RU2162240C2 - Дифракционная структура - Google Patents
Дифракционная структура Download PDFInfo
- Publication number
- RU2162240C2 RU2162240C2 RU98112596/28A RU98112596A RU2162240C2 RU 2162240 C2 RU2162240 C2 RU 2162240C2 RU 98112596/28 A RU98112596/28 A RU 98112596/28A RU 98112596 A RU98112596 A RU 98112596A RU 2162240 C2 RU2162240 C2 RU 2162240C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- faces
- diffraction
- substrate
- mold
- diffraction grating
- Prior art date
Links
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims abstract description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 2
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 210000001507 arthropod compound eye Anatomy 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000036039 immunity Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
- G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
- G06K19/08—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code using markings of different kinds or more than one marking of the same kind in the same record carrier, e.g. one marking being sensed by optical and the other by magnetic means
- G06K19/10—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code using markings of different kinds or more than one marking of the same kind in the same record carrier, e.g. one marking being sensed by optical and the other by magnetic means at least one kind of marking being used for authentication, e.g. of credit or identity cards
- G06K19/16—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code using markings of different kinds or more than one marking of the same kind in the same record carrier, e.g. one marking being sensed by optical and the other by magnetic means at least one kind of marking being used for authentication, e.g. of credit or identity cards the marking being a hologram or diffraction grating
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1814—Diffraction gratings structurally combined with one or more further optical elements, e.g. lenses, mirrors, prisms or other diffraction gratings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1861—Reflection gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
- G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
- G06K19/06009—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code with optically detectable marking
- G06K19/06046—Constructional details
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S359/00—Optical: systems and elements
- Y10S359/90—Methods
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
Дифракционная структура содержит подложку, первый и второй ряды граней, расположенных под углом к плоскости подложки. На каждой грани образована дифракционная решетка с периодом не более 500 нм. Длина оснований граней находится в диапазоне от 1 до 100 мкм, а впадина дифракционной решетки - в диапазоне от 0,1 мкм до половины размера грани. Период дифракционной решетки меньше длины волны, соответствующей воспринимаемому цвету, а противоположные грани выполнены с возможностью улавливания света с меньшей длиной волны. Дифракционную структуру получают путем образования линий механической обработки на поверхности граней или путем нанесения электронным или ионным лучом на защитный слой, расположенный на форме, полученной анизотропным травлением силиконовой подложки. Обеспечивается получение цвета в широком диапазоне углов зрения и освещения. 3 с. и 8 з.п.ф-лы, 11 ил.
Description
Настоящее изобретение относится к дифракционной структуре.
Для применения во многих случаях желательно иметь дифракционную структуру, отражающие свойства которой не зависят от конкретного ограниченного освещения и углов зрения при создании цвета.
Например, в защитных пленках гарантийные голограммы обычно состоят из пластмассового слоя, полученного термоформованием, имеющего отражающую алюминиевую пленку, помещенную на слой, также полученный термоформованием. Голограмма образуется рельефом поверхности. Отсутствие поглощения в структуре и чувствительность голографического изображения к углу зрения приводит к тому, что при рассеянном свете (таком, как тусклый дневной свет или свет в комнатах, освещенных многими лампами), голограмму нельзя увидеть или можно увидеть только в пределах очень узкого диапазона углов зрения.
Дополнительным примером является то, что дифракционным пигментам, таким, как описаны в JP-A-63/172779, помогает применение дифракционной структуры, и они не будут выглядеть "размытыми" и бесцветными в условиях обычного обзора на открытом воздухе. В JP-A-63/172779 описан пигмент, который состоит из множества частиц, каждая из которых имеет на своей поверхности канавки, которые образуют дифракционную решетку. Так как решетки на частицах испытывают сильную зависимость от угла зрения и не имеют внутреннего поглощения, цветовой эффект дифракции будет виден только при сильном, интенсивно направленном освещении, таком, как прямой солнечный свет или освещение прожектором. При рассеянном освещении (например, в облачный день) пигмент, описанный в JP-A-63/172779, будет выглядеть серым.
В EP-A-0303355 описана голограммно/дифракционная среда, имеющая множество расположенных с периодическими промежутками ступенчатых структур, каждая из которых размещена глубоко в среде.
