RU2281310C2 - Чувствительная к облучению композиция, изменяющая показатель преломления - Google Patents
Чувствительная к облучению композиция, изменяющая показатель преломления Download PDFInfo
- Publication number
- RU2281310C2 RU2281310C2 RU2002128012/04A RU2002128012A RU2281310C2 RU 2281310 C2 RU2281310 C2 RU 2281310C2 RU 2002128012/04 A RU2002128012/04 A RU 2002128012/04A RU 2002128012 A RU2002128012 A RU 2002128012A RU 2281310 C2 RU2281310 C2 RU 2281310C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- group
- refractive index
- alkylene
- carbon atoms
- arylene
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 38
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 152
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 67
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 47
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 17
- -1 germylene group Chemical group 0.000 claims description 215
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 129
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 78
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 60
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 45
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 42
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 38
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 35
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 22
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 19
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 claims description 18
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 18
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 14
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 12
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 10
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 6
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical compound BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 4
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004438 haloalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004995 haloalkylthio group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005113 hydroxyalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000005358 mercaptoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 abstract 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 35
- 239000000047 product Substances 0.000 description 29
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 28
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 25
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 24
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 17
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 17
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 17
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000008859 change Effects 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 16
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 14
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 14
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 14
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 14
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 13
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 13
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 description 12
- QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC=N1 QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 10
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 9
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 8
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000005011 alkyl ether group Chemical group 0.000 description 7
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005012 alkyl thioether group Chemical group 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical class OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 6
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 5
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 5
- CPPSKBIDQKJJKE-UHFFFAOYSA-N [3-(trifluoromethyl)phenoxy]boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 CPPSKBIDQKJJKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940022663 acetate Drugs 0.000 description 5
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 5
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HAMGRBXTJNITHG-UHFFFAOYSA-N methyl isocyanate Chemical compound CN=C=O HAMGRBXTJNITHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 5
- KCLMOUQZUNKDCO-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl pyrrolidine-1-carboxylate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1COC(=O)N1CCCC1 KCLMOUQZUNKDCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 4
- CFPFMAGBHTVLCZ-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=CC=C(Cl)C=C1 CFPFMAGBHTVLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 4
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OWZDULOODZHVCQ-UHFFFAOYSA-N diphenyl-(4-phenylsulfanylphenyl)sulfanium Chemical compound C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC1=CC=CC=C1 OWZDULOODZHVCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CVBASHMCALKFME-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-diphenylsulfanium Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CVBASHMCALKFME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JZDQKBZKFIWSNW-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-phenyliodanium Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1 JZDQKBZKFIWSNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 3
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N lead(II) oxide Inorganic materials [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N methanesulfonic acid Substances CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 3
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 3
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 3
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 3
- HTZQBKXLNQEOHK-UHFFFAOYSA-N (2,6-difluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C=CC=C1F HTZQBKXLNQEOHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DJFZWUYNTIZEKY-UHFFFAOYSA-M (4-methoxyphenyl)-diphenylsulfanium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F.C1=CC(OC)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DJFZWUYNTIZEKY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WBUSZOLVSDXDOC-UHFFFAOYSA-M (4-methoxyphenyl)-diphenylsulfanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC(OC)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WBUSZOLVSDXDOC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XXCQVFAKDMZVLF-UHFFFAOYSA-M (4-methoxyphenyl)-phenyliodanium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F.C1=CC(OC)=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1 XXCQVFAKDMZVLF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YXSLFXLNXREQFW-UHFFFAOYSA-M (4-methoxyphenyl)-phenyliodanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC(OC)=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1 YXSLFXLNXREQFW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KYLXYSWUYYPCHF-UHFFFAOYSA-N (diphenyl-lambda3-iodanyl) 2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1I(OC(=O)C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 KYLXYSWUYYPCHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6-undecafluoro-6-(trifluoromethyl)cyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PQJGSPVYVGXTJW-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6-hexafluorocyclohexane Chemical compound FC1C(F)C(F)C(F)C(F)C1F PQJGSPVYVGXTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FNBHVKBYRFDOJK-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCCCOCC(C)OC(=O)CC FNBHVKBYRFDOJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CAQYAZNFWDDMIT-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-methoxyethane Chemical compound CCOCCOC CAQYAZNFWDDMIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODDDCGGSPAPBOS-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCOCC(C)OC(=O)CC ODDDCGGSPAPBOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOVZUKKPYKRVIK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC(C)COC DOVZUKKPYKRVIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVNBCIQRFGXLRD-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl propanoate Chemical compound CCCOCC(C)OC(=O)CC RVNBCIQRFGXLRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYMUYYZQUXYMJI-UHFFFAOYSA-M 2,2,2-trifluoroacetate;triphenylsulfanium Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WYMUYYZQUXYMJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DOAOIMDCSGHWLG-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutoxysilane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CO[SiH3] DOAOIMDCSGHWLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 2,5-hexanedione Chemical compound CC(=O)CCC(C)=O OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIRUERQWPNHWRC-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzodioxol-5-ylmethyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(CC=2C=C3OCOC3=CC=2)=N1 QIRUERQWPNHWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNOLNVUUEJLNON-UHFFFAOYSA-N 2-(3-chlorophenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC1=CC=CC(C=2N=C(N=C(N=2)C(Cl)(Cl)Cl)C(Cl)(Cl)Cl)=C1 QNOLNVUUEJLNON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZIUQIJHFBCZBX-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylsulfanylphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 OZIUQIJHFBCZBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound O1C(C)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=CC=2OC=CC=2)=N1 PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropoxy)propane Chemical compound CC(C)COCC(C)C SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BYIMSFXYUSZVLI-UHFFFAOYSA-N 3-methoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[SiH2]CCCN BYIMSFXYUSZVLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLLOXKZNPPDLGM-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]ethenyl]-n,n-diethyl-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 BLLOXKZNPPDLGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical class C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLGHADJXECHZSZ-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F LLGHADJXECHZSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CEWHMUVKSUNQRL-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C[N+](C(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)(C)C.C(CCC)C[N+](C)(C)C(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C[N+](C)(C)C(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C[N+](C(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)(C)C.C(CCC)C[N+](C)(C)C(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C[N+](C)(C)C(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F CEWHMUVKSUNQRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLSYZNYEOIWKPR-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F VLSYZNYEOIWKPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HLBUSUQNJVVLFA-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl HLBUSUQNJVVLFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UEBDKONAGCZCJF-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C[N+](C(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C)C.C(CCCCC)C[N+](C)(C)C(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F.C(CCCCC)C[N+](C)(C)C(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C[N+](C(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C)C.C(CCCCC)C[N+](C)(C)C(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F.C(CCCCC)C[N+](C)(C)C(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F UEBDKONAGCZCJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYJZUWRSPBYMJM-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C[N+](C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)(C)C.C(CCCCC)C[N+](C)(C)C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C[N+](C)(C)C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C[N+](C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)(C)C.C(CCCCC)C[N+](C)(C)C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C[N+](C)(C)C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl YYJZUWRSPBYMJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N Chalcone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)C=CC1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000899 Gutta-Percha Substances 0.000 description 2
- 238000012696 Interfacial polycondensation Methods 0.000 description 2
- XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N Methyl-2-hydoxyisobutyric acid Chemical compound COC(=O)C(C)(C)O XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 240000000342 Palaquium gutta Species 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAMYVSCDDLXAQW-AOIWZFSPSA-N Thermopsosid Natural products O(C)c1c(O)ccc(C=2Oc3c(c(O)cc(O[C@H]4[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](CO)O4)c3)C(=O)C=2)c1 GAMYVSCDDLXAQW-AOIWZFSPSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AHZMUXQJTGRNHT-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-cyanatophenyl)propan-2-yl]phenyl] cyanate Chemical compound C=1C=C(OC#N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC#N)C=C1 AHZMUXQJTGRNHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000309464 bull Species 0.000 description 2
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 2
- IKRARXXOLDCMCX-UHFFFAOYSA-N butyl 2-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(C)C(=O)OCCCC IKRARXXOLDCMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRIRSNXZGJWTQM-UHFFFAOYSA-N butyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCOC RRIRSNXZGJWTQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 235000005513 chalcones Nutrition 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N dibenzylideneacetone Chemical compound C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 2
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical class Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ICKXHPFFRLCMMS-UHFFFAOYSA-M diphenyl-(4-phenylsulfanylphenyl)sulfanium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F.C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC1=CC=CC=C1 ICKXHPFFRLCMMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WEYUQUMMYNRIPP-UHFFFAOYSA-M diphenyl-(4-phenylsulfanylphenyl)sulfanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC1=CC=CC=C1 WEYUQUMMYNRIPP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SBQIJPBUMNWUKN-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 SBQIJPBUMNWUKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCOC(=O)CO ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCOC(=O)COC JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229930003944 flavone Natural products 0.000 description 2
- 235000011949 flavones Nutrition 0.000 description 2
- 229920000588 gutta-percha Polymers 0.000 description 2
- 229960001330 hydroxycarbamide Drugs 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Chemical class COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N nonan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCO ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LOQGSOTUHASIHI-UHFFFAOYSA-N perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)C1(F)F LOQGSOTUHASIHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001485 poly(butyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGJADVGJIVEEGF-UHFFFAOYSA-M potassium;phenoxide Chemical compound [K+].[O-]C1=CC=CC=C1 ZGJADVGJIVEEGF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyldimethylsilyl chloride Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)Cl BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOVUARRWDCVURC-UHFFFAOYSA-N thiirane Chemical group C1CS1 VOVUARRWDCVURC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZTRCELOJRDYMQ-UHFFFAOYSA-N triphenylmethanol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C1=CC=CC=C1 LZTRCELOJRDYMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfonium triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- VHBFFQKBGNRLFZ-UHFFFAOYSA-N vitamin p Natural products O1C2=CC=CC=C2C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 VHBFFQKBGNRLFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- LBHPSYROQDMVBS-UHFFFAOYSA-N (1-methylcyclohexyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1(C)CCCCC1 LBHPSYROQDMVBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOEQQJNHGXZVLE-UHFFFAOYSA-N (1-phenylcyclohexyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C1(OC(=O)C(=C)C)CCCCC1 FOEQQJNHGXZVLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTVGJHKGLOQOQM-UHFFFAOYSA-N (2,6-dinitrophenyl)methyl n-cyclohexylcarbamate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1COC(=O)NC1CCCCC1 UTVGJHKGLOQOQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFXZNEOOGWFSPH-UHFFFAOYSA-N (2-chlorocyclohexyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1Cl LFXZNEOOGWFSPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTHBCGOCVXBBIR-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1Cl PTHBCGOCVXBBIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEXDQNXIVJEYLG-UHFFFAOYSA-N (2-methylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1C HEXDQNXIVJEYLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJMCHQONLVUNAM-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methyl n-cyclohexylcarbamate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1COC(=O)NC1CCCCC1 NJMCHQONLVUNAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFKLQICEQCIWNE-UHFFFAOYSA-N (3,5-dicyanatophenyl) cyanate Chemical compound N#COC1=CC(OC#N)=CC(OC#N)=C1 UFKLQICEQCIWNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDCUTCGACVVRIQ-UHFFFAOYSA-N (3,6-dicyanatonaphthalen-1-yl) cyanate Chemical compound N#COC1=CC(OC#N)=CC2=CC(OC#N)=CC=C21 YDCUTCGACVVRIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZZMAPJAKOSNG-UHFFFAOYSA-N (3-cyanatophenyl) cyanate Chemical compound N#COC1=CC=CC(OC#N)=C1 QQZZMAPJAKOSNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCJIJTVLDZQYNS-UHFFFAOYSA-N (3-methylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC(C)=C1 LCJIJTVLDZQYNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUGZCSAPOLLKNG-UHFFFAOYSA-N (4-cyanatophenyl) cyanate Chemical compound N#COC1=CC=C(OC#N)C=C1 GUGZCSAPOLLKNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDYCLAOHWKCIHQ-UHFFFAOYSA-M (4-methoxyphenyl)-diphenylsulfanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C1=CC(OC)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 GDYCLAOHWKCIHQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WMHLKXSYGGEXNQ-UHFFFAOYSA-M (4-methoxyphenyl)-phenyliodanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C1=CC(OC)=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1 WMHLKXSYGGEXNQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IWVNGOKOJNZZKX-UHFFFAOYSA-N (4-methylcyclohexyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC1CCC(OC(=O)C(C)=C)CC1 IWVNGOKOJNZZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGAXYKDBRBNWKT-UHFFFAOYSA-N (5-oxooxolan-2-yl)methyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OCC1OC(=O)CC1 MGAXYKDBRBNWKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFIWROJVVHYHLQ-UHFFFAOYSA-N (7-cyanatonaphthalen-2-yl) cyanate Chemical compound C1=CC(OC#N)=CC2=CC(OC#N)=CC=C21 OFIWROJVVHYHLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N (z)-2-cyano-3-thiophen-2-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C/C1=CC=CS1 QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 1
- NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 1,1'-Oxybisoctane Chemical compound CCCCCCCCOCCCCCCCC NKJOXAZJBOMXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONUFSRWQCKNVSL-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentafluoro-6-(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl)benzene Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ONUFSRWQCKNVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatoethane Chemical compound O=C=NCCN=C=O ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTINSUNRUQBBO-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(=O)C(=C)C)CC1=CC=CC=C1 IWTINSUNRUQBBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNHKEQOYVVRBQO-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzodioxole-5,6-diamine Chemical compound C1=C(N)C(N)=CC2=C1OCO2 SNHKEQOYVVRBQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJCVRMIJBXTMNR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1C=C YJCVRMIJBXTMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=C(CN=C=O)C=C1 OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical compound C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWWRCRHNMOYQY-UHFFFAOYSA-N 1,5-diisocyanato-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(N=C=O)C=C1N=C=O FWWWRCRHNMOYQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFOOEYJGMMJJLS-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminonaphthalene Chemical compound C1=CC(N)=C2C(N)=CC=CC2=C1 YFOOEYJGMMJJLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POEDHWVTLBLWDA-UHFFFAOYSA-N 1-butylindole-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2N(CCCC)C(=O)C(=O)C2=C1 POEDHWVTLBLWDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTSWUFKUZPPYEG-UHFFFAOYSA-N 1-decoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOCCCCCCCCCC LTSWUFKUZPPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMCBDXRRFKYBDG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCC CMCBDXRRFKYBDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUWPGOSTFOMXNO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-fluoro-2-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC1=CC=C(C=C)C(C(F)(F)F)=C1 GUWPGOSTFOMXNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEISXXKFNHMJKW-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxy-2-methylbenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C(C)=C1 LEISXXKFNHMJKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQHQTCGEZWTSEJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-propan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QQHQTCGEZWTSEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFSYUSUFCBOHGU-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-2-[(4-isocyanatophenyl)methyl]benzene Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=CC=C1N=C=O LFSYUSUFCBOHGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTZHXCBUWSTOPO-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-4-[(4-isocyanato-3-methylphenyl)methyl]-2-methylbenzene Chemical compound C1=C(N=C=O)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N=C=O)=CC=2)=C1 DTZHXCBUWSTOPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQAINHDHICKHLX-UHFFFAOYSA-N 1-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=C2C(C=O)=CC=CC2=C1 SQAINHDHICKHLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQMWZHUIGYNOAL-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)C1=CC=CC=C1 BQMWZHUIGYNOAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEZNGIUYQVAUSS-UHFFFAOYSA-N 18-crown-6 Chemical compound C1COCCOCCOCCOCCOCCO1 XEZNGIUYQVAUSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZYHXKLKJRGJGP-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoro-n,n-bis(trimethylsilyl)acetamide Chemical compound C[Si](C)(C)N([Si](C)(C)C)C(=O)C(F)(F)F RZYHXKLKJRGJGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUBUXALTYMBEQO-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-phenylpropan-1-one Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(=O)C1=CC=CC=C1 VUBUXALTYMBEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNIHCWXRAGDDBO-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4-hexafluoropentane-1,5-diamine Chemical compound NCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CN DNIHCWXRAGDDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOLALWJWCONGMG-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4-hexafluoropentanedioyl dichloride Chemical compound ClC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(Cl)=O QOLALWJWCONGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDVMCQUOSYOQMZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(trimethylsilyl)acetamide Chemical compound C[Si](C)(C)C(C(N)=O)[Si](C)(C)C NDVMCQUOSYOQMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOFCUHQPMOGPQX-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromopropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(Br)CBr SOFCUHQPMOGPQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPMMJSPGZSFEAH-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminophenol;hydrochloride Chemical compound [Cl-].NC1=CC=C(O)C([NH3+])=C1 VPMMJSPGZSFEAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHHCBVYZWRKFLZ-UHFFFAOYSA-N 2-(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutyl)oxirane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1CO1 QHHCBVYZWRKFLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFKISBDZEGWBML-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 YFKISBDZEGWBML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRBKTPNSKOSBLV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound COC1=CC=C2C=CC=CC2=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 VRBKTPNSKOSBLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRPXBHSHSWJFGR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound COC1=CC=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 LRPXBHSHSWJFGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKPDVIWRVDRMAO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylsulfanylphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CSC1=CC=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MKPDVIWRVDRMAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRSDQADBHIDJCU-UHFFFAOYSA-N 2-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctoxymethyl)oxirane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCOCC1CO1 DRSDQADBHIDJCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYHJFRMQSDHBPY-UHFFFAOYSA-N 2-(3-methoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C=12C=CC=CC2=CC(OC)=CC=1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 HYHJFRMQSDHBPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEAPAVOPQLGVQU-UHFFFAOYSA-N 2-(3-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound COC1=CC=CC(C=2N=C(N=C(N=2)C(Cl)(Cl)Cl)C(Cl)(Cl)Cl)=C1 YEAPAVOPQLGVQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMXMUBGAUMWPIC-UHFFFAOYSA-N 2-(3-methylsulfanylphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CSC1=CC=CC(C=2N=C(N=C(N=2)C(Cl)(Cl)Cl)C(Cl)(Cl)Cl)=C1 NMXMUBGAUMWPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBKWSNUOBDEAQR-UHFFFAOYSA-N 2-(3-propan-2-ylpyridin-2-yl)oxazine Chemical compound C(C)(C)C=1C(=NC=CC=1)N1OC=CC=C1 CBKWSNUOBDEAQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKKKCPPTESQGQH-UHFFFAOYSA-N 2-(4,5-dihydro-1,3-oxazol-2-yl)-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound O1CCN=C1C1=NCCO1 KKKKCPPTESQGQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJKHYAJKIXYSHS-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorophenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 WJKHYAJKIXYSHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVMCBMAQQUNCRO-UHFFFAOYSA-N 2-(5-methylhex-5-en-2-yl)oxazine Chemical compound C(=C)(C)CCC(C)N1OC=CC=C1 DVMCBMAQQUNCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNDYMLYIFUKKEI-UHFFFAOYSA-N 2-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)oxirane;propane-1,2,3-triol Chemical compound OCC(O)CO.C1OC1COCC1CO1 RNDYMLYIFUKKEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUILGEYLVHGSEE-UHFFFAOYSA-N 2-(oxiran-2-ylmethyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)N1CC1CO1 DUILGEYLVHGSEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJSVLJJVMLIBOZ-UHFFFAOYSA-N 2-(phenoxymethyl)thiirane Chemical compound C1SC1COC1=CC=CC=C1 AJSVLJJVMLIBOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQZRARFZZMGLHL-UHFFFAOYSA-N 2-(trifluoromethyl)oxirane Chemical compound FC(F)(F)C1CO1 AQZRARFZZMGLHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVGLEPQPVDUSOJ-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-3-hydroxypropanoate Chemical compound COC(=O)CCO RVGLEPQPVDUSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DABQKEQFLJIRHU-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid, 2-methyl-, 3,3,5-trimethylcyclohexyl ester Chemical compound CC1CC(OC(=O)C(C)=C)CC(C)(C)C1 DABQKEQFLJIRHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLHAKUFDNXMZOP-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-difluoro-2-(fluoromethyl)propan-2-yl]oxirane Chemical compound FCC(CF)(CF)C1CO1 YLHAKUFDNXMZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMOZDINWBHMBSQ-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(4,5-dihydro-1,3-oxazol-2-yl)phenyl]-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound O1CCN=C1C1=CC=CC(C=2OCCN=2)=C1 HMOZDINWBHMBSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDNUPMSZKVCETJ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(4,5-dihydro-1,3-oxazol-2-yl)phenyl]-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound O1CCN=C1C1=CC=C(C=2OCCN=2)C=C1 ZDNUPMSZKVCETJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical compound NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLIBJPGWWSHWBF-UHFFFAOYSA-N 2-aminoethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN QLIBJPGWWSHWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIHNGTKOSAPCSP-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1-ethenyl-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(C=C)C(Br)=C1 XIHNGTKOSAPCSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOUSBQVEVZBMNI-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCBr AOUSBQVEVZBMNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLMLWEGDMMDCDW-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol;formaldehyde Chemical compound O=C.CCCCC1=CC=CC=C1O HLMLWEGDMMDCDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUIPVXYRTZDTDE-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl 2-chloroprop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C(Cl)=C JUIPVXYRTZDTDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCl GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISRGONDNXBCDBM-UHFFFAOYSA-N 2-chlorostyrene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C=C ISRGONDNXBCDBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIUJWWBOMGMSAY-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxybutane Chemical compound CCC(C)OC=C PIUJWWBOMGMSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGDLZDCWMRPMGL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(C=C)C(=O)C2=C1 IGDLZDCWMRPMGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIXWTBLGKIRXOP-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyloxolane Chemical compound C=CC1CCCO1 XIXWTBLGKIRXOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPSKNCNCLSXMTN-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCF WPSKNCNCLSXMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 2-methoxypropanoate Chemical compound COC(C)C([O-])=O ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKJQGKCXILEZQH-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-(2-methylcyclohexyl)prop-2-enoic acid Chemical compound CC1CCCCC1C=C(C)C(O)=O DKJQGKCXILEZQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCBXDLUPAOJEBW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-(3-methylcyclohexyl)prop-2-enoic acid Chemical compound CC1CCCC(C=C(C)C(O)=O)C1 PCBXDLUPAOJEBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTAFMQMHTPUJMR-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-phenylethyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCC1=CC=CC=C1 GTAFMQMHTPUJMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GROXSGRIVDMIEN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-prop-2-enylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCC=C GROXSGRIVDMIEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILZXXGLGJZQLTR-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1=CC=CC=C1 ILZXXGLGJZQLTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORNUPNRNNSVZTC-UHFFFAOYSA-N 