RU2639433C2 - Раствор для удаления отложений различной природы - Google Patents
Раствор для удаления отложений различной природы Download PDFInfo
- Publication number
- RU2639433C2 RU2639433C2 RU2016114065A RU2016114065A RU2639433C2 RU 2639433 C2 RU2639433 C2 RU 2639433C2 RU 2016114065 A RU2016114065 A RU 2016114065A RU 2016114065 A RU2016114065 A RU 2016114065A RU 2639433 C2 RU2639433 C2 RU 2639433C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- water
- complexon
- solution
- deposits
- cleaning
- Prior art date
Links
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 33
- VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N calixarene Chemical compound COC(=O)COC1=C(CC=2C(=C(CC=3C(=C(C4)C=C(C=3)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C=2)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C(C)(C)C)C=C1CC1=C(OCC(=O)OC)C4=CC(C(C)(C)C)=C1 VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 claims abstract description 10
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical class OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 64
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 42
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 24
- -1 peroxide compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 19
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 13
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 11
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 10
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 8
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 6
- RVEZZJVBDQCTEF-UHFFFAOYSA-N sulfenic acid Chemical compound SO RVEZZJVBDQCTEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 claims description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 claims description 3
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910000403 monosodium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000019799 monosodium phosphate Nutrition 0.000 claims description 3
- DUWWHGPELOTTOE-UHFFFAOYSA-N n-(5-chloro-2,4-dimethoxyphenyl)-3-oxobutanamide Chemical compound COC1=CC(OC)=C(NC(=O)CC(C)=O)C=C1Cl DUWWHGPELOTTOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 claims description 3
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M sodium dihydrogen phosphate Chemical compound [Na+].OP(O)([O-])=O AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 3
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 11
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 4
- 239000013049 sediment Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 4
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 101000851376 Homo sapiens Tumor necrosis factor receptor superfamily member 8 Proteins 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical class OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100036857 Tumor necrosis factor receptor superfamily member 8 Human genes 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical class [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N Etidronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)(C)P(O)(O)=O DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102220491117 Putative postmeiotic segregation increased 2-like protein 1_C23F_mutation Human genes 0.000 description 1
- 150000001243 acetic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001279 adipic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229960002788 cetrimonium chloride Drugs 0.000 description 1
- WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M cetyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002925 chemical effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000004674 formic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 description 1
- VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N iron(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Fe+2] VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 102200110702 rs60261494 Human genes 0.000 description 1
- 235000019830 sodium polyphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
- C11D3/2003—Alcohols; Phenols
- C11D3/2065—Polyhydric alcohols
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/26—Organic compounds containing nitrogen
- C11D3/33—Amino carboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/36—Organic compounds containing phosphorus
- C11D3/361—Phosphonates, phosphinates or phosphonites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/36—Organic compounds containing phosphorus
- C11D3/364—Organic compounds containing phosphorus containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/39—Organic or inorganic per-compounds
- C11D3/3947—Liquid compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/261—Alcohols; Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
- C11D7/3245—Aminoacids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/36—Organic compounds containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F14/00—Inhibiting incrustation in apparatus for heating liquids for physical or chemical purposes
- C23F14/02—Inhibiting incrustation in apparatus for heating liquids for physical or chemical purposes by chemical means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/04—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors
- C23G1/06—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors organic inhibitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/04—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors
- C23G1/06—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors organic inhibitors
- C23G1/063—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions using inhibitors organic inhibitors heterocyclic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28G—CLEANING OF INTERNAL OR EXTERNAL SURFACES OF HEAT-EXCHANGE OR HEAT-TRANSFER CONDUITS, e.g. WATER TUBES OR BOILERS
- F28G9/00—Cleaning by flushing or washing, e.g. with chemical solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/16—Metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/20—Industrial or commercial equipment, e.g. reactors, tubes or engines
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области очистки отложений различной природы, а именно к средствам для очистки металлических, стеклянных, керамических поверхностей промышленного оборудования и может быть использовано для удаления таких отложений, как оксиды металлов, карбонатные и солевые отложения, асфальтосмолопарафиновые и отложения нефтяной природы, отложения органической и биологической природы. Предложен раствор для очистки поверхности от отложений различной природы, содержащий перекись водорода, комплексон, водорастворимый каликсарен и воду при следующем соотношении, мас. %: перекись водорода 2-90, комплексон 3-30, водорастворимый каликсарен 0,01-10, вода - остальное, причем комплексон он содержит в виде многоосновных органических кислот, их натриевых солей или производных фосфористых кислот. Также предложены концентрированный компонент для приготовления упомянутого раствора, способ приготовления раствора и способы очистки поверхности от отложений различной природы. Технический результат: повышение степени очистки от отложений различной природы с одновременным снижением агрессивности раствора к конструкционным материалам. 5 н. и 14 з.п. ф-лы, 2 табл.
Description
ОБЛАСТЬ ТЕХНИКИ
Изобретение относится к области очистки отложений различной природы, а именно к средствам для очистки металлических, стеклянных, керамических поверхностей промышленного оборудования и может быть использовано для удаления таких отложений, как окислы металлов (железа, хрома, никеля, и т.д.), карбонатные и солевые отложения, асфальтосмолопарафиновые и отложения нефтяной природы, отложения органической и биологической природы (бактериальные отложения).