В основу настоящего изобретения положена задача образования дифракционной структуры, которая будет создавать цвет в широком диапазоне углов зрения и освещения.
В соответствии с первым аспектом настоящего изобретения предусмотрена дифракционная структура, причем структура содержит: по существу плоскую подложку; и ряд граней, образованных в или на указанной подложке, причем плоскость или плоскости, в которых лежат грани, расположенные под углом, отличным от нуля, к плоскости подложки; причем на гранях образована дифракционная решетка, имеющая период 500 нм или менее.
В соответствии со вторым аспектом настоящего изобретения предусмотрен способ изготовления дифракционной структуры, как описано выше, причем способ содержит стадии: (A) изготовляют форму посредством механической обработки подложки путем повторных проходов режущего инструмента, причем инструмент режет подложку все более глубоко при каждом проходе инструмента, чтобы таким образом создать поверхность резания, на которой имеются линии механической обработки; (B) повторяют стадию (A) для того, чтобы получить резанием дополнительную поверхность, на которой имеются аналогичные линии, расположенную напротив указанной первой поверхности, чтобы таким образом создать канавку, на каждой из противоположных поверхностей которой имеются линии механической обработки; (C) изготовляют шаблон из указанной формы; и (D) изготовляют дифракционную структуру из указанного шаблона, причем на каждой грани образуется дифракционная решетка, соответствующая линиям механической обработки на канавках формы.
В соответствии с третьим аспектом настоящего изобретения предусмотрен способ изготовления дифракционной структуры, как описано выше, причем способ содержит следующие стадии: (A) изготовляют форму путем анизотропного травления силиконовой подложки для производства множества граней в форме; (B) покрывают форму кислотоупорным слоем; (C) наносят тонкую структуру дифракционной решетки непосредственно на кислотоупорный слой электронным лучом или ионным лучом; (D) изготовляют шаблон из указанной формы; и (E) изготовляют дифракционную структуру из указанного шаблона.
Предпочтительные черты настоящего изобретения изложены в приведенных ниже пунктах формулы изобретения.
Так, в примере изобретения, структура с призматической поверхностью, состоящей из ряда по существу плоских граней, образована в слое полимера. Эти грани находятся обычно в диапазоне от 1 микрона до 100 микрон в поперечнике и расположены под заданным углом к плоскости слоя полимера. Поверхность с канавками, ряд правильных четырехугольников, пирамид, основания которых представляют собой квадраты, или угловых кубических структур (в которых все грани представляют собой квадраты) являются примерами такой призматической структуры. Дифракционная структура образована на поверхности каждой грани. Эта меньшая структура может представлять собой (не ограничительно) ряд канавок, скрещенную решетку, или 2-мерный ряд впадин и пиков, такой, как известная структура "фасеточный глаз". Меньшая структура обычно имеет размеры в диапазоне от половины размера грани до 0,1 микрон. Эта структура предпочтительно должна быть покрыта металлом, так что она поглощает свет под некоторыми углами падения, но осуществляет сильную дифракцию под другими углами.
Изобретение предусматривает дифракционную структуру, которая создает цвет в широком диапазоне углов зрения и освещения. Дифракционная структура может быть изготовлена простым способом с использованием традиционных пленкообразующих пластиков.
Конструктивные исполнения настоящего изобретения будут описаны при помощи примеров со ссылкой на прилагаемые чертежи, на которых:
фиг. 1 изображает схематический вид примера дифракционной структуры в соответствии с настоящим изобретением;
фиг. 2 - схематический перспективный вид другого примера дифракционной структуры в соответствии с настоящим изобретением;
фиг. 3 - схематический перспективный вид дополнительного примера дифракционной структуры в соответствии с настоящим изобретением;
фиг. 4 - схематический перспективный разрез дифракционной структуры с заполнением полимером;
фиг. 5 - схема, дающая представление о падении луча света на дифракционную структуру;
фиг. 6 - разложение лучей света, падающих на поверхность слоя полимера дифракционной структуры;
фиг. 7 - разложение лучей света, падающих на слой полимера дифракционной структуры;
фиг. 8 - разложение лучей света, падающих на решетку дифракционной структуры;
фиг. 9 - разложение лучей света, отклоняемых решеткой дифракционной структуры;
фиг. 10 - разложение лучей света, покидающих дифракционную структуру; и
фиг. 11 - карта цветов по CIE (Международная комиссия по освещению), показывающая, как изменяется воспринимаемый цвет с изменением угла зрения.
