من الممكن أن يكون عضوياء؛ بلوري؛ غير عضوي والمفضل أكثر شبيه-غير عضوي شبيه-عضوي. وسوف يتم ‎cgi]‏ ضمن هؤلاء؛ التيتانات ‎.titanates‏
0 في هذا التطبيق المحدد للمركب مع نماذج الفولتية الضوئية؛ عندما يكون ‎dad) gla)‏ فوق ‎a ais‏ قادرا على إحداث إصفرار المركب قليلا والمستخدم كمغلف للنموذج المذكور؛ مثبتات الأضعة فوق البنفسجية والمادة الماصة للأشضعة فوق البنفسجية؛ ‎Jie‏ بنزوثلاثي الأزول ‎<benzotriazole‏ بينزوفينون ‎benzophenone‏ وأمينيات معاقة ‎hindered amines‏ من الممكن أن يتم إضافتها لكي يتم التأكد من شفافية المغلف خلال فترة حياته. هذه المركبات ممكن؛ على سبيل
‎(JE) 5‏ أن تكون معتمدة على البينزوفينون أو على بنزوثلاثي الأزول. ومن الممكن أن يتم إضافتهم بكميات أقل من 710 من وزن الوزن الكلي للمركب والمفضل من 70.05 حتي 73.
ويمكن أيضا أن يتم إضافة مضادات التأكسد ‎antioxidants‏ لكي تحد من الإصفرار خلال تصنيع المغلف؛ مثل المركبات المعتمدة على الفوسفور ‎compounds‏ 1105010115-028860م(فوسفوناتات ‎phosphonites‏ و/أوالفوسفاتات ‎(phosphites‏ ومركبات الفينول المعاقة. مضادات التأكسد هذه من الممكن أن يتم إضافتها بكميات أقل من 710 من وزن الوزن الكلي للمركب والمفضل من 70.05
حتي ‎J3‏ ‏منقصات الاشتعال ‎Flame retardants‏ من الممكن أيضا أن يتم إضافتها. من الممكن أن تكون هذه المتقصات مهلجنة أو ليست مهلجنة. ضمن المنقصات المهلجنة ‎chalogenated retardants‏ يجب التنوية عن المنتجات المبرمنة ‎brominated products‏ الاستخدام أيضا يجب أن يكون ‎Jie chase‏ المنقص غير المهلجن ‎cnonhalogenated retardant‏ للإضافات المعتمدة على الفوسفور ‎cphosphorus-based additives 0‏ مثل فوسفات الأمونيوم ‎cammonium phosphate‏ البولي فوسفات 017011081116 الفوسفينات ‎phosphinate‏ أو بيروفوسفات 0770010501016 سيانوريت الميلامين ‎(melamine cyanurate‏ خماسي الأيريثريتول ‎cpentacrythritol‏ الزيولات ‎zeolites‏ وخليط من هذه المنقصات ‎retardants‏ من الممكن أن يشتمل المركب على هذه المنقصات التي تتراوح بنسب من
3 حتي 240 بالنسبة للوزن الكلي للمركب. 5 ويكون أيضا ممكنا إضافة مواد التلوين ‎pigments‏ مثل؛ على سبيل المثال؛ ثنائي أكسيد التيتانيوم ‎titanium dioxide‏ مركبات الصباغة ‎dyeing compounds‏ أو مركبات التلميع ‎brightening‏ ‏5 بنسب إجمالا تتراوح من 75 حتى 715 » بالنسبة للوزن الكلي من المركب. الحشوات؛ وبالأخص الحشوات غير العضوية ‎cinorganic fillers‏ من الممكن أيضا أن يتم إضافتها لتحسين قوة الميكانيكية الحرارية للمركب. أمثلة سوف يتم تحديدها وهي ‎Ble‏ عن؛ بدون التحديد 0 الضمني » السيليكا دعتازى» الألومنيا ‎alumina‏ أو كريونات الكالسيوم ‎calcium carbonates‏ أو أنابيب الكريون النانوية ‎carbon nanotubes‏ أو ‎Lad‏ الألياف الزجاجية ‎fibers‏ 285[ع. من الممكن أن يتم تحديد الاستخدام لتعديل أو عدم تعديل الطين الذي يتم خلطه عند مقياس النانو ‎tnanoscale‏ ‏وهذا يجعله ممكنا للحصول على مركب شفاف ‎transparent composition‏ أكثر . عامل التشبيك/تجهيز المغلف وإنتاج طبقة المغلف طبقا للاختراع (الذي ينوي أن يندرج في نموذج 5 الئفولتية الضوئية):
بشكل تقليدي؛ يكون عامل التشبيك ضروريا لكي يتم ضبط الخصائص الميكانيكية الحرارية للمغلف
المعتمد على إيثيلين ‎did‏ أسيتات؛ وبالأخص عندما تكون درجة الحرارة مرتفعة جدا. في هذه
الحالة الخاصة؛ داخل مضمين الاختراع الحالي؛ يكون عامل التشبيك ليس مكتملا نظرا لمادة
عامل التشبيك (عوامل) القليلة ‎dan‏ ولكن يسمح لتركيب السيلان بسلاسل البوليمر المشترك ‎doles‏
التشبيك الجزئي ‎partial crosslinking‏ لهذا البوليمر المشترك.