2-vinylthiophene Chemical compound C=CC1=CC=CS1 ORNUPNRNNSVZTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSTOKWSFWGCZMH-UHFFFAOYSA-N 3,3'-diaminobenzidine Chemical compound C1=C(N)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(N)=C1 HSTOKWSFWGCZMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNUBKINEQIEODM-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropentanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC=O FNUBKINEQIEODM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGPMOBSYZNENPB-UHFFFAOYSA-N 3-(4-bromophenyl)-2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)=CC1=CC=C(Br)C=C1 HGPMOBSYZNENPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSSAWHFZNWVJEC-UHFFFAOYSA-N 3-(ethenoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COC=C DSSAWHFZNWVJEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKKLQJJMKCNEMA-UHFFFAOYSA-N 3-[(2,4-dinitrophenyl)methyl]naphthalene-1,2-dione Chemical compound [N+](=O)([O-])C1=C(CC=2C(C(C3=CC=CC=C3C2)=O)=O)C=CC(=C1)[N+](=O)[O-] BKKLQJJMKCNEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVYSFFKHMRLHDC-UHFFFAOYSA-N 3-[(2,6-dinitrophenyl)methyl]naphthalene-1,2-dione Chemical compound [N+](=O)([O-])C1=C(CC=2C(C(C3=CC=CC=C3C2)=O)=O)C(=CC=C1)[N+](=O)[O-] GVYSFFKHMRLHDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIRMTEGUIUCVDI-UHFFFAOYSA-N 3-[[2,3-bis[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]-3-ethyloxetane Chemical compound C=1C=CC(COCC2(CC)COC2)=C(COCC2(CC)COC2)C=1COCC1(CC)COC1 GIRMTEGUIUCVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPWSRVEMSGMKS-UHFFFAOYSA-N 3-[[3-hydroxypropyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]propan-1-ol Chemical compound OCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCO ISPWSRVEMSGMKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UACBZRBYLSMNGV-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCCOC(=O)C=C UACBZRBYLSMNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHYFYQKMYMKPKD-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCO[SiH2]CCCN AHYFYQKMYMKPKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWFIEBGQPZWYND-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(phenylmethoxymethyl)oxetane Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1(CC)COC1 DWFIEBGQPZWYND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOYIPLQCZOCTOA-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=CC=C(COCC2(CC)COC2)C=1COCC1(CC)COC1 UOYIPLQCZOCTOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXUAWEIYOMKBNP-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[2-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenoxy]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=CC=C(OC=2C(=CC=CC=2)COCC2(CC)COC2)C=1COCC1(CC)COC1 UXUAWEIYOMKBNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PENLDLZVOKBYJV-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[2-[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]sulfonylphenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=CC=C(S(=O)(=O)C=2C(=CC=CC=2)COCC2(CC)COC2)C=1COCC1(CC)COC1 PENLDLZVOKBYJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDRDVFBGDFCAJO-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[2-[[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=CC=C(CC=2C(=CC=CC=2)COCC2(CC)COC2)C=1COCC1(CC)COC1 HDRDVFBGDFCAJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHEKBWMWMVRJMO-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl prop-2-enoate Chemical compound COCCCOC(=O)C=C LHEKBWMWMVRJMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZUBYCLWSJCMM-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenedec-1-ene Chemical compound CCCCCCCC(=C)C=C DQZUBYCLWSJCMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJBBCALDDPYKRJ-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenetridec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCC(=C)C=C KJBBCALDDPYKRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATWSMHXVIFCZLW-UHFFFAOYSA-N 4,4-diethyl-2-methylhex-2-enoic acid Chemical compound CCC(CC)(CC)C=C(C)C(O)=O ATWSMHXVIFCZLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAXBWZULOIZPKQ-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-3-methylidenepent-1-ene Chemical compound CC(C)(C)C(=C)C=C WAXBWZULOIZPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQNOYHFCRNPFGZ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-cyanophenyl)sulfanylbenzonitrile Chemical compound C1=CC(C#N)=CC=C1SC1=CC=C(C#N)C=C1 AQNOYHFCRNPFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGQQXONFVRQWJN-UHFFFAOYSA-N 4-(4-methoxyphenyl)-2-methylbut-2-enoic acid Chemical compound COC1=CC=C(CC=C(C)C(O)=O)C=C1 WGQQXONFVRQWJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJBMVCDGBSYRJD-UHFFFAOYSA-N 4-(furan-2-ylmethylidene)-2-phenyl-1,3-oxazol-5-one Chemical compound O=C1OC(C=2C=CC=CC=2)=NC1=CC1=CC=CO1 QJBMVCDGBSYRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-nitro-4-(trifluoromethyl)phenyl]morpholine Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(C(F)(F)F)=CC=C1N1CCOCC1 UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWJKJLOCIDNNGJ-UHFFFAOYSA-N 4-[[4-hydroxybutyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]butan-1-ol Chemical compound OCCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCCO OWJKJLOCIDNNGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- MRBYTOUNXWKILZ-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-3-methylidenepent-1-ene Chemical compound CC(C)C(=C)C=C MRBYTOUNXWKILZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REAVCZWUMGIGSW-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate;tetrabutylazanium Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC REAVCZWUMGIGSW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FHVCZJGBXWNGIZ-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate;tetramethylazanium Chemical compound C[N+](C)(C)C.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FHVCZJGBXWNGIZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YXZXRYDYTRYFAF-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate;triphenylsulfanium Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YXZXRYDYTRYFAF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IUFHJPXOLHSJTC-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2-[(4-phenyl-4,5-dihydro-1,3-oxazol-2-yl)methyl]-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound N=1C(C=2C=CC=CC=2)COC=1CC(OC1)=NC1C1=CC=CC=C1 IUFHJPXOLHSJTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTNVCJCSECAMLD-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2-[2-(4-phenyl-4,5-dihydro-1,3-oxazol-2-yl)propan-2-yl]-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound N=1C(C=2C=CC=CC=2)COC=1C(C)(C)C(OC1)=NC1C1=CC=CC=C1 JTNVCJCSECAMLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCILGMFPJBRCNO-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2H-benzotriazol-5-ol Chemical class OC1=CC=C2NN=NC2=C1C1=CC=CC=C1 ZCILGMFPJBRCNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNFGJDBAWVODMB-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-yl-2-[3-(4-prop-1-en-2-yl-4,5-dihydro-1,3-oxazol-2-yl)butan-2-yl]-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound N=1C(C(C)=C)COC=1C(C)C(C)C1=NC(C(C)=C)CO1 LNFGJDBAWVODMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCCCBUXURHZPQL-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butyl-2-[(4-tert-butyl-4,5-dihydro-1,3-oxazol-2-yl)methyl]-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC(C)(C)C1COC(CC=2OCC(N=2)C(C)(C)C)=N1 WCCCBUXURHZPQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPMGLJUMNRDNMX-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butyl-2-[2-(4-tert-butyl-4,5-dihydro-1,3-oxazol-2-yl)propan-2-yl]-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC(C)(C)C1COC(C(C)(C)C=2OCC(N=2)C(C)(C)C)=N1 DPMGLJUMNRDNMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYVSMDBDTBXASR-UHFFFAOYSA-N 5,6-dihydro-4h-oxazine Chemical compound C1CON=CC1 BYVSMDBDTBXASR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGESOZFMSBVCGU-UHFFFAOYSA-N 6-(5-aminopyridin-2-yl)sulfanylpyridin-3-amine Chemical compound N1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=N1 WGESOZFMSBVCGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUXLDNTZFXDNBA-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-2-methyl-4h-1,4-benzoxazin-3-one Chemical compound C1=C(Br)C=C2NC(=O)C(C)OC2=C1 NUXLDNTZFXDNBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVFVNNKYKYZTJU-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(Cl)=N1 FVFVNNKYKYZTJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 9H-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3SC2=C1 PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLSNJYPYMKMDRS-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C(CCC(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C(CCC)C(CCC(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C(CCC)C(CCC(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C(CCC(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C(CCC)C(CCC(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C(CCC)C(CCC(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC KLSNJYPYMKMDRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMMHHIQCWQKUSJ-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F NMMHHIQCWQKUSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PISPGOANXPZKRR-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F PISPGOANXPZKRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYAGIHJLKOWMOK-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=C(C=C1)OC)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=C(C=C1)OC)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)OC)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=C(C=C1)OC)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=C(C=C1)OC)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F XYAGIHJLKOWMOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPXWJRXUYXJNB-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F KOPXWJRXUYXJNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQULFWVKINPWCC-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C[N+](C(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)(C)CC1=CC=CC=C1.C(CCC)C[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCC)C[N+](C(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F)(C)CC1=CC=CC=C1.C(CCC)C[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F.C(CCC)C[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C(C1=C(C=CC=C1F)F)(C1=C(C=CC=C1F)F)C1=C(C=CC=C1F)F OQULFWVKINPWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHOZJBWQBWCNPL-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C(CCC(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C(CCCCC)C(CCC(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C(CCCCC)C(CCC(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C(CCC(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C(CCCCC)C(CCC(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C(CCCCC)C(CCC(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC XHOZJBWQBWCNPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJHPUIWWEVJGNX-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C(CCC(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C(CCCCC)C(CCC(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C(CCCCC)C(CCC(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C(CCC(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C(CCCCC)C(CCC(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.C(CCCCC)C(CCC(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)[N+](CCCC)(CCCC)CCCC RJHPUIWWEVJGNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSJJRYKFRYRUSW-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[I+]C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl DSJJRYKFRYRUSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQWCKMYTRADQRW-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F DQWCKMYTRADQRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXWNAMRVTXJWJP-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C=1C(=C(C(=C(C1)[S+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl AXWNAMRVTXJWJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMURWHADSPVALS-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C[N+](C(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C)CC1=CC=CC=C1.C(CCCCC)C[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F.C(CCCCC)C[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C[N+](C(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C)CC1=CC=CC=C1.C(CCCCC)C[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F.C(CCCCC)C[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)(C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)C1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F AMURWHADSPVALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXUMBDDCXXKNMC-UHFFFAOYSA-N B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C[N+](C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)(C)CC1=CC=CC=C1.C(CCCCC)C[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl Chemical compound B([O-])([O-])[O-].C(CCCCC)C[N+](C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl)(C)CC1=CC=CC=C1.C(CCCCC)C[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl.C(CCCCC)C[N+](CC1=CC=CC=C1)(C)C(C1=CC=C(C=C1)Cl)(C1=CC=C(C=C1)Cl)C1=CC=C(C=C1)Cl PXUMBDDCXXKNMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQEOGRJUMUDLLG-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C.B(OC1=C(C=CC=C1F)F)([O-])[O-].C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C.B(OC1=C(C=CC=C1F)F)([O-])[O-].C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C AQEOGRJUMUDLLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKIKNUPLKJHQIS-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C.B(OC1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)([O-])[O-].C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C.B(OC1=CC(=CC=C1)C(F)(F)F)([O-])[O-].C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C QKIKNUPLKJHQIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPANYOFLFKVBSX-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C.B(OC1=CC=C(C=C1)Cl)([O-])[O-].C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C.B(OC1=CC=C(C=C1)Cl)([O-])[O-].C(C)(C)(C)C1=CC=C(C=C1)[I+]C1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C DPANYOFLFKVBSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVNFHCGROKHXHG-UHFFFAOYSA-N C(C)C1(COC1)COCC1=C(C=CC=C1)C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=C(C=CC=C1)COCC1(COC1)CC Chemical compound C(C)C1(COC1)COCC1=C(C=CC=C1)C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=C(C=CC=C1)COCC1(COC1)CC YVNFHCGROKHXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQGUKUORTREUEJ-UHFFFAOYSA-N C(C)C1(COC1)COCC1=C(C=CC=C1)C(C)(C)C1=C(C=CC=C1)COCC1(COC1)CC Chemical compound C(C)C1(COC1)COCC1=C(C=CC=C1)C(C)(C)C1=C(C=CC=C1)COCC1(COC1)CC QQGUKUORTREUEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEIHICLRMJWHKE-UHFFFAOYSA-N C(CCC)OCCC(=O)O.C(CCC)OC(CCOCC)=O Chemical compound C(CCC)OCCC(=O)O.C(CCC)OC(CCOCC)=O BEIHICLRMJWHKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVVFGVILEVPIND-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)[O-])C.C(C=CC1=CC=CC=C1)=CC[NH2+]C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1(=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)[O-])C.C(C=CC1=CC=CC=C1)=CC[NH2+]C1=CC=CC=C1 YVVFGVILEVPIND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHQMGJSMVMZYPD-UHFFFAOYSA-N CC(C(O)=O)=CCC1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1 Chemical compound CC(C(O)=O)=CCC1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1 WHQMGJSMVMZYPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXNXKFTUXVNCFC-DVEDPGPFSA-N CC(C)/C(/CCCc1ccccc1)=C(/[C@@H](C)CCI)\I Chemical compound CC(C)/C(/CCCc1ccccc1)=C(/[C@@H](C)CCI)\I FXNXKFTUXVNCFC-DVEDPGPFSA-N 0.000 description 1
- 0 CCC(C)(C)O[N+]([O-])OC(C1)*1O[N+]([O-])O*OC(C)(C)C Chemical compound CCC(C)(C)O[N+]([O-])OC(C1)*1O[N+]([O-])O*OC(C)(C)C 0.000 description 1
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol distearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 1
- ABRQSMNGRKEYLK-UHFFFAOYSA-N FC(C(=O)[O-])(F)F.C(C=CC1=CC=CC=C1)=CC[NH2+]C1=CC=CC=C1 Chemical compound FC(C(=O)[O-])(F)F.C(C=CC1=CC=CC=C1)=CC[NH2+]C1=CC=CC=C1 ABRQSMNGRKEYLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUEUCXROYCSZPN-UHFFFAOYSA-N FC(S(=O)(=O)[O-])(F)F.C(C=CC1=CC=CC=C1)=CC[NH2+]C1=CC=CC=C1 Chemical compound FC(S(=O)(=O)[O-])(F)F.C(C=CC1=CC=CC=C1)=CC[NH2+]C1=CC=CC=C1 DUEUCXROYCSZPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920000305 Nylon 6,10 Polymers 0.000 description 1
- VEUHPWRDBGGGBU-UHFFFAOYSA-N OB(O)O.I.I.I Chemical compound OB(O)O.I.I.I VEUHPWRDBGGGBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- LULCPJWUGUVEFU-UHFFFAOYSA-N Phthiocol Natural products C1=CC=C2C(=O)C(C)=C(O)C(=O)C2=C1 LULCPJWUGUVEFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000625 Poly(1-decene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- YKONYNBAMHVIMF-UHFFFAOYSA-N [2,6-dichloro-4-[2-(3,5-dichloro-4-cyanatophenyl)propan-2-yl]phenyl] cyanate Chemical compound C=1C(Cl)=C(OC#N)C(Cl)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Cl)=C(OC#N)C(Cl)=C1 YKONYNBAMHVIMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNYVZKMCGVGTKN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-cyanatophenoxy)phenyl] cyanate Chemical compound C1=CC(OC#N)=CC=C1OC1=CC=C(OC#N)C=C1 SNYVZKMCGVGTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEJGXMCFSSDPOA-UHFFFAOYSA-N [4-(4-cyanatophenyl)phenyl] cyanate Chemical group C1=CC(OC#N)=CC=C1C1=CC=C(OC#N)C=C1 HEJGXMCFSSDPOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKYPDGLMFHUOS-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)-2,3,5,6-tetrabromophenyl]methanamine Chemical compound NCC1=C(Br)C(Br)=C(CN)C(Br)=C1Br DVKYPDGLMFHUOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUYQDAWLRQFANO-UHFFFAOYSA-N [4-[(4-cyanatophenyl)methyl]phenyl] cyanate Chemical compound C1=CC(OC#N)=CC=C1CC1=CC=C(OC#N)C=C1 AUYQDAWLRQFANO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIZDMAYTWUINIG-UHFFFAOYSA-N [4-[1-(4-cyanatophenyl)ethyl]phenyl] cyanate Chemical compound C=1C=C(OC#N)C=CC=1C(C)C1=CC=C(OC#N)C=C1 SIZDMAYTWUINIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPZSVSGWDQKBIW-UHFFFAOYSA-N [4-bis(4-cyanatophenoxy)phosphanyloxyphenyl] cyanate Chemical compound C1=CC(OC#N)=CC=C1OP(OC=1C=CC(OC#N)=CC=1)OC1=CC=C(OC#N)C=C1 PPZSVSGWDQKBIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVMNFQHJOOYCAP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;propanoic acid Chemical compound CC(O)=O.CCC(O)=O AVMNFQHJOOYCAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJYZCEFQAIUHSD-UHFFFAOYSA-N acetoguanamine Chemical compound CC1=NC(N)=NC(N)=N1 NJYZCEFQAIUHSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N aldehydo-D-glucose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C=O GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- DXUUXWKFVDVHIK-UHFFFAOYSA-N ambenonium chloride Chemical group [Cl-].[Cl-].C=1C=CC=C(Cl)C=1C[N+](CC)(CC)CCNC(=O)C(=O)NCC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1Cl DXUUXWKFVDVHIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- IVHKZGYFKJRXBD-UHFFFAOYSA-N amino carbamate Chemical compound NOC(N)=O IVHKZGYFKJRXBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 description 1
- RUOKPLVTMFHRJE-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1N RUOKPLVTMFHRJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANUAIBBBDSEVKN-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,4,5-tetramine Chemical compound NC1=CC(N)=C(N)C=C1N ANUAIBBBDSEVKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940050390 benzoate Drugs 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PUJDIJCNWFYVJX-UHFFFAOYSA-N benzyl carbamate Chemical compound NC(=O)OCC1=CC=CC=C1 PUJDIJCNWFYVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N benzyl(trimethyl)azanium Chemical compound C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 YOUGRGFIHBUKRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGRQAIHMOCDDNT-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F.C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 IGRQAIHMOCDDNT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PIIDDXDQGCKMCX-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 PIIDDXDQGCKMCX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YIRDTHNHJKWNEF-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 YIRDTHNHJKWNEF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FFZVILRAPIUNAA-UHFFFAOYSA-N benzyl-dimethyl-phenylazanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 FFZVILRAPIUNAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFNDPBQLTBFWSL-UHFFFAOYSA-M benzyl-dimethyl-phenylazanium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F.C=1C=CC=CC=1[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 LFNDPBQLTBFWSL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KICRTDCSSGPLKR-UHFFFAOYSA-M benzyl-dimethyl-phenylazanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C=1C=CC=CC=1[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KICRTDCSSGPLKR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NAKOUCADTHHYEN-UHFFFAOYSA-M benzyl-dimethyl-phenylazanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C=1C=CC=CC=1[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NAKOUCADTHHYEN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLNRQJQXCQVDQJ-UHFFFAOYSA-N bis(3,4-diaminophenyl)methanone Chemical compound C1=C(N)C(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C(N)=C1 NLNRQJQXCQVDQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHGVULRLVZYBQE-UHFFFAOYSA-M bis(4-tert-butylphenyl)iodanium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F.C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 UHGVULRLVZYBQE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UEJFJTOGXLEPIV-UHFFFAOYSA-M bis(4-tert-butylphenyl)iodanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 UEJFJTOGXLEPIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VGZKCAUAQHHGDK-UHFFFAOYSA-M bis(4-tert-butylphenyl)iodanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 VGZKCAUAQHHGDK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FNJAESQBAPYQRY-UHFFFAOYSA-N bis[2-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)COCC2(CC)COC2)C=1COCC1(CC)COC1 FNJAESQBAPYQRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000004842 bisphenol F epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- GGQKEDHYWOIABV-UHFFFAOYSA-N bromo(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Br GGQKEDHYWOIABV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBMXZKQDGJMQQS-UHFFFAOYSA-N bromo-dichloro-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Br PBMXZKQDGJMQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFAJRANJWMTPMC-UHFFFAOYSA-N bromo-dichloro-phenoxysilane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Br)OC1=CC=CC=C1 CFAJRANJWMTPMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBSWSHCZDFENAB-UHFFFAOYSA-N bromo-dichloro-phenylsilane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Br)C1=CC=CC=C1 QBSWSHCZDFENAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVVNMMWMLUMJLR-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl 2-bromoprop-2-enoate Chemical compound CCC(C)OC(=O)C(Br)=C OVVNMMWMLUMJLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMFYTAFPZGNGQJ-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl 2-chloroprop-2-enoate Chemical compound CCC(C)OC(=O)C(Cl)=C SMFYTAFPZGNGQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUEYQLJAKGLDNR-UHFFFAOYSA-N butyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)COCC VUEYQLJAKGLDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYRUCHOYGVFKLZ-UHFFFAOYSA-N butyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)OCC FYRUCHOYGVFKLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFGRALUHHHDIQI-UHFFFAOYSA-N butyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)CO VFGRALUHHHDIQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)COC IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDJWQETUMXXWPD-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)OC JDJWQETUMXXWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMOACRKLCOIODC-UHFFFAOYSA-N butyl 3-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOCCC(=O)OCCCC BMOACRKLCOIODC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVWVAXBILFBQIZ-UHFFFAOYSA-N butyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCOCC MVWVAXBILFBQIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MENWVOUYOZQBDM-UHFFFAOYSA-N butyl 3-hydroxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCO MENWVOUYOZQBDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPCIWFUNUUCNOM-UHFFFAOYSA-N butyl 3-propoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCOCCC NPCIWFUNUUCNOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- HPQSTQJMBMYCLI-UHFFFAOYSA-N butyl acetate;propane-1,2-diol Chemical compound CC(O)CO.CCCCOC(C)=O HPQSTQJMBMYCLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKERZZMUXBDEOG-UHFFFAOYSA-N butyl ethaneperoxoate Chemical compound CCCCOOC(C)=O ZKERZZMUXBDEOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M caesium chloride Chemical compound [Cl-].[Cs+] AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- IRRKWKXMRZQNDM-UHFFFAOYSA-N carbamic acid;2-hydroxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound NC(O)=O.C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 IRRKWKXMRZQNDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- JEZFASCUIZYYEV-UHFFFAOYSA-N chloro(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](Cl)(OCC)OCC JEZFASCUIZYYEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEUXNEGJODESOX-UHFFFAOYSA-N chloro-cyclohexyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C1CCCCC1 MEUXNEGJODESOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDTHTNJNMILPFX-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-phenoxysilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)OC1=CC=CC=C1 MDTHTNJNMILPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C1=CC=CC=C1 KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSLKGWLGEFHVGM-UHFFFAOYSA-N chloro-diphenoxy-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](C=1C=CC=CC=1)(Cl)OC1=CC=CC=C1 CSLKGWLGEFHVGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVDUEHWPPXIAEB-UHFFFAOYSA-N chloro-ethyl-dimethylsilane Chemical compound CC[Si](C)(C)Cl AVDUEHWPPXIAEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBSOVONSZGCIHR-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-diphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](Cl)(C)OC1=CC=CC=C1 CBSOVONSZGCIHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJZNZOXALZKPEA-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(C)C1=CC=CC=C1 OJZNZOXALZKPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLLXGVOLMCSNQJ-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-phenoxy-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(C)OC1=CC=CC=C1 LLLXGVOLMCSNQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OALIDMOLXCWTQM-UHFFFAOYSA-N chloro-phenoxy-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(Cl)OC1=CC=CC=C1 OALIDMOLXCWTQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-M chloroacetate Chemical compound [O-]C(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940089960 chloroacetate Drugs 0.000 description 1
- JAWGVVJVYSANRY-UHFFFAOYSA-N cobalt(3+) Chemical compound [Co+3] JAWGVVJVYSANRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical group O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- VFLDPWHFBUODDF-FCXRPNKRSA-N curcumin Chemical compound C1=C(O)C(OC)=CC(\C=C\C(=O)CC(=O)\C=C\C=2C=C(OC)C(O)=CC=2)=C1 VFLDPWHFBUODDF-FCXRPNKRSA-N 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-diamine Chemical compound NC1CCCCC1N SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSBIHRWKNFMWJZ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-bromoprop-2-enoate Chemical compound BrC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 FSBIHRWKNFMWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCFPFZBUGPYIIA-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-chloroprop-2-enoate Chemical compound ClC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 GCFPFZBUGPYIIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCWKJEDLAUOPRL-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-ethoxyprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 KCWKJEDLAUOPRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- DTOHXGVDKNULFO-UHFFFAOYSA-N dibromo(dichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Br)Br DTOHXGVDKNULFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFCXHBIETZKGHB-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](Cl)(Cl)OCC UFCXHBIETZKGHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVTDEFYUQVIWEC-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](Cl)(Cl)OC1=CC=CC=C1 HVTDEFYUQVIWEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYHCACQLHNZLS-UHFFFAOYSA-N dichloro-cyclohexyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1CCCCC1 YUYHCACQLHNZLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXTPGQHJFRSSQJ-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(Cl)Cl AXTPGQHJFRSSQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAJLVGLXAFCNBX-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethoxy-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 YAJLVGLXAFCNBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNECSTWRDNQOLT-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethyl-methylsilane Chemical compound CC[Si](C)(Cl)Cl PNECSTWRDNQOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKRXTSQFJBHHFT-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenoxysilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)OC1=CC=CC=C1 QKRXTSQFJBHHFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLLINCWWWZHEMD-UHFFFAOYSA-N dichloro-phenoxy-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)OC1=CC=CC=C1 QLLINCWWWZHEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- VFLDPWHFBUODDF-UHFFFAOYSA-N diferuloylmethane Natural products C1=C(O)C(OC)=CC(C=CC(=O)CC(=O)C=CC=2C=C(OC)C(O)=CC=2)=C1 VFLDPWHFBUODDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSUGRBWQSSZJOP-RTWAWAEBSA-N diltiazem Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1[C@H]1[C@@H](OC(C)=O)C(=O)N(CCN(C)C)C2=CC=CC=C2S1 HSUGRBWQSSZJOP-RTWAWAEBSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGFLUIPDTLQXFW-UHFFFAOYSA-M diphenyl-(4-phenylsulfanylphenyl)sulfanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C=1C=C([S+](C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1SC1=CC=CC=C1 AGFLUIPDTLQXFW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMIKAXKFQJWKCV-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 UMIKAXKFQJWKCV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000007907 direct compression Methods 0.000 description 1
- QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCN QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- QPUSANCBJDDXSA-UHFFFAOYSA-N ethanethiol;sodium Chemical compound [Na].CCS QPUSANCBJDDXSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- HMONIZCCNGYDDJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(C)C(=O)OCC HMONIZCCNGYDDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVUNPKSKGHPMSY-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-chloroprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(Cl)=C CVUNPKSKGHPMSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)O GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)OC WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXONMBCEAFIRDT-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-propoxyacetate Chemical compound CCCOCC(=O)OCC ZXONMBCEAFIRDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIRSHSVIZQASRJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOCCC(=O)OCC GIRSHSVIZQASRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKDLORMZNPQILV-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCO UKDLORMZNPQILV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLACVNYOVGHAKH-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-propoxypropanoate Chemical compound CCCOCCC(=O)OCC LLACVNYOVGHAKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- CNEKKZXYBHKSDC-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;propane-1,2-diol Chemical compound CC(O)CO.CCOC(C)=O CNEKKZXYBHKSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N ethyllithium Chemical compound [Li]CC BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 150000002212 flavone derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940100608 glycol distearate Drugs 0.000 description 1