УРОВЕНЬ ТЕХНИКИ
Известен способ жидкостной химической очистки ЖХО [ЕПВ, заявка N 0277781, PHELPS DODGE IND INC (US), опубл. 10.08.1988, МПК C23G 1/10], заключающийся в том, что для процесса очистки применяют моющий раствор, содержащий H2SO4 и Н2О2, проводят прополаскивание в воде и сушку. В этом способе моющий раствор и очищаемый металл поддерживают в нагретом состоянии и контролируют длительность обработки. Способ достаточно эффективно используется для удаления окалины, образующейся при высокотемпературной термомеханической обработке медного прутка.
Недостатки данного способа заключаются в применении горячих растворов, нагреве очищаемого образца, нестабильности во времени окислительной способности горячих моющих растворов. Способ не является универсальным и применим только для очистки поверхности медных прутков.
Известен способ ЖХО [Описание изобретения к заявке 94-021419/02 ʺСпособ очистки медной поверхностиʺ], заключающийся в том, что очистку проводят в моющем растворе, содержащем 45-75 г/л надсерной кислоты, полученном в результате электрохимической обработки водного 25-50%-ного раствора серной кислоты. Обработку проводят при нагревании до 100-120°С в течение 3-7 мин. Далее после окончания процесса ЖХО в моющем растворе следует прополаскивание изделий в воде и сушка.
Данный способ имеет и ряд существенных недостатков, так как требует применения искусственного подогрева моющих растворов, что приводит к усилению их агрессивности и токсичности; имеет нестабильную во времени окислительную способность и, как следствие, нестабильное протекание процессов воздействия моющих растворов на обрабатываемую поверхность. Кроме того, этот способ связан со значительными затратами на нейтрализацию и утилизацию промстоков.
Известен способ применения пероксидов с комплексообразующими соединениями в дезинфицирующих составах [RU 2360415 С1, ЗАО «НПП «Биохиммаш» (RU), опубл. 10.07.2009, МПК A01N 25/22], заключающийся в том, что для обработки поверхностей используют иммобилизованную на комплексообразователе перекись водорода для дезинфекции. 1,5 кг механически активированного комплексона смешивают с 5 кг перекиси и разбавляют 30 л воды, добавляя ПАВ.
Недостатком данного способа является узкоспецифичность применения - использование только в дезинфекции, отсутствие использования ингибиторов окисления металлов, сложность обработки поверхности.
Наиболее близким по технической сущности к заявляемому изобретению является способ [патент США N 4636282, GREAT LAKES CHEMICAL CORP (US), опубл. 13.01.1987, МПК C23F 1/18], заключающийся в том, что для процесса очистки применяют моющий раствор, содержащий 8-12 мас. % H2SO4, 0,004-0,02 М стабилизирующей добавки и 0,5 М Н2О2. Очистку в этом растворе проводят при температуре 50°С, далее изделия прополаскивают водой и сушат. Достоинство способа - это достаточно эффективное удаление в поверхности загрязнений, растворимых в кислотах; получение блестящей поверхности.
Недостатки способа заключаются в его неуниверсальности (применим только для травления меди), использовании горячих растворов и специальных травильных растворов со стабилизирующими добавками.
В US 2004101461 (А1) описан водный раствор, содержащий перекись водорода в количестве 20-70 масс. %, комплексон на основе фосфоновой кислоты в количестве 10-60% (в перерасчете на количество перекиси водорода) и воду. Раствор имеет широкое применение, а именно может быть использован для отбеливания, очистки, дезинфекции, стерилизации и окисления, в частности, для использования в насыщении почвы кислородом (предложено). Данный раствор для очистки выбран в качестве прототипа.
К недостаткам прототипа относится недостаточная эффективность раствора при использовании для очистки металлических поверхностей, в частности, невозможность удаления оксидов металлов.
РАСКРЫТИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
Общей задачей группы изобретений является создание нового состава для осуществления эффективного удаления отложений различной природы с различного рода поверхностей оборудования и изделий, в частности, металлических и/или неметаллических, например, стеклянной, керамической и полимерной.
Общим техническим результатом группы изобретений является повышение эффективности действия раствора (степени очистки) для очистки от отложений различной природы с одновременным снижением агрессивности раствора к материалам оборудования и изделий (конструкционным материалам).
Дополнительным техническим результатом в случае очистки металлических поверхностей является формирование высокоустойчивого к коррозии слоя на поверхности очищаемых изделий из металлов и их сплавов.
Поставленная задача и требуемый технический результат достигаются за счет раствора для удаления отложений различной природы, содержащего перекись водорода, комплексон, каликсарен и воду при следующем количественном соотношении, масс. %: перекись водорода 2-90; комплексон 3-30; каликсарен 0,01-10; вода - остальное. При этом в качестве комплексона используют водорастворимые хелатирующие агенты, например, многоосновные органические кислоты, их натриевые соли и производные фосфористых кислот.
В одном из альтернативных вариантов осуществления изобретения предложенный раствор дополнительно содержит органическую кислоту в количестве 3-30 масс. %, где в качестве органической кислоты используют уксусную кислоту, муравьиную кислоту, пропановую кислоту, бутановую кислоту, щавелевую кислоту, лимонную кислоту, сульфаминовую, адипиновую, винную, молочную, ангидриды указанных кислот или любую их возможную комбинацию.
В еще одном альтернативном варианте осуществления изобретения предложенный раствор дополнительно содержит стабилизатор разложения перекисных соединений в количестве 1-5 масс. %, где в качестве стабилизатора разложения перекисных соединений используют гексаметафосфат натрия, фосфат калия, гидрофосфат натрия и дигидрофосфат натрия.
В еще одном альтернативном варианте осуществления изобретения предложенный раствор дополнительно содержит ПАВ в количестве 0,5-2,5 масс. %, где в качестве ПАВ используют сульфонол, неонолом или их смесь предпочтительно в соотношении 2:1.