العناصر الأخرى ‎(yall‏ اعتياديا السيلان واختياريا الحشوات؛ يتم إضافتها إلى عامل التشبيك
وإلى البوليمر المشترك المذكور أعلاه في الأسلوب الاعتيادي؛ وتكون معروفة للشخص المهتم بهذا
المجال.
فيما يتعلق بالتواحي المستهدفة المذكورة أعلاه؛ الكتاب المختصر بعنوان 'دليل رغوات البوليمر 0 والتكنولوجيا"؛ وبالأخص في الصفحات من 198 حتى 204 والتي تحقق تعليمات إضافية
للشخص المهتم في هذا المجال ويمكن أن يرجع إليه.
فيما يتعلق بجوانب الاختراع التي تتعلق بامستخدام مركب البلاستيك الحراري ‎thermoplastic‏
‎composition‏ في نموذج الفولتية الضوتية؛ يمكن أن يرجع إليه عن طريق الشخص المهتم بهذا
‏المجال؛ على سبيل المثال؛ ‎JY‏ علم الفولتية الضوئية والهندسة"؛ ‎big‏ ¢ 2003 .3505( هذا بسبب 5 مركب الاختراع الذي يمكن أن يستخدم كمغلف أو لوح جانبي مغلف في نموذج الفولتية الضوئية؛
‏والبنية التي تم توضيحها أثناء الاتصال مع الأشكال الملحقة.
‏المواد التي تتوظف لكي تكون مركبات الاختبار:
‏7 ©1رنما: البوليمر المشترك إيثلين/بيتيل ‎ecb ST‏ تكون ‎sale‏ الأكربليت 717 من وزن
‏البوليمر المشترك و معيار تدفق المصهور والذي يكون 7جرام/10 دقيقة )190 درجة ‎(gic‏ ‏0 2.13 كيلوجرام). يتم الحصول عليها طبقا لعملية التعقيم وتكون نقطة الانصهار 89 درجة مئوية.
‏في جداول النتائج المقدمة بالأسفل؛ يعد ‎Lotryl®‏ هو دلالة على الحروف الأولى 173/807.
‏8 ©1راه]: البوليمر المشترك إيثلين/ميثيل أكريليت؛ تكون مادة الأكربليت 720 من وزن
‏البوليمر المشترك و معيار تدفق المصهور والذي يكون 8جرام/10 دقيقة )190 درجة ‎(gic‏
‏3 كيلوجرام). يتم الحصول عليها طبقا لعملية التعقيم وتكون نقطة الانصهار 75 درجة مئوية. 5 في جداول النتائج المقدمة بالأسفل؛ يعد ‎Lotryl®‏ هو دلالة على الحروف الأولى ‎20MAO08‏
60 ©1رنما: البوليمر المشترك إيثلين/بيتيل ‎ecb ST‏ تكون ‎sale‏ الأكربليت 735 من وزن البوليمر المشترك و معيار تدفق المصهور والذي يكون 40جرام/10 دقيقة )190 درجة ‎(gic‏ ‏3 كيلوجرام). يتم الحصول ‎Lele‏ طبقا لعملية التعقيم ‎autoclave process‏ وتكون نقطة الانصهار 66 درجة ‎sie‏ ‏5 في جداول النتائج المقدمة بالأسفل؛ يعد ‎Lotryl®‏ هو دلالة على الحروف الأولى ‎35BA40‏
0 ©1رنام]: البوليمر المشترك إيثلين/بيتيل أكريليت؛ تكون مادة الأكربليت 735 من وزن البوليمر المشترك ومعيار تدفق المصهور والذي يكون 320 جرام/10 دقيقة )190 درجة ‎(gic‏ ‏3 كيلوجرام). يتم الحصول عليها طبقا لعملية التعقيم وتكون نقطة الانصهار 65 درجة مئوية. في جداول النتائج المقدمة بالأسفل؛ يعد ‎Lotryl®‏ هو دلالة على الحروف الأولى ‎35BA320‏
‎:Lotryl® 2848207 0‏ البوليمر المشترك إيثلين/ميثيل ‎ecb ST‏ تكون ‎sale‏ الأكربليت 728 من وزن البوليمر المشترك و معيار تدفق المصهور والذي يكون 7جرام/10 دقيقة )190 درجة ‎(gic‏ ‏3 كيلوجرام). يتم الحصول عليها طبقا لعملية التعقيم وتكون نقطة الانصهار 68 درجة مئوية. في جداول النتائج المقدمة بالأسفل؛ يعد ‎Lotryl®‏ هو دلالة على الحروف الأولى ‎28MAO07‏ ‏1 ©1رنم]: البوليمر المشضترك إيثلين/بيتيل ‎cb ST‏ تكون ‎sale‏ الأكربليت 77 من وزن