- PKWIYNIDEDLDCJ-UHFFFAOYSA-N guanazole Chemical compound NC1=NNC(N)=N1 PKWIYNIDEDLDCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSKGMYDENCAJEN-UHFFFAOYSA-N hexadecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC RSKGMYDENCAJEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene oxide Chemical compound FC(F)(F)C1(F)OC1(F)F PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- NIZHERJWXFHGGU-UHFFFAOYSA-N isocyanato(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)N=C=O NIZHERJWXFHGGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940070765 laurate Drugs 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N lithium methoxide Chemical compound [Li+].[O-]C JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQRPHMAXFVUBJX-UHFFFAOYSA-M lithium;hydrogen carbonate Chemical compound [Li+].OC([O-])=O HQRPHMAXFVUBJX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- XHXXWWGGXFUMAJ-UHFFFAOYSA-N methanethiol;sodium Chemical compound [Na].SC XHXXWWGGXFUMAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N methyl (2s)-2,6-diisocyanatohexanoate Chemical compound COC(=O)[C@@H](N=C=O)CCCCN=C=O AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- HVJXPDPGPORYKY-UHFFFAOYSA-N methyl 2-bromoprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(Br)=C HVJXPDPGPORYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKFQHFFZHGUTEZ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-butoxyacetate Chemical compound CCCCOCC(=O)OC BKFQHFFZHGUTEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBVBLLGAMALJGB-UHFFFAOYSA-N methyl 2-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(C)C(=O)OC QBVBLLGAMALJGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloroprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(Cl)=C AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSGBMDFJWFIEDF-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate Chemical compound COC(=O)C(O)C(C)C YSGBMDFJWFIEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSJFXBNYJCXDGI-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxyacetate Chemical compound COC(=O)CO GSJFXBNYJCXDGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVVSSORVCLNBOS-UHFFFAOYSA-N methyl 2-propoxyacetate Chemical compound CCCOCC(=O)OC AVVSSORVCLNBOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBCSBEIIIFLVQV-UHFFFAOYSA-N methyl 3-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOCCC(=O)OC VBCSBEIIIFLVQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCN(CC)CCN UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C(C)=C WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAYXSROKFZAHRQ-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(oxiran-2-ylmethyl)aniline Chemical compound C1OC1CN(C=1C=CC=CC=1)CC1CO1 JAYXSROKFZAHRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzyl-1-phenylmethanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRQONEWDWWHIPM-UHFFFAOYSA-N n,n-dicyclohexylcyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1N(C1CCCCC1)C1CCCCC1 FRQONEWDWWHIPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWSFFBPGDIHBJL-UHFFFAOYSA-N n-(2-methoxyethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound COCCNC(=O)C(C)=C SWSFFBPGDIHBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBFLGHPYLIZSC-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCC1=CC=CC=C1 CEBFLGHPYLIZSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQGWOOIHSXNRPW-UHFFFAOYSA-N n-butyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCNC(=O)C(C)=C VQGWOOIHSXNRPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIKUXBYRTXDNIY-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylformamide Chemical compound O=CN(C)C1=CC=CC=C1 JIKUXBYRTXDNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWFWUJCJKPUZLV-UHFFFAOYSA-N n-trimethylsilylacetamide Chemical compound CC(=O)N[Si](C)(C)C LWFWUJCJKPUZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC=C2C(OC(=O)C(=C)C)=CC=CC2=C1 HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXOYJPWMGYDJNW-UHFFFAOYSA-N naphthalen-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C21 CXOYJPWMGYDJNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- SFBTTWXNCQVIEC-UHFFFAOYSA-N o-Vinylanisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1C=C SFBTTWXNCQVIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940054441 o-phthalaldehyde Drugs 0.000 description 1
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000005062 perfluorophenyl group Chemical group FC1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)* 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- ZGUOZNNUXWCXLQ-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-bromoprop-2-enoate Chemical compound BrC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZGUOZNNUXWCXLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- ZWLUXSQADUDCSB-UHFFFAOYSA-N phthalaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1C=O ZWLUXSQADUDCSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002250 poly(2-ethoxyethyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001618 poly(2-methyl styrene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920005593 poly(benzyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000205 poly(isobutyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000196 poly(lauryl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003214 poly(methacrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000738 poly(p-divinylbenzene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002589 poly(vinylethylene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001513 poly[2-(diethylamino)ethyl methacrylate] polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920002776 polycyclohexyl methacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920002338 polyhydroxyethylmethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000182 polyphenyl methacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004300 potassium benzoate Substances 0.000 description 1
- 235000010235 potassium benzoate Nutrition 0.000 description 1
- 229940103091 potassium benzoate Drugs 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 125000005767 propoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[#8]C([H])([H])* 0.000 description 1
- GYOCIFXDRJJHPF-UHFFFAOYSA-N propyl 2-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOC(C)C(=O)OCCC GYOCIFXDRJJHPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXKPKHWZTLSCIB-UHFFFAOYSA-N propyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)OCC GXKPKHWZTLSCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILVGAIQLOCKNQA-UHFFFAOYSA-N propyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)O ILVGAIQLOCKNQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJIYVZIALQOKQI-UHFFFAOYSA-N propyl 3-butoxypropanoate Chemical compound CCCCOCCC(=O)OCCC HJIYVZIALQOKQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNCDNPMGXGIVOM-UHFFFAOYSA-N propyl 3-hydroxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)CCO KNCDNPMGXGIVOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCMFJIHDWDKYIL-UHFFFAOYSA-N propyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)CCOC JCMFJIHDWDKYIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTUFRRBSSNRYID-UHFFFAOYSA-N propyl 3-propoxypropanoate Chemical compound CCCOCCC(=O)OCCC YTUFRRBSSNRYID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHNQIURBCCNWDN-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,6-diamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=N1 VHNQIURBCCNWDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000004208 shellac Substances 0.000 description 1
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 description 1
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 description 1
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N silicon tetrabromide Chemical compound Br[Si](Br)(Br)Br AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFTHARXEQHJSEH-UHFFFAOYSA-N silicon tetraiodide Chemical compound I[Si](I)(I)I CFTHARXEQHJSEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N terephthaloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHYGQXWCZAYSLJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-chloro-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 MHYGQXWCZAYSLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTEXQPWIUJQYJQ-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC WTEXQPWIUJQYJQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MCZDHTKJGDCTAE-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC MCZDHTKJGDCTAE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YNJQKNVVBBIPBA-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC YNJQKNVVBBIPBA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LROATHSBUUYETB-UHFFFAOYSA-M tetramethylazanium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound C[N+](C)(C)C.[O-]C(=O)C(F)(F)F LROATHSBUUYETB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MANNXDXMUHZSRP-UHFFFAOYSA-M tetramethylazanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound C[N+](C)(C)C.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F MANNXDXMUHZSRP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M tetrapropylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Substances SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- SIPHWXREAZVVNS-UHFFFAOYSA-N trichloro(cyclohexyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1CCCCC1 SIPHWXREAZVVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SELBPKHVKHQTIB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](Cl)(Cl)Cl SELBPKHVKHQTIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IORQPMCLCHBYMP-UHFFFAOYSA-N trichloro(methoxy)silane Chemical compound CO[Si](Cl)(Cl)Cl IORQPMCLCHBYMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZFOTCWMVIXGCN-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenoxy)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)OC1=CC=CC=C1 HZFOTCWMVIXGCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABADVTXFGWCNBV-UHFFFAOYSA-N trichloro-(4-chlorophenyl)silane Chemical compound ClC1=CC=C([Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 ABADVTXFGWCNBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)C XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFKCWAROGHMSTC-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(6-trimethoxysilylhexyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCC[Si](OC)(OC)OC GFKCWAROGHMSTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N trimethylsilanol Chemical compound C[Si](C)(C)O AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AATYKEFFPLPLST-UHFFFAOYSA-N trimethylsilylurea Chemical compound C[Si](C)(C)NC(N)=O AATYKEFFPLPLST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JODJRDDQVZMRIY-UHFFFAOYSA-N trityloxyboronic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(OB(O)O)C1=CC=CC=C1 JODJRDDQVZMRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- KLNPWTHGTVSSEU-UHFFFAOYSA-N undecane-1,11-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCN KLNPWTHGTVSSEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0046—Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/913—Material designed to be responsive to temperature, light, moisture
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paper (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям, изменяющим показатель преломления, позволяющим получить новую модель распределения показателя преломления, в частности оптический материал, используемый в области оптоэлектроники и устройствах отображения информации. Описывается чувствительная к излучению композиция с изменяющейся диэлектрической проницаемостью, содержащая разлагаемое соединение (А), неразлагаемый компонент (В), включающий частицы неорганического оксида, устойчивые к кислоте или к основанию, которые вызываются источником кислоты или основания веществом (С), и чувствительное к облучению разлагающее вещество (С), причем показатель преломления пА разлагаемого соединения и показатель преломления пВ неразлагаемого соединения находятся в одном из нижеследующих отношений (1) и (2): пВ-пА≥0,05 (1), пА-пВ≥0,05 (2), а количество компонента (В) составляет 10-90 мас.ч. в расчете на 100 мас.ч. от общего количества компонентов (А) и (В), и количество компонента (С) составляет 0,01-30 мас.ч. в расчете на 100 мас.ч. от общего количества компонентов (А) и (В). Полученная на основе указанной композиции модель позволяет простым способом изменять показатели преломления с достижением достаточно большой разницы между ними и их стабильности независимо от условий применения. 7 н. 5 з.п. ф-лы, 3 табл.
Description
Область техники
Настоящее изобретение относится к чувствительной к облучению композиции, изменяющей показатель преломления, к способу изменения показателя преломления, к способу формирования модели распределения показателя преломления, к модели распределения показателя преломления и оптическому материалу. В частности, данное изобретение относится к способу формирования модели распределения показателя преломления, позволяющему получить новую модель распределения показателя преломления, и к оптическому материалу, предназначенному для применения в области оптоэлектроники и устройств отображения информации, к способу изменения показателя преломления и к чувствительной к облучению композиции, изменяющей показатель преломления, которая предназначена для использования в вышеуказанных способах.
Предпосылки изобретения
В современном обществе, именуемом "мультимедийным обществом", существует большая потребность в формованных оптических продуктах с распределением значений показателя преломления, имеющих области с разными показателями преломления. К таким продуктам относятся не только оптические волокна, используемые для передачи информации, но и оптические дифракционные решетки с периодическим изменением показателя преломления, оптические устройства хранения информации, в которых информация хранится в областях с разными показателями преломления, элементы с оптической связью, такие как оптические ИС, имеющие тонкую структуру распределения показателя преломления, оптические управляющие элементы, оптические модулирующие элементы и оптические передающие элементы.
Оптические формованные продукты с распределением показателей преломления относятся к двум типам: к первому типу относятся формованные продукты с непрерывным распределением показателей преломления, такие как оптические волокна GI-типа (далее именуемые "оптическими формованными продуктами GRIN"), а ко второму типу относятся продукты с прерывистым распределением показателей преломления, такие как оптические дифракционные решетки и оптические волноводы SI-типа.
Оптические формованные продукты GRIN являются особенно привлекательными оптическими формованными продуктами следующего поколения. Например, оптическое волокно GI-типа, у которого показатель преломления уменьшается от центральной оси сердцевины оптического волокна к периферии по параболическому закону, может передавать большой объем информации. Линза GRIN с непрерывным изменением показателя преломления используется в качестве считывающей линзы в копировальных аппаратах, сферической линзы для соединения волокон или микролинзы, причем в основе ее применения лежат такие отличительные особенности, как наличие преломляющей способности даже на плоской поверхности и отсутствие сферической аберрации.
К настоящему времени разработано много способов получения оптически формованных продуктов GRIN. Например, в заявках на патент JP-A 9-133813, JP-A 8-336911, JP-A 8-337609, JP-A 3-192310, JP-A 5-60931 (термин "JP-A" в используемом здесь значении означает "нерассмотренную опубликованную заявку на патент Японии"), WO 93/19505 и WO 94/04949 описан способ получения оптического волокна GI-типа диспергированием низкомолекулярного соединения или мономера в полимере с непрерывным распределением его концентраций. В заявке JP-A 62-25705 описан способ получения пруткообразного оптически формованного продукта GI-типа или оптического волокна фотосополимеризацией двух или более виниловых мономеров с разными показателями преломления и константами сополимеризации. Далее, в заявке JP-A 7-56026 описан способ распределения показателей преломления, который включает получение полимера А, имеющего фотореакционноспособную функциональную группу, диспергирование соединения В с более низким показателем преломления, чем у полимера А, в полимере А с формированием распределения концентраций соединения В и осуществление фотохимического взаимодействаия полимера А с соединением В.
Кроме того, предложены некоторые способы получения оптически формованных продуктов GRIN из неорганических материалов. Одним из таких способов является, например, способ получения прутка GI-типа, который включает введение обеспечивающего высокий показатель преломления таллия в пруткообразное стекло, состоящее в основном из кремния или свинца, погружение стекла в расплавленный раствор, содержащий калий с низким показателем преломления, и образование распределения концентраций калия при помощи ионного обмена.
Линзу GRIN можно получить аналогично вышеописанному способу, используя короткий пруток, то есть линзообразный оптически формованный продукт. Альтернативно, пруток GI-типа, полученный вышеописанным способом, может быть разрезан на части.
Одним из способов получения оптически формованного продукта с микроструктурированной моделью распределения показателя преломления, такого как вышеуказанная оптическая дифракционная решетка или оптическая ИС, является известная технология изменения показателя преломления при помощи фотохимической реакции в формованном продукте под действием светового облучения. Например, в случае неорганического материала стекло, легированное германием, подвергают воздействию света, в результате чего происходит изменение показателя преломления данного вещества с образованием оптической дифракционной решетки. Вышеуказанная технология применительно к органическому веществу известна как фотохромная реакция или фотоотбеливание. В заявке JP-A 7-92313 описана технология получения оптической дифракционной решетки в результате изменения показателя преломления под действием лазерного луча в материале, содержащем диспергированное в полимере низкомолекулярное соединение, обладающее фотохимической реакционной способностью. Далее, в заявке JP-A 9-178901 недавно было предложено применять вышеуказанную технологию для получения оптически формованного продукта GRIN. Данный способ обеспечивает непрерывное распределение показателей преломления внутрь продукта относительно направления облучения, за счет использования того факта, что происходит поглощение света, излучаемого на формованный продукт, и ослабление его интенсивности.
Однако в распределении показателей преломления, достигаемом в вышеуказанных известных материалах, максимальная разница в показателях преломления составляет лишь около 0,001-0,02, и при этом трудно добиться более широкого распределения показателей преломления для предотвращения оптических потерь и подавления неправильного срабатывания схемы.
Если после формирования распределения показателей преломления вышеуказанные известные материалы используются в условиях прохождения через них световой волны, длина которой близка к длине волны, используемой для изменения показателя преломления, происходит постепенное изменение показателя преломления, которое невозможно предотвратить, что ведет к ухудшению качества материалов.
Задача, решаемая данным изобретением
Настоящее изобретение сделано с учетом вышеописанной ситуации, существующей в данной области техники.
То есть целью настоящего изобретения является создание модели распределения показателя преломления и оптического материала, у которого можно простым способом изменять показатели преломления, при этом с достижением достаточно большой разницы между ними и их стабильности независимо от условий применения после формирования модели распределения показателя преломления, а также нового способа распределения показателей преломления.
Другие цели и преимущества настоящего изобретения будут очевидны из нижеследующего описания.
Средства решения указанной задачи
Вышеуказанные цели и преимущества настоящего изобретения достигаются, во-первых, благодаря созданию чувствительной к облучению композиции, изменяющей показатель преломления, которая содержит (А) разлагаемое соединение, (В) неразлагаемый компонент, содержащий частицы неорганического оксида, и (С) чувствительное к облучению разлагающее вещество.
Во-вторых, вышеуказанные цели и преимущества настоящего изобретения достигаются при помощи способа изменения показателя преломления, который заключается в том, что чувствительную к облучению композицию по настоящему изобретению, изменяющую показатель преломления, подвергают облучению.
В-третьих, вышеуказанные цели и преимущества настоящего изобретения достигаются при помощи способа формирования модели распределения показателя преломления, который заключается в том, что облучению подвергают часть указанной чувствительной к облучению композиции, изменяющей показатель преломления.
В-четвертых, вышеуказанные цели и преимущества настоящего изобретения достигаются благодаря модели распределения показателя преломления, формируемой при помощи указанного способа формирования модели распределения показателя преломления.
В-пятых, вышеуказанные цели и преимущества настоящего изобретения достигаются благодаря оптическому материалу, образуемому при помощи указанного способа формирования модели распределения показателя преломления.
В настоящем изобретении термин "модель распределения показателя преломления" означает материал с распределением показателей преломления, который состоит из областей, которые отличаются друг от друга по показателям преломления.
Все компоненты изменяющей показатель преломления композиции по настоящему изобретению подробно описаны ниже.
(А) Разлагаемое соединение
Разлагаемое соединение (А), используемое в настоящем изобретении, может быть кислотным или основным разлагаемым соединением, у которого показатель преломления предпочтительно равен 1,7 или меньше. Средневесовая молекулярная масса разлагаемого соединения (А) предпочтительно равна 100-500000, более предпочтительно 100-300000.
Кислотное разлагаемое соединение выбирают из соединений, имеющих, по меньшей мере, одну структуру, выбираемую из группы, включающей структуры, представленные нижеследующими формулами (1)-(6) и (10). Указанные соединения можно использовать по отдельности или в виде комбинации двух или более соединений.
(В формуле (1) R1 означает алкиленовую группу, перфторалкиленовую группу, алкилсилиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу или ариленовую группу, и R2 означает алкиленовую группу, перфторалкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу, при условии, что вышеуказанная алкиленовая группа или перфторалкиленовая группа может иметь связь -О-, -СО-, -СОО- или -ОСОО-).
(В формуле (2) М означает Si или Ge, R3 означает алкиленовую группу, перфторалкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу, алкилгермиленовую группу или простую связь, R4 означает атом кислорода, алкиленовую группу, перфторалкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу или простую связь, R5, R6, R7 и R8 независимо означают атом водорода, алкильную группу, арильную группу, алкоксильную группу, тиоалкильную группу, алкоксиэфирную группу, перфторалкильную группу, перфторалкоксильную группу, перфторалкоксиэфирную группу или перфторарильную группу, и m означает целое число от 0 до 2, при условии, что вышеуказанная алкиленовая группа или перфторалкиленовая группа может иметь связь -О-, -СО-, -СОО- или -ОСОО-).
(В формуле (3) R9 и R10 независимо означают алкиленовую группу, перфторалкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу, при условии, что вышеуказанная алкиленовая группа или перфторалкиленовая группа может иметь связь -О-, -СО-, -СОО- или -ОСОО-).
(В формуле (4) R11 означает оксиалкиленовую группу или простую связь, и R12 означает атом водорода, алкильную группу, алкоксильную группу, алкоксиэфирную группу, перфторалкильную группу, перфторалкоксиэфирную группу, перфторарильную группу, алкиленариленалкиленовую группу или арильную группу).
(В формуле (5) R13 означает атом водорода, алкильную группу, алкоксильную группу, алкоксиэфирную группу, перфторалкильную группу, перфторалкоксильную группу, перфторалкоксиэфирную группу, перфторарильную группу или арильную группу).
(В формуле (6) R14 означает алкиленовую группу или структуру, представленную нижеследующей формулой (7), (8) или (9)).
(В формуле (7) R15, R16, R17 и R18 независимо означают атом водорода, цепную алкильную группу с 1-6 атомами углерода, атом хлора, брома или йода, гидроксильную группу, меркаптогруппу, карбоксильную группу, алкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, алкилтиогруппу с 1-6 атомами углерода, галогеналкильную группу с 1-6 атомами углерода, галогеналкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, галогеналкилтиогруппу с 1-6 атомами углерода, гидроксиалкильную группу с 1-6 атомами углерода, меркаптоалкильную группу с 1-6 атомами углерода, гидроксиалкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, меркаптоалкилтиогруппу с 1-6 атомами углерода, арильную группу с 6-10 атомами углерода или аралкильную группу с 7-11 атомами углерода).
(В формуле (8) R19 означает алкиленовую группу).
(В формуле (9) R20 означает алкиленовую группу).
(В формуле (10) R21 означает алкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу или ариленовую группу).
Основное разлагаемое соединение выбирают из группы соединений, имеющих, по меньшей мере, одну структуру, выбираемую из группы, включающей структуры, представленные нижеследующими формулами (11)-(14). Указанные соединения можно использовать по отдельности или в виде комбинации двух или более соединений.
(В формуле (11) R22 означает алкиленовую группу, аралкиленовую группу или ариленовую группу, R23 означает алкиленовую группу, аралкиленовую группу, ариленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу, R24, R25, R26 и R27 независимо означают атом водорода, алкильную группу, арильную группу, алкоксильную группу или тиоалкильную группу, i и j независимо означают 0 или 1).
(В формуле (12) R28 означает алкиленовую группу, аралкиленовую группу или ариленовую группу, и R29 означает алкиленовую группу, аралкиленовую группу, ариленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу).
(В формуле (13) R30 и R31 независимо означают алкииленовую группу, аралкиленовую группу, ариленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу).
(В формуле (14) R32 и R33 независимо означают алкиленовую группу, аралкиленовую группу, ариленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу).
Все вышеуказанные алкиленариленалкиленовыю группы имеют структуру, представленную нижеследующей формулой (15) или (16):
(В формуле (15) R34, R35, R36 и R37 независимо означают атом водорода, цепную алкильную группу с 1-6 атомами углерода или арильную группу с 6-10 атомами углерода, R38, R39, R40 и R41 независимо означают атом водорода, хлора или брома, гидроксильную группу, меркаптогруппу, алкоксильную группу, тиоалкильную группу, алкилэфирную группу, алкилтиоэфирную группу, арильную группу, цианогруппу или нитрогруппу).
(В формуле (16) R42, R43, R44 и R45 независимо означают атом водорода, цепную алкильную группу с 1-6 атомами углерода или арильную группу с 6-10 атомами углерода, R46, R47, R48, R49, R50, R51, R52 и R53 независимо означают атом водорода, хлора или брома, гидроксильную группу, меркаптогруппу, алкоксильную группу, тиоалкильную группу, алкилэфирную группу, алкилтиоэфирную группу, арильную группу, цианогруппу или нитрогруппу, и A1 означает -S-, -O-, -SO2-, -CO-, -COO-, -OCOO-, -CH2- или -C(R54)2- (R54 означает цепную алкильную группу с 1-6 атомами углерода)).
Все вышеуказанные ариленовые группы независимо имеют структуру, представленную нижеследующей формулой (17):
где R55-R62 независимо означают атом водорода, атом хлора или брома, гидроксильную группу, меркаптогруппу, алкоксильную группу, тиоалкильную группу, алкилэфирную группу, алкилтиоэфирную группу, арильную группу, цианогруппу или нитрогруппу, и А2 означает -S-, -O-, -SO2-, -CO-, -COO-, -OCOO-, -CH2- или -C(R63)2- (R63 означает цепную алкильную группу с 1-6 атомами углерода).
Все вышеуказанные алкилсилиленовые группы независимо имеют структуру, представленную нижеследующей формулой (18):
где R64, R65, R66 и R67 независимо означают атом водорода, цепную алкильную группу с 1-6 атомами углерода или арильную группу с 6-10 атомами углерода, А3 означает -О-, алкиленовую группу или ариленовую группу, и а означает целое число, равное 0 или 1.
Все вышеуказанные алкилгермиленовые группы независимо имеют структуру, представленную нижеследующей формулой (19):
где R68, R69, R70 и R71 независимо означают атом водорода, цепную алкильную группу с 1-6 атомами углерода или арильную группу с 6-10 атомами углерода, А4 означает -О-, алкиленовую группу или ариленовую группу, и b означает целое число, равное 0 или 1.
Все вышеуказанные алкиленовые группы могут быть линейными, разветвленными или циклическими алкиленовыми группами с 1-10 атомами углерода, причем некоторые атомы водорода в указанных группах могут быть замещены атомом фтора либо некоторые или все атомы водорода в указанных группах могут быть замещены атомом хлора или брома, перфторалкильной группой, гидроксильной группой, меркаптогруппой, тиоалкильной группой, алкоксильной группой, перфторалкоксильной группой, алкилэфирной группой, алкилтиоэфирной группой, перфторалкилэфирной группой, цианогруппой или нитрогруппой.
Алкильная группа во всех вышеуказанных алкильных группах, алкоксильных группах, тиоалкильных группах, алкилэфирных группах и алкилтиоэфирных группах может быть линейной, разветвленной или циклической алкильной группой с 1-10 атомами углерода, причем некоторые атомы водорода в указанных группах могут быть замещены атомом фтора либо некоторые или все атомы водорода в указанных группах могут быть замещены атомом хлора или брома, перфторалкильной группой, гидроксильной группой, меркаптогруппой, тиоалкильной группой, алкоксильной группой, перфторалкоксильной группой, алкилэфирной группой, алкилтиоэфирной группой, перфторалкилэфирной группой, цианогруппой, нитрогруппой или арильной группой.
Все вышеуказанные перфторарильные группы независимо представляют перфторфенильную группу, перфторнафтильную группу, перфторантраценильную группу или перфторбифенильную группу, и атом фтора в указанных группах может быть замещен гидроксильной группой, перфторалкоксильной группой, перфторалкильной группой, перфторалкилэфирной группой, цианогруппой или нитрогруппой.
Все вышеуказанные арильные группы независимо представляют фенильную группу, нафтильную группу, антраценильную группу или бифенильную группу, и атом водорода в указанных группах может быть замещен атомом хлора или брома, гидроксильной группой, меркаптогруппой, алкоксильной группой, тиоалкильной группой, алкилэфирной группой, алкилтиоэфирной группой, цианогруппой или нитрогруппой.
Способы получения кислотных или основных разлагаемых соединений, имеющих структуры, представленные в настоящем изобретении вышеуказанными формулами (1)-(6) и (10), например, в виде повторяющихся звеньев, уже известны.
Способы получения соединения, имеющего структуру, представленную вышеуказанной формулой (1), описаны в журнале Polymer Bull., 1, 199 (1978), заявке JP-A 62-136638, европейском патенте ЕР 225545, патенте США №806597, заявках JP-A 4-303843, JP-A 7-56354 и других источниках.