фиг. 1 изображает схематический вид примера дифракционной структуры в соответствии с настоящим изобретением;
фиг. 2 - схематический перспективный вид другого примера дифракционной структуры в соответствии с настоящим изобретением;
фиг. 3 - схематический перспективный вид дополнительного примера дифракционной структуры в соответствии с настоящим изобретением;
фиг. 4 - схематический перспективный разрез дифракционной структуры с заполнением полимером;
фиг. 5 - схема, дающая представление о падении луча света на дифракционную структуру;
фиг. 6 - разложение лучей света, падающих на поверхность слоя полимера дифракционной структуры;
фиг. 7 - разложение лучей света, падающих на слой полимера дифракционной структуры;
фиг. 8 - разложение лучей света, падающих на решетку дифракционной структуры;
фиг. 9 - разложение лучей света, отклоняемых решеткой дифракционной структуры;
фиг. 10 - разложение лучей света, покидающих дифракционную структуру; и
фиг. 11 - карта цветов по CIE (Международная комиссия по освещению), показывающая, как изменяется воспринимаемый цвет с изменением угла зрения.
На фиг. 1 показана дифракционная структура 100, образованная подложкой 1, имеющей ряд граней 2. Грани 2 на этом примере образованы треугольными гранями 2 ряда пирамид 3, основания которых представляют собой квадраты. Пирамиды 3 образованы в или на подложке 1, причем их основания в виде квадратов 4 находятся в одной и той же плоскости так, чтобы образовать соответствующие ряды копланарных граней 2. Длина каждой стороны основания в виде квадрата 4 пирамид 3 может находиться в диапазоне от 1 мкм до 100 мкм. На каждой грани 2 пирамид 3 имеется дифракционная структура типа правильной дифракционной решетки 5, образованной канавками или линиями 6, между которыми имеются регулярные промежутки. Дифракционная решетка 5 в этом примере имеет период от 300 нм (т.е. промежуток между последовательными линиями 6 составляет 300 нм) с высотой (т.е. глубиной линий 6) около 100 нм.
Взамен пирамид 3, основания которых представляют собой квадраты, могут быть образованы двухмерные грани 2 как грани пирамид, основания которых представляют собой треугольники правильных четырехгранников (см. фиг. 2), угловых кубических структур (в которых все или по существу все грани являются квадратами), или любых других многогранников или структур, которые образуют ряд идентичных или по существу одинаковых граней, которые выступают из плоскости подложки 1 под углом от 0 до 90o к плоскости подложки 1.
Вместо дифракционной решетки, на которую нанесены линии, как описано выше, может быть использован как дифракционная решетка 5 2-мерный ряд впадин и выступов, таких, как известная структура "фасеточный глаз", показанная на фиг. 3.
Вообще говоря, длина оснований граней 2 может находиться в диапазоне от 1 мкм до 100 мкм. Впадина дифракционной решетки 5, образованной на грани 2, может быть в диапазоне от 0,1 мкм до приблизительно половины размера грани, при условии, что максимум составляет 0,5 мкм.
Так как решетка дифракционной структуры 5 находится под углом к нормали к подложке 1, могут быть использованы дифракционные решетки менее длины волны, что обеспечивает минимальную дисперсию (т.е. такое минимальное изменение цвета с изменением угла, как только возможно) и исключает некоторые цвета, которые не могут быть отражены, так как длина их волны слишком велика.
Более того, противоположные грани 2 позволяют улавливать цвета с меньшей длиной волны, потому что они отклоняются под большим углом по отношению к граням, чем цвета с меньшей длиной волны.
Таким образом, в предпочтительном конструктивном исполнении имеются два механизма для разделения цветов. Ослепительные цветовые эффекты могут быть получены даже при рассеянном освещении и без использования пигментов или красителей.