В еще одном альтернативном варианте осуществления изобретения предложенный раствор дополнительно содержит ингибитор в количестве 0,5-1,5 масс. %.
Поставленная задача и требуемый технический результат достигаются также за счет концентрированного компонента для получения вышеуказанного раствора, содержащего комплексон и каликсарен в следующем соотношении, масс. %: комплексон 60-90; каликсарен 10-40.
В одном из альтернативных вариантов осуществления изобретения предложенный концентрированный компонент дополнительно содержит ингибитор в количестве 5-15 масс. %.
В еще одном альтернативном варианте осуществления изобретения предложенный концентрированный компонент дополнительно содержит органическую кислоту в количестве 10-85 масс. %.
В еще одном альтернативном варианте осуществления изобретения предложенный концентрированный компонент дополнительно содержит стабилизатор разложения перекисных соединений в количестве 10-30 масс. %.
В еще одном альтернативном варианте осуществления изобретения предложенный концентрированный компонент дополнительно содержит ПАВ в количестве 1-10 масс. %.
Поставленная задача и требуемый технический результат достигаются также за счет способа приготовления раствора для очистки от отложений различной природы, в котором предложенный концентрированный компонент смешивают с перекисью водорода и разбавляют водой.
Поставленная задача и требуемый технический результат достигаются также за счет способа очистки поверхности раствором для очистки от отложений различной природы, включающий стадию, на которой указанную поверхность вводят в контакт с предложенным согласно изобретению раствором, при этом указанная поверхность представляет собой металлическую поверхность или неметаллическую поверхность.
Поставленная задача и требуемый технический результат достигаются также за счет способа очистки поверхности от отложений различной природы, заключающегося в совмещении механического, химического и физико-химического воздействия на указанные отложения компонентов раствора для очистки, полученного взаимодействием концентрированного раствора, содержащего, по меньшей мере, комплексон и каликсарен, с перекисью водорода с последующим разбавлением водой, приводящим к интенсивному газообразованию на поверхности и внутри пор указанных отложений с формированием пузырьков радиусом от 1,3*10-6 м до 2*10-3 м, поддерживающих в зоне локального разложения температуру до 150°С и давление от 0,1 до 15 МПА, причем указанная поверхность представляет собой металлическую поверхность или неметаллическую поверхность.
Сущность предлагаемой технологии очистки заключается в совмещении механического и химического воздействия на отложения, а также сочетанием комплексообразующих и поверхностно-активных свойств в одной молекуле активного компонента (каликсарена): одна является комплексообразующей, другая - поверхностно-активной. В предлагаемой технологии используется экзотермический эффект разложения перекисных соединений с интенсивным газообразованием на поверхности и внутри отложений. Данный эффект позволяет не проводить нагревание очистительного раствора, так как для этих целей используется энергия разложения. Также применение каликсаренов в совокупности с пероксидными соединениями способствует адсорбционному понижению прочности отложений, известному как эффект Ребиндера. Интенсивное газообразование способствует разрыхлению отложений и десорбции их с поверхности очищаемого оборудования и изделий. В совокупности с использованием каликсаренов, которые сочетают в своем свойстве как комплексообразующие, так и поверхностно активные свойства с возможностью образования мицелярных структур, достигается полное смещение равновесия в сторону растворения отложений, в частности, металлических окислов при очистке металлических поверхностей.
ОСУЩЕСТВЛЕНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
Как уже было указано выше, сущность предлагаемой технологии заключается в совмещении механического, химического и физико-химического воздействия на отложения, а также сочетанием комплексообразующих и поверхностно активных свойств в одной молекуле активного компонента.
Применение перекисных соединений, таких как пероксокислоты и перекись водорода. Разложение данных соединений сопровождается обильным газообразованием с выделением энергии. Радиус пузырьков газа в реакции разложения перекисных соединений колеблется от 1,3*10-6 м до 2*10-3 м. Радиус должен быть больше, чем размеры пор отложений, для того чтобы при образовании пузырьков создавалось разрушающее воздействие на отложения, с одной стороны. Но с другой стороны, повышение поверхностного натяжения не позволит проникнуть раствору в поры отложений, поэтому в каждом конкретном случае выбирают промежуточное оптимальное значение размера пузырька. Температура в порах отложений может достигать 150°С, при этом давление газов в зоне локального разложения может достигать значений от 0,1 до 15 МПа. Высокая эффективность данного процесса проявляется в порах отложений, когда в небольшом объеме пространства выделяется значительное количество газообразных продуктов. Объем выделяемого газа напрямую прямопропорционален концентрации перекиси водорода.
Таким образом, отложения подвергаются механическому воздействию, что в совокупности с низким поверхностным натяжением на границе раздела фаз позволяет наблюдать эффект Ребиндера. Кроме того, экзотермический эффект разложения обуславливает нагрев раствора, что приводит к увеличению скорости проявления эффектов и протекания химических реакций непосредственно в порах отложений.
В состав очистительной композиции (раствора) входят перекись водорода, комплексон, каликсарен и вода.
Перекись водорода в количестве 2-90 масс. % (в зависимости от концентрации исходного раствора) обеспечивает процессы газообразования путем экзотермического разложения, что в свою очередь оказывает разрушающее действие на отложения. Использование состава с процентным содержанием менее 2% не обеспечивает необходимый эффект (неполная очистка), использование состава с процентным содержанием более 90% не рекомендуется, так как в данном случае эффект интенсивного разложения может оказать разрушающее действие на оборудование. Концентрация перекиси водорода влияет на объем газа и температуру в порах отложений. Изменяя концентрацию перекисного компонента, добиваются заданной интенсивности газообразования.