Способы получения соединения, имеющего структуру, представленную вышеуказанной формулой (2), описаны в журналах Macromolecules 29, 5529 (1996), Polymer 17, 1086 (1976), заявке JP-A 60-37549 и других источниках.
Способы получения соединения, имеющего структуру, представленную вышеуказанной формулой (3), описаны в журналах Electrochem. Soc., Solid State Sci. Technol., 133 (1), 181 (1986), J. Imaging Sci., 30(2)59 (1986), Macromol. Chem. Rapid Commun., 7, 121 (1986) и других источниках.
Способы получения соединения, имеющего структуру, представленную вышеуказанной формулой (4), описаны в патенте США №3894253, заявках JP-A 62-190211, JP-A 2-146544, журнале Macromol. Chem., 23, 16 (1957), заявке JP-A 63-97945, журнале Polymer Sci., A-1, 8, 2375 (1970), патенте США №4247611, европейском патенте ЕР 41657, заявках JP-A 57-31674, JP-A 64-3647, JP-A 56-17345 и других источниках.
Способы получения соединения, имеющего структуру, представленную вышеуказанной формулой (5), описаны в журналах Prepr. Eur. Disc Meet. Polymer Sci., Strasbourg, p.106 (1978), Macromol. Chem., 179, 1689 (1978) и других источниках.
Способы получения соединения, имеющего структуру, представленную вышеуказанной формулой (6), описаны в патентах США №№3894253, 3940507, заявке JP-A 62-190211 и других источниках.
Способы получения соединения, имеющего структуру, представленную вышеуказанной формулой (10), описаны в журналах J. Am. Chem. Soc., 54, 1579 (1932), J. Polym. Sci., 29, 343 (1958), J. Polym. Sci., Part A, Polym. Chem., 25, 3373 (1958), Macromolecules, 25, 12, (1992), Macromolecules, 20, 705, (997), Macromolecules, 21, 1925, (1998), Macromol. Chem. Rapid Commun., 11, 83 (1990) и других источниках.
Известны также способы получения основных разлагаемых соединений, имеющих структуры, представленные указанными формулами (11)-(14), например, в виде повторяющихся звеньев.
Способы получения соединения, имеющего структуру, представленную вышеуказанной формулой (11), описаны в журналах Macromol. Chem. Rapid Commun., 5, 151 (1984), Macromol. Chem., 189, 2229 (1988), Macromol. Chem., 187, 2525 (1986), Polym. J., 22, 803 (1990) и других источниках.
Способы получения соединения, имеющего структуру, представленную вышеуказанной формулой (12), описаны в журналах Polym. Sci., 47, 1523 (1993), J. Appl. Polym. Sci., 35, 85 (1985), J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed., 22, 1579 (1984), J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed., 14, 655 (1976), J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed., 17, 2429 (1979) и других источниках.
Способы получения соединения, имеющего структуру, представленную вышеуказанной формулой (13), описаны в журнале J. Macromol. Sci. Chem., A9, 1265 (1975) и других источниках.
Способы получения соединения, имеющего структуру, представленную вышеуказанной формулой (14), описаны в журналах Polym. Bull., 14, 85 (1985), Macromol. Chem., 189, 1323 (1988) и других источниках.
Средневесовая молекулярная масса разлагаемого соединения (А) предпочтительно равна 100-500000, более предпочтительно 100-300000.
Вышеуказанные разлагаемые соединения (А) для удобства можно классифицировать в соответствии с величиной показателя преломления, при этом соединение, имеющее, по меньшей мере, одну из нижеследующих структур (i)-(vii), является предпочтительным в качестве соединения с показателем преломления 1,5 или меньше.
(i) Структура формулы (1), в которой R1 и R2 независимо означают алкиленовую группу, перфторалкиленовую группу или алкилсилиленовую группу, при условии, что вышеуказанная алкиленовая группа или перфторалкиленовая группа может иметь связь -О-, -СО-, -СОО- или -ОСОО-.
(ii) Структура формулы (2), в которой М означает Si или Ge, R3 означает алкиленовую группу или перфторалкиленовую группу, R4 означает алкиленовую группу, перфторалкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или простую связь, R5, R6, R7 и R8 независимо означают атом водорода, алкильную группу, алкоксильную группу, алкоксиэфирную группу, перфторалкильную группу, перфторалкоксильную группу, перфторалкоксиэфирную группу или перфторарильную группу, и m означает целое число от 0 до 2, при условии, что вышеуказанная алкиленовая группа или перфторалкиленовая группа может иметь связь -О-, -СО-, -СОО- или -ОСОО-.
(iii) Структура формулы (3), в которой R9 и R10 независимо означают алкиленовую группу или перфторалкиленовую группу, при условии, что вышеуказанная алкиленовая группа или перфторалкиленовая группа может иметь связь -О-, -СО-, -СОО- или -ОСОО-.
(iv) Структура формулы (4), в которой R11 означает оксиалкиленовую группу или простую связь, и R12 означает атом водорода, алкильную группу, алкоксильную группу, алкоксиэфирную группу, перфторалкильную группу, перфторалкоксиэфирную группу или перфторарильную группу.
(v) Структура формулы (5), в которой R13 означает атом водорода, алкильную группу, алкоксильную группу, алкоксиэфирную группу, перфторалкильную группу, перфторалкоксильную группу, перфторалкоксиэфирную группу или перфторарильную группу.
(vi) Структура, представленная формулой (6).
(vii) Структура формулы (10), в которой R21 означает алкиленовую группу.
Соединение, имеющее, по меньшей мере, одну из нижеследующих структур (viii)-(xiv), является предпочтительным в качестве соединения с показателем преломления выше 1,5.
(viii) Структура формулы (1), в которой R1 означает алкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу или ариленовую группу, и R2 означает алкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу.
(ix) Структура формулы (2), в которой М означает Si или Ge, R3 означает алкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу, R4 означает атом кислорода, алкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, ариленовую группу или простую связь, R5, R6, R7 и R8 независимо означают атом водорода, алкильную группу, арильную группу, алкоксильную группу или тиоалкильную группу, и m означает целое число от 0 до 2.
(х) Структура формулы (3), в которой R9 и R10 независимо означают алкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу.
(xi) Структура формулы (4), в которой R11 означает оксиалкиленовую группу или простую связь, и R12 означает атом водорода, алкильную группу, алкиленариленалкиленовую группу или арильную группу.
(xii) Структура формулы (5), в которой R13 означает атом водорода, алкильную группу или арильную группу.
(xiii) Структура, представленная формулой (10).
(xiv) Структуры, представленные формулами (11)-(14).
(В) Неразлагаемый компонент, включающий частицы неорганического оксида
Неразлагаемый компонент (В) представляет частицы вышеуказанного оксида или комбинацию частиц оксида и связующего вещества. В качестве частиц оксида можно использовать частицы обычного неорганического оксида. Неразлагаемый компонент предпочтительно устойчив к воздействию кислоты или основания, образующихся из чувствительного к облучению разлагающего вещества (С), которое будет описано ниже, не поглощает свет в диапазоне длин волн, проходящий через композицию, и характеризуется высокой оптической прозрачностью. Частицы оксида с предпочтительным значением показателя преломления выбирают в зависимости от применения.
Предпочтительными примерами частиц оксида являются оксиды, содержащие такой атом, как Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, La, Ce, Gd, Tb, Dy, Yb, Lu, Ti, Zr, Hf, Nb, Mo, W, Zn, B, Al, Si, Ge, Sn, Pb, Bi или Те. Более предпочтительными примерами частиц оксида являются такие оксиды, как BeO, MgO, CaO, SrO, BaO, Sc2O3, Y2O3, La2O3, Ce2O3, Gd2O3, Tb2O3, Dy2O3, Yb2O3, Lu2O3, TiO2, ZrO2, HfO2, Nb2O5, MoO3, WO3, ZnO, B2O3, Al2O3, SiO2, GeO2, SnO2, PbO, Bi2O3 или TeO2, и сложные оксиды, включающие Al2O3-MgO, Al2O3-SiO2, ZnO-Y2O3, ZrO2-Ce2O3, ZrO2-TiO2-SnO2, TeO2-BaO-ZnO, TeO2-WO3-Ta2O5, TeO2-WO3-Bi2O3, TeO2-BaO-PbO, CaO-Al2O3, CaO-Al2O3-BaO, CaO-Al2O3-Na2O, CaO-Al2O3-K2O, CaO-Al2O3-SiO2, PbO-Bi2O3-BaO, PbO-Bi2O3-ZnO, PbO-Bi2O3, PbO-Bi2O3-BaO-ZnO, PbO-Bi2O3-CdO-Al2O3, PbO-Bi2O3-GeO2, PbO-Bi2O3-GeO2-Tl2O, BaO-PbO-Bi2O3, BaO-PbO-Bi2O3-ZnO, Bi2O3-Ga2O3-PbO, Bi2O3-Ga2O3-CdO и Bi2O3-Ga2O3-(Pb,Cd)O.
Диаметры частиц оксида, желательно, должны быть меньше длины волны света, проходящего через изменяющую показатель преломления композицию по настоящему изобретению, и могут быть равны, например, 2 мкм или меньше, предпочтительно 0,2 мкм или меньше, особенно предпочтительно 0,1 мкм или меньше. При диаметре частиц более 2 мкм может ухудшаться прозрачность изменяющей показатель преломления композиции, либо пленка, полученная из такой композиции, может характеризоваться плохим состоянием поверхности.
Форма частиц оксида не имеет конкретных ограничений, но предпочтительной является по существу сферическая форма, так как в этом случае рассеяние падающего света является незначительным.
Частицы вышеуказанных оксидов можно вводить в соприкосновение с силановым связующим агентом, поверхностно-активным веществом или координационным соединением, оказывающим координирующее воздействие на атом металла, образующий оксид, с целью изменения их поверхностей перед использованием.
Связующее вещество является неразлагаемым соединением, которое устойчиво к воздействию кислоты или основания и предпочтительно характеризуется высокой оптической прозрачностью.
Таким неразлагаемым соединением является акриловая смола, смола на основе уретана, смола на основе сложного полиэфира, смола на основе поликарбоната, смола на основе норборнена, смола на основе стирола, простой полиэфир на основе сульфона, силиконовая смола, полиамидная смола, полиимидная смола, смола на основе полисилоксана, смола на основе фтора, смола на основе полибутадиена, смола на основе простого винилового эфира, смола на основе сложного винилового эфира или тому подобные. Любое предпочтительное неразлагаемое соединение можно выбрать в зависимости от показателя преломления используемого разлагаемого соединения (А). Для увеличения разницы между показателями преломления неразлагаемого соединения и разлагаемого соединения (А) можно преимущественно использовать неразлагаемое соединение, имеющее ароматическую группу, атом галогена или атом серы.
Типичные примеры неразлагаемого соединения включают нижеследующие соединения (величины, указанные в скобках, представляют значения показателей преломления, измеренные при помощи направленного излучения): поливинилиденфторид (1,42), полидиметилсилоксан (1,43), политрифторэтилметакрилат (1,44), полиоксипропилен (1,45), поливинилизобутиловый эфир (1,45), поливинилэтиловый эфир (1,45), полиоксиэтилен (1,46), поливинилбутиловый эфир (1,46), поливинилпентиловый эфир (1,46), поливинилгексиловый эфир (1,46), поли(4-метил-1-пентен) (1,46-1,47), бутират ацетата целлюлозы (1,46-1,49), поли(4-фтор-2-трифторметилстирол) (1,46), поливинилоктиловый эфир (1,46), поли(винил-2-этилгексиловый эфир) (1,46), поливинилдециловый эфир (1,46), поли(2-метоксиэтилакрилат) (1,46), полибутилакрилат (1,46), полибутилакрилат (1,47), поли(трет-бутилметакрилат) (1,46), поливинилдодециловый эфир (1,46), поли(3-этоксипропилакрилат) (1,47), полиоксикарбонилтетраметилен (1,47), поливинилпропионат (1,47), поливинилацетат (1,47), поливинилметиловый эфир (1,47), полиэтилакрилат (1,47), сополимер этилена и винилацетата (1,47-1,50), пропионат (80-20% винилацетата) целлюлозы (1,47-1,49), пропионат ацетата целлюлозы (1,47), бензилцеллюлоза (1,47-1,58), фенолформальдегидная смола (1,47-1,70), триацетат целлюлозы (1,47-1,48), поливинилметиловый эфир (изотактический) (1,47), поли(3-метоксипропилакрилат) (1,47), поли(2-этоксиэтилакрилат) (1,47), полиметилакрилат (1,47-1,48), полиизопропилметакрилат (1,47), поли(1-децен) (1,47), полипропилен (атактический, плотность 0,8575 г/см3) (1,47), поли(винил-втор-бутиловый эфир) (изотактический) (1,47), полидодецилметакрилат (1,47), полиоксиэтиленоксисукциноил (1,47), политетрадецилметакрилат полиэтиленсукцината (1,47), сополимер этилена и пропилена (EPR-каучук) (1,47-1,48), полигексадецилметакрилат (1,48), поливинилформиат (1,48), поли(2-фторэтилметакрилат) (1,48), полиизобутилметакрилат (1,48), этилцеллюлоза (1,48), поливинилацеталь (1,48-1,50), ацетат целлюлозы (1,48-1,50), трипропионат целлюлозы (1,48-1,49), полиоксиметилен (1,48), поливинилбутираль (1,48-1,49), поли(н-гексилметакрилат) (1,48), поли(н-бутилметакрилат) (1,48), полиэтилидендиметакрилат (1,48), поли(2-этоксиэтилметакрилат) (1,48), полиоксиэтиленоксималеоил (1,48), поли(н-пропилметакрилат) полиэтиленмалеата (1,48), поли(3,3,5-триметилциклогексилметакрилат) (1,49), полиэтилметакрилат (1,49), поли(2-нитро-2-метилпропилметакрилат) (1,49), политриэтилкарбинилметакрилат (1,49), поли(1,1-диэтилпропилметакрилат) (1,49), полиметилметакрилат (1,49), поли(2-децил-1,3-бутадиен) (1,49), поливиниловый спирт (1,49-1,53), метакрилат полиэтилгликолята (1,49), поли(3-метилциклогексилметакрилат) (1,49), поли(циклогексил-α-этоксиакрилат) (1,50), метилцеллюлоза (с низкой вязкостью) (1,50), поли(4-метилциклогексилметакрилат) (1,50), полидекаметиленгликольдиметакрилат (1,50), полиуретан (1,50-1,60), поли(1,2-бутадиен) (1,50), поливинилформаль (1,50), поли(2-бром-4-трифторметилстирол) (1,50), нитрат целлюлозы (1,50-1,51), поли(втор-бутил-α-хлоракрилат) (1,50), поли(2-гептил-1,3-бутадиен) (1,50), поли(этил-α-хлоракрилат) (1,50), поли(2-изопропил-1,3-бутадиен) (1,50), поли(2-метилциклогексилметакрилат) (1,50), полипропилен (плотность 0,9075 г/см3) (1,50), полиизобутен (1,51), полиборнилметакрилат (1,51), поли(2-трет-бутил-1,3-бутадиен) (1,51), полиэтиленгликольдиметакрилат (1,51), полициклогексилметакрилат (1,51), поли(циклогександиол-1,4-диметакрилат) (1,51), бутилкаучук (невулканизованный) (1,51), политетрагидрофурфурилметакрилат (1,51), гуттаперча (β) (1,51), полиэтиленовый иономер (1,51), полиоксиэтилен (высокомолекулярный) (1,51-1,54), полиэтилен (плотность 0,914 г/см3) (1,51), (плотность 0,94-0,945 г/см3) (1,52-1,53), (плотность 0,965 г/см3) (1,55), поли(1-метилциклогексилметакрилат) (1,51), поли(2-гидроксиэтилметакрилат) (1,51), поливинилхлорацетат (1,51), полибутен (изотактический) (1,51), поливинилметакрилат (1,51), поли(N-бутилметакриламид) (1,51), гуттаперча (α) (1,51), терпеновая смола (1,52), поли(1,3-бутадиен) (1,52), шеллак (1,51-1,53), поли(метил-α-хлоракрилат) (1,52), поли(2-хлорэтилметакрилат) (1,52), поли-(2-диэтиламиноэтилметакрилат) (1,52), поли(2-хлорциклогексилметакрилат) (1,52), поли(1,3-бутадиен) (35% цис-формы; 56% транс-формы 1,5180; 7% 1,2-конфигурации), натуральный каучук (1,52), полиаллилметакрилат (1,52), поливинилхлорид +40% диоктилфталата (1,52), полиакрилонитрил (1,52), полиметакрилонитрил (1,52), поли(1,3-бутадиен) (большое содержание цис-конфигурации) (1,52), сополимер бутадиена и акрилонитрила (1,52), полиметилизопропенилкетон (1,52), полиизопрен (1,52), жесткая полиэфирная смола (около 50% стирола) (1,52-1,54), поли(N-(2-метоксиэтил)метакриламид) (1,52), поли(2,3-диметилбутадиен)метилкаучук (1,53), сополимер винилхлорида и винилацетата (95/5-90/10) (1,53-1,54), полиакриловая кислота (1,53), поли(1,3-дихлорпропилметакрилат) (1,53), поли(2-хлор-1-(хлорметил)этилметакрилат) (1,53), полиакролеин (1,53), поли(1-винил-2-пирролидон) (1,53), гидрохлорированный каучук (1,53-1,55), найлон 6; найлон 6,6; найлон 6,10 (формованный продукт) (1,53), сополимер бутадиена и стирола (около 30% стирола) (1,53), блок-сополимер поли(циклогексил-α-хлоракрилата) (1,53), поли(2-хлорэтил-α-хлоракрилат) (1,53), сополимер бутадиена и стирола (примерно 75/25) (1,54), поли(2-аминоэтилметакрилат) (1,54), полифурфурилметакрилат (1,54), полибутилмеркаптилметакрилат (1,54), поли(1-фенил-н-амилметакрилат) (1,54), поли(N-метилметакриламид) (1,54), целлюлоза (1,54), поливинилхлорид (1,54-1,55), карбамидоформальдегидная смола (1,54-1,56), поли(втор-бутил-α-бромакрилат) (1,54), поли(циклогексил-α-бромакрилат) (1,54), поли(2-бромэтилметакрилат) (1,54), полидигидроабиетиновая кислота (1,54), полиабиетиновая кислота (1,546), полиэтилмеркаптилметакрилат (1,55), поли(N-аллилметакриламид) (1,55), поли(1-фенилэтилметакрилат) (1,55), поливинилфуран (1,55), поли(2-винилтетрагидрофуран) (1,55), поли(винилхлорид) +40% трикрезилфосфата (1,55), поли(п-метоксибензилметакрилат) (1,55), полиизопропилметакрилат (1,55), поли(п-изопропилстирол) (1,55), полихлоропрен (1,55-1,56), поли(оксиэтилен-α-бензоат-ω-метакрилат) (1,56), поли(п,п'-ксилиленилдиметакрилат) (1,56), поли(1-фенилаллилметакрилат) (1,56), поли(п-циклогексилфенилметакрилат) (1,56), поли(2-фенилэтилметакрилат) (1,56), поли(оксикарбонилокси-1,4-фенилен-1-пропил) (1,56), поли(1-(о-хлорфенил)этилметакрилат) (1,56), сополимер стирола и малеинового ангидрида (1,56), поли(1-фенилциклогексилметакрилат) (1,56), поли(оксикарбонилокси-1,4-фенилен-1,3-диметилбутилиден-1,4-фенилен) (1,57), поли(метил-α-бромакрилат) (1,57), полибензилметакрилат (1,57), поли(2-(фенилсульфонил)этилметакрилат) (1,57), поли(м-крезилметакрилат) (1,57), сополимер стирола и акрилонитрила (примерно 75/25) (1,57), поли(оксикарбонилокси-1,4-фениленизобутилиден-1,4-фенилен) (1,57), поли(о-метоксифенилметакрилат) (1,57), полифенилметакрилат (1,57), поли(о-крезилметакрилат) (1,57), полидиаллилфталат (1,57), поли(2,3-дибромпропилметакрилат) (1,57), поли(оксикарбонил-окси-1,4-фенилен-1-метилбутилиден-1,4-фенилен) (1,57), поли(окси-2,6-диметилфенилен) (1,58), полиоксиэтиленокситерефталоил (аморфный) (1,58), полиэтилентерефталат (1,51-1,64), поливинилбензоат (1,58), поли(оксикарбонилокси-1,4-фениленбутилиден-1,4-фенилен) (1,58), поли(1,2-дифенил-этилметакрилат) (1,58), поли(о-хлорбензилметакрилат) (1,58), поли(оксикарбонилокси-1,4-фенилен-втор-бутилиден-1,4-фенилен) (1,58), полиоксипентаэритритолоксифталоил (1,58), поли(м-нитробензилметакрилат) (1,58), поли(оксикарбонилокси-1,4-фениленизопропилиден-1,4-фенилен) (1,59), поли(N-фенилэтил)метакриламид) (1,59), поли(4-метокси-2-метилстирол) (1,59), поли(о-метилстирол) (1,59), полистирол (1,59), поли(оксикарбонилокси-1,4-фениленциклогексилиден-1,4-фенилен) (1,59), поли(о-метоксистирол) (1,59), полидифенилметилметакрилат (1,59), поли(оксикарбонил-окси-1,4-фениленэтилиден-1,4-фенилен) (1,59), поли(п-бромфенилметакрилат) (1,60), поли(N-бензилметакриламид) (1,60), поли(п-метоксистирол) (1,60), поливинилиденхлорид (1,60-1,63), полисульфид ("тиокол") (1,6-1,7), поли-(о-хлордифенилметилметакрилат) (1,60), поли(оксикарбонилокси-1,4-(2,6-дихлор)фениленизопропилиден-1,4-(2,6-дихлор)фенилен) (1,61), поли(оксикарбонилоксибис(1,4-(3,5-дихлорфенилен)))полипентахлорфенилметакрилат (1,61), поли(о-хлорстирол) (1,61), поли(фенил-α-бромакрилат) (1,61), поли(п-дивинилбензол) (1,62), поли(N-винилфталимид) (1,62), поли(2,6-дихлорстирол) (1,62), поли(β-нафтилметакрилат) (1,63), поли(α-нафтилкарбинилметакрилат) (1,63), полисульфон (1,63), поли(2-винилтиофен) (1,64), поли(α-нафтилметакрилат) (1,64), поли(оксикарбонилокси-1,4-фенилендифенил-метилен-1,4-фенилен) (1,65), поливинилфенилсульфид (1,66), бутилфенолформальдегидная смола (1,66), карбамидотиомочевиноформальдегидная смола (1,66), поливинилнафталин (1,68), поливинилкарбазол (1,68), нафталинформальдегидная смола (1,70), фенолформальдегидная смола (1,70) и полипентабромфенилметакрилат (1,71).
Неразлагаемое соединение может быть сополимером двух или более мономеров, образующих вышеуказанные соединения.
Средневесовая молекулярная масса неразлагаемого соединения предпочтительно равна 100-500000, более предпочтительно 100-200000.
Вышеуказанные неразлагаемые соединения можно использовать по отдельности или в виде комбинации двух или более соединений.
Неразлагаемое соединение используют в количестве, равном предпочтительно 300 мас. частям или меньше, более предпочтительно 150 мас. частям или меньше в расчете на 100 мас. частей частиц неорганического оксида.
Особенно предпочтительно, если показатель преломления nB компонента (В) и показатель преломления nА разлагаемого соединения (А) находятся в одном из нижеследующих отношений (1) и (2).
Количество компонента (В) предпочтительно равно 10-90 мас. частям, более предпочтительно 20-70 мас. частям в расчете на 100 мас. частей общего количества компонентов (А) и (В). Если количество компонента (В) меньше 10 мас. частей, изменяющий показатель преломления материал может стать хрупким, а если указанное количество больше 90 мас. частей, полученная разница между показателями преломления может стать незначительной.
(С) Чувствительное к облучению разлагающее вещество
Чувствительное к облучению разлагающее вещество (С), используемое в настоящем изобретении, может быть чувствительным к облучению веществом, дающим кислоту, или чувствительным к облучению веществом, дающим основание.
Вышеуказанным чувствительным к облучению веществом, производящим кислоту, является, например, трихлорметил-s-триазин, соль диарилиодония, соль триарилсульфония, соль четвертичного аммония или сложный эфир сульфоновой кислоты.
Примеры трихлорметил-s-триазина включают
2,4,6-трис(трихлорметил)-s-триазин,
2-фенил-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(4-хлорфенил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(3-хлорфенил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(2-хлорфенил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(4-метоксифенил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(3-метоксифенил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(2-метоксифенил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(4-метилтиофенил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(3-метилтиофенил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(2-метилтиофенил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(4-метоксинафтил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(3-метоксинафтил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(2-метоксинафтил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(4-метокси-β-стирил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(3-метокси-β-стирил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(2-метокси-β-стирил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(3,4,5-триметокси-β-стирил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(4-метилтио-β-стирил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(3-метилтио-β-стирил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(3-метилтио-β-стирил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-пиперонил-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-[2-(фуран-2-ил)этенил]-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-[2-(5-метилфуран-2-ил)этенил]-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин и
2-[2-(4-диэтиламино-2-метилфенил)этенил]-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин.