Двухмерные структуры граней, как описано, такие, как грани рядов пирамид или четырехгранников, понижают чувствительность дифракционной структуры 100 к повороту структуры 100 как в ее собственной плоскости, так и из ее плоскости, которая наблюдается в структурах с одноименными гранями. Таким образом, как будет показано далее, дифракционная структура 100 по настоящему изобретению будет создавать цветные изображения в широком диапазоне условий освещения и углов зрения.
Использование структуры с V-образной канавкой (т.е. одномерной) для граней 2 означает, что цветовой эффект будет зависеть от угла поворота подложки в ее плоскости, хотя относительная невосприимчивость структуры к повороту из ее плоскости по-прежнему сохраняется.
Пример процесса изготовления дифракционной структуры 100 по настоящему изобретению будет описан ниже.
Сначала цветной металл, такой, как латунь или медь, обрабатывают механическим способом с использованием очень острого алмазного резца (не показан) для образования формы, которая по существу идентична дифракционной структуре 100, которая должна быть получена в конце. Алмазный наконечник резца может иметь угол при вершине 30o. Резец используется для того, чтобы прорезать канавку на первую глубину, чтобы создать поверхность резания, имеющую длину, равную шагу образуемой дифракционной решетки. Затем резец используется для того, чтобы прорезать канавку на вторую глубину и прорезать поверхность на длину, которая вдвое больше шага дифракционной решетки. Этот процесс повторяется до тех пор, пока канавка не будет прорезана на заданную глубину, причем резец перемещается все глубже в материал формы на такое расстояние, что поверхность резания отрезается на длину, которая равна шагу образуемой дифракционной решетки, при каждом последовательном проходе резца. В результате этих последовательных все более глубоких проходов обрабатывающего резца, структура дифракционной решетки, состоящая из линий, образуется из обычных следов механической обработки, получаемых во время последовательных проходов резца. Канавка, прорезанная таким образом, образует первый ряд граней в материале. Противоположный ряд граней 2' и другие ряды граней, как параллельные, так и перпендикулярные к первому ряду граней, производятся далее путем механической обработки дополнительных канавок подобным образом, причем дополнительные канавки параллельны и перпендикулярны к первой канавке. Угол у вершины между противоположными гранями может быть, например, 90o, хотя это будет зависеть от геометрии и высоты пирамид 3, четырехгранников или других многогранников, которые образуют грани 2.
Для повышения скорости изготовления может быть использован ряд подобных режущих инструментов для нарезания параллельных рядов канавок для образования граней спаренным способом. Перпендикулярные ряды могут быть нарезаны путем перемещения того же или другого комплекта режущих инструментов перпендикулярно к первому ряду граней.
Альтернативным способом образования формы является следующий. Форма, имеющая ряд 3 пирамид, основания которых представляют собой квадраты, пирамид, основания которых представляют собой треугольники, правильных четырехгранников, угловых кубических структур или других многогранников или структур, изготовляется путем анизотропного травления силикона. Это обеспечивает очень плоские поверхности граней 2. Форма затем покрывается кислотоупорным слоем. Тонкая структура, которая образует дифракционную решетку 5, затем непосредственно наносится на кислотоупорный слой электронным лучом или ионным лучом.
Каким бы путем форма не была образована, форма затем подвергается обработке гальванопластикой для образования жесткого шаблона, который представляет собой негатив формы и, следовательно, также негатив образуемой дифракционной структуры 100. Материал шаблона должен быть достаточно жестким, чтобы иметь возможность выдавливать рельеф из пластического материала или другого материала, из которого образуется дифракционная структура 100. Шаблон может быть, например, из никеля или меди.
Шаблон затем подвергается термоформованию для получения негативного дубликата шаблона из полимера, таким же образом, как обычная коммерческая голограмма. Соответствующие полимеры включают полиметил метакрилат или поликарбонат. Грани 2 дубликата затем покрываются тонким слоем металла, такого как хром, медь, никель или алюминий, для получения дифракционной структуры 100, показанной на фиг. 1. Металлический слой может иметь толщину от 10 до 50 нм и предпочтительно является прерывистым, покрывая маломасштабный рельеф, который образует дифракционную решетку 5, так что дифракционная решетка 5 является частично поглощающей или пропускающей и имеет лишь слабое зеркальное отражение.