‏5 البوليمر المشترك وال معيار تدفق المصهور والذي يكون 1 جرام/10 دقيقة )190 درجة ‎(gic‏ ‏3 كيلوجرام). يتم الحصول عليها طبقا لعملية التعقيم وتكون نقطة الانتصهار 105 درجة مئوية. في جداول النتائج المقدمة بالأسفل؛ يعد ‎Lotryl®‏ هو دلالة على الحروف الأولى 78/801. ‎:Evatane® 3345PV‏ البوليمر المشترك إيثلين/فينيل أسيتات؛ تكون مادة أسيتات 733 من وزن البوليمر المشترك ومعيار تدفق المصهور والذي يكون 45 جرام/10 دقيقة )190 درجة ‎(gic‏
‏0 2.13 كيلوجرام). في جداول النتائج المقدمة بالأسفل؛ يعد ‎Evatane®‏ هو دلالة على الحروف الأولى ‎3345PV‏ . ‎:Dynasylan MEMO‏ 3-ميثاكريل أوكسسي بروبيل ثلاثي ميثوكسي سيلان -3 ‎Methacryloyloxypropyl TrimethoxySilane‏ المباع عن طريق إيفونيك ‎Evonik‏ يعد السيلان هو دلالة على الحروف الأولى ‎MTS‏
‎:Luperox® TBEC‏ 00-تيترت -بيتيل 0-(2-إيثيل هيكسيل) كربونات البيروكسي الأحادية -00 ‎tert-butyl O-(2-ethylhexyl) monoperoxycarbonate‏ المباع بواسطة الشركة المتقدمة أركيما ‎<Arkema‏ و يتم الدلالة هنا ‎TBEC‏ ‎Luperox® 1‏ : 2.5 ثنائي الميثيل -2.5- ‎SU‏ (تيترت-بيتيل بروكسي) هيكسان -2,5 ‎cdimethyl-2,5-di(tert-butylperoxy)hexane 5‏ المباع بواسطة الشركة المتقدمة أركيما ‎«Arkema‏ و يتم الدلالة هنا 101. إنتاج طبقات الاختبار والمركبات: تجهيز الطبقات: يتم الحصول على طبقات المغلف بواسطة قدف حبيبات البوليمرات المخصبة ‎impregnated‏ ‎polymers 0‏ السيلانات ‎esilanes‏ والذي يكون مقدراء للبيروكسيد الذي تم إضافته بواسطة إخصاب حبيبات لوتريل ‎Lotryl‏ أو حبيبات إفاتان 281806. يتم وضع الحبيبات والسائل في قنينة وتكون القنينة موضوعة في خلاط لف لمدة 3 ساعات عند سرعة 60 دورة لكل دقيقة. بعد الأأخصاب؛ هذه الحبيبات؛ وأيضا الحبيبات المضافة اختياريا؛ يتم وضعها في قادوس التغذية ‎feed hopper 15‏ للقادف ‎extruder‏ مع فتحة القالب ‎slot die‏ ذات عرض 10 سم. يحدث القذف عند درجة حرارة محددة للمركب» لذلك؛ للمركبات التي تعتمد على وه ‎—Luperox‏ ‏تيترت-بيقيل 0-(2-إيثيل هيكسيل) كربونات البيروكسي الأحادية؛ تكون درجة الحرارة هذه محددة عند 90 درجة مئوية؛ ‎(Jie‏ أعلى من درجة الحرارة هذه؛ من الممكن أن يتحلل البيروكسيد. المركبات التي تعتمد على 101 ‎cLuperox‏ من الممكن أن تصل درجة الحرارة من 100 درجة مثوية 0 إلى 110 درجة ‎Ashe‏ ‏يكون هذا القاذف ممكنا للحصول على لفة من الطبقة؛ الرسومات التي يكون عندها مخرج القاذف تم ضبطه لكي يتم الحصول على الطبقة ذات سماكة بين 350 و550 ميكرومتر. تجهيز نماذج الاختبار: لكي يتم وصف المركبات؛ يتم الحصول على نماذج الاختبار بواسطة التصفيح الساخن. 5 .من الممكن أن تختلف البنية لنموذج الاختبار طبقا للوصف الذي يمكن أن يحدث:
قياس التغير التدريجي والخصائص المرئية بواسطة الانتقال: الزجاج ‎Aled)‏ متر)/ طبقة مغلف/ زجاج (4مللي متر) قياس التلاصق: زجاج ‎Me)‏ متر)/طبقة المغلف/اللوح الخلفي أبلرهيا ‎.Apolhya‏ ‏يتوفر المصفح المستخدم عن طريق الطاقة ©. تكون شروط التصفيح معتمدة على مركب الطبقات المصفحة. ‎IY‏ في حالة المركب المعتمد على 00-تيترت-بيتيل 0-(2-إيثيل هيكسيل) بيروكسي كربونيت الأحادي)؛ تكون الدورة الملاحظة كالآتي: الفترة | درجة الحرارة (درجة | ‎Vip‏ ميجا | ‎Viown‏ (ميجا ام ‎ih‏ اس قبلا 10 85 1 ميجا البداية باسكال (1000 مللي بار) ‎of of 8] 10] 1]‏ ‎mw] 2‏ 85 00 ‎Las 0.09 85 10 3‏ باسكال )900 مللي بار) 4 10 85 1 ميجا باسكال (1000 مللي بار) 5 150 1 ميجا الل