Примеры вышеуказанной соли диарилйодония включают
тетрафторборат дифенилйодония,
гексафторфосфонат дифенилйодония,
гексафторарсенат дифенилйодония,
трифторметансульфонат дифенилйодония,
трифторацетат дифенилйодония,
п-толуолсульфонат дифенилйодония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат дифенилйодония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат дифенилйодония,
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат диифенилйодония,
тетрафторборат 4-метоксифенилфенилйодония,
гексафторфосфонат 4-метоксифенилфенилйодония,
гексафторарсенат 4-метоксифенилфенилйодония,
трифторметансульфонат 4-метоксифенилфенилйодония,
трифторацетат 4-метоксифенилфенилйодония,
п-толуолсульфонат 4-метоксифенилфенилйодония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат 4-метоксифенилфенилйодония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат 4-метоксифенилфенилйодония,
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат 4-метоксифенилфенилйодония,
тетрафторборат бис(4-трет-бутилфенил)йодония,
гексафторарсенат бис(4-трет-бутилфенил)йодония,
трифторметансульфонат бис(4-трет-бутилфенил)йодония,
трифторацетат бис(4-трет-бутилфенил)йодония,
п-толуолсульфонат бис(4-трет-бутилфенил)йодония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат бис(4-трет-бутилфенил)йодония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат бис(4-трет-бутилфенил)йодония и
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат бис(4-трет-бутилфенил)йодония.
Примеры вышеуказанной соли триарилсульфония включают
тетрафторборат трифенилсульфония,
гексафторфосфонат трифенилсульфония,
гексафторарсенат трифенилсульфония,
трифторметансульфонат трифенилсульфония,
трифторацетат трифенилсульфония,
п-толуолсульфонат трифенилсульфония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат трифенилсульфония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат трифенилсульфония,
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат трифенилсульфония,
тетрафторборат 4-метоксифенилдифенилсульфония,
гексафторфосфонат 4-метоксифенилдифенилсульфония,
гексафторарсенат 4-метоксифенилдифенилсульфония,
трифторметансульфонат 4-метоксифенилдифенилсульфония,
трифторацетат 4-метоксифенилдифенилсульфония,
п-толуолсульфонат 4-метоксифенилдифенилсульфония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат 4-метоксифенилдифенилсульфония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат 4-метоксифенилдифенилсульфония,
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат 4-метоксифенилдифенилсульфония,
тетрафторборат 4-фенилтиофенилдифенилсульфония,
гексафторфосфонат 4-фенилтиофенилдифенилсульфония,
гексафторарсенат 4-фенилтиофенилдифенилсульфония,
трифторметансульфонат 4-фенилтиофенилдифенилсульфония,
трифторацетат 4-фенилтиофенилдифенилсульфония,
п-толуолсульфонат 4-фенилтиофенилдифенилсульфония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат 4-фенилтиофенилдифенилсульфония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат 4-фенилтиофенилдифенилсульфония,
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат 4-фенилтиофенилдифенилсульфония,
тетрафторборат 4-гидрокси-1-нафталинилдиметилсульфония,
гексафторфосфонат 4-гидрокси-1-нафталинилдиметилсульфония,
гексафторарсенат 4-гидрокси-1-нафталинилдиметилсульфония,
трифторметансульфонат 4-гидрокси-1-нафталинилдиметилсульфония,
трифторацетат 4-гидрокси-1-нафталинилдиметилсульфония,
п-толуолсульфонат 4-гидрокси-1-нафталинилдиметилсульфония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат 4-гидрокси-1-нафталинилдиметилсульфония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат 4-гидрокси-1-нафталинилдиметилсульфония и
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат 4-гидрокси-1-нафталинилдиметилсульфония.
Примеры вышеуказанной соли четвертичного аммония включают
тетрафторборат тетраметиламмония,
гексафторфосфонат тетраметиламмония,
гексафторарсенат тетраметиламмония,
трифторметансульфонат тетраметиламмония,
трифторацетат тетраметиламмония,
п-толуолсульфонат тетраметиламмония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат тетраметиламмония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат тетраметиламмония,
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат тетраметиламмония,
тетрафторборат тетрабутиламмония,
гексафторфосфонат тетрабутиламмония,
гексафторарсенат тетрабутиламмония,
трифторметансульфонат тетрабутиламмония,
трифторацетат тетрабутиламмония,
п-толуолсульфонат тетрабутиламмония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат тетрабутиламмония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат тетрабутиламмония,
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат тетрабутиламмония,
тетрафторборат бензилтриметиламмония,
гексафторфосфонат бензилтриметиламмония,
гексафторарсенат бензилтриметиламмония,
трифторметансульфонат бензилтриметиламмония,
трифторацетат бензилтриметиламмония,
п-толуолсульфонат бензилтриметиламмония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат бензилтриметиламмония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат бензилтриметиламмония,
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат бензилтриметиламмония,
тетрафторборат бензилдиметилфениламмония,
гексафторфосфонат бензилдиметилфениламмония,
гексафторарсенат бензилдиметилфениламмония,
трифторметансульфонат бензилдиметилфениламмония,
трифторацетат бензилдиметилфениламмония,
п-толуолсульфонат бензилдиметилфениламмония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат бензилдиметилфениламмония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат бензилдиметилфениламмония,
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат бензилдиметилфениламмония,
тетрафторборат N-циннамилиденэтилфениламмония,
гексафторфосфонат N-циннамилиденэтилфениламмония,
гексафторарсенат N-циннамилиденэтилфениламмония,
трифторметансульфонат N-циннамилиденэтилфениламмония,
трифторацетат N-циннамилиденэтилфениламмония,
п-толуолсульфонат N-циннамилиденэтилфениламмония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат N-циннамилиденэтилфениламмония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат N-циннамилиденэтилфениламмония и
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат N-циннамилиденэтилфениламмония.
Примеры вышеуказанного сложного эфира сульфоновой кислоты включают
эфир α-гидроксиметилбензоин-п-толуолсульфоновой кислоты,
эфир α-гидроксиметилбензоинтрифторметансульфоновой кислоты,
эфир α-гидроксиметилбензоинметансульфоновой кислоты,
эфир пирогаллолтри(п-толуолсульфоновой кислоты),
эфир пирогаллолтри(трифторметансульфоновой кислоты),
эфир пирогаллолтриметансульфоновой кислоты,
эфир 2,4-динитробензил-п-толуолсульфоновой кислоты,
эфир 2,4-динитробензилтрифторметансульфоновой кислоты,
эфир 2,4-динитробензилметансульфоновой кислоты,
эфир 2,4-динитробензил-1,2-нафтохинондиазидо-5-сульфоновой кислоты,
эфир 2,6-динитробензил-п-толуолсульфоновой кислоты,
эфир 2,6-динитробензилтрифторметансульфоновой кислоты,
эфир 2,6-динитробензилметансульфоновой кислоты,
эфир 2,6-динитробензил-1,2-нафтохинондиазидо-5-сульфоновой кислоты,
эфир 2-нитробензил-п-толуолсульфоновой кислоты,
эфир 2-нитробензилтрифторметансульфоновой кислоты,
эфир 2-нитробензилметансульфоновой кислоты,
эфир 2-нитробензил-1,2-нафтохинондиазидо-5-сульфоновой кислоты,
эфир 4-нитробензил-п-толуолсульфоновой кислоты,
эфир 4-нитробензилтрифторметансульфоновой кислоты,
эфир 4-нитробензилметансульфоновой кислоты,
эфир 4-нитробензил-1,2-нафтохинондиазидо-5-сульфоновой кислоты,
эфир N-гидроксинафталимида п-толуолсульфоновой кислоты,
эфир N-гидроксинафталимида трифторметансульфоновой кислоты,
эфир N-гидроксинафталимида метансульфоновой кислоты,
эфир N-гидрокси-5-норборнен-2,3-дикарбоксимида п-толуолсульфоновой кислоты,
эфир N-гидрокси-5-норборнен-2,3-дикарбоксимида трифторметансульфоновой кислоты,
эфир N-гидрокси-5-норборнен-2,3-дикарбоксимида метансульфоновой кислоты,
эфир 2,4,6,3',4',5'-гексагидроксибензофенон-1,2-нафтохинондиазидо-4-сульфоновой кислоты и
эфир 1,1,1-три(п-гидроксифенил)этан-1,2-нафтохинондиазидо-4-сульфоновой кислоты.
Из приведенных выше соединений предпочтительными трихлорметил-s-триазинами являются нижеследующие соединения:
2-(3-хлорфенил)-4,6-бис(трифхлорметил)-s-триазин,
2-(4-метоксифенил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(4-метилтиофенил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-(4-метокси-β-стирил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-пиперонил-4,6-бис(трхлорметил)-s-триазин,
2-[2-(фуран-2-ил)этенил]-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-[2-(5-метилфуран-2-ил)этенил]-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин,
2-[2-(4-диэтиламино-2-метилфенил)этенил]-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин и
2-(4-метоксинафтил)-4,6-бис(трихлорметил)-s-триазин;
предпочтительными солями диарилйодония являются нижеследующие соединения:
трифторацетат дифенилйодония,
трифторметансульфонат дифенилйодония,
трифторметансульфонат 4-метоксифенилфенилйодония и
трифторацетат 4-метоксифенилфенилйодония;
предпочтительными солями триарилсульфония являются нижеследующие соединения:
трифторметансульфонат трифенилсульфония,
трифторацетат трифенилсульфония,
трифторметансульфонат 4-метоксифенилдифенилсульфония,
трифторацетат 4-метоксифенилдифенилсульфония,
трифторметансульфонат 4-фенилтиофенилдифенилсульфония и
трифторацетат 4-фенилтиофенилдифенилсульфония;
предпочтительными солями четвертичного аммония являются нижеследующие соединения:
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат тетраметиламмония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат тетраметиламмония,
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат тетраметиламмония,
бутилтрис(2,6-дифторфенил)борат бензилдиметилфениламмония,
гексилтрис(п-хлорфенил)борат бензилдиметилфениламмония и
гексилтрис(3-трифторметилфенил)борат бензилдиметилфениламмония;
предпочтительными сложными эфирами сульфоновых кислот являются нижеследующие соединения:
эфир 2,6-динитробензил-п-толуолсульфоновой кислоты,
эфир 2,6-динитробензилтрифторметансульфоновой кислоты,
эфир N-гидроксинафталимида п-толуолсульфоновой кислоты и
эфир N-гидроксинафталимида трифторметансульфоновой кислоты.
В качестве вышеуказанного чувствительного к облучению вещества, производящего основание, преимущественно используют соединения, описанные в заявке JP-A 4-330444, журнале "Polymer", pp.242-248, vol.46, No.6 (1997), и патенте США №627010. Однако можно использовать любое чувствительное к облучению вещество, дающее основание, если данное вещество образует основание под воздействием облучения.
Чувствительным к облучению веществом, образующим основание, по настоящему изобретению предпочтительно является оптически активный карбамат, такой как трифенилметанол, бензилкарбамат или бензоинкарбамат; амид, такой как О-карбамоилгидроксиламид, О-карбамоилоксим, ароматический сульфонамид, альфа-лактам, N-(2-аллилэтинил)амид или другой амид; сложный эфир оксима, α-аминоацетофенон или комплексное соединение кобальта.
Примеры чувствительных к облучению веществ, образующих основание, включают соединения, представленные нижеследующими формулами (20)-(30):
где R72 означает алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, тиоалкильную группу с 1-6 атомами углерода, диалкиламиногруппу с 1-6 атомами углерода, пиперидильную группу, нитрогруппу, гидроксильную группу, меркаптогруппу, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода, арильную группу с 6-20 атомами углерода, атом фтора, хлора или брома, k означает целое число от 0 до 3, R73 означает атом водорода, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода, R74 и R75 независимо означают атом водорода, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода, арильную или бензильную группу с 6-20 атомами углерода, либо R74 и R75 могут быть связаны друг с другом с образованием циклической структуры, имеющей 5-6 атомов углерода;
где R76 означает алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, тиоалкильную группу с 1-6 атомами углерода, диалкиламиногруппу с 1-6 атомами углерода, пиперидильную группу, нитрогруппу, гидроксильную группу, меркаптогруппу, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода, R77 означает атом водорода, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода, R78 и R79 независимо означают атом водорода, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода, арильную или бензильную группу с 6-20 атомами углерода, либо R78 и R79 могут быть связаны друг с другом с образованием циклической структуры, имеющей 5-6 атомов углерода;
где R80 означает алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода, R81 и R82 независимо означают атом водорода, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода, арильную или бензильную группу с 6-20 атомами углерода, либо R81 и R82 могут быть связаны друг с другом с образованием циклической структуры, имеющей 5-6 атомов углерода;
где R83 и R84 независимо означают алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода;
где R85, R86 и R87 независимо означают алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода;
где R88 означает алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, тиоалкильную группу с 1-6 атомами углерода, диалкиламиногруппу с 1-6 атомами углерода, пиперидильную группу, нитрогруппу, гидроксильную группу, меркаптогруппу, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомамии углерода, R89 означает атом водорода, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода, R90, R91 и R92 независимо означают атом водорода, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода, арильную или бензильную группу с 6-20 атомами углерода;
где R93 означает алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, тиоалкильную группу с 1-6 атомами углерода, диалкиламиногруппу с 1-6 атомами углерода, пиперидильную группу, нитрогруппу, гидроксильную группу, меркаптогруппу, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода, R94 и R95 независимо означают атом водорода, гидроксильную группу, меркаптогруппу, цианогруппу, феноксигруппу, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, атом фтора, хлора или брома, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода, R96 и R97 независимо означают атом водорода, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода, арильную или бензильную группу с 6-20 атомамии углерода, либо R96 и R97 могут быть связаны друг с другом с образованием циклической структуры, имеющей 5-6 атомов углерода;
где R98 и R99 независимо означают алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, тиоалкильную группу с 1-6 атомами углерода, диалкиламиногруппу с 1-6 атомами углерода, пиперидильную группу, нитрогруппу, гидроксильную группу, меркаптогруппу, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода, R100-R103 независимо означают атом водорода, гидроксильную группу, меркаптогруппу, цианогруппу, феноксигруппу, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, атом фтора, хлора или брома, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода, А5 означает двухвалентную ароматическую, образующуюся в результате удаления двух атомов водорода, присоединенных к одному или двум атомам азота моноалкиламина, пиперазина, ароматического диамина или алифатического диамина;
где R104 и R105 независимо означают алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, тиоалкильную группу с 1-6 атомами углерода, диалкиламиногруппу с 1-6 атомами углерода, пиперидильную группу, нитрогруппу, гидроксильную группу, меркаптогруппу, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода, R106 и R107 независимо означают атом водорода, гидроксильную группу, меркаптогруппу, цианогруппу, феноксигруппу, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, атом фтора, хлора или брома, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода, R108-R111 независимо означают атом водорода, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода, арильную или бензильную группу с 6-20 атомами углерода, либо R108 и R109 или R110 и R111 могут быть связаны друг с другом с образованием циклической структуры, имеющей 5-6 атомов углерода, и А6 означает алкиленовую группу с 1-6 атомами углерода, циклогексиленовую группу, фениленовую группу или простую связь;
где R112-R114 независимо означают атом водорода, атом фтора, хлора или брома, алкильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную группу с 1-6 атомами углерода, алкинильную группу с 1-6 атомами углерода, алкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода;
где L является, по меньшей мере, одним лигандом, выбираемым из группы, включающей аммиак, пиридин, имидазол, этилендиамин, триметилендиамин, тетраметилендиамин, гексаметилендиамин, пропилендиамин, 1,2-циклогександиамин, N,N-диэтилэтилендиамин и диэтилентриамин, n означает целое число от 2 до 6, R115 означает алкенильную или алкинильную группу с 2-6 атомами углерода или арильную группу с 6-20 атомами углерода, и R116 означает алкильную группу с 1-18 атомами углерода.
Во всех вышеуказанных формулах (20)-(30) алкильная группа может быть линейной, разветвленной или циклической. Примеры алкенильной группы включают винильную группу и пропиленильную группу и примеры алкинильной группы включают ацетиленильную группу. Примеры арильной группы включают фенильную группу, нафтильную группу и антраценильную группу, а также группы, содержащие атом фтора, хлора или брома, галогеналкильную группу, гидроксильную группу, карбоксильную группу, меркаптогруппу, цианогруппу, нитрогруппу, азидогруппу, диалкиламиногруппу, алкоксильную группу или тиоалкильную группу, замещенную атомом водорода, имеющимся в вышеуказанных группах.
Из вышеуказанных чувствительных к облучению веществ, образующих основание, предпочтительными являются 2-нитробензилциклогексилкарбамат, трифениламетанол, о-карбамоилгидроксиламид, о-карбамоилоксим, [[(2,6-динитробензил)окси]карбонил]циклогексиламин, бис[[(2-нитробензил)окси]карбонил]гексан-1,6-диамин, 4-(метилтиобензоил)-1-метил-1-морфолиноэтан, (4-морфолинобензоил)-1-бензил-1-диметиламинопропан, N-(2-нитро-бензилоксикарбонил)пирролидин, трис(трифенилметилборат) гексаамина кобальта(III) и 2-бензил-2-диметиламино-1-(4-морфолинофенил)бутанон.
Вышеуказанное чувствительное к облучению разлагающее вещество (С) предпочтительно используют в количество 0,01 мас. части или больше, более предпочтительно в количестве 0,05 мас. части или больше в расчете на 100 мас. частей общего количества разлагаемого соединения (А) и неразлагаемого соединения, включающего частицы неорганического оксида (В). Если количество компонента (С) меньше 0,01 мас. части, чувствительность к облучению может стать недостаточной. Верхнее предельное количество предпочтительно составляет 30 мас. частей, более предпочтительно 20 мас. частей.
(D) Стабилизатор
Изменяющая показатель преломления композиция по настоящему изобретению может содержать (D) стабилизатор в качестве необязательного компонента дополнительно к вышеуказанным компонентам (А), (В) и (С).
Стабилизатор (D), используемый в настоящем изобретении, выполняет функцию стабилизации остаточного разлагаемого соединения (А), содержащегося в изменяющем показатель преломления материале после его облучения, с целью сообщения ему устойчивости к кислоте или основанию. Подобная стабилизация препятствует изменению показателя преломления и, следовательно, ухудшению модели распределения показателя преломления, полученной способом по настоящему изобретению, даже при применении в условиях прохождения света с длиной волны, близкой к длине волны, используемой для изменения показателя преломления.
Вышеуказанный стабилиизатор (D) выбирают из группы, включающей аминосоединение, эпоксидное соединение, соединение тиирана, соединение оксетана, соединение алкоксиметилмеламина, соединение алкоксиметилгликолурила, соединение алкоксиметилбензогуанамина, соединение алкоксиметилмочевины, соединение изоцианата, соединение цианата, соединениие оксазолина, соединение оксазина и силильное соединение (галогенсодержащее силильное соединение и другое силильное соединение).
Примеры вышеуказанного аминосоединения включают триэтиламин, трипропиламин, трибутиламин, трипентиламин, тригексиламин, трициклогексиламин, трифениламин, трибензиламин, анилин, этилендиамиин, диэтилентриамин, триэтилентетрамин, тетраэтиленпентамин, 1,3-диаминопропан, 1,4-диаминобутан, 1,5-диаминопентан, 1,6-диаминогексан, 1,7-диаминогептан, 1,8-диаминооктан, 1,9-диаминононан, 1,10-диаминодекан, 1,11-диаминоундекан, 1,12-диаминододекан, 1,4-диаминоциклогексан, 1,3-циклогексанбис(метиламин), 1,3-пропан-2-ол, 2,2',2"-триаминотриэтиламин, 1,4-диамино-2,2,3,3-тетрафторпентан, 1,5-диамино-2,2,3,3,4,4-гексафторпентан, меламин, бензогуанамин, ацетогуанамин, акрилогуанамин, парамин, амидол, м-фенилендиамин, п-фенилендиамин, п,п'-диаминодифенилметан, диаминодифенилсульфон, 1,8-диаминонафталин, 3,5-диамино-1,2,4-триазол, 2-хлор-4,6-диамино-S-триазин, 2,6-диаминопиридин, 3,3'-диаминобензидин, бис(4-аминофениловый) эфир, м-ксилилендиамин, п-ксилилилендиамин, 1,2,4,5-бензолтетрамин, 2,4-диамино-1,3,5-триазин, 4,4'-диаминобензофенон, 3,3',4,4'-тетрааминобензофенон, триаминобензол, 4,4'-тиодианилин, 2,3,5,6-тетрабром-п-ксилилендиамин, 2,3,5,6-тетрахлор-п-ксилилендиамин, 4,5-метилендиокси-1,2-фенилендиамин и 2,2'-бис-(5-аминопиридил)сульфид.
Примерами вышеуказанного эпоксидного соединения являются бисфенол А-эпоксидная смола, бисфенол F-эпоксидная смола, эпоксифенолноволачная смола, эпоксикрезолноволачная смола, циклическая алифатическая эпоксидная смола, бисфенол А-эпоксидное соединение и алифатический полиглицидиловый эфир.
Ниже приведены примеры коммерчески производимых продуктов, включающих вышеуказанные соединения. Коммерчески производимые продукты бисфенол А-эпоксидной смолы включают Epicoat 1001, 1002, 1003, 1004, 1007, 1009, 1010 и 828 (компания Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), подобные продукты бисфенол F-эпоксидной смолы включают Epicoat 807 (компания Yuka Shell Co., Ltd.), подобные продукты эпоксифенолноволачной смолы включают Epicoat 152 и 154 (компания Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) и EPPN201 и 202 (компания Nippon Kayaku Co., Ltd.), подобные продукты эпоксикрезолноволачной смолы включают EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025 и EOCN-1027 (компания Nippon Kayaku Co., Ltd.) и Epicoat 180S75 (компания Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), подобные продукты циклической алифатической эпоксидной смолы включают CY175, CY177 и CY179 (компания CIBA-GEIGY A.G.), ERL-4234, ERL-4299, ERL-4221 и ERL-4206 (компания U.C.C. Co., Ltd.), Showdyne 509 (компания Showa Denko K.K.), Araldyte CY-182, CY-192 и CY-184 (компания CIBA-GEIGY A.G.), Epichlon 200 и 400 (компания Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Epicoat 871 и 872 (компания Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), ED-5661 и ED-5662 (компания Celanees Coating Co., Ltd), и подобные продукты алифатического полиглицидилового эфира включают Epolite 100MF (компания Kyoeisha Kagaku Co., Ltd.) и Epiol TMP (корпорация NOF).
Помимо вышеуказанных соединений, в качестве эпоксидного соединения можно успешно использовать фенилглицидиловый эфир, бутилглицидиловый эфир, 3,3,3-трифторметилпропиленоксид, стиролоксид, гексафторпропиленоксид, циклогексеноксид, N-глицидилфталимид, (нонафтор-N-бутил)эпоксид, перфторэтилглицидиловый эфир, эпихллоргидрин, эпибромгидрин, N,N-диглицидиланилин и 3-[2-(перфторгексил)этокси]-1,2-эпоксипропан.
Примеры вышеуказанного соединения тиирана включают соединения, получаемые замещением эпоксильных групп в приведенных выше эпоксидных соединениях группой этиленсульфида, как это описано, например, в журнале J. Org. Chem., 28, 229 (1963).
Примеры вышеуказанного соединения оксетана включают
бис[(3-этил-3-оксетанилметокси)метил]бензол (торговое название XDO, производство компании Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.),
бис[(3-этил-3-оксетанилметокси)метилфенил]метан,
бис[(3-этил-3-оксетанилметокси)метилфениловый] эфир,
бис[(3-этил-3-оксетанилметокси)метилфенил]пропан,
бис[(3-этил-3-оксетанилметокси)метилфенил]сульфон,
бис[(3-этил-3-оксетанилметокси)метилфенил]кетон,
бис[(3-этил-3-оксетанилметокси)метилфенил]гексафторпропан,
три[(3-этил-3-оксетанилметокси)метил]бензол и
тетра[(3-этил-3-оксетанилметокси)метил]бензол.
Вышеуказанное соединение алкоксиметилмеламина, соединение алкоксиметилбензогуанамина, соединение алкоксиметилгликолурила и соединение алкоксиметилмочевины получают, замещая метилольные группы соединения метилолмеламина, соединения метилолбензогуанамина, соединения метилолгликолурила и соединения метилолмочевины алкоксиметильной группой. Тип алкоксиметильной группы не имеет конкретных ограничений, и в качестве примера такой группы можно привести метоксиметильную группу, этоксиметильную группу, пропоксиметильную группу и бутоксиметильную группу.
Коммерчески производимые продукты вышеуказанных соединений включают Simel 300, 301, 303, 370, 325, 327, 701, 266, 267, 238, 1141, 272, 202, 1156, 1158, 1123, 1170 и 1174, UFR65 и 300 (компания Mitsui Cyanamid Co., Ltd.), Nicalak Mx-750, Mx-032, Mx-706, Mx-708, Mx-40, Mx-31, Ms-11 и Mw-30 (компания Sanwa Chemical Co., Ltd.).
Примеры вышеуказанного соединения изоцианата включают фенилен-1,3-диизоцианат, фенилен-1,4-диизоцианат, 1-метоксифенилен-2,4-диизоцианат, 1-метилфенилен-2,4-диизоцианат, 2,4-толилендиизоцианат, 2,6-толилендиизоцианат, 1,3-ксилилендиизоцианат, 1,4-ксилилендиизоцианат, бифенилен-4,4'-диизоцианат, 3,3'-диметоксибифенилен-4,4'-диизоцианат, 3,3'-диметилбифенилен-4,4'-диизоцианат, дифенилметан-2,4'-диизоцианат, дифенилметан-4,4'-диизоцианат, 3,3'-диметоксидифенилметан-4,4'-диизоцианат, 3,3'-диметилдифенилметан-4,4'-диизоцианат, нафталин-1,5-диизоцианат, циклобутилен-1,3-диизоцианат, циклопентилен-1,3-диизоцианат, циклогексилен-1,3-диизоцианат, циклогексилен-1,4-диизоцианат, 1-метилциклогексилен-2,4-диизоцианат, 1-метилциклогексилен-2,6-диизоцианат, 1-изоцианат-3,3,5-триметил-5-изоцианат, метилциклогексан, циклогексан-1,3-бис(метилизоцианат), циклогексан-1,4-бис(метилизоцианат), изофорондиизоцианат, дициклогексилметан-2,4'-диизоцианат, дициклогексилметан-4,4'-диизоцианат, этилендиизоцианат, тетраметилен-1,4-диизоцианат, гексаметилен-1,6-диизоцианат, додекаметилен-1,12-диизоцианат, метиловый эфир лизиндиизоцианата и форполимеры, имеющие изоцианатные группы с обоих концов, которые получают в результате взаимодействия стехиометрического избыточного количества органического диизоцианата и бифункционального активного водородсодержащего соединения.
Вышеуказанный диизоцианат необязательно можно использовать в сочетании с органическим полиизоцианатом, имеющим 3 или более изоцианатные группы, таким как фенил-1,3,5-триизоцианат, дифенилметан-2,4,4'-триизоцианат, дифенилметан-2,5,4'-триизоцианат, трифенилметан-2,4',4"-триизоцианат, трифенилметан-4,4',4"-триизоцианат, дифенилметан-2,4,2',4'-тетраизоцианат, дифенилметан-2,5,2',5'-тетраизоцианат, циклогексан-1,3,5-триизоцианат, циклогексан-1,3,5-трис(метилизоцианат), 3,5-диметилциклогексан-1,3,5-трис(метилизоцианат), 1,3,5-триметилцикло-гексан-1,3,5-трис(метилизоцианат), дициклогексилметан-2,4,2'-триизоцианат, дициклогексилметан-2,4,4'-триизоцианат или форполимер, имеющий концевую изоцианатную группу, который получают в результате взаимодействия стехиометрически избыточного количества органического полиизоцианата, содержащего 3 или более изоцианатные группы, и полифункционального активного водородсодержащего соединения, имеющего 2 или более атома водорода.
Примеры вышеуказанного цианатного соединения включают 1,3-дицианатобензол, 1,4-дицианатобензол, 1,3,5-трицианатобензол, 1,3-, 1,4-, 1,6- 1,8-, 2,6- или 2,7-дицианатонафталин, 1,3,6-трицианатонафталин, 2,2'- или 4,4'-дицианатобифенил, бис(4-цианатофенил)метан, 2,2-бис(4-цианатофенил)пропан, 2,2'-бис(3,5-дихлор-4-цианатофенил)пропан, 2,2-бис(4-цианатофенил)этан, бис(4-цианатофениловый) эфир, бисм(4-цианатофениловый) тиоэфир, бис(4-цианатофенил)сульфон, 1,1,1,3,3,3-гексафтор-2,2-бис(4-цианатофенил)пропан, трис(4-цианатофенил)фосфит, трис(4-цианатофенил)фосфонат и бензольные многоядерные соединения полиизоцианата, полученные в результате взаимодействия фенольной смолы и галогенсодержащего циана (см., например, заявки JP-B 45-11712 и JP-B 55-9433) (термин "JP-B" в используемом здесь значении означает "публикацию рассмотренного патента Японии"). Особенно предпочтительным является двухвалентное соединение эфира циановой кислоты, полученное из бисфенола, такого как 2,2-бис(4-цианатофенил)пропан, так как данное соединение можно легко приобрести, оно характеризуется великолепной формуемостью и сообщает необходимые свойства конечному отвержденному продукту. Полицианат, полученный в результате взаимодействия исходного конденсата фенола и формальдегида с галогенсодержащим цианом, также является полезным соединением.
Примеры вышеуказанного соединения оксазолина включают
2,2'-бис(2-оксазолин),
4-фуран-2-илметилен-2-фенил-4Н-оксазол-5-он,
1,4-бис(4,5-дигидро-2-оксазолил)бензол,
1,3-бис(4,5-дигидро-2-оксазолил)бензол,
2,3-бис(4-изопропенил-2-оксазолин-2-ил)бутан,
2,2'-бис-4-бензил-2-оксазолин,
2,6-(изопропил-2-оксазолин-2-ил)пиридин,
2,2'-изопропилиденбис(4-трет-бутил-2-оксазолин),
2,2'-изопропилиденбис(4-фенил-2-оксазолин),
2,2'-метиленбис(4-трет-бутил-2-оксазолин) и
2,2'-метиленбис(4-фенил-2-оксазолин).
Примеры вышеуказанного соединения оксазина включают
2,2'-бис(2-оксазин),
4-фуран-2-илметилен-2-фенил-4Н-оксазил-5-он,
1,4-бис(4,5-дигидро-2-оксалил)бензол,
1,3-бис(4,5-дигидро-2-оксалил)бензол,
2,3-бис(4-изопропенил-2-оксазин-2-ил)бутан,
2,2'-бис-4-бензил-2-оксазин,
2,6-бис(изопропил-2-оксазин-2-ил)пиридин,
2,2'-изопропилиденбис(4-трет-бутил-2-оксазин),
2,2'-изопропилиденбис(4-фенил-2-оксазин),
2,2'-метиленбис(4-трет-бутил-2-оксазин) и
2,2'-метиленбис(4-фенил-2-оксазин).
Примеры вышеуказанного галогенсодержащего силильного соединения включают тетрагалогенсиланы, такие как тетрахлорсилан, тетрабромсилан, тетраиодсилан, трихлорбромсилан и дихлордибромсилан; моноалкилтригалогенсиланы, такие как метилтрихлорсилан, метилдихлорбромсилан и циклогексилтрихлорсилан; моноарилтригалогенсиланы, такие как фенилтрихлорсилан, нафтилтрихлорсилан, 4-хлорфенилтрихлорсилан и фенилдихлорбромсилан; моноарилокситригалогенсиланы, такие как фенокситрихлорсилан и феноксидихлорбромсилан; моноалкокситригалогенсиланы, такие как метокситрихлорсилан и этокситрихлорсилан; диалкилдигалогенсиланы, такие как диметилдихлорсилан, метил(этил)дихлорсилан и метил(циклогексил)дихлорсилан; моноалкилмоноарилдигалогенсиланы, такие как метил(фенил)дихлорсилан; диарилдигалогенсиланы, такие как дифенилдихлорсилан; диарилоксидигалогенсиланы, такие как дифеноксидихлорсилан; моноалкилмоноарилоксидигалогенсиланы, такие как метил(фенокси)дихлорсилан; моноарилмоноарилоксидигалогенсиланы, такие как фенил(фенокси)дихлорсилан; диалкоксидигалогенсиланы, такие как диэтоксидихлорсилан; моноалкилмоноалкоксидихлорсиланы, такие как метил(этокси)дихлорсилан; моноарилмоноэтоксидихлорсиланы, такие как фенил(этокси)дихлорсилан; триалкилмоногалогенсиланы, такие как триметилхлорсилан, диметил(этил)хлорсилан и диметил(циклогексил)хлорсилан; диалкилмоноарилмоногалогенсиланы, такие как диметил(фенил)хлорсилан; моноалкилдиарилмоногалогенсиланы, такие как метил(дифенил)хлорсилан; триарилоксимоногалогенсиланы, такие как трифеноксихлорсилан; моноалкилдиарилоксимоногалогенсиланы, такие как метил(дифенокси)хлорсилан; моноарилдиарилоксимоногалогенсиланы, такие как фенил(дифенокси)хлорсилан; диалкилмоноарилоксимоногалогенсиланы, такие как диметил(фенокси)хлорсилан; диарилмоноарилоксимоногалогенсиланы, такие как дифенил(фенокси)хлорсилан; моноалкилмоноарилмоноарилоксимоногалогенсиланы, такие как метил(фенил)(фенокси)хлорсилан; триэтоксимоногалогенсиланы, такие как триэтоксихлорсилан; и их олигомеры, такие как димер, тример, тетрамер и пентамер тетрахлорсилана.
Примеры вышеуказанного другого силильного соединения включают гексаметилдисилазан, трет-бутилдиметилхлорсилан, бис(триметилсилил)трифторацетамид, диэтиламинотриметилсилан, триметилсиланол, гексаметилдисилоксан, хлорметилдиметилэтоксисилан, ацетилтрифенилсилан, этокситрифенилсилан, трифенилсиланол, триэтилсиланол, трипропилсиланол, трибутилсиланол, гексаэтилдисилоксан, триметилметоксилан, триметилэтоксисилан, триэтилметоксисилан, триэтилэтоксисилан, ацетоксиэтилдиметилхлорсилан, 1,3-бис(гидроксибутил)тетраметилдисилоксан, 1,3-бис-(гидроксипропил)тетраметилдисилоксан, γ-аминопропилметоксисилан, γ-аминопропилэтоксисилан, N-β-(аминоэтил)-γ-аминопропилтриметоксисилан, N-β-(аминоэтил)-γ-аминопропилметилдиметоксисилан, N-фенил-γ-аминопропилтриметоксисилан, γ-анилинопропилтриметоксисилан, γ-дибутиламинопропилтриметоксисилан, γ-уреидопропилтриэтоксисилан, гидрохлорат N-β-(N-винилбензиламиноэтил)-γ-аминопропилтриметоксисилана, γ-метакрилоксипропилтриметоксисилан, γ-метакрилоксипропилтриэтоксисилан, винилтриметоксисилан, винилтриэтоксисилан, винилтрихлорсилан, винилтрис(β-метоксиэтокси)силан, γ-глицидоксипропилметилдиэтоксисилан, γ-глицидоксипропилтриэтоксисилан, γ-(3,4-эпоксициклогексил)этилтриметоксисилан, γ-глицидоксипропилтриметоксисилан, γ-меркаптопропилтриметоксисилан, γ-хлорпропилтриметоксисилан, триметилхлорсилан, гексаметилдисилазан, N-триметилсилилимидазол, бис(триметилсилил)мочевина, триметилсилилацетамид, бистриметилсилилацетамид, триметилсилилизоцианат, триметилметоксисилан, триметилэтоксисилан, метилтриметоксисилан, метилтриэтоксисилан, диметилдиметоксисилан, диметилдиэтоксисилан, трет-бутилдиметилхлорсилан, трет-бутилдифенилхлорсилан, триизопропилхлорсилан, н-пропилтриметоксисилан, изобутилтриметоксисилан, н-гексилтриметоксисилан, н-децилтриметоксисилан, н-гексадецилтриметоксисилан, 1,6-бис(триметоксисилил)гексан, диметилсилилдиизоцианат, метилсилилтриизоцианат, фенилтриметоксисилан, дифенилдиметоксисилан и фенилсилилтриизоцианат.
Стабилизатором (D) по настоящему изобретению предпочтительно является аминосоединение, эпоксидное соединение, соединение тиирана, соединение оксетана, соединение оксазолина, соединение оксазина, силильное соединение, соединение изоцианата или цианата, более предпочтительно аминосоединение, эпоксидное соединение, соединение тиирана, соединение оксетана, соединение оксазолина или соединение оксазина. Особенно предпочтительными соединениями являются этилендиамин, фенилглицидиловый эфир, 3-феноксипропиленсульфид, 3,3,3-трифторпропиленоксид, гексаметилдисилазан, γ-аминопропилметоксисилан, γ-глицидоксипропилтриметоксисилан или метилсилилтриизоцианат.
Указанные сталибизаторы (D) можно использовать по отдельности или в виде комбинации двух или более соединений. Количество компонента (D) может быть избыточным для обеспечения полного взаимодействия остаточного разлагаемого соединения (А), но обычно данное количество составляет 10 мас. частей или больше, предпочтительно 30 мас. частей или больше в расчете на 100 мас. частей компонента (А). Если количество компонента (D) меньше 10 мас. частей, стабильность изменяющего показатель преломления материала может стать неудовлетворительной к устойчивости из-за неполного взаимодействия.
Стабилизатор (D) можно использовать в сочетании с катализатором. Катализатор стимулирует взаимодействие между компонентом (D) и остаточным разлагаемым соединением (А).
Катализатор может быть, например, кислотным катализатором, основным катализатором или четвертичной ониевой солью.
Примеры кислотного катализатора включают органические кислоты, такие как уксусная кислота, метансульфоновая кислота, п-толуолсульфоновая кислота, трифторуксусная кислота и трифторметансульфоновая кислота; и неорганические кислоты, такие как хлористоводородная кислота, серная кислота и азотная кислота. Примеры основного катализатора включают карбонаты щелочных металлов, такие как карбонат натрия, карбонат калия и карбонат лития; бикарбонаты щелочных металлов, такие как бикарбонат натрия, бикарбонат калия и бикарбонат лития; ацетаты щелочных металлов, такие как ацетат натрия; гидриды щелочных металлов, такие как гидрид лития, гидрид натрия и гидрид калия; гидроксиды щелочных металлов, такие как гидроксид натрия, гидроксид калия и гидроксид лития; алкоксиды щелочных металлов, такие как метоксид натрия, этоксид натрия, трет-бутоксид калия и метоксид лития; меркаптанщелочные металлы, такие как метилмеркаптаннатрий и этилмеркаптаннатрий; органические амины, такие как триэтиламин, трибутиламин, диизопропилэтиламин, N-метилморфолин, пиридин, 4-(N,N-диметиламино)пиридин, N,N-диметиланилин, N,N-диэтиланилин, 1,5-диазабицикло[4.3.0]нона-5-ен, 1,4-диазабицикло[2.2.2]октан (DABCO) и 1,8-диазабицикло[5.4.0]ундец-7-ен (DBU); соединения алкиллития, такие как метиллитий, этиллитий и бутиллитий; и алкиламиды лития, такие как диизопропиламид лития и дициклогексиламид лития. Примеры вышеуказанной четвертичной ониевой соли включают хлорид тетрабутиламмония, бромид тетрабутиламмония, йодид тетрабутиламмония, ацетат тетрабутиламмония, хлорид тетрабутилфосфония, бромид тетрабутилфосфония, бромид цетилтриметиламмония, бромид тетрапропиламмония и хлорид бензилтриэтиламмония. В качестве катализатора можно также использовать комбинацию 18-краун-6-эфира и соли, такой как хлорид калия, бромид калия, йодид калия, хлорид цезия, феноксид калия, феноксид натрия или бензоат калия.
Из вышеуказанных соединений предпочтительными катализаторами являются п-толуолсульфоновая кислота, хлористоводородная кислота, серная кислота, гидроксид натрия, трет-бутоксид калия, триэтиламин, DBU, бромид тетрабутиламмония, бромид тетрабутилфосфония и 18-краун-6-эфир/феноксид калия.
Количество катализатора предпочтительно составляет 2 моль или меньше в расчете на 1 эквивалент соединения (D), когда в качестве компонента (D) используют аминосоединение, соединение алкоксиметилмеламина, соединение алкоксиметилгликолурила, соединение алкоксиметилбензогуанамина, соединение алкоксиметилмочевины или галогенсодержащее силильное соединение.
Эпоксидное соединение, соединение тиирана, соединение оксетана, соединение изоцианата, соединение цианата, соединение оксазолина, соединение оксазина или другое силильное соединение, являющееся компонентом (D), предпочтительно используют в количестве 0,2 моль или меньше в расчете на 1 эквивалент соединения (D).
Число эквивалентов компонента (D) получают, умножая количество реакционноспособных групп, имеющихся в компоненте (D), на количество (моль) компонента (D), а количество реакционноспособных групп определяют нижеследующим способом в зависимости от типа компонента (D).
аминосоединение: количество атомов азота;
эпоксидное соединение: количество эпоксильных групп;
соединение тиирана: количество этиленсульфидных групп;
соединение оксетана: количество оксетанильных групп;
соединение алкоксиметилмеламина, соединение алкоксиметилгликолурила, соединение алкоксиметилбензогуанамина и соединение алкоксиметилмочевины: количество алкоксиметильных групп;
соединение изоцианата: количество изоцианатных групп;
соединение цианата: количество цианатных групп;
соединение оксазолина: количество оксазолильных групп;
соединениие оксазина: количество оксазильных групп;
соединение силилгалогенида: количество атомов галогена, связанных с атомами кремния;
другое силильное соединение: количество атомов кремния.
<Другие компоненты>
Изменяющая показатель преломления композиция по настоящему изобретению может содержать другие добавки в количествах, которые не наносят ущерба целям изобретения. Указанные добавки включают поглотитель ультрафиолетовых лучей, сенсибилизатор, поверхностно-активное вещество, вещество, улучшающее теплостойкость, и адгезив.
Вышеуказанным поглотителем ультрафиолетовых лучей является, например, бензотриазол, салицилат, бензофенон, замещенный акрилонитрил, ксантен, кумарин, флавон или халкон. Типичные примеры поглотителя ультрафиолетовых лучей включают Tinubin 234 (2-(2-гидрокси-3,5-бис-(α,α-диметилбензил)фенил)-2Н-бензотриазол), Tinubin 571 (производное гидроксифенилбензотриазола) и Tinubin 1130 (продукт конденсации метил-3-(3-трет-бутил-5-(2Н-бензотриазол-2-ил)-4-гидроксифенил)пропионата и полиэтиленгликоль (молекулярная масса 300)) (компания Ciba Specialty Chemicals), 1,7-бис(4-гидрокси-3-метоксифенил)-1,6-гептадиен-3,5-дион и дибензилиденацетон.
Добавляя поглотитель ультрафиолетовых лучей, количество кислоты или основания, образуемое из компонента (С), можно сделать постепенно уменьшающимся по мере увеличения глубины от поверхности подвергаемой облучению части изменяющего показатель преломления материала по настоящему изобретению, что позволяет эффективно формировать GRIN. Количество поглотителя ультрафиолетовых лучей предпочтительно составляет 30 мас. частей или меньше, более предпочтительно 20 мас. частей или меньше в расчете на 100 мас. частей общего количества компонентов (А) и (В).
Вышеуказанным сенсибилизатором является, например, кумарин, замещенный в положении 3 и/или положении 7, флавон, дибензальацетон, дибензальциклогексан, халкон, ксантен, тиоксантен, порфирин, фталоцианин, акридин или антрацен.
Количество сенсибилизатора предпочтительно составляет 30 мас. частей или меньше, более предпочтительно 20 мас. частей или меньше в расчете на 100 мас. частей общего количества компонентов (А) и (В).
Вышеуказанное поверхностно-активное вещество можно добавлять для улучшения покрывающей способности, например, для предотвращения полосатости или улучшения способности к проявлению.
Примеры поверхностно-активного вещества включают неионогенные поверхностно-активные вещества, такие как полиоксиэтиленалкиловые эфиры, включая полиоксиэтиленлауриловый эфир, полиоксиэтиленстеариловый эфир и полиоксиэтиленолеиловый эфир; полиоксиэтиленариловые эфиры, включая полиоксиэтиленоктилфениловый эфир и полиоксиэтиленнонилфениловый эфир; и диалкиловые эфиры полиэтиленгликоля, включая полиэтиленгликольдилаурат и полиэтиленгликольдистеарат; фторированные поверхностно-активные вещества, которые можно приобрести коммерческим путем под торговыми названиями F Top EF301, EF303 и EF352 (компания Shin Akita Kasei Co., Ltd.), Megafac F171, F172 и F173 (компания Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Florade FC430 и FC431 (компания Sumitomo 3M Limited) и Asahi Guard AG710, Surflon S-382, SC-101, SC-102, SC-103, SC-104, SC-105 и SC-106 (компания Asahi Glass Col., Ltd.); и другие поверхностно-активные вещества, которые можно приобрести коммерческим путем под торговыми названиями: силоксанорганический полимер КР341 (компания Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) и (со)полимер на основе акриловой или метакриловой кислоты Polyflow No.57 и No.95 (компания Kyoeisha Kagaku Co., Ltd.).
Количество поверхностно-активного вещества предпочтительно составляет 2 мас. части или меньше, более предпочтительно 1 мас. часть или меньше в расчете на 100 мас. частей общего количества компонентов (А) и (В).
Вышеуказанный адгезив, который предпочтительно является силановым связующим веществом, можно добавлять для улучшения сцепления с подложкой.
Вышеуказанное вещество, улучшающее теплостойкость, является ненасыщенным соединением, таким как полиакрилат.
В изменяющую показатель преломления композицию по настоящему изобретению можно при необходимости также добавлять антистатик, противоокислитель, ингибитор ореола, пеногаситель, пигмент и термореактивное кислотообразующее вещество.
<Формирование модели распределения показателя преломления>
В соответствии с настоящим изобретением модель распределения показателя преломления можно получить, например, описанным ниже способом из вышеуказанной композиции, изменяющей показатель преломления.
Изменяющую показатель преломления композицию сначала растворяют или диспергируют в растворителе, получая при этом раствор композиции с содержанием твердых веществ от 5 до 70 мас.%. Раствор композиции перед применением можно при необходимости профильтровать через фильтр с диаметром отверстий около 0,1-10 мкм.
Указанный раствор композиции затем наносят на поверхность подложки, такой как кремниевая пластина, и подвергают предварительной горячей сушке с целью удаления растворителя, получая таким образом покровную пленку материала, изменяющего показатель преломления. Часть полученной покровной пленки затем подвергают облучению через шаблон для формирования модели и подводят сушку после облучения (РЕВ), в результате чего возникает разница между показателями преломления в облученных и необлученных частях материала, изменяющего показатель преломления.
Под действием облучения из чувствительного к облучению разлагающего вещества (С) образуется кислота или основание, которые оказывают разлагающее воздействие на компонент (А). Подвергнутый разложению продукт удаляется во время сушки после облучения. В результате этого возникает разница между показателями преломления в облученных и необлученных частях.
Растворитель, используемый для получения раствора, содержащего изменяющую показатель преломления композицию по настоящему изобретению, однородно растворяет или диспергирует вышеуказанные компоненты (А), (В) и (С), необязательно добавляемый компонент (D) и другие добавки и не взаимодействует с указанными компонентами.
Примеры растворителя включают спирты, такие как метанол, этанол, пропанол, изопропанол, бутанол, этиленгликоль и пропиленгликоль; простые эфиры, такие как тетрагидрофуран; простые эфиры гликоля, такие как монометиловый эфир этиленгликоля и моноэтиловый эфир этиленгликоля; ацетаты алкилового эфира этиленгликоля, такие как метилцеллозольвацетат и этилцеллозольвацетат; диэтиленгликоли, такие как монометиловый эфир диэтиленгликоля, моноэтиловый эфир диэтиленгликоля, диметиловый эфир диэтиленгликоля, этилметиловый эфир диэтиленгликоля и диэтиловый эфир диэтиленгликоля; моноалкиловые эфиры пропиленгликоля, такие как метиловый эфир пропиленгликоля, этиловый эфир пропиленгликоля, пропиловый эфир пропиленгликоля и бутиловый эфир пропиленгликоля; ацетаты алкилового эфира пропиленгликоля, такие как ацетат метилового эфира пропиленгликоля, ацетат этилового эфира пропиленгликоля, ацетат пропилового эфира пропиленгликоля и ацетат бутилового эфира пропиленгликоля; ацетаты алкилового эфира пропиленгликоля, такие как пропионат метилового эфира пропиленгликоля, пропионат этилового эфира пропиленгликоля, пропионат пропилового эфира пропиленгликоля и пропионат бутилового эфира пропиленгликоля; ароматические углеводороды, такие как толуол и ксилол; кетоны, такие как метилэтилкетон, циклогексанон и 4-гидрокси-4-метил-2-пентанон; сложные эфиры, такие как метилацетат, этилацетат, пропилацетат, бутилацетат, этил-2-гидроксипропионат, метил-2-гидрокси-2-метилпропионат, этил-2-гидрокси-2-метилпропионат, метилгидроксиацетат, этилгидроксиацетат, бутилгидроксиацетат, метиллактат, этиллактат, пропиллактат, бутиллактат, метил-3-гидроксипропионат, этил-3-гидроксипропионат, пропил-3-гидроксипропионат, бутил-3-гидроксипропионат, метил-2-гидрокси-3-метилбутаноат, метилметоксиацетат, этилметоксиацетат, пропилметоксиацетат, бутилметоксиацетат, метилэтоксиацетат, этилэтоксиацетат, пропилэтоксиацетат, бутилэтоксиацетат, метилпропоксиацетат, этилпропоксиацетат, пропилпропоксиацетат, бутилпропоксиацетат, метилбутоксиацетат, этилбутоксиацетат, пропилбутоксиацетат, бутилбутоксиацетат, метил-2-метоксипропионат, этил-2-метоксипропионат, пропил-2-метоксипропионат, бутил-2-метоксипропионат, метил-2-этоксипропионат, этил-2-этоксипропионат, пропил-2-этоксипропионат, бутил-2-этоксипропионат, метил-2-бутоксипропионат, этил-2-бутоксипропионат, пропил-2-бутоксипропионат, бутил-2-бутоксипропионат, метил-3-метоксипропионат, этил-3-метоксипропионат, пропил-3-метоксипропионат, бутил-3-метоксипропионат, метил-3-этоксипропионат, этил-3-этоксипропионат, пропил-3-этоксипропионат, бутил-3-этоксипропионат, метил-3-пропоксипропионат, этил-3-пропоксипропионат, пропил-3-пропоксипропионат, бутил-3-пропоксипропионат, метил-3-бутоксипропионат, этил-3-бутоксипропионат, пропил-3-бутоксипропионат и бутил-3-бутоксипропионат; и фторсодержащие растворители, такие как трифторметилбензол, 1,3-бис(трифторметил)бензол, гексафторбензол, гексафторциклогексан, перфтордиметилциклогексан, перфторметилциклогексан, октафтордекалин и 1,1,2-трихлор-1,2,2-трифторэтан.
Спирты, простые эфиры гликоля, ацетаты алкилового эфира этиленгликоля, ацетаты алкилового эфира пропиленгликоля, кетоны, сложные эфиры и диэтиленгликоли предпочтительно выбирают из вышеуказанных растворителей с учетом растворимости, реакционной способности в отношении каждого компонента и простоты образования покровной пленки.
Кроме того, в сочетании с вышеуказанным растворителем можно использовать растворитель с высокой температурой кипения. Примеры растворителя с высокой температурой кипения включают N-метилформамид, N,N-диметилформамид, N-метилформанилид, N-метилацетамид, N,N-диметилацетамид, N-метилпирролидон, диметилсульфоксид, бензилэтиловый эфир, дигексиловый эфир, ацетонилацетон, изофорон, капроновую кислоту, каприловую кислоту, 1-октанол, 1-нонанол, бензиловый спирт, бензилацетат, этилбензоат, диэтилоксалат, диэтилмалеат, γ-бутиролактон, этиленкарбонат, пропиленкарбонат и фенилцеллозольвацетат.
Изменяющую показатель преломления композицию, используемую в настоящем изобретении, формуют, придавая ей разные формы в зависимости от цели применения, и затем подвергают облучению. Например, из такой композиции формуют пруток, волокно, длинную пластину, сферу, пленку или линзу, причем настоящее изобретение не ограничено указанными формами. Изменяющую показатель преломления композицию по настоящему изобретению можно формовать обычным методом. Например, для этой цели можно использовать литьевое формование, прямое прессование, формование раздувом, экструзию, полимеризацию в форме, штамповку, вытяжку, нагрев/охлаждение, химическое осаждение в паровой фазе (CVD), спекание или сканирование. В зависимости от назначения оптически формованного продукта можно также использовать такие методы, как нанесение покрытия осаждением, продольная резка, нанесение покрытия на брусок, формование окунанием в раствор, лазерная обработка (LB), напыление, нанесение покрытия валиком, высокая печать или трафаретная печать.
При выполнении вышеуказанных методов формования композицию предпочтительно нагревают (данная стадия далее именуется "предварительной сушкой"). Температура нагрева, которая изменяется в зависимости от состава композиции по настоящему изобретению и типа добавок, предпочтительно составляет 30-200°С, более предпочтительно 40-150°С. Для нагрева можно использовать горячую плиту, печь или инфракрасное излучение.
Композицию подвергают воздействию инфракрасных лучей с длиной волны 365 нм, тепловых лучей с длиной волны 404 нм, гамма-лучей с длиной волны 436 нм, ультрафиолетовых лучей от источника света с широким диапазоном длины волны, такого как ксеноновая лампа, коротковолнового ультрафиолетового излучения, такого как лазерный луч эксимера KrF с длиной волны 248 нм или лазерный луч эксимера ArF с длиной волны 193 нм, рентгеновского излучения, такого как излучение синхротрона, заряженного корпускулярного луча, такого как электронный луч, видимого излучения или их сочетания. Из вышеуказанных воздействий предпочтительными являются ультрафиолетовое излучение и видимое излучение. Освещенность, которая зависит от длины волны излучения, предпочтительно равна 0,1-100 мВт/см2, так как при указанной освещенности достигается максимальная эффективность реакции. Воздействие вышеуказанным облучением через шаблон для формирования модели позволяет создать модель распределения показателя преломления чувствительного к облучению материала, изменяющего показатель преломления. Что касается точности формирования модели распределения показателя преломления, на которую влияет используемый источник света, то оптическую часть с распределением разных показателей преломления можно получить с разрешением около 0,2 мкм.
В соответствии с настоящим изобретением нагрев (далее именуемый "сушкой после облучения (РЕВ)") предпочтительно выполняют после облучения. РЕВ можно производить при помощи устройства, аналогичного устройству для предвариительной сушки, и произвольно выбирать условия его выполнения. Температура нагрева предпочтительно равна 30-150°С, более предпочтительно 30-130°С.
Если изменяющая показатель преломления композиция по настоящему изобретению не содержит необязательного компонента (D), то затем предпочтительно осуществляют стабилизацию стибилизатором (D).
Стабилизатор (D), используемый в настоящем изобретении, выполняет функцию стабилизации остаточного разлагаемого соединения (А), содержащегося в изменяющей показатель преломления композиции после облучения с целью сообщения устойчивости к кислоте или основанию. Подобная стабилизация препятствует изменению показателя преломления и, следовательно, ухудшению модели распределения показателя преломления, полученной способом по настоящему изобретению, даже при нахождении в условиях прохождения света с длиной волны, близкой к длине волны, используемой для изменения показателя преломления.
Примеры вышеуказанного стабилизатора (D) включают аминосоединение, эпоксидное соединение, соединение тиирана, соединение оксетана, соединение алкоксиметилмеламина, соединение алкоксиметилгликолурила, соединение алкоксиметилбензогуанамина, соединение алкоксиметилмочевины, соединение изоцианата, соединение цианата, соединениие оксазолина, соединение оксазина, галогенсодержащее силильное соединение и другое силильное соединение.
Типичные примеры указанных соединений аналогичны приведенным выше для стабилизатора (D). Помимо вышеуказанных аминосоединений можно также использовать аминосоединение с низкой температурой кипения, такое как аммиак или триэтиламин.
Указанные стабилизаторы (D) можно использовать по отдельности или в виде комбинации двух или более соединений. Количество компонента (D) может быть избыточным так, чтобы обеспечить полное взаимодействие остаточного разлагаемого соединения (А), но обычно данное количество составляет 10 мас. частей или больше, предпочтительно 15 мас. частей или больше в расчете на 100 мас. частей компонента (А). Если количество компонента (D) меньше 10 мас. частей, изменяющий показатель преломления материал может быть недостаточно устойчивым из-за неполного взаимодействия.
Стабилизатор (D) можно использовать в сочетании с катализатором. Катализатор стимулирует взаимодействие между компонентом (D) и остаточным разлагаемым соединением (А).
Примеры катализатора аналогичны приведенным выше для катализатора, описанного в связи со стабилизатором (D).
Изменяющую показатель преломления композицию, которая была подвергнута облучению, можно вводить в соприкосновение со стабилизатором (D) с целью стабилизации любым приемлемым способом. Например, компонент (D) и необязательно катализатор растворяют в приемлемом растворителе для контактирования с изменяющей показатель преломления композицией в виде раствора. Альтернативно, если компонент (D) представляет жидкость или газ в условиях контактирования, можно обеспечить 100% прямое контактирование с изменяющей показатель преломления композицией.
При использовании растворителя в процессе взаимодействия вышеуказанного стабилизатора (D) и компонента (А) такой растворитель предпочтительно должен растворять компонент (D) и необязательно добавляемый катализатор и не растворять компонент (А). В случае выбора вышеуказанного растворителя поверхность полученной модели распределения показателя преломления не будет шероховатой.
Примеры растворителя включают воду; спирты, такие как метанол, этанол, изопропанол, н-пропанол, н-бутанол, изобутанол, трет-бутанол, циклогексанол, этиленгликоль, пропиленгликоль и диэтиленгликоль; простые эфиры, такие как диэтиловый эфир и тетрагидрофуран; простые эфиры гликоля, такие как монометиловый эфир этиленгликоля и моноэтиловый эфир этиленгликоля; ацетаты алкилового эфира этиленгликоля, такие как метилцеллозольвацетат и этилцеллозольвацетат; диэтиленгликоли, такие как монометиловый эфир диэтиленгликоля, моноэтиловый эфир диэтиленгликоля и диметиловый эфир диэтиленгликоля; моноалкиловые эфиры пропиленгликоля, такие как метиловый эфир пропиленгликоля и этиловый эфир пропиленгликоля; ацетаты алкилового эфира пропиленгликоля, такие как ацетат метилового эфира пропиленгликоля и ацетат этилового эфира пропиленгликоля; ацетаты алкилового эфира пропиленгликоля, такие как пропионат метилового эфира пропиленгликоля, пропионат этилового эфира пропиленгликоля, пропионат пропилового эфира пропиленгликоля и пропионат бутилового эфира пропиленгликоля; ароматические углеводороды, такие как толуол и ксилол; алифатические углеводороды, такие как н-гексан, н-гептан и н-октан; кетоны, такие как метилэтилкетон, циклогексанон, метилизобутилкетон, метиламилкетон и 4-гидрокси-4-метил-2-пентанон; сложные эфиры, такие как этилацетат, пропилацетат, бутилацетат, этил-2-гидроксипропионат, метил-2-гидрокси-2-метилпропионат, этилгидроксиацетат, бутилгидроксиацетат, этиллактат, пропиллактат, бутиллактат, метил-3-гидроксипропионат, метил-2-гидрокси-3-метилбутаноат, этилметоксиацетат, бутилметоксиацетат, этил-2-метоксипропионат, бутил-2-метоксипропионат, бутил-2-этоксипропионат, бутил-2-бутоксипропионат, бутил-3-метоксипропионат, бутил-3-этоксипропионат, бутил-3-пропоксипропионат и бутил-3-бутоксипропионат; фторсодержащие растворители, такие как трифторметилбензол, 1,3-бис(трифторметил)бензол, гексафторбензол, гексафторциклогексан, перфтордиметилциклогексан, перфторметилциклогексан, октафтордекалин и 1,1,2-трихлор-1,2,2-трифторэтин; и апротонные полярные растворители, такие как диметилформамид, диметилсульфоксид, диметилацетамид и N-метилпирролидон.
Из вышеуказанных растворителей предпочтительными являются вода, спирты, простые эфиры гликоля, ацетаты алкилового эфира этиленгликоля и фторсодержащие растворители.
Стабилизатор (D) и остаточное разлогаемое соединение (А) подвергают взаимодействию при температуре реакции от 0 до 130°С, при этом время реакции обычно составляет от 10 секунд до 1 часа.
Если изменяющая показатель преломления композиция по настоящему изобретению содержит стабилизатор (D) в качестве необязательного компонента, реакционную смесь предпочтительно нагревают для стабилизации реакции между остаточным компонентом (А) и компонентом (D) вслед за сушкой после облучения или в виде отдельного процесса. Температура нагревания для стабилизации предпочтительно составляет 35-200°С, более предпочтительно указанная температура на 10°С или больше превосходит температуру РЕВ, еще предпочтительнее указанная температура на 20°С или больше превосходит температуру РЕВ.
Кроме того, можно произвести повторное облучение для разложения остаточного компонента (С), присутствующего в не подвергнутой облучению части, и дополнительно повысить стабильность материала.
Повторное облучение можно производить при той же длине волны, которая была использована для облучения с целью изменения показателя преломления, по всей поверхности модели и в том же количестве.
Для дальнейшего повышения стабильности материала можно производить необязательное нагревание. Для нагревания можно использовать устройство, аналогичное устройству для предварительной сушки, используемому во время формования материала, причем условия нагревания могут быть произвольными. На вышеописанной модели распределения показателя преломления по настоящему изобретению показатель преломления подвергнутой облучению части будет выше, чем показатель преломления части, не подвергнутой облучению. Указанную разницу можно довести до требуемого значения, регулируя типы и содержание компонентов (А) и (В) в изменяющем показатель преломления материале по настоящему изобретению. Например, максимальное значение разницы между показателями преломления можно довести до величины более 0,02.
Поскольку модель распределения показателя преломления по настоящему изобретению не ухудшается в результате изменения показателя преломления даже при нахождении в условиях прохождения света с длиной волны, близкой к длине волны, использованной для изменения показателя преломления, как это описано выше, полученный материал является чрезвычайно полезным в качестве оптического материала, предназначенного для применения в области оптоэлектроники и отображения данных.
Примеры
Нижеследующие примеры приведены для дальнейшей иллюстрации настоящего изобретения и не ограничивают его объем.
Средневесовую молекулярную массу всех соединений в расчете на полистирол измеряют при помощи хроматографа GPC системы-21 компании Showa Denko K.K.
Примеры синтеза компонента (А)
Пример 1 синтеза компонента (А)
63,62 г 3,3,4,4,5,5,5-гептафторпентанальдегида и 500 г тетрагидрофурана вводят в однолитровую колбу, заполненную азотом, и охлаждают до -78°С. К полученному раствору добавляют 0,64 г комплекса трехфтористого бора и эфира и перемешивают в атмосфере азота при -78°С в течение 48 часов.
К полученному реакционному раствору при охлаждении добавляют 0,8 г уксусного ангидрида и 0,6 г пиридина и перемешивают при -78°С в течение 2 часов. Реакционный раствор полностью концентрируют до 100 мл, нагревая при 60°С при пониженном давлении, и непрерывно впрыскивают в 5 литров ионообменной воды в течение 10 минут. Осадок повторно растворяют в 50 мас. частях тетрагидрофурана, очищают, производя повторное осаждение 5 литрами ионообменной воды, и сушат в вакууме при 50°С, получая при этом 43,31 г соединения (А-1). Средневесовая молекулярная масса полученного соединения равна 2700.
Пример 2 синтеза компонента (А)
Раствор 83,08 г дихлорида гексафторглутаровой кислоты в 400 мл хлороформа вводят в однолитровую трехгорлую колбу в атмосфере аргона, к полученному раствору добавляют раствор 18,62 г этиленгликоля и 33,66 г гидроксида калия в 200 мл ионообменной воды и перемешивают для осуществления межфазной поликонденсации. Реакционный раствор подвергают взаимодействию в течение 6 часов, после чего дважды очищают, производя повторное осаждение тетрагидрофураном-метанолом.
Осажденный полимер отделяют фильтрованием и сушат в вакууме при 50°С, получая при этом 59,87 г соединения (А-2). Средневесовая молекулярная масса полученного соединения равна 16700.
Пример 3 синтеза компонента (А)
50 мас. частей о-фталальдегида в виде мономера и 500 мас. частей тетрагидрофурана вводят в однолитровую колбу, заполненную азотом, и охлаждают до -78°С. В указанную колбу добавляют 1,0 мас. часть раствора н-бутиллития (1,5 моль/л) в н-гексане и перемешивают в атмосфере азота, охлаждая при -78°С, в течение 48 часов.
К полученному реакционному раствору при охлаждении добавляют 0,8 мас. части уксусного ангидрида и 0,6 мас. части пиридина и перемешивают при -78°С в течение 2 часов. Реакционный раствор концентрируют до 100 мл, нагревая при 60°С при пониженном давлении, и впрыскивают в 5 литров ионообменной воды в течение 10 минут. Осадок повторно растворяют в 50 мас. частях тетрагидрофурана, очищают, производя повторное осаждение 5 литрами ионообменной воды, и сушат в вакууме при 50°С, получая при этом 45 мас. частей соединения (А-3). Средневесовая молекулярная масса полученного соединения равна 26000.
Пример 4 синтеза компонента (А)
61,51 г хлорида терефталевой кислоты растворяют в 150 мл хлороформа в 500 мл трехгорлой колбе в атмосфере аргона. К полученному раствору добавляют раствор 33,05 г 1,4-бензолтиола и 33,66 г гидроксида калия в 150 мл ионообменной воды и перемешивают для осуществления межфазной поликонденсации. Реакционный раствор подвергают взаимодействию в течение 6 часов, после чего очищают, производя повторное осаждение тетрагидрофураном-метанолом.
Осажденное соединение отделяют фильтрованием и сушат в вакууме при 50°С, получая при этом 75,98 г соединения (А-4). Средневесовая молекулярная масса полученного соединения равна 33600.
Примеры синтеза компонента (В)
Пример 1 синтеза компонента (В)
39,66 г фенилтриметоксисилана и 24,44 г дифенилдиметоксисилана растворяют в 100 г этилметилового эфира этиленгликоля в однолитровой трехгорлой колбе и полученный раствор нагревают при 70°С, перемешивая магнитной мешалкой. В течение 1 часа к раствору непрерывно добавляют 5,20 г ионообменной воды. Взаимодействие осуществляют при 70°С в течение 4 часов, после чего полученный реакционный раствор охлаждают до комнатной температуры. Из реакционного раствора при пониженном давлении отгоняют 9,20 г метанола, представляющего побочный продукт реакции. Средневесовая молекулярная масса полученного полимера (В-1) равна 1600. К указанному полимеру добавляют 54,90 г раствора диоксида циркония в метилэтилкетоне (средний диаметр частиц равен 0,01-0,05 мкм, концентрация диоксида циркония составляет 30%). Содержание твердых веществ в полученном смешанном растворе частиц неорганического оксида (Bmix-1) равно 31,3%.
Пример 2 синтеза компонента (В)
К соединению (В-1), полученному в примере синтеза 1, добавляют 54,90 г раствора оксида титана в метилэтилкетоне (средний диаметр частиц равен 0,01-0,5 мкм, концентрация оксида титана составляет 30%). Содержание твердых веществ в полученном смешанном растворе частиц неорганического оксида (Bmix-2) равно 31,3%.
Пример 3 синтеза компонента (В)
К соединению (В-1), полученному в примере синтеза 1, добавляют 54,90 г раствора оксида олова в метилэтилкетоне (средний диаметр частиц равен 0,01-0,05 мкм, концентрация пентаоксида сурымы составляет 30%). Содержание твердых веществ в полученном смешанном растворе частиц неорганического оксида (Bmix-3) равно 31,3%.
Пример 4 синтеза компонента (В)
К соединению (В-1), полученному в примере синтеза 1, добавляют 54,90 г диспергированного в метаноле раствора оксида алюминия (средний диаметр частиц равен 0,0015-0,003 мкм, содержание твердых веществ составляет 30%, содержание воды составляет 5,6%). Содержание твердых веществ в полученном смешанном растворе частиц неорганического оксида (Bmix-4) равно 31,3%.
Пример 5 синтеза компонента (В)
15,22 г тетраметоксисилана и 27,24 г метилтриметоксисилана вводят в однолитровую трехгорлую колбу, растворяют указанные вещества, добавляя 100 г этилметилового эфира этиленгликоля, и полученный смешанный раствор нагревают при 60°С, перемешивая магнитной мешалкой. В течение 1 часа к смешанному раствору непрерывно добавляют 5,20 г ионообменной воды. Взаимодействие осуществляют при 60°С в течение 4 часов, после чего полученный реакционный раствор охлаждают до комнатной температуры. Затем из реакционного раствора при пониженном давлении отгоняют 9,20 г метанола, представляющего побочный продукт реакции. Средневесовая молекулярная масса полученного соединения (В-2) равна 1600. К полученному соединению добавляют 54,90 г раствора диоксида кремния в метилэтилкетоне (средний диаметр частиц равен 0,01-0,05 мкм, концентрация диоксида кремния составляет 30%). Содержание твердых веществ в полученном смешанном растворе частиц неорганического оксида (Bmix-5) равно 31,3%.
Пример 1
50 мас. частей соединения (А-1), используемого в качестве компонента (А), 50 мас. частей твердого вещества в смешанном растворе частиц неорганического оксида (Bmix-1), используемого в качестве компонента (В), и 1 мас. часть 2-(4-метоксифенил)бис(4,6-трихлорметил)-s-триазина, используемого в качестве компонента (С), растворяют в этилметиловом эфире диэтиленгликоля до общего содержания твердых веществ, равного 20 мас.%, и полученный раствор фильтруют через мембранный фильтр с диаметром отверстрий 0,2 мкм, получая при этом изменяющую показатель преломления композицию.
(1) Образование покровной пленки
Вышеуказанную композицию наносят на кремниевую подложку при помощи валика и подвергают предварительной сушке на горячей плите при 90°С в течение 2 минут с образованием покровной пленки толщиной 1,0 мкм.
(2) Формирование модели распределения показателя преломления
Полученную выше покровную пленку подвергают облучению, равному 100 мДж/см2, через шаблон для формирования модели при оптимальной глубине фокусировки в устройстве для экспонирования в редукционной проекции (корпорация Nikon, NA=0,45, λ=365 нм). Покровную пленку сушат после облучения при 130°С в течение 2 минут для формирования модели распределения показателя преломления с разницей между показателями преломления в подвергнутых облучению и не подвергнутых облучению частях материала. Подвергнутая облучению часть сформированной модели распределения показателя преломления далее именуется "частью с измененным показателем преломления", а не подвергнутая облучению часть именуется "частью с неизмененным показателем преломления".
(3) Измерение показателя преломления
Показатели преломления в части с измененным показателем преломления и в части с неизмененным показателем преломления сформированной выше модели распределения показателя преломления измеряют при 633 нм в эллипсометре Auto EL IV NIR III (компания Rudolf Research Co., Ltd.). Результаты приведены в таблице 1.
(4) Оценка прозрачности
Модель распределения показателя преломления формируют на стеклянной подложке аналогично пунктам (1) и (2) за исключением того, что вместо кремниевой подложки используют стеклянную подложку Corning 1737 (компания Corning Co., Ltd.). Подвергнутая облучению часть модели распределения показателя преломления, сформированная на стеклянной подложке, далее именуется "частью с измененным показателем преломления", а не подвергнутая облучению часть именуется "частью с неизмененным показателем преломления".
Затем измеряют прозрачность части с измененным показателем преломления и части с неизмененным показателем преломления модели распределения показателя преломления, сформированной на стеклянной подложке, при длине волны 400-800 нм в спектрофотометре с двумя лучами (компания Hitachi, Ltd.). Можно отметить, что минимальная прозрачность, превышающая 95%, считается удовлетворительной и минимальная прозрачность, равная 95% или меньше, считается неудовлетворительной. Результаты приведены в таблице 1.
(5) Стабилизация
20% раствор 2,2,3,3,4,4,4-гептафторбутилоксисилана в диметилформамиде (содержащий 10 мол.% бромида тетрабутиламмония), используемый в качестве компонента (D), нагревают при 100°С, после чего кремниевую и стеклянную подложки со сформированными на них моделями распределения показателя преломления погружают в указанный раствор при 100°С на 2 минуты, а затем промывают сверхчистой водой в течение 1 минуты.
Затем все поверхности моделей повторно подвергают облучению, равному 4,5 мВт/см2, в устройстве Canon PLA-501F без фильтра в течение 1 минуты и нагревают в печи при 200°С в течение 10 минут для стабилизации моделей распределения показателя преломления.
(6) Оценка показателя преломления и прозрачности
Показатели преломления в части с измененным показателем преломления и в части с неизмененным показателем преломления стабилизированной модели распределения показателя преломления, сформированной на кремниевой подложке, измеряют аналогично пункту (3). Результаты приведены в таблице 2.
Прозрачность части с измененным показателем преломления и части с неизмененным показателем преломления стабилизированной модели распределения показателя преломления, сформированной на стеклянной подложке, измеряют аналогично пункту (4). Результаты приведены в таблице 2.
(7) Оценка стабильности модели распределения показателя преломления
Всю поверхность стабилизированной модели распределения показателя преломления, сформированной на кремниевой подложке, и всю поверхность стабилизированной модели распределения показателя преломления, сформированной на стеклянной подложке, подвергают облучению, равному 4,5 мВт/см2, в течение 30 минут в устройстве Canon PLA-501F без фильтра с целью ускорения воздействия облучения.
Показатели преломления в части с измененным показателем преломления и в части с неизмененным показателем преломления подвергнутой указанной обработке модели распределения показателя преломления, сформированной на кремниевой подложке, измеряют аналогично пункту (3). Результаты приведены в таблице 2.
Прозрачность части с измененным показателем преломления и части с неизмененным показателем преломления стабилизированной модели распределения показателя преломления, сформированной на стеклянной подложке, измеряют аналогично пункту (4). Результаты приведены в таблице 2.
Пример 2
Оценки выполняют аналогично примеру 1 за исключением того, что в качестве компонента (В) используют 50 мас. частей твердого вещества в смешанном растворе частиц неорганического оксида (Bmix-2), температуру РЕВ на стадии (2) (формирование модели распределения показателя преломления) изменяют, как показано в таблице 1, тип компонента (D) и температуру стабилизации на стадии (5) (стабилизация) изменяют, как показано в таблице 2. Результаты приведены в таблице 1 и таблице 2.
Пример 3
Оценки выполняют аналогично примеру 1 за исключением того, что в качестве компонента (А) используют 50 мас. частей соединения (А-2), в качестве компонента (В) используют 50 мас. частей твердого вещества в смешанном растворе частиц неорганического оксида (Bmix-3), в качестве компонента (С) используют 5 мас. частей N-(2-нитробензилоксикарбонил)-пирролидина, температуру РЕВ на стадии (2) (формирование модели распределения показателя преломления) изменяют, как показано в таблице 1, тип компонента (D) и температуру стабилизации на стадии (5) (стабилизация) изменяют, как показано в таблице 2. Результаты приведены в таблице 1 и таблице 2.
Пример 4
Оценки выполняют аналогично примеру 1 за исключением того, что в качестве компонента (А) используют 50 мас. частей соединения (А-2), в качестве компонента (В) используют 50 мас. частей твердого вещества в смешанном растворе частиц неорганического оксида (Bmix-4), в качестве компонента (С) используют 5 мас. частей N-(2-нитробензилоксикарбонил)-пирролидина, температуру РЕВ на стадии (2) (формирование модели распределения показателя преломления) изменяют, как показано в таблице 1, тип компонента (D) и температуру стабилизации на стадии (5) (стабилизация) изменяют, как показано в таблице 2. Результаты приведены в таблице 1 и таблице 2.
Пример 5
Оценки выполняют аналогично примеру 1 за исключением того, что в качестве компонента (А) используют 50 мас. частей соединения (А-3), в качестве компонента (В) используют 50 мас. частей твердого вещества в смешанном растворе частиц неорганического оксида (Bmix-5), степень облучения на стадии (2) (формирование модели распределения показателя преломления) изменяют, как показано в таблице 1, тип компонента (D) на стадии (5) (стабилизация) изменяют, как показано в таблице 2. Результаты приведены в таблице 1 и таблице 2.
Пример 6
Оценки выполняют аналогично примеру 1 за исключением того, что в качестве компонента (А) используют 50 мас. частей соединения (А-4), в качестве компонента (В) используют 50 мас. частей твердого вещества в смешанном растворе частиц неорганического оксида (Bmix-5), в качестве компонента (С) используют 5 мас. частей N-(2-нитробензилоксикарбонил)-пирролидина, степень облучения на стадии (2) (формирование модели распределения показателя преломления) изменяют, как показано в таблице 1, тип компонента (D) на стадии (5) (стабилизация) изменяют, как показано в таблице 2. Результаты приведены в таблице 1 и таблице 2.
Таблица 1 | |||||||||||||||
Условия формирования модели распределения показателя преломления | Оптические свойства до стабилизации | ||||||||||||||
Степень облучения (мДж/см2) | Температура РЕВ (°С) | Показатель преломления | Прозрачность | ||||||||||||
Часть с измененным показателем преломления | Часть с неизмененным показателем преломления | Часть с измененным показателем преломления | Часть с неизмененным показателем преломления | ||||||||||||
Пример 1 | 40 | 110 | 1,75 | 1,56 | 96,6% | 96,3% | |||||||||
Пример 2 | 40 | 110 | 1,74 | 1,56 | 95,8% | 95,4% | |||||||||
Пример 3 | 40 | 110 | 1,70 | 1,54 | 96,6% | 96,3% | |||||||||
Пример 4 | 90 | 90 | 1,62 | 1,50 | 95,8% | 95,4% | |||||||||
Пример 5 | 30 | 130 | 1,43 | 1,51 | 98,7% | 98,4% | |||||||||
Пример 6 | 80 | 130 | 1,43 | 1,55 | 99,0% | 98,6% | |||||||||
Таблица 2 | |||||||||||||||
Условия стабилизации | Оптические свойства после стабилизации | ||||||||||||||
Тип компонента (D) | Температура, °С | Показатель преломления | Прозрачность | ||||||||||||
Часть с измененным показателем преломления | Часть с неизмененным показателем преломления | Часть с измененным показателем преломления | Часть с неизмененным показателем преломления | ||||||||||||
Пример 1 | D-1 | 100°С | 1,76 | 1,57 | 96,7% | 96,4% | |||||||||
Пример 2 | D-1 | 100°С | 1,75 | 1,57 | 96,0% | 95,6% | |||||||||
Пример 3 | D-2 | 20°С | 1,70 | 1,54 | 96,6% | 96,3% | |||||||||
Пример 4 | D-2 | 20°С | 1,62 | 1,50 | 95,8% | 95,4% | |||||||||
Пример 5 | D-3 | 100°С | 1,43 | 1,51 | 98,7% | 98,4% | |||||||||
Пример 6 | D-3 | 100°С | 1,43 | 1,55 | 99,0% | 98,6% | |||||||||
Оптические свойства после ускорения облучения | |||||||||||||||
Показатель преломления | Прозрачность | ||||||||||||||
Часть с измененным показателем преломления | Часть с неизмененным показателем преломления | Часть с измененным показателем преломления | Часть с неизмененным показателем преломления | ||||||||||||
Пример 1 | 1,76 | 1,57 | 96,7% | 96,4% | |||||||||||
Пример 2 | 1,75 | 1,57 | 96,0% | 95,6% | |||||||||||
Пример 3 | 1,70 | 1,54 | 96,6% | 96,3% | |||||||||||
Пример 4 | 1,62 | 1,50 | 95,8% | 95,4% | |||||||||||
Пример 5 | 1,43 | 1,51 | 98,7% | 98,4% | |||||||||||
Пример 6 | 1,43 | 1,55 | 99,0% | 98,6% |
В таблице 2 символы, обозначающие компонент (D), имеют следующие значения.
D-1: 20% раствор 2,2,3,3,4,4,4-гептафторбутилоксисилана в диметилформамиде (содержащий 10 мол.% бромида тетрабутиламмония).
D-2: 1% водный раствор этилендиамина.
D-3: 20% раствор диглицидилового эфира бисфенола А в диметилформамиде (содержащий 10 мол.% бромида тетрабутиламмония).
Пример 7
Изменяющую показатель преломления композицию получают аналогично примеру 1 за исключением того, что добавляют 15 мас. частей диглицидилового эфира глицерина (D). Покровную пленку получают аналогично стадии (1) примера 1, используя вышеуказанную композицию, и подвергают ее облучению, как это описано в стадии (2). После облучения пленку нагревают при 110°С в течение 2 минут и затем стабилизируют при 130°С в течение 10 минут. Подвергнутая облучению часть сформированной выше модели распределения показателя преломления именуется "частью с измененным показателем преломления", а не подвергнутая облучению часть именуется "частью с неизмененным показателем преломления".
Показатель преломления и прозрачность модели распределения показателя преломления, сформированной в соответствии с приведенным выше описанием, оценивают аналогично стадии (3) и стадии (4) примера 1, соответственно. Результаты приведены в таблице 3. Стабильность сформированной модели распределения показателя преломления оценивают аналогично стадии (7) примера 1. Результаты приведены в таблице 3.
Таблица 3 | ||||
Оптические свойства после стабилизации | ||||
Показатель преломления | Прозрачность | |||
Часть с измененным показателем преломления | Часть с неизмененным показателем преломления | Часть с измененным показателем преломления | Часть с неизмененным показателем преломления | |
Пример 7 | 1,76 | 1,58 | 96,7% | 96,2% |
Оптические свойства после ускорения облучения | ||||
Показатель преломления | Прозрачность | |||
Часть с измененным показателем преломления | Часть с неизмененным показателем преломления | Часть с измененным показателем преломления | Часть с неизмененным показателем преломления | |
Пример 7 | 1,76 | 1,57 | 96,7% | 96,4% |
Промышленная применимость
Поскольку модель распределения показателя преломления, сформированная способом по настоящему изобретению, характеризуется достаточно большой разницей между показателями преломления, которая устойчива к воздействию света и тепла, такая модель является исключительно полезной для применения в области оптоэлектроники и отображения данных. Модель распределения показателя преломления по настоящему изобретению, кроме того, используют в качестве оптического материала для фотоматриц, линз, оптопар, фотопрерывателей, поляризованных светоделительных элементов, голограмм, одномодовых и многомодовых оптических волокон, волоконно-оптических жгутов, световодов, одножильных, многожильных и волоконно-оптических соединителей и волоконно-оптических соединителей фотоэлектрической связи, оптических разъединителей, поляризаторов, оптических датчиков, таких как фотодиоды, фототранзисторы, фото-ИС, формирователей сигналов изображений на основе устройства с зарядовой связью (CCD), формирователей сигналов изображений на основе КМОП, волоконно-оптических датчиков и волоконно-оптических гироскопов, оптических дисков, таких как CD, LD, PD и DVD, оптических выключателей, волноводов, оптических сенсорных панелей, дифракционных решеток, оптических направляющих устройств, оптических диффузоров, антиотражателей и оптических уплотнителей.
Claims (12)
1. Чувствительная к облучению композиция, изменяющая показатель преломления, которая содержит (А) разлагаемое соединение, являющееся соединением, имеющим, по меньшей мере, одну структуру, выбираемую из группы, включающей структуры, представленные нижеследующими формулами (1)-(6), (10) и (11)-(14):
где R1 означает алкиленовую группу, перфторалкиленовую группу, алкилсилиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу или ариленовую группу, и R2 означает алкиленовую группу, перфторалкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу, при условии, что вышеуказанная алкиленовая группа или перфторалкиленовая группа может иметь связь -О-, -СО-, -СОО- или -OCOO-;
где М означает Si или Ge, R3 означает алкиленовую группу, перфторалкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу, алкилгермиленовую группу или простую связь, R4 означает атом кислорода, алкиленовую группу, перфторалкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу или простую связь, R5, R6, R7 и R8 независимо означают атом водорода, алкильную группу, арильную группу, алкоксильную группу, тиоалкильную группу, алкокси(сложно)эфирную группу, перфторалкильную группу, перфторалкоксильную группу, перфторалкокси(сложно)эфирную группу или перфторарильную группу, и m означает целое число от 0 до 2, при условии, что вышеуказанная алкиленовая группа или перфторалкиленовая группа может иметь связь -О-, -СО-, -СОО- или -ОСОО-;
где R9 и R10 независимо означают алкиленовую группу, перфторалкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу, при условии, что вышеуказанная алкиленовая группа или перфторалкиленовая группа может иметь связь -О-, -СО-, -СОО- или -ОСОО-;
где R11 означает оксиалкиленовую группу или простую связь, и R12 означает атом водорода, алкильную группу, алкоксильную группу, алкокси(сложно)эфирную группу, перфторалкильную группу, перфторалкокси(сложно)эфирную группу, перфторарильную группу, алкиленариленалкиленовую группу или арильную группу;
где R13 означает атом водорода, алкильную группу, алкоксильную группу, алкокси(сложно)эфирную группу, перфторалкильную группу, перфторалкоксильную группу, перфторалкокси(сложно)эфирную группу, перфторарильную группу или арильную группу;
где R14 означает алкиленовую группу или структуру, представленную нижеследующей формулой (7), (8) или (9):
где R15, R16, R17 и R18 независимо означают атом водорода, цепную алкильную группу с 1-6 атомами углерода, атом хлора, брома или йода, гидроксильную группу, меркаптогруппу, карбоксильную группу, алкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, алкилтиогруппу с 1-6 атомами углерода, галогеналкильную группу с 1-6 атомами углерода, галогеналкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, галогеналкилтиогруппу с 1-6 атомами углерода, гидроксиалкильную группу с 1-6 атомами углерода, меркаптоалкильную группу с 1-6 атомами углерода, гидроксиалкоксильную группу с 1-6 атомами углерода, меркаптоалкилтиогруппу с 1-6 атомами углерода, арильную группу с 6-10 атомами углерода, или аралкильную группу с 7-11 атомами углерода;
где R19 означает алкиленовую группу;
где R20 означает алкиленовую группу;
где R21 означает алкиленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу или ариленовую группу;
где R22 означает алкиленовую группу, аралкиленовую группу или ариленовую группу, R23 означает алкиленовую группу, аралкиленовую группу, ариленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу, R24, R25, R26 и R27 независимо означают атом водорода, алкильную группу, арильную группу, алкоксильную группу или тиоалкильную группу, i и j независимо означают 0 или 1;
где R28 означает алкиленовую группу, аралкиленовую группу или ариленовую группу, и R29 означает алкиленовую группу, аралкиленовую группу, ариленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу;
где R30 и R31 независимо означают алкиленовую группу, аралкиленовую группу, ариленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу;
где R32 и R33 независимо означают алкиленовую группу, аралкиленовую группу, ариленовую группу, алкиленариленалкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу,
(В) неразлагаемый компонент, включающий частицы неорганического оксида, устойчивый к воздействию кислоты или основания образующихся из чувствительного к облучению разлагающего вещества, (С) определенного ниже,
и (С) чувствительное к облучению разлагающее вещество,
и в которой соотношение между показателем преломления nА разлагаемого соединения (А) и показателем преломления nв неразлагаемого компонента (В) удовлетворяет одному из двух нижеследующих выражений (1) или (2):
а количество компонента (В) составляет 10-90 мас.ч. в расчете на 100 мас.ч. общего количества компонентов (А) и (B), и количество компонента (С) составляет 0,01-30 мас.ч. в расчете на 100 мас.ч. общего количества компонентов (А) и (В).
2. Композиция по п.1, которая дополнительно содержит (D) стабилизатор.
5. Композиция по любому из пп.1-4, в которой компонент (В) включает связующее вещество вместе с частицами неорганического оксида.
6. Способ изменения показателя преломления, который заключается в том, что чувствительную к облучению композицию по пп.1 или 2, изменяющую показатель, преломления, подвергают облучению.
7. Способ формирования модели распределения показателя преломления, который заключается в том, что часть чувствительной к облучению композиции по п.1 или 2, изменяющей показатель преломления, подвергают облучению.
8. Способ формирования модели распределения показателя преломления, который заключается в том, что часть чувствительной к облучению композиции по п.1, изменяющей показатель преломления, подвергают облучению и обрабатывают (D) стабилизатором.
9. Способ формирования модели распределения показателя преломления, который заключается в том, что часть чувствительной к облучению композиции по п.2, изменяющей показатель преломления, подвергают облучению и затем обрабатывают (D) стабилизатором при температуре, при которой стабилизатор может взаимодействовать с разлагаемым соединением (А).
10. Способ формирования модели распределения показателя преломления по любому из пп.7-9, в котором максимальная разница между показателями преломления в подвергнутой облучению части и не подвергнутой облучению части составляет 0,02 или больше.
11. Модель распределения показателя преломления, сформированная способом по любому из пп.7-10.
12. Оптический материал, полученный способом по любому из пп.7-10.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001041437 | 2001-02-19 | ||
JP2001-041437 | 2001-02-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2002128012A RU2002128012A (ru) | 2004-02-27 |
RU2281310C2 true RU2281310C2 (ru) | 2006-08-10 |
Family
ID=18903882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2002128012/04A RU2281310C2 (ru) | 2001-02-19 | 2002-02-18 | Чувствительная к облучению композиция, изменяющая показатель преломления |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7071255B2 (ru) |
EP (1) | EP1369459A4 (ru) |
KR (1) | KR100789582B1 (ru) |
CN (1) | CN1225509C (ru) |
AU (1) | AU2002233644B2 (ru) |
CA (1) | CA2406219A1 (ru) |
RU (1) | RU2281310C2 (ru) |
TW (1) | TWI269804B (ru) |
WO (1) | WO2002066561A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2729264C1 (ru) * | 2020-01-09 | 2020-08-05 | Общество с ограниченной ответственностью "Зенит Фотоникс" (ООО "ЗФ") | Органо-неорганическая композиция |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1375597A4 (en) * | 2001-03-13 | 2004-05-26 | Jsr Corp | RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION WITH VARIABLE BREAKING INDEX AND THEIR USE |
RU2005116302A (ru) * | 2002-10-28 | 2006-01-20 | Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. (Ch) | Улучшение стабильности фотоинициаторов при хранении |
JP4217886B2 (ja) | 2003-06-25 | 2009-02-04 | Jsr株式会社 | 感放射線性屈折率変化性組成物、パターン形成法および光学材料 |
EP1930747A4 (en) * | 2005-09-01 | 2010-11-17 | Sumitomo Electric Industries | OPTICAL DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME |
JP4949692B2 (ja) * | 2006-02-07 | 2012-06-13 | 東京応化工業株式会社 | 低屈折率シリカ系被膜形成用組成物 |
EP2447303A4 (en) * | 2009-06-24 | 2012-10-10 | Asahi Kasei E Materials Corp | CONDENSATION PRODUCT OF POLYSILOXANE |
WO2011158752A1 (ja) | 2010-06-15 | 2011-12-22 | シャープ株式会社 | 表示装置およびその製造方法 |
JP5612960B2 (ja) * | 2010-08-11 | 2014-10-22 | 株式会社ダイセル | フッ素含有化合物 |
CN102759859B (zh) * | 2011-04-27 | 2017-10-24 | 富士胶片株式会社 | 树脂组成物、硬化物的制造方法、树脂图案制造方法、硬化物及光学部件 |
US10105918B2 (en) * | 2011-11-10 | 2018-10-23 | Conavi Medical Inc. | Internal optical elements produced by irradiation-induced refractive index changes |
US10698231B2 (en) | 2018-02-20 | 2020-06-30 | Indizen Optical Technologies of America, LLC | Creating rewritable lenses |
Family Cites Families (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3940507A (en) | 1974-05-03 | 1976-02-24 | Rca Corporation | Electron beam recording media and method of recording |
DE2718254C3 (de) | 1977-04-25 | 1980-04-10 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Strahlungsempfindliche Kopiermasse |
JPS559433A (en) | 1978-07-07 | 1980-01-23 | Toshiba Corp | Electron beam exposure device |
DE2928636A1 (de) | 1979-07-16 | 1981-02-12 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern |
DE3021590A1 (de) | 1980-06-09 | 1981-12-17 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | 4-halogen-5-(halogenmethyl-phenyl)-oxazol-derivate, ein verfahren zu ihrer herstellung und sie enthaltenden strahlungsempfindliche massen |
JPS6037549A (ja) | 1983-08-10 | 1985-02-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光可溶化組成物 |
JPH0638125B2 (ja) | 1985-07-26 | 1994-05-18 | 三菱電機株式会社 | 光集束性プラスチツクの製造方法 |
US4665006A (en) | 1985-12-09 | 1987-05-12 | International Business Machines Corporation | Positive resist system having high resistance to oxygen reactive ion etching |
US4734481A (en) | 1986-01-16 | 1988-03-29 | Ciba-Geigy Corporation | Novel organometallic polymers |
US4924807A (en) | 1986-07-26 | 1990-05-15 | Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha | Apparatus for chemical vapor deposition |
JPS6397945A (ja) | 1986-10-14 | 1988-04-28 | Konica Corp | 新規な酸分解化合物を含有する感光性組成物および感光性平版印刷版 |
JPS643647A (en) | 1987-06-26 | 1989-01-09 | Konishiroku Photo Ind | Photosensitive composition and photosensitive planographic plate |
JP2685075B2 (ja) | 1988-11-29 | 1997-12-03 | 富士通株式会社 | 二層構造ポジ型レジストの上層レジスト |
CA2008020A1 (en) * | 1989-02-17 | 1990-08-17 | William C. Perkins | Radiation-curable coating compositions that form transparent, abrasion-resistant, tintable coatings |
JPH03192310A (ja) | 1989-12-22 | 1991-08-22 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | プラスチック光伝送体の製造方法 |
JP2583364B2 (ja) | 1990-06-19 | 1997-02-19 | 三菱電機株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JPH04303843A (ja) | 1991-03-30 | 1992-10-27 | Toppan Printing Co Ltd | 感可視光樹脂組成物 |
JPH0560931A (ja) | 1991-09-02 | 1993-03-12 | Fujitsu Ltd | 屈折率分布型プラスチツク樹脂成形体 |
EP0555749B1 (en) | 1992-02-14 | 1999-05-19 | Shipley Company Inc. | Radiation sensitive compositions and processes |
JPH05275789A (ja) | 1992-03-26 | 1993-10-22 | Res Dev Corp Of Japan | ポリマー光ファイバーアンプ |
US5593621A (en) | 1992-08-17 | 1997-01-14 | Koike; Yasuhiro | Method of manufacturing plastic optical transmission medium |
JP3291854B2 (ja) | 1993-08-16 | 2002-06-17 | 住友電気工業株式会社 | 光伝送用プラスチック部材の製造方法 |
JP2606652B2 (ja) | 1993-08-17 | 1997-05-07 | 日本電気株式会社 | 珪素含有高分子化合物及びそれを用いたレジスト材料 |
JPH0792313A (ja) | 1993-09-20 | 1995-04-07 | Toshiba Corp | 光ファイバー型回折格子 |
JPH0844052A (ja) * | 1994-08-01 | 1996-02-16 | Hitachi Ltd | パタン形成方法及びそれに用いる感放射線組成物 |
JP3679155B2 (ja) | 1995-06-09 | 2005-08-03 | 康博 小池 | 屈折率分布型光学樹脂材料の製造方法 |
JP3530630B2 (ja) | 1995-06-09 | 2004-05-24 | 康博 小池 | 屈折率分布型光ファイバー及びその母材の製造方法 |
JPH09133813A (ja) | 1995-11-07 | 1997-05-20 | Fujikura Ltd | 光ファイバ接続部収納ユニットと光ファイバ接続部収納構造 |
JP2914486B2 (ja) | 1995-12-26 | 1999-06-28 | 清藏 宮田 | 光ファイバ、及びその製造方法 |
JP3650985B2 (ja) * | 1997-05-22 | 2005-05-25 | Jsr株式会社 | ネガ型感放射線性樹脂組成物およびパターン製造法 |
TW482817B (en) * | 1998-06-18 | 2002-04-11 | Jsr Corp | Photosetting compositions and photoset articles |
JP4092781B2 (ja) * | 1998-06-22 | 2008-05-28 | Jsr株式会社 | 無機粒子含有組成物、転写フィルムおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
JP2000066017A (ja) * | 1998-08-19 | 2000-03-03 | Toray Ind Inc | カラーフィルター用熱硬化性樹脂溶液組成物、カラーフィルターならびに液晶表示装置 |
JP3897080B2 (ja) * | 1999-03-11 | 2007-03-22 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 反射防止材、反射防止材の製造方法、偏光板保護フィルム、及び偏光板 |
JP2000347397A (ja) | 1999-06-04 | 2000-12-15 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物およびその層間絶縁膜への使用 |
JP4253973B2 (ja) * | 1999-12-20 | 2009-04-15 | Jsr株式会社 | 無機造形物製造用感放射線性樹脂組成物および無機造形物の製造方法 |
JP2001281429A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-10 | Kansai Research Institute | 回折光学素子及びその製造方法 |
EP1375597A4 (en) * | 2001-03-13 | 2004-05-26 | Jsr Corp | RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION WITH VARIABLE BREAKING INDEX AND THEIR USE |
-
2002
- 2002-02-18 CA CA002406219A patent/CA2406219A1/en not_active Abandoned
- 2002-02-18 KR KR1020027013968A patent/KR100789582B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-02-18 CN CNB028003578A patent/CN1225509C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-02-18 AU AU2002233644A patent/AU2002233644B2/en not_active Ceased
- 2002-02-18 RU RU2002128012/04A patent/RU2281310C2/ru active
- 2002-02-18 WO PCT/JP2002/001362 patent/WO2002066561A1/ja active Application Filing
- 2002-02-18 US US10/257,397 patent/US7071255B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-02-18 EP EP02700597A patent/EP1369459A4/en not_active Withdrawn
- 2002-02-19 TW TW091102812A patent/TWI269804B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2729264C1 (ru) * | 2020-01-09 | 2020-08-05 | Общество с ограниченной ответственностью "Зенит Фотоникс" (ООО "ЗФ") | Органо-неорганическая композиция |
RU2729264C9 (ru) * | 2020-01-09 | 2020-09-16 | Общество с ограниченной ответственностью "Зенит Фотоникс" (ООО "ЗФ") | Органо-неорганическая композиция |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI269804B (en) | 2007-01-01 |
US20030187119A1 (en) | 2003-10-02 |
CA2406219A1 (en) | 2002-10-15 |
AU2002233644B2 (en) | 2006-09-28 |
RU2002128012A (ru) | 2004-02-27 |
WO2002066561A1 (fr) | 2002-08-29 |
CN1457349A (zh) | 2003-11-19 |
KR100789582B1 (ko) | 2007-12-28 |
KR20020091218A (ko) | 2002-12-05 |
US7071255B2 (en) | 2006-07-04 |
CN1225509C (zh) | 2005-11-02 |
EP1369459A1 (en) | 2003-12-10 |
EP1369459A4 (en) | 2008-05-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2281540C2 (ru) | Чувствительные к излучению композиции с изменяющейся диэлектрической проницаемостью и способ изменения диэлектрической проницаемости | |
AU2002323913B2 (en) | Radiation sensitive refractive index changing composition and refractive index changing method | |
AU2001280157B2 (en) | Composition having refractive index sensitively changeable by radiation and method for forming refractive index pattern | |
RU2275401C2 (ru) | Радиационно-чувстивительная композиция, изменяющая показатель преломления, и ее применение | |
US7108954B2 (en) | Radiation-sensitive composition changing in refractive index and method of changing refractive index | |
RU2281310C2 (ru) | Чувствительная к облучению композиция, изменяющая показатель преломления | |
JP3622201B2 (ja) | 感放射線性屈折率変化性組成物 | |
JP3959735B2 (ja) | 感放射線性屈折率変化性組成物およびその利用 | |
JP3896584B2 (ja) | 感放射線性屈折率変化性組成物および屈折率変化法 | |
JP2002296402A (ja) | 感放射線性屈折率変化性組成物および屈折率変化法 | |
RU2272054C2 (ru) | Чувствительная к излучению композиция с изменяемым показателем преломления и способ изменения показателя преломления | |
TW548307B (en) | Radiation sensitive refractive index changing composition and refractive index changing method |