Структуру 100 предпочтительно заполняют затем слоем материала 7. Материал слоя 7 является прозрачным и может представлять собой сухой раствор или химически отвержденный полимер, так что структура 100 имеет по существу плоские и параллельные наружные поверхности, а внутренний рельеф структуры заполнен полимером 7, как показано на фиг. 2. Слой полимера 7 обычно может представлять собой адгезив, который используется для фиксации дифракционной структуры 100 к подложке, на которой она смонтирована.
Свет, входящий в слой полимера 7, подвергается дифракции, поглощается или отражается гранями 2. Не подвергшийся дифракции свет либо поглощается дифракционной решеткой 5, либо зеркально отражается. Если он зеркально отражается, он проходит на соседнюю грань 2, где он снова либо поглощается, либо зеркально отражается. Если дифракционная решетка 5 спроектирована так, что только 10% света, падающего на нее, может быть зеркально отражено, только 1% может выйти обратно после двух таких отражений. Если дифракция отсутствует, вся структура 100 является поэтому по существу неотражающей и кажется зрителю черной. Дифракционная решетка 5 может быть спроектирована так, чтобы уменьшить количество света, который зеркально отражается, для чего предусмотрено, чтобы шаг решетки был меньше, чем длина волны света, падающего на решетку, и причем глубина решетки 5 была такой, чтобы обратное отражение гасилось в результате интерференции. Если поверхность решетки покрыта, как указано выше, "тусклым" металлом (т.е. металлом с низкой отражательной способностью, таким как медь, никель или алюминий) или металл является прерывистым в направлении поперек линий 6 решетки 5, то падающий свет скорее поглощается, чем отражается.
Дифракция имеет место, когда длина волны падающего света, угол падения света и период дифракционной решетки связаны следующим соотношением:
λ/η = d·sin(φ)+d·sin(θ),
где λ - длина волны света, η - показатель преломления полимера 7, заполняющего дифракционную структуру, φ и θ - углы падения и дифракции, соответственно, относительно нормали 8 к грани 2, и d - период дифракционной решетки 5, как показано на фиг. 5.
λ/η = d·sin(φ)+d·sin(θ),
где λ - длина волны света, η - показатель преломления полимера 7, заполняющего дифракционную структуру, φ и θ - углы падения и дифракции, соответственно, относительно нормали 8 к грани 2, и d - период дифракционной решетки 5, как показано на фиг. 5.
Воспринимаемый цвет от структуры 100 можно рассчитать путем построения лучей света, которые входят в структуру 100 и выходят из нее посредством дифракции. На фиг. от 6 до 10 показано, как изменяется распределение лучей по мере того, как лучи сначала преломляются на поверхности полимера, когда они входят в полимер, затем подвергаются дифракции на грани и снова преломляются, когда лучи выходят из полимера.
На фиг. 6 показана полярная диаграмма интенсивности падения на поверхность при рассеянном освещении, причем поверхность в этом случае является наружной поверхностью слоя полимера 7. Интенсивность уменьшается в зависимости от косинуса угла падения. Эта зависимость известна как освещение по Ламберту.
В связи с преломлением на границе воздуха и полимера 9 диапазон углов, под которыми лучи света распространяются внутри слоя полимера 7, уменьшается, как показано на полярной диаграмме на фиг. 7.
Как показано на фиг. 8, лучи затем ударяют дифракционную решетку 5 на поверхностях граней 2 в определенном диапазоне углов и часть лучей подвергается дифракции. С целью упрощения этого описания предполагается, что (i) когда дифракция возможна, весь свет подвергается дифракции, и (ii) если дифракция невозможна, свет поглощается или пропускается дифракционной решеткой 5, как описано выше. Необходимо понимать, однако, что на практике эффективность дифракции изменяется с изменением длины волны и угла.
Часть света, который подвергается дифракции посредством дифракционной решетки 5 на конкретной грани 2, экранируется соседней гранью 2 и не покидает дифракционную структуру 100. Полярная диаграмма на фиг. 9 показывает распределение подвергшихся дифракции лучей от одной грани 2 дифракционной системы 100 для трех различных длин волн. Эти длины волн соответствуют пикам чувствительности видимого цвета. Сплошная линия обозначает синий цвет, точечная линия обозначает зеленый цвет и штриховая линия обозначает красный цвет.