Комплексон используется в количестве 3-30 масс. %. В качестве комплексона возможно использование водорастворимых хелатирующих агентов, например, натриевые соли многоосновных органических кислот или же сами многоосновные органические кислоты, такие как, например, комплексон 2, а также производные фосфористых кислот, такие как, например, НТФ, ОЭДФ. Применение комплексона в концентрации менее 3% не обеспечивает необходимый эффект комплексообразования, а при концентрации более 30% комплексон теряет способность к растворению.
Водорастворимый каликсарен общей формулы используют в количестве 0,1-10%. Предпочтительно используют каликсарены общей формулы
Использование каликсаренов указанного строения позволяет эффектвно связывать ионы тяжелых элементов, в том числе и радиоактивных, образуя с ними прочные комплексы. Возможно использование любых структур указанного состава. Для металлических поверхностей предпочтительны соединения с числом мономерных звеньев 6 или 8, так как в данном случае внутренняя полость молекулы соответствует радиусу тяжелых элементов. Применение каликсаренов в меньших, чем 0,01%, концентрациях не обеспечивает комплексообразующий эффект, при увеличении концентрации (более 10%) улучшения очистительных свойств не наблюдается.
Применение водорастворимых производных каликсаренов, которые сочетают в своем свойстве как комплексообразующие, так и поверхностно активные свойства композиции, позволяет значительно увеличить эффективность очистки. В частности, в случае металлических поверхностей происходит связывание ионов металлов и перевод их в мицелярную фазу (раннее не было предложено).
В состав дополнительно может быть введена органическая кислота, используется в количестве 3-30 масс. %. Используют, например, уксусную кислоту, муравьиную кислоту, пропановую кислоту, бутановую кислоту, щавелевую кислоту, лимонную кислоту, сульфаминовую, адипиновую, винную, молочную, ангидриды указанных кислот или любую их возможную комбинацию.
Использование органических кислот дополнительно повышает эффективность разложения перекиси водорода за счет образования пероксокислот. Указанный диапазон концентраций обеспечивает максимальный эффект, при использовании недостатка или избытка реагентов рН среды не будет способствовать комплексообразованию и контролируемому разложению перекисных соединений.
Дополнительное механическое воздействие на отложения достигается путем разложения перекисных соединений ряда карбоновых кислот С1-С6, а также дикарбоновых С2-С6, трикарбоновых, тетракарбоновых кислот. Например, для дополнительного повышения эффективности очистки карбонатных отложений наиболее оптимальным является использование монокарбоновых кислот, таких как уксусная и муравьиная кислоты. Для целей образования устойчивых комплексов с ионами железа наиболее оптимальным является использование дикарбоновых кислот, например, таких как щавелевая и адипиновая, или трикарбоновых кислот, например, лимонной. В качестве универсального комплексообразователя наиболее оптимальным является использование тетракарбоновой кислоты - ЭДТК и/или ее соли. Данные примеры конкретных кислот приведены для целей иллюстрации осуществления группы изобретения и не ограничивают объем. Данные примеры кислот не должны рассматриваться как ограничивающие объем предлагаемой группы изобретений, который определяется пунктами формулы. Все карбоновые кислоты, применяемые в данной технологии, являются биоразлагаемыми.
В состав дополнительно может быть введен стабилизатор разложения перекисных соединений в количестве 1-5%. В качестве данного стаблизатора используют, например, гексаметафосфат натрия или аналогичные соли фосфорной кислоты, такие как, например, фосфат калия, гидрофосфат натрия, дигидрофосфат натрия. При применении стабилизатора в концентрации менее 1% разложение происходит лавинообразно и не подвергается контролю, более 5% - не обеспечивает должного газообразования. Скорость выделения газа при разложении перекисных соединений преимущественно зависит от концентрации стабилизатора разложения.
В состав дополнительно может быть введено поверхностно-активное вещество (ПАВ) в количестве 0,5-2,5%. В качестве ПАВ используют, например, сульфонол совместно с неонолом в соотношении 2:1, однако возможно использование этих веществ как самостоятельных компонентов ПАВ. Применение ПАВ обеспечивает дополнительное повышение эффективности очистки раствора за счет снижения поверхностного натяжения на границе раздела фаз жидкость - твердое вещество (очистительный раствор - отложения). Данный эффект обусловлен сорбцией молекул ПАВ на поверхности отложений и обусловлен схожестью химической природы молекул отложений и молекул ПАВ. Снижение поверхностного натяжения обуславливает лучшую смачиваемость отложений очистительным составом, что влечет за собой увеличение площади контакта раствора с отложениями. Кроме того, вышеупомянутый эффект позволяет раствору проникать в поры отложений, что и приводит к возможности доставки перекисных соединений в поры отложений с последующим разложением. Подбор поверхностно-активного вещества является важной задачей и решается индивидуально в зависимости от природы отложений. Из общих случаев можно отметить применение анионных ПАВ, таких как алкилбензолсульфокислоты в процессах очистки от отложений нефтяной природы, катионных ПАВ, таких как цетримония хлорид, для удаления отложений силикатной природы. Выбор ПАВ обусловлен также рН раствора, так как применение анионных ПАВ не является целесообразным в кислой среде, а катионных в щелочной. Использование ПАВ в концентрациях менее 0,5% не обеспечивает смачивающий эффект, более 2,5% не влияет на дополнительное повышение эффективности очистки. Кроме того, ПАВ облегчает достижение заданных размеров пузырька.