‎٠ 1 5 —‏ )1000 مللي بار) |150 1 ميجا باسكال (1000 مللي بار) نس ل 1 ميجا باسكال (1000 مللي بار) أيضا » في حالة المركب المعتمد على 101 ‎cLuperox‏ يتم ضبط درجة الحرارة نظرا لدرجة حرارة الانحلال المرتفعة لهذا البيروكسيد. تكون الدورة الملاحظة كالآتي: الفترة | درجة ‎shall‏ (درجة ‎Vion | V0‏ ميجا ميجاباسكال (الثانية) | مئوية) باسكال قبل 10 110 1 ميجا البداية باسكال (1000 مللي بار) نس نت نس نس
— 6 1 — 3 10 110 9 ميجا باسكال (900 مللي بار) 4 10 110 1 ميجا باسكال )1000 مللي ‎(Lb‏ ‏5 170 1 ميجا باسكال )1000 مللي ‎(Lb‏ ‏360 170 1 ميجا باسكال )1000 مللي ‎(Lb‏ ‏اا ‎I‏ ‎EEE 0‏ 1 ميجا باسكال (1000 مللي بار) الاختبارات التي ‎daw‏ على عينات الاختبار (المركبات من ه1 حتى ‎4a‏ وج ‎la‏ حتى ‎d‏ 2 6 :
يفسر الاختراع الحالي بتفصيل أكثر بواسطة الأمثلة غير المحددة الآتية. تكون المركبات المدلول عليها ‎Qacla‏ ه38 وه 4 في الجدول بالأسفل عبارة عن مركبات طبقا للاختراع عندما تكون المركبات ‎daz‏ ج 722 ه3؛ ج ه4 وج 52 عبارة عن مركبات طبقا المجال السابق و/ أو ليست طبقا للاختراع الحالي. المكون 1 المادة | المكون 2 | المادة )7 | المكون 3 | المادة (7 4 بواسطة بواسطة بواسطة وزن وزن وزن المركب) المركب) المركب) ‎28MAO7 | 1»‏ 995 اي 0.3 00— 0.2 ميثاكريل تبترت أوكسي بيتيل م- بروبيل (2-إيثيل ثلائي هيكسيل) ميثوكسي كربونات سيلان البيروكسي الأحادية ود |07م178 3 0.3 101 0.1 ميشاكريل أوكسي بروبيل سيلان ود | 2011805 3 0.3 101 0.1 ‎REESE‏
أوكسي بروييل ‎HA‏ ‏سيلان ‎oo] 3 3] 993| 35BAd40| 4,‏ ]04 ميثاكريل تيترت- أوكسي بيتيل م- بروبيل (2-إيثيل ‎Ds‏ هيكسيل) ميثوكسي كربونات سيلان البيروكسي الأحادية 874334507 982 [يه 3 أ 1.5 ه1 ميثاكريل تيترت- أوكسي بيتيل م- بروبيل (2-إيثيل ‎Ds‏ هيكسيل) ميثوكسي كربونات سيلان البيروكسي الأحادية ب 200608 997 ]3 03 ‎2a‏ ميثاكريل أوكسي بروييل ‎HA‏
سيلان : 781 3 0.3 101 1.0 ه3 ميثاكريل أوكسي بروييل ‎HA‏ ‏سيلان ‏يم 35883201 2 ايه 03 00- 0.5 ه4 ميثاكريل تيترت- أوكسي بيتيل م- بروبيل (2-إيثيل ‎Ds‏ هيكسيل) ميثوكسي كربونات سيلان البيروكسي الأحادية ‎oo] 3 3 987 BAW‏ ]10 ه5 ميثاكريل تيترت- أوكسي بيتيل م- بروبيل (2-إيثيل ‎Ds‏ هيكسيل) ميثوكسي كربونات سيلان البيروكسي الأحادية
من الملاحظ أنه عينات الاختبار المستهدفة بالأعلى تظهر كميات متطابقة للسيلان؛ المثبت عند 3 من وزن المركب. لكن؛ من الممكن أن تكون الاختبارات المتطابقة ‎Gillan‏ للتعرف على كمية السيلان في المركب وتكون بين 70.1 و70.5 من وزن المركب المذكور. أمثلة المركب طبقا للإختراع الحالي كلها تحتوي على نفس السماكة ولكن من الفهم بوضوح بأن الشخص المهتم بهذا المجال لابد من أن يغيرهم كوظيفة للتطبيق الخاص بنموذج الفولتية الضوئية وكفاءة الأخير. قياس الخصائص ‎dyad)‏ عن طريق الانتقال: يتم قياس الخصائص البصرية على الزجاج/المغلف/هيكل زجاجي يستخدم مقياس اللون الطيفي ‎spectrocolorimeter‏ للعلامة التجارية مينولتا ‎Minolta‏ تكون شروط القياس كالآتي: 0 الطول الموجي: 360 نانومتر -740 نانومتر المضئ: ج الزاوية: 2 درجة مئوية بدء القياس: إل ايه في ‎Ae 25 LAV‏ متر الخلفية: ‎Trad!‏ سطح أبيض + منور 5 تتم أخذ النصيحتين من البيانات الرقمية من هذا القياس: الضباب الخفيف: يمثل الضباب الخفيف درجة الضبابية للهيكل الذي يتم دراسته. يتم حسابه طبقا لايه اس تي ام -دي-007-1003 الأساسي الشفافية: يتم حساب درجة الشفافية عن طريق أخذ قيمة الشفافية المتوسطة بين 400 و740 نانومتر» والمصححة بواسطة المساهمات الخاصة لطبقات الزجاج وزجاج/هواء وتداخلات الزجاج/ 0 مغلف؛ ثم يتم توحيد السماكة ل 200 ميكرو متر. يتم أيضا حساب الشفافية خلال تعتيق (اختبار الحرارة والرطوبة -785 رطوية نسبية /2000 ساعة). لكي يواجه متطلبات هذا الاختراع؛ لابد أن يظهر اختبار الشفافية نتيجة أعلى من 796 ونتيجة اختبار الضبابية أقل من 20. اختبار التغير التدريجي ‎:Creep test‏ يتم تنفيذ اختبار التغير التدريجي على الزجاج/ المغلف/ الهياكل الزجاجية ‎glass structures‏ ( مع ألواح ‎glass sheets Lala)‏ تحتوي على طول ‎=L‏ 70 مللي متر). بعد التصفيح؛ يتم وضع
نماذج الاختبار في بنية معدنية ‎metal structure‏ تتكون عند زاوية 70 درجة مئوية مع ‎١‏ لأفقي . يحجز كل نموذج بواسطة حافة تغطي جزء من سماكة طبقة الزجاج ‎glass layer‏ الأولى. يتم وضع الهيكل عند 100 درجة مثئوية بداخل الفرن. تحت وزن طبقة الزجاج ‎UH‏ من الممكن أن يتم ملاحظة التغير التدريجي. تكون قيمة التغير التدريجي المقاسة وبذلك تكون المسافة المقطوعة بواسطة لوح الزجاج ‎glass sheet‏ الثاني بعد 500 ساعة تحت هذه الظروف. تكون هذه المسافة بين 0 ‎Ale‏ متر (لايوجد تغير تدريجي) و70 ‎Me‏ متر (التغير التدريجي التام» فصل الهيكل). لكي يتم مواجه المتطلبات للاختراع» من الممكن أن يظهر قياس التغير التدريجي نتيجة أقل من 4 0 اختبار الالتصاق على طبقات الزجاج: يتم قياس درجة الالتصاق بين المغلف والزجاج على هياكل الزجاج/المغلف/ اللوح الخلفي باستخدام اختبار التقشير عند 90 درجة متوية ‎Allg‏ تنفذ عند 50 ‎Ale‏ متر/ دقيقة في اختبار 1445 ‎Zwick‏ لماكينة الاختبار العالمية. يتم امستخدام اللوح الخلفي من أجل أن يكون هذا القياس أحادي الطبقة والتي تتكون من ‎Apolhya®‏ المصنع والمباع عن طريق الشركة المتقدمة. تكون شروط القياس ‎SYS 15‏ : معدل إزاحة القطعة المستعرضة: 50 مللي متر/دقيقة. العرض المقطوع لعينات الاختبار: 10 مللي متر.
Agia ‏درجة‎ 90 Peel angle ‏زاوية التقشير‎ يتم التعبير عن نتيجة الالتصاق ب نيوتن/مللي متر. 0 لكي يتم مواجهة متطلبات الاختراع؛ لابد أن يظهر قياس الالتصاق نتيجة أكبر من 3.5 نيوتن/مللي + Jo قد تم تنفيذ الاختبارات على المغلف لكي يؤكد أن هذا الهيكل المستحدث يحتفظ بخصائص ممتازة؛ ويمكن أن نقول أنها خصائص متطابقة؛ بالنسبة لخصائص المغلف طبقا للتي تم توضيحها في الوثيقة الدولية رقم 09138679 أي يتعلق بالأخص بميكانيكيته؛ الميكانيكية الحرارية والخصائص 5 المؤخرة للحريق وخصائص العزل الكهربية الخاصة به. تثبت هذه الاختبارات أنها إيجابية.
خصائص الاصفرار للمغلف؛ المكون كما هو موضح هنا في الاختراع الحالي؛ ‎lly‏ تم حسابها خلال تعتيق (اختبار الحرارة والرطوية -785 رطوية نسبية /2000 ساعة). تثبت هذه النتائج التي تم الحصول عليها بأنها أفضل من تلك التي تم الحصول عليها في المركبات طبقا للمجال السابق. المركبات طبقا للاختراع التي تقابل خصائص تكون قادرة على أن تكون مناسبة جدا للاستخدام كرابط ‎binder‏ أو مغلف في النماذج الشمسية ‎solar modules‏ النتائج التي تم تنفيذها على عينات الاختبار للمركبات المختلفة: اختبار الحرارة إلى والرطوبة التغير التدريجي الالتصاق 00 ,]70 درجة /110 المركبات .| (نيوتن/مللي درجة مئوية ‎lle)‏ ‏متر) )= درجة امتر/70 مللي الحرارة عند الحرارة عند امتر-300 ساعة) 400 الضبابية | 400 ميكرومتر 7 ميكرومتر 7 8 )0 ‎I‏ 5ص كا د ‎IEE‏ ‏ا ‎IE‏ عن لس ‎IE‏ ‏كا ا الس ‎IE CCE‏ ع لا تن سه لس ‎IEC‏ ‏عم شه ف ‎CE‏ اا
لاتوجد قياسات متكونة؛ وجود كمية كبيرة جدا من الفقاعات في طبقة *النتائج التي تم الحصول عليها من ‎die‏ الاختبار ج ه1 (المركب طبقا للمجال السابق) تكون جيدة؛ ولكن يكون محددا مركب حمض الأسيتيك خلال تعتيق اختبار الحرارة والرطوية ويتصاعد الاصفرار الحاد في المغلف. لايمكن ملاحظة هذه الظاهرة في أي من العينات المنتجة طبقا للاختراع الحالي.

Claims (6)

عناصر الحماية
1. المغلف ‎encapsulant‏ )22( لنموذج الفولتية الضوئية ‎photovoltaic module‏ (20)؛ الذي ينوي أن يحيط بالخلية الفولتية ‎photovoltaic cell‏ (10)؛ تشتمل على: البوليمر ‎di Sell‏ إيثيلين/ألكيل ‎cethylene/alkyl acrylate copolymer cub‏ معيار تدفق المصهور ‎«(MFI) melt flow index‏ للبوليمر المشترك ‎copolymer‏ المذكور ويكون بين [جرام/10 دقيقة و40جرام/10 دقيقة؛ السيلان ‎Jian esilane‏ بين 70.1 £0.55 من وزن المركب المذكور؛ ويتصف بأنه أيضا يشتمل على عامل التشبيك ‎crosslinking agent‏ الممثل بين 70.1 و70.5 من وزن المركب وفي البوليمر المشترك ‎copolymer‏ المذكور والذي يمثل بين 799 و 7100 من وزن المركب المذكور.
2. المغلف ‎encapsulant‏ )22( طبقا لعنصر الحماية 1؛ وبتصف بأن ينتمي عامل التشبيك ‎crosslinking agent‏ هذا إلى عائلة كريونات البيروكسي الأحادية ‎monoperoxycarbonate‏ ‎family‏ والمفضل أن تتكون من 00-تيترت-بيتيل 0-(2-إيثيل هيكسيل) كربونات البيروكسي الأحادية ‎.00-tert-butyl O-(2-ethylhexyl) monoperoxycarbonate‏
3. المغلف ‎encapsulant‏ )22( طبقا لعنصر الحماية 1« 2 والذي يتصف بأن يكون للبوليمر المشترك ‎copolymer‏ المذكور؛ وزن ‎sale‏ إيثيلين ‎ethylene‏ بين 750 و785؛ والمفضل بين 760 و784؛ ويكون وزن مادة الألكيل ‎alkyl acrylate cab ST‏ بين 715 5 750 والمفضل بين 716 4 740
4. المغلف ‎encapsulant‏ )22( طبقا لعنصر الحماية 1؛ والذي يتصف في أن يتكون السيلان ‎silane‏ من الفينيل سيلان ‎vinyl silane‏ أو (ميث) ‎lb‏ سيلانات ‎.(meth)acrylic silanes‏
5. المغلف ‎encapsulant‏ )22( طبقا لعنصر الحماية 4؛ والذي يتصف بأن يتكون السيلان ‎silane‏ ‏5 من 3-(ثلاثي ميثوكسي سيليل) بروبيل ميثاكريليت ‎-3-(trimethoxysilyl)propyl methacrylate‏
— 2 5 —
6. المغلف ‎encapsulant‏ )22( طبقا لعنصر الحماية 1( والذي يتصف بأن يمثل عامل التشبيك ‎crosslinking agent‏ لأكثر من 0 إلى 0.3 7 من وزن المركب.
‏7. المغلف ‎encapsulant‏ )22( طبقا لعنصر الحماية 1» والذي يتصف بأن يحتوي البوليمر ‏5 المشترك ‎copolymer‏ المذكور على معيار تدفق المصهور ‎melt flow index‏ بين 2جرام/10 ‏دقيقة و0 [جرام /0 1 دقيقفة.
‏8. المغلف ‎encapsulant‏ )22( طبقا لعنصر الحماية 1؛ والذي يتصف بأن يتكون قليل من ‏المركب من البوليمر المشترك ‎copolymer‏ المذكور؛ عامل التشبيك ‎crosslinking agent‏ المذكور 0 والسيلان ‎silane‏ المذكور.
‏9. المغلف ‎encapsulant‏ )22( طبقا لعنصر الحماية 1؛ والذي يتصف بأن يشتمل إضافيا المركب ‏على الإضافات ‎lly‏ تنوي ‎mie‏ خصائص محددة ‎ddl a)‏ وبالأخص الملدنات ‎plasticizers‏ ‏محسنات اللصق ‎cadhesion promoters‏ مثبتات ‎stabilizers‏ الأضعة فوق البنفسجية والمواد الماصة ‎absorbers‏ للأشعة فوق البنفسجية؛ مضادات التأكسد ‎antioxidants‏ منقصات الاشتعال ‎fillers ‏و/أو الحشوات‎ flame retardants
‏0. نموذج الفولتية الضوؤئية ‎dat dy (20) photovoltaic module‏ على هيكل يتكون من ‏مجموعة من مغلف ‎encapsulant‏ )22( لوح أمامي ‎encapsulant‏ )24( أو اللوح الخلفي ‎backsheet‏ ‏0 (26)؛ والذي يتصف بأن يكون المغلف ‎encapsulant‏ (22) طبقا لعنصر الحماية 1.
— 2 6 — A 18 a Fd 2 ‏الالال © . ري د لات ام‎ J 1 Vj in Se Ve ‏حت + د د‎ (0) ‏(ب)‎ vel yy (=) WAY
رك | \
— 2 7 — ‏وآ‎
‎N . h 1 Ye 1 2 Yi 0 % A | Y \ 1 FO NAST AP EE i er Te EL Ce ene pe ea ‏ان‎ ‎on ETI I ‏الا‎ TR ne SC Ee feo 5 ; i TY ‏كل‎ ‏ال‎ : i ‏4ت‎ YY A
لاله الهيلة السعودية الملضية الفكرية ا ‎Sued Authority for intallentual Property‏ ‎RE‏ .¥ + \ ا 0 § 8 ‎Ss o‏ + < م ‎SNE‏ اج > عي كي الج ‎TE I UN BE Ca‏ ‎a‏ ةا ‎ww‏ جيثة > ‎Ld Ed H Ed - 2 Ld‏ وذلك بشرط تسديد المقابل المالي السنوي للبراءة وعدم بطلانها ‎of‏ سقوطها لمخالفتها ع لأي من أحكام نظام براءات الاختراع والتصميمات التخطيطية للدارات المتكاملة والأصناف ع النباتية والنماذج الصناعية أو لائحته التنفيذية. ‎Ad‏ ‏صادرة عن + ب ب ‎٠.‏ ب الهيئة السعودية للملكية الفكرية > > > فهذا ص ب ‎101١‏ .| لريا ‎1*١ v=‏ ؛ المملكة | لعربية | لسعودية ‎SAIP@SAIP.GOV.SA‏
SA516380628A 2014-07-02 2016-12-29 مغلف نموذج الفولتية الضوئية SA516380628B1 (ar)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1456309A FR3023295B1 (fr) 2014-07-02 2014-07-02 Encapsulant d'un module photovoltaique
PCT/FR2015/051733 WO2016001540A1 (fr) 2014-07-02 2015-06-26 Encapsulant d'un module photovoltaïque

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SA516380628B1 true SA516380628B1 (ar) 2020-04-30

Family

ID=51570656

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SA516380628A SA516380628B1 (ar) 2014-07-02 2016-12-29 مغلف نموذج الفولتية الضوئية

Country Status (13)

Country Link
US (1) US11245045B2 (ar)
EP (1) EP3164452B1 (ar)
JP (2) JP7128395B2 (ar)
KR (1) KR102372758B1 (ar)
CN (1) CN106715569B (ar)
BR (1) BR112016030928B1 (ar)
CA (1) CA2953769C (ar)
ES (1) ES2687045T3 (ar)
FR (1) FR3023295B1 (ar)
MX (1) MX2016016477A (ar)
SA (1) SA516380628B1 (ar)
WO (1) WO2016001540A1 (ar)
ZA (1) ZA201608610B (ar)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020519731A (ja) * 2017-06-16 2020-07-02 ボレアリス エージー 光起電用途用ポリマー組成物
FR3075210B1 (fr) * 2017-12-15 2020-05-22 Arkema France Utilisation d'un melange de peroxydes organiques pour la reticulation d'un elastomere de polyolefine
EP3782203A1 (en) * 2018-04-16 2021-02-24 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement Methods of manufacturing a photovoltaic module
WO2021128127A1 (en) * 2019-12-26 2021-07-01 Dow Global Technologies Llc Ethylene/alpha-olefin interpolymer compositions with high glass adhesion
CN115612347B (zh) * 2021-06-25 2023-06-02 吴江南玻玻璃有限公司 一种光伏玻璃釉料用环保型水性调墨油及其制备方法和水性白色釉料
US11984521B2 (en) * 2022-03-10 2024-05-14 GAF Energy LLC Combined encapsulant and backsheet for photovoltaic modules

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002009309A (ja) * 2000-06-26 2002-01-11 Mitsubishi Chemicals Corp 太陽電池モジュールの製造方法
GB2402392A (en) * 2002-04-01 2004-12-08 World Properties Inc Electrically conductive polymeric foams and elastomers and methods of manufacture therof
JP2005002245A (ja) * 2003-06-13 2005-01-06 Advanced Plastics Compounds Co シラン架橋難燃性樹脂成形体