По мере того как лучи покидают слой полимера 7, они снова преломляются на границе воздуха и полимера 9. На фиг. 10 показано распределение лучей, покидающих дифракционную структуру 100, которые подверглись дифракции посредством одной грани 2.
Лучи света, покидающие одну грань 2, могут добавиться к лучам от соседней грани 2 для того, чтобы образовать диаграмму на стандартной карте цветов CIE (Международной комиссии по освещению), на которой показано, как изменяется воспринимаемый цвет с изменением угла зрения. Карта представлена на фиг. 11. Когда диапазон угла зрения превышает 80o (±40o к нормали к поверхности слоя полимера 9), отклонения от воспринимаемого цвета очень невелики. В этом случае дифракционная структура 100 создает желтый цвет при рассеянном освещении. Путем изменения углов граней (т.е. угла между гранью 2 и поверхностью слоя полимера 9) и периода дифракционной решетки 5 могут быть созданы различные цвета.
Таким образом, настоящее изобретение создает цветовую дифракционную структуру 100, которая поддерживает интенсивный цвет при наблюдении при рассеянном освещении в широком диапазоне углов зрения.
Структура 100 может быть изготовлена при помощи обычной преобладающей технологии на большой поверхности и может быть образована в непрерывной полимерной пленке посредством одностадийного процесса выдавливания рельефа, подобного используемому в производстве голограмм.
Цвет в первую очередь зависит от угла граней и шага дифракционной решетки, причем ни тот, ни другой не изменяются существенно в процессе износа. Дифракционная структура 100 поэтому является идеальной для производства больших объемов материала. Дифракционная структура 100 конкретно применяется в предохранительных пленках на, например, кредитных или дебетных карточках, где требуется много по существу идентичных дифракционных структур 100.
Конструктивное исполнение по настоящему изобретению было описано с конкретными ссылками на показанные примеры. Однако необходимо принять во внимание, что в описанных примерах могут быть выполнены варианты и модификации в пределах диапазона настоящего изобретения.
Claims (11)
1. Дифракционная структура, содержащая по существу плоскую подложку, первый ряд граней, образованных в или на указанной подложке, причем плоскость или плоскости, в которых лежат грани, расположены под углом, отличным от нуля, к плоскости подложки; второй ряд граней, которые лежат по существу во второй плоскости или плоскостях, которые находятся под углом как к первому ряду граней, так и к плоскости подложки, так что грани первого и второго рядов по существу расположены напротив друг друга, причем на каждой грани образована дифракционная решетка, отличающаяся тем, что дифракционная решетка имеет период не более 500 нм, а длина оснований граней находится в диапазоне от 1 до 100 мкм, впадина дифракционной решетки находится в диапазоне от 0,1 мкм до половины размера грани, при условии, что максимум составляет 0,5 мкм, при этом используют дифракционные решетки с периодом менее длины волны, соответствующей воспринимаемому цвету, а противоположные грани выполнены с возможностью улавливания света с меньшей длиной волны.
2. Способ изготовления дифракционной структуры, при котором изготавливают форму путем обработки подложки, в результате которой получают первую поверхность и расположенную напротив нее дополнительную поверхность, образующую канавку, изготавливают шаблон с помощью указанной формы, с помощью указанного шаблона изготовляют дифракционную структуру, содержащую грани, расположенные под углом к поверхности подложки, причем на каждой из указанных граней образуется дифракционная решетка, отличающийся тем, что при изготовлении формы на первой стадии (А) обрабатывают подложку посредством механической обработки путем повторных проходов режущего инструмента, причем инструмент режет подложку все более глубоко при каждом проходе инструмента, образуя первую поверхность резания, на которой имеются линии механической обработки, на второй стадии (В) повторяют стадию (А), образуя дополнительную поверхность, на которой имеются линии механической обработки, а образованная на гранях дифракционная решетка соответствует линиям механической обработки на поверхностях, образующих канавку.