Для нивелирования разрушающего воздействия очистительного состава непосредственно на металлическую, стеклянную, керамическую поверхность оборудования дополнительно применяются соответствующие ингибиторы в количестве 0,5-1,5%. Данные вещества формируют на поверхности нерастворимый прочный слой, который защищает поверхность от воздействия активных компонентов раствора. Применение ингибитора в меньших, чем 0,5%, концентрациях не обеспечивает должного ингибирующего эффекта, а при концентрации более 1,5% не приводит к увеличению эффективности ингибирования. В качестве ингибитора, например, для металлической поверхности применяется ингибитор КИ-1, для легированных и углеродистых сталей - Катапин-Б, для черных и цветных металлов - КИ-1. В частности, ингибиторы растворения металла препятствуют окислительному действию перекисных соединений и создают стойкую к окислению защитную пленку.
Моющее действие достигается прокачкой очистительной композиции через контуры оборудования либо помещением деталей в ванну с циркуляцией.
Для обоснования количественного содержания реагентов в водном растворе для очистки от отложений металлических и неметеллических поверхностей были приготовлены примеры-образцы (см. Таблицу. 1), которые прошли испытания по оценке эффективности очистки.
Для получения раствора (образца) по примеру 1 концентрированный компонент, содержащий комплексон (ЭДТА), и водорастворимый каликсарен (6 мономерных звеньев) смешивали с раствором перекиси водорода 36% и разбавляли водой. Полученный раствор для очистки имел следующий состав: перекись водорода (5%), ЭДТА (4%), водорастворимый каликсарен (10%) и воду (остальное). Полученный раствор прокачивали через теплообменное оборудование, загрязненное карбонатными отложениями и железными окислами. Контроль чистоты осуществляли визуальным методом и методом разницы давлений на входе и выходе из теплообменника. Результаты исследований по оценке эффективности очистки приведены в Таблице 2.
Растворы по примерам 1 и 10 были получены аналогично примеру 1. С той лишь разницей, что:
- в качестве комплексона по примеру 2 использовали НТФ, по примеру 3 - ЭДТА, по примеру 4 - ЭДТА, по примеру 5 - НТФ, по примеру 6 - ОЭДФ, по примеру 7 - ЭДТА, по примеру 8 - ЭДТА, по примеру 9 - ОЭДФ, по примеру 10 - НТФ;
- в качестве стабилизатора разложения перекисных соединений в примерах 4-10 использовали полифосфат натрия;
- в качестве ПАВ в примере 4 использовали сульфонол, в примере 5 - ОП-7, в примере 6 - сульфонол, в примере 7 - ОП-10, в примере 8 - ОП-7, в примере 9 - сульфонол, в примере 10 - ОП-10.
Полученные по примерам 2-10 растворы испытывали и оценивали аналогичным образом согласно примеру 1. Проведенные испытания подтверждают повышение эффективности действия предложенного раствора для очистки от отложений различной природы с одновременным снижением агрессивности раствора к конструкционным материалам.
Хотя настоящая группа изобретений была подробно описана на примерах вариантов, которые представляются предпочтительными, необходимо помнить, что эти примеры осуществления изобретения приведены только в целях иллюстрации изобретения. Данное описание не должно рассматриваться как ограничивающее объем изобретения, поскольку в описанный раствор, концентрированный компонент для его получения, способ приготовления раствора и способ очистки специалистами в области химии и др. могут быть внесены изменения, направленные на то, чтобы адаптировать их к конкретным составам раствора или ситуациям, и не выходящие за рамки прилагаемой формулы группы изобретений. Специалисту в данной области понятно, что в пределах сферы действия изобретения, которая определяется пунктами формулы изобретения, возможны различные варианты и модификации, включая эквивалентные решения.
Claims (29)
1. Раствор для очистки поверхности от отложений различной природы, содержащий перекись водорода, комплексон, водорастворимый каликсарен и воду при следующем соотношении, мас. %:
причем комплексон он содержит в виде многоосновных органических кислот, их натриевыех солей или производных фосфористых кислот.
2. Раствор по п. 1, который дополнительно содержит органическую кислоту в количестве 3-30 мас. %.
3. Раствор по п. 1, который дополнительно содержит стабилизатор разложения перекисных соединений в количестве 1-5 мас. %.
4. Раствор по п. 1, который дополнительно содержит ПАВ в количестве 0,5-2,5 мас. %.
5. Раствор по п. 1, который дополнительно содержит ингибитор в количестве 0,5-1,5 мас. %.
6. Раствор по п. 2, который в качестве органической кислоты содержит уксусную кислоту, муравьиную кислоту, пропановую кислоту, бутановую кислоту, щавелевую кислоту, лимонную кислоту, сульфаминовую, адипиновую, винную, молочную, ангидриды указанных кислот или любую возможную их комбинацию.
7. Раствор по п. 3, который в качестве стабилизатора разложения перекисных соединений содержит гексаметафосфат натрия, фосфат калия, гидрофосфат натрия и дигидрофосфат натрия.
8. Раствор по п. 4, который в качестве ПАВ содержит сульфонол, неонол или их смесь.
9. Раствор по п. 8, который содержит смесь сульфонола с неонолом в соотношении 2:1.
10. Концентрированный компонент для приготовления раствора для очистки поверхности от отложений различной природы, содержащий комплексон и водорастворимый каликсарен в следующем соотношении, мас. %:
причем он содержит комплексон в виде многоосновных органических кислот, их натриевыех солей или производных фосфористых кислот.
11. Концентрированный компонент по п. 10, который дополнительно содержит ингибитор в количестве 5-15 мас. %.
12. Концентрированный компонент по п. 10, который дополнительно содержит органическую кислоту в количестве 10-85 мас. %.