JP4779074B2 (ja) 2003-10-03 2011-09-21 三井・デュポンポリケミカル株式会社 太陽電池封止材用シート
JP4526022B2 (ja) * 2004-12-03 2010-08-18 三井・デュポンポリケミカル株式会社 積層体及びその用途
DE602006014389D1 (de) 2005-03-08 2010-07-01 Mitsui Du Pont Polychemical Verkapselungsmaterial für solarzellenelement
CN101375409B (zh) * 2006-02-17 2011-11-09 三井-杜邦聚合化学株式会社 太阳能电池密封材料
FR2930556B1 (fr) 2008-04-28 2012-08-17 Arkema France Composition a base de polymere greffe polyamide et son utilisation dans les modules photovoltaiques
EP2144301B1 (en) 2008-07-09 2013-09-04 Borealis AG Photovoltaic module comprising insulation layer with silane groups
US20100269890A1 (en) 2009-04-23 2010-10-28 Christopher John Koch Polymeric Encapsulants for Photovoltaic Modules and Methods of Manufacture
US20110146758A1 (en) * 2009-06-29 2011-06-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Reflecting multilayer encapsulant
WO2011020760A1 (en) * 2009-08-18 2011-02-24 Basf Se Photovoltaic module with stabilized polymeric encapsulant
US8211265B2 (en) 2010-06-07 2012-07-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for preparing multilayer structures containing a perfluorinated copolymer resin layer
JP5820132B2 (ja) * 2011-03-09 2015-11-24 株式会社ブリヂストン 太陽電池用封止膜及びこれを用いた太陽電池
WO2012138986A1 (en) 2011-04-07 2012-10-11 Specialized Technology Resources, Inc Encapsulant for terrestrial photovoltaic modules
KR101374817B1 (ko) * 2011-10-13 2014-03-19 롯데알미늄 주식회사 태양전지용 밀봉재 조성물 및 밀봉시트
FR2981655B1 (fr) * 2011-10-24 2014-03-14 Arkema France Melange-maitre pour la fabrication d'une couche isolante de cable electrique
JP6299125B2 (ja) 2013-09-17 2018-03-28 日立化成株式会社 リチウムイオンキャパシタ
JP2015170657A (ja) * 2014-03-05 2015-09-28 シーアイ化成株式会社 太陽電池モジュール用封止材及び太陽電池モジュール

Also Published As

Publication number Publication date
ES2687045T3 (es) 2018-10-23
BR112016030928B1 (pt) 2021-12-28
JP2017521521A (ja) 2017-08-03
US11245045B2 (en) 2022-02-08
FR3023295A1 (fr) 2016-01-08
CA2953769C (fr) 2020-03-24
KR102372758B1 (ko) 2022-03-10
EP3164452B1 (fr) 2018-07-25
ZA201608610B (en) 2018-05-30
KR20170026556A (ko) 2017-03-08
CN106715569B (zh) 2024-01-26
CA2953769A1 (fr) 2016-01-07
US20170117426A1 (en) 2017-04-27
WO2016001540A1 (fr) 2016-01-07
JP7128395B2 (ja) 2022-08-31
JP2021002662A (ja) 2021-01-07
EP3164452A1 (fr) 2017-05-10
CN106715569A (zh) 2017-05-24
FR3023295B1 (fr) 2017-12-08
BR112016030928A2 (pt) 2017-08-22
MX2016016477A (es) 2017-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SA516380628B1 (ar) مغلف نموذج الفولتية الضوئية
JP6628744B2 (ja) 安定化されたポリプロピレン層を備えるポリオレフィン光起電力裏面シート
CN103492480B (zh) 基于烯烃的离聚物树脂组合物
CN102317367B (zh) 基于聚烯烃的薄膜在光伏组件中的用途
JP5577171B2 (ja) 太陽電池封止材用樹脂組成物、及びそれを用いた太陽電池封止材、その製造方法、ならびに太陽電池モジュール
CN114424349B (zh) 光伏元件
KR20080078816A (ko) 태양 전지 모듈용 충전재, 및 그것을 이용한 태양 전지모듈, 및 태양 전지 모듈용 충전재의 제조 방법
CN103687907A (zh) 偏氟乙烯系树脂组合物、树脂薄膜、太阳能电池用背板以及太阳能电池组件
JP2007335853A (ja) 太陽電池モジュール用充填材およびこれを用いた太陽電池モジュール
CN102317368A (zh) 由聚烯烃制成的薄膜在光伏组件中的用途
CN104736626B (zh) 太阳电池密封材用树脂组成物、太阳电池密封材以及太阳电池模块
US9331215B2 (en) Halogen-free, fireproof, transparent thermoplastic compositions having high thermomechanical strength, in particular for encapsulation in photovoltaic modules
KR102372762B1 (ko) 광발전 모듈의 봉합재
US9978897B2 (en) Thermoplastic composition, in particular for photovoltaic modules
TW201109352A (en) EVM pellets
US10435498B2 (en) Thermoplastic composition having a high polyamide grafting rate
US20140014180A1 (en) Encapsulant for a photovoltaic module
CN104576796B (zh) 光伏组件背面保护膜及其制备方法
CN107438507A (zh) 电子器件模块
BR112016028555B1 (pt) Folha de suporte pv de poliolefina e módulo pv