3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что прорезают дополнительные канавки, расположенные в линию, параллельные первым канавкам, расположенным в линию, которые прорезаны посредством повторяющихся стадий (А) и (В).
4. Способ по п.2 или 3, отличающийся тем, что дополнительные канавки, расположенные в линию, перпендикулярные к первой канавке, расположенной в линию, прорезают посредством повторяющихся стадий (А) и (В).
5. Способ по п.2, отличающийся тем, что дополнительные канавки, расположенные в линию, параллельные первой канавке, расположенной в линию, прорезают одновременно с первой канавкой, расположенной в линию посредством ряда спаренных режущих инструментов.
6. Способ по п.2 или 5, отличающийся тем, что дополнительные канавки, расположенные в линию, перпендикулярные первой канавке, расположенной в линию, одновременно прорезают посредством ряда спаренных режущих инструментов.
7. Способ изготовления дифракционной структуры, при котором изготавливают форму, содержащую множество граней, изготовляют шаблон с помощью указанной формы, с помощью указанного шаблона изготовляют дифракционную структуру, отличающийся тем, что при изготовлении формы, содержащей грани, осуществляют анизотропное травление силиконовой подложки, покрывают форму защитным слоем и наносят тонкую структуру дифракционной решетки непосредственно на защитный слой электронным лучом или ионным лучом.
8. Способ по любому из пп.2 - 7, отличающийся тем, что шаблон изготовляют путем обработки формы гальванопластикой.
9. Способ по любому из пп.2 - 8, отличающийся тем, что дифракционную структуру изготовляют путем термоформования шаблона.
10. Способ по п.9, отличающийся тем, что грани дифракционной структуры покрывают слоем металла.
11. Способ по п.10, отличающийся тем, что слой металла поверх граней дифракционной решетки выполнен прерывистым.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB9524862.1A GB9524862D0 (en) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | Colour diffractive structure |
GB9524862.1 | 1995-12-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU98112596A RU98112596A (ru) | 2000-05-20 |
RU2162240C2 true RU2162240C2 (ru) | 2001-01-20 |
Family
ID=10784947
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU98112596/28A RU2162240C2 (ru) | 1995-12-06 | 1996-12-06 | Дифракционная структура |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6043936A (ru) |
EP (1) | EP0865616B1 (ru) |
AU (1) | AU704669B2 (ru) |
DE (1) | DE69619691T2 (ru) |
GB (1) | GB9524862D0 (ru) |
PL (1) | PL183249B1 (ru) |
RU (1) | RU2162240C2 (ru) |
WO (1) | WO1997021121A1 (ru) |
Families Citing this family (80)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6206525B1 (en) | 1994-09-28 | 2001-03-27 | Reflexite Corporation | Miniature micro prism retroreflector |
US7604855B2 (en) * | 2002-07-15 | 2009-10-20 | Jds Uniphase Corporation | Kinematic images formed by orienting alignable flakes |
US7047883B2 (en) | 2002-07-15 | 2006-05-23 | Jds Uniphase Corporation | Method and apparatus for orienting magnetic flakes |
US20070195392A1 (en) * | 1999-07-08 | 2007-08-23 | Jds Uniphase Corporation | Adhesive Chromagram And Method Of Forming Thereof |
US7667895B2 (en) * | 1999-07-08 | 2010-02-23 | Jds Uniphase Corporation | Patterned structures with optically variable effects |
US7517578B2 (en) * | 2002-07-15 | 2009-04-14 | Jds Uniphase Corporation | Method and apparatus for orienting magnetic flakes |
JP2003520986A (ja) * | 2000-01-21 | 2003-07-08 | フレックス プロダクツ インコーポレイテッド | 光学変調セキュリティーデバイス |
US11768321B2 (en) | 2000-01-21 | 2023-09-26 | Viavi Solutions Inc. | Optically variable security devices |