13. Концентрированный компонент по п. 10, который дополнительно содержит стабилизатор разложения перекисных соединений в количестве 10-30 мас. %.
14. Концентрированный компонент по п. 10, который дополнительно содержит ПАВ в количестве 1-10 мас. %.
15. Способ приготовления раствора для очистки поверхности от отложений различной природы, включающий смешивание концентрированного компонента с перекисью водорода с последующим разбавлением водой, в котором используют концентрированный компонент, содержащий комплексон и водорастворимый каликсарен при следующем соотношении, мас. %:
причем содержащий комплексон в виде многоосновных органических кислот, их натриевых солей или производных фосфористых кислот.
16. Способ очистки поверхности от отложений различной природы, включающий стадию, на которой очищаемую поверхность вводят в контакт с раствором, содержащим перекись водорода, комплексон, водорастворимый каликсарен и воду при следующем соотношении, мас. %:
причем содержащий комплексон в виде многоосновных органических кислот, их натриевых солей или производных фосфористых кислот.
17. Способ по п. 16, в котором указанная поверхность представляет собой металлическую поверхность или неметаллическую поверхность.
18. Способ очистки поверхности от отложений различной природы, включающий воздействие на указанные отложения раствором, полученным смешиванием концентрированного компонента с перекисью водорода и последующим разбавлением водой, обеспечивающим интенсивное газообразование на очищаемой поверхности и внутри пор указанных отложений с формированием пузырьков радиусом от 1,3*10-6 м до 2*10-3 м, поддерживающих в зоне локального разложения температуру до 150°С и давление от 0,1 до 15 МПа, при этом используют концентрированный компонент, содержащий, по меньшей мере, комплексон и водорастворимый каликсарен при следующем соотношении, мас. %:
причем содержащий комплексон в виде многоосновных органических кислот, их натриевых солей или производных фосфористых кислот.
19. Способ по п. 18, в котором указанная поверхность представляет собой металлическую поверхность или неметаллическую поверхность.
Priority Applications (16)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2016114065A RU2639433C2 (ru) | 2016-04-12 | 2016-04-12 | Раствор для удаления отложений различной природы |
| RS20210614A RS61855B1 (sr) | 2016-04-12 | 2017-02-14 | Rastvor za uklanjanje raznih vrsta naslaga |
| HUE17782736A HUE054683T2 (hu) | 2016-04-12 | 2017-02-14 | Oldat különbözõ típusú lerakódások eltávolítására |
| CN201780023540.3A CN109072453A (zh) | 2016-04-12 | 2017-02-14 | 去除各种类型沉积物的溶液 |
| LTEP17782736.7T LT3444380T (lt) | 2016-04-12 | 2017-02-14 | Tirpalas, skirtas įvairaus tipo nuosėdų pašalinimui |
| ES17782736T ES2878254T3 (es) | 2016-04-12 | 2017-02-14 | Disolución para eliminar diversos tipos de depósitos |
| PCT/RU2017/050005 WO2017180026A1 (ru) | 2016-04-12 | 2017-02-14 | Раствор для удаления отложений различной природы |
| DK17782736.7T DK3444380T3 (da) | 2016-04-12 | 2017-02-14 | Opløsning til fjernelse af forskellige typer af aflejringer |
| PL17782736T PL3444380T3 (pl) | 2016-04-12 | 2017-02-14 | Roztwór do usuwania różnych rodzajów osadów |
| PT177827367T PT3444380T (pt) | 2016-04-12 | 2017-02-14 | Solução para remover vários tipos de depósitos |
| EP17782736.7A EP3444380B1 (en) | 2016-04-12 | 2017-02-14 | Solution for removing various types of deposits |
| US16/093,590 US11001791B2 (en) | 2016-04-12 | 2017-02-14 | Solution for removing various types of deposits |
| US17/222,975 US11428482B2 (en) | 2016-04-12 | 2021-04-05 | Industrial cleaning systems, including solutions for removing various types of deposits, and cognitive cleaning |
| HRP20210815TT HRP20210815T1 (hr) | 2016-04-12 | 2021-05-20 | Otopina za uklanjanje raznih vrsta naslaga |
| CY20211100459T CY1124178T1 (el) | 2016-04-12 | 2021-05-27 | Διαλυμα για την απομακρυνση διαφορων τυπων επικαθισεων |
| US17/899,560 US20220412677A1 (en) | 2016-04-12 | 2022-08-30 | Industrial Cleaning Systems, Including Solutions for Removing Various Types of Deposits, and Cognitive Cleaning |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2016114065A RU2639433C2 (ru) | 2016-04-12 | 2016-04-12 | Раствор для удаления отложений различной природы |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2016114065A RU2016114065A (ru) | 2017-10-17 |
| RU2639433C2 true RU2639433C2 (ru) | 2017-12-21 |
Family
ID=60041805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2016114065A RU2639433C2 (ru) | 2016-04-12 | 2016-04-12 | Раствор для удаления отложений различной природы |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11001791B2 (ru) |
| EP (1) | EP3444380B1 (ru) |
| CN (1) | CN109072453A (ru) |
| CY (1) | CY1124178T1 (ru) |
| DK (1) | DK3444380T3 (ru) |
| ES (1) | ES2878254T3 (ru) |
| HR (1) | HRP20210815T1 (ru) |
| HU (1) | HUE054683T2 (ru) |
| LT (1) | LT3444380T (ru) |
| PL (1) | PL3444380T3 (ru) |
| PT (1) | PT3444380T (ru) |
| RS (1) | RS61855B1 (ru) |
| RU (1) | RU2639433C2 (ru) |
| WO (1) | WO2017180026A1 (ru) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019132735A1 (ru) * | 2017-12-26 | 2019-07-04 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Ангара Девелопмент" | Раствор для очистки поверхности от отложений различной природы |
| RU2788572C1 (ru) * | 2021-09-06 | 2023-01-23 | Ангара Глобал Лимитед | Промышленная система очистки, включающая растворы для удаления отложений различных типов и когнитивную очистку |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11428482B2 (en) * | 2016-04-12 | 2022-08-30 | Angara Global Ltd. | Industrial cleaning systems, including solutions for removing various types of deposits, and cognitive cleaning |
| CN110524424B (zh) * | 2019-09-26 | 2021-05-14 | 上海御镐实业发展有限公司 | 一种抛光除尘药剂及除尘工艺 |
| CN111088117B (zh) * | 2019-12-30 | 2021-04-23 | 吉林大学 | 一种透水沥青路面清洗剂及其制备方法 |
| CN113293051A (zh) * | 2021-05-10 | 2021-08-24 | 西安航天动力试验技术研究所 | 汽油机油高温氧化沉积物抑制剂及其制备方法和汽油机油 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0277781A1 (en) * | 1987-02-02 | 1988-08-10 | Phelps Dodge Industries Inc. | Process for chemically shaving and pickling copper rod |
| RU2011948C1 (ru) * | 1991-12-28 | 1994-04-30 | Сергей Интервильевич Брыков | Способ очистки теплообменной поверхности парогенератора аэс с водо-водяным энергетическим реактором /его варианты/ |
| US20040101461A1 (en) * | 2002-11-22 | 2004-05-27 | Lovetro David C. | Chemical composition and method |
| US20050159323A1 (en) * | 2003-12-18 | 2005-07-21 | Rita De Waele | Composition and method for treating a semiconductor substrate |
| WO2006016892A2 (en) * | 2004-03-23 | 2006-02-16 | Bechtel Bwxt Idaho, Llc | Cesium and strontium extraction using a mixed extractant solvent including crown ether and calixarene extractants |
| RU2360415C1 (ru) * | 2008-02-20 | 2009-07-10 | Закрытое Акционерное Общество "Научно-Производственное Предприятие "Биохиммаш" | Набор для приготовления дезинфицирующей композиции |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE9604413D0 (sv) * | 1996-11-29 | 1996-11-29 | Eka Chemicals Ab | Chemical composition |
| US6686324B2 (en) * | 1999-11-26 | 2004-02-03 | Virox Technologies, Inc. | Low-foaming hydrogen peroxide cleaning solution for organic soils |
| US20070059199A1 (en) * | 2003-05-19 | 2007-03-15 | Labuschagne Francois J | Process for material treatment |
| DE10352466A1 (de) * | 2003-11-07 | 2005-06-16 | Henkel Kgaa | Verwendung von Calixaren-Verbindungen als geruchsbindendes Mittel |
| US7045493B2 (en) * | 2004-07-09 | 2006-05-16 | Arkema Inc. | Stabilized thickened hydrogen peroxide containing compositions |
| WO2006015626A1 (en) * | 2004-08-12 | 2006-02-16 | Ecolab Inc. | Cleaning of vegetable processing units |
| US8470749B2 (en) * | 2005-12-20 | 2013-06-25 | The Lubrizol Corporation | Method of preparing an overbased or neutral detergent |
| JP4732166B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2011-07-27 | 花王株式会社 | 液体洗浄剤 |
| ATE465230T1 (de) * | 2006-01-23 | 2010-05-15 | Procter & Gamble | Zusammensetzung enthaltend vorgeformte persäure und einen bleichmittelkatalysator |
| US8940682B2 (en) * | 2009-05-14 | 2015-01-27 | Ecolab Usa Inc. | Peroxygen catalyst-containing fabric and use for in situ generation of alkalinity |
| CN103849498A (zh) * | 2012-11-29 | 2014-06-11 | 埃科莱布美国股份有限公司 | 清洗添加剂及使用该清洗添加剂的清洗方法 |
| CN104032297A (zh) * | 2014-06-03 | 2014-09-10 | 南车青岛四方机车车辆股份有限公司 | 一种铝合金表面转化膜的成膜液及制备方法及应用 |
| DE102014010505A1 (de) * | 2014-07-17 | 2016-01-21 | Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg | Die Primärwaschkraft verbessernde Wirkstoffe |
| RU2696990C2 (ru) * | 2017-12-26 | 2019-08-08 | Общество с ограниченной ответственностью "АНГАРА ДЕВЕЛОПМЕНТ" (ООО "АНГАРА ДЕВЕЛОПМЕНТ") | Раствор для очистки поверхности от отложений различной природы |
-
2016
- 2016-04-12 RU RU2016114065A patent/RU2639433C2/ru active
-
2017
- 2017-02-14 WO PCT/RU2017/050005 patent/WO2017180026A1/ru active Application Filing
- 2017-02-14 RS RS20210614A patent/RS61855B1/sr unknown
- 2017-02-14 HU HUE17782736A patent/HUE054683T2/hu unknown
- 2017-02-14 ES ES17782736T patent/ES2878254T3/es active Active
- 2017-02-14 PT PT177827367T patent/PT3444380T/pt unknown
- 2017-02-14 EP EP17782736.7A patent/EP3444380B1/en active Active
- 2017-02-14 CN CN201780023540.3A patent/CN109072453A/zh active Pending
- 2017-02-14 LT LTEP17782736.7T patent/LT3444380T/lt unknown
- 2017-02-14 PL PL17782736T patent/PL3444380T3/pl unknown
- 2017-02-14 DK DK17782736.7T patent/DK3444380T3/da active
- 2017-02-14 US US16/093,590 patent/US11001791B2/en active Active
-
2021
- 2021-05-20 HR HRP20210815TT patent/HRP20210815T1/hr unknown
- 2021-05-27 CY CY20211100459T patent/CY1124178T1/el unknown
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0277781A1 (en) * | 1987-02-02 | 1988-08-10 | Phelps Dodge Industries Inc. | Process for chemically shaving and pickling copper rod |
| RU2011948C1 (ru) * | 1991-12-28 | 1994-04-30 | Сергей Интервильевич Брыков | Способ очистки теплообменной поверхности парогенератора аэс с водо-водяным энергетическим реактором /его варианты/ |
| US20040101461A1 (en) * | 2002-11-22 | 2004-05-27 | Lovetro David C. | Chemical composition and method |
| US20050159323A1 (en) * | 2003-12-18 | 2005-07-21 | Rita De Waele | Composition and method for treating a semiconductor substrate |
| WO2006016892A2 (en) * | 2004-03-23 | 2006-02-16 | Bechtel Bwxt Idaho, Llc | Cesium and strontium extraction using a mixed extractant solvent including crown ether and calixarene extractants |
| RU2360415C1 (ru) * | 2008-02-20 | 2009-07-10 | Закрытое Акционерное Общество "Научно-Производственное Предприятие "Биохиммаш" | Набор для приготовления дезинфицирующей композиции |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019132735A1 (ru) * | 2017-12-26 | 2019-07-04 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Ангара Девелопмент" | Раствор для очистки поверхности от отложений различной природы |
| RU2696990C2 (ru) * | 2017-12-26 | 2019-08-08 | Общество с ограниченной ответственностью "АНГАРА ДЕВЕЛОПМЕНТ" (ООО "АНГАРА ДЕВЕЛОПМЕНТ") | Раствор для очистки поверхности от отложений различной природы |
| US11459530B2 (en) * | 2017-12-26 | 2022-10-04 | Angara Industries Limited | Solution for removing various types of deposits from a surface |
| RU2788572C1 (ru) * | 2021-09-06 | 2023-01-23 | Ангара Глобал Лимитед | Промышленная система очистки, включающая растворы для удаления отложений различных типов и когнитивную очистку |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL3444380T3 (pl) | 2021-08-02 |
| PT3444380T (pt) | 2021-05-14 |
| EP3444380A1 (en) | 2019-02-20 |
| EP3444380A4 (en) | 2019-12-25 |
| HUE054683T2 (hu) | 2021-09-28 |
| RU2016114065A (ru) | 2017-10-17 |
| US11001791B2 (en) | 2021-05-11 |
| DK3444380T3 (da) | 2021-05-25 |
| WO2017180026A1 (ru) | 2017-10-19 |
| LT3444380T (lt) | 2021-06-10 |
| EP3444380B1 (en) | 2021-04-14 |
| ES2878254T3 (es) | 2021-11-18 |
| CY1124178T1 (el) | 2022-05-27 |
| RS61855B1 (sr) | 2021-06-30 |
| CN109072453A (zh) | 2018-12-21 |
| HRP20210815T1 (hr) | 2021-06-25 |
| US20200347327A1 (en) | 2020-11-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2639433C2 (ru) | Раствор для удаления отложений различной природы | |
| RU2696990C2 (ru) | Раствор для очистки поверхности от отложений различной природы | |
| US3072502A (en) | Process for removing copper-containing iron oxide scale from metal surfaces | |
| JP3164362B2 (ja) | 二酸化塩素を用いる硬質表面の消毒方法 | |
| ES2922908T3 (es) | Limpiador CIP altamente alcalino catalizado que no mancha | |
| KR100249061B1 (ko) | 무기 과산화물 용액용 안정화 조성물 | |
| DK1903081T3 (en) | Stabilizer for acidic, metal-containing polishes | |
| JP2014502310A (ja) | 腐食抑制組成物 | |
| CN105386066B (zh) | 一种碳钢酸洗液及其应用 | |
| JP6424896B2 (ja) | 導水システムにおける水処理へのホスホ酒石酸及びその塩類の使用 | |
| CN111989422A (zh) | 多金属上的近中性pH酸洗液 | |
| RU2627377C1 (ru) | Композиция для растворения коррозионных отложений | |
| JP2020530069A (ja) | 硫化鉄スケール除去液の腐食低減 | |
| WO2016029089A1 (en) | Method for removing materials from coal fire generated catalysts | |
| JP2002536545A (ja) | 洗浄剤組成物及びその使用 | |
| EA041024B1 (ru) | Раствор для очистки поверхности от отложений различной природы | |
| JP2003176997A (ja) | スケールの除去方法 | |
| RU2344199C2 (ru) | Способ защиты стального оборудования от коррозии в нейтральных и щелочных водных средах | |
| JPH0514027B2 (ru) | ||
| RU2500795C1 (ru) | Средство для химической очистки с металлических поверхностей коррозионных отложений | |
| KR101321054B1 (ko) | 일액형 화학 세정제 및 이를 이용한 화학 세정 방법 | |
| RU2482223C2 (ru) | Средство для удаления ржавчины, накипи и других минеральных отложений на основе глиоксаля и его производных | |
| RU2644157C1 (ru) | Средство для химической очистки металлических поверхностей | |
| RU2206034C1 (ru) | Состав для химической очистки поверхностей изделий от накипно-коррозионных отложений | |
| CN110637079B (zh) | 用于清洁表面的组合物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PC41 | Official registration of the transfer of exclusive right |
Effective date: 20200724 |