US6767106B2 (en) * | 2000-05-08 | 2004-07-27 | Lexalite International Corporation | Edge-lit luminaire having prismatic optical control |
US6483635B1 (en) * | 2000-06-07 | 2002-11-19 | Cirrex Corp. | Apparatus for light amplification |
GB0015873D0 (en) * | 2000-06-28 | 2000-08-23 | Rue De Int Ltd | Optically variable security device |
US20060162840A1 (en) * | 2000-12-05 | 2006-07-27 | Fryco Limited | Method of forming substrates wih visual features |
KR100432438B1 (ko) * | 2001-01-18 | 2004-05-22 | 주식회사 송산 | 빛을 회절 및 확산시키는 프리즘 디퓨저 |
US6594422B2 (en) | 2001-05-02 | 2003-07-15 | Motorola, Inc. | Opto-coupling device structure and method therefor |
ATE301123T1 (de) * | 2001-06-27 | 2005-08-15 | Cyclacel Ltd | 2,6,9-substituierte purinderivate und ihre verwendung bei der behandlung proliferativer krankheiten |
US6902807B1 (en) | 2002-09-13 | 2005-06-07 | Flex Products, Inc. | Alignable diffractive pigment flakes |
US6692830B2 (en) * | 2001-07-31 | 2004-02-17 | Flex Products, Inc. | Diffractive pigment flakes and compositions |
US7625632B2 (en) * | 2002-07-15 | 2009-12-01 | Jds Uniphase Corporation | Alignable diffractive pigment flakes and method and apparatus for alignment and images formed therefrom |
US6841238B2 (en) * | 2002-04-05 | 2005-01-11 | Flex Products, Inc. | Chromatic diffractive pigments and foils |
US6701605B2 (en) | 2001-10-09 | 2004-03-09 | Sonoco Development, Inc. | Conductive electrical element and antenna with ink additive technology |
US7131380B2 (en) * | 2001-11-07 | 2006-11-07 | Sonoco Development, Inc. | EB pattern profile printing |
JP3818906B2 (ja) * | 2001-12-13 | 2006-09-06 | シャープ株式会社 | マイクロコーナーキューブアレイ、その作製方法、および表示装置 |
US7221512B2 (en) | 2002-01-24 | 2007-05-22 | Nanoventions, Inc. | Light control material for displaying color information, and images |
US20060012880A1 (en) * | 2002-05-02 | 2006-01-19 | Law Benjamin P | Optical device with refractive and diffractive properties |
US11230127B2 (en) | 2002-07-15 | 2022-01-25 | Viavi Solutions Inc. | Method and apparatus for orienting magnetic flakes |
US7934451B2 (en) | 2002-07-15 | 2011-05-03 | Jds Uniphase Corporation | Apparatus for orienting magnetic flakes |
US20100208351A1 (en) * | 2002-07-15 | 2010-08-19 | Nofi Michael R | Selective and oriented assembly of platelet materials and functional additives |
US9458324B2 (en) | 2002-09-13 | 2016-10-04 | Viava Solutions Inc. | Flakes with undulate borders and method of forming thereof |
US7645510B2 (en) | 2002-09-13 | 2010-01-12 | Jds Uniphase Corporation | Provision of frames or borders around opaque flakes for covert security applications |
US7241489B2 (en) * | 2002-09-13 | 2007-07-10 | Jds Uniphase Corporation | Opaque flake for covert security applications |
US7674501B2 (en) * | 2002-09-13 | 2010-03-09 | Jds Uniphase Corporation | Two-step method of coating an article for security printing by application of electric or magnetic field |
US7258915B2 (en) * | 2003-08-14 | 2007-08-21 | Jds Uniphase Corporation | Flake for covert security applications |
US8025952B2 (en) | 2002-09-13 | 2011-09-27 | Jds Uniphase Corporation | Printed magnetic ink overt security image |
US9164575B2 (en) * | 2002-09-13 | 2015-10-20 | Jds Uniphase Corporation | Provision of frames or borders around pigment flakes for covert security applications |
US7618564B2 (en) | 2003-03-21 | 2009-11-17 | Ovd Kinegram Ag | Microstructure and method for producing microstructures |
DE10312708B4 (de) * | 2003-03-21 | 2007-06-28 | Ovd Kinegram Ag | Retroreflektor |
DE10318105B4 (de) * | 2003-03-21 | 2007-09-20 | Ovd Kinegram Ag | Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturen |
JP4495722B2 (ja) * | 2003-04-22 | 2010-07-07 | オーファオデー キネグラム アーゲー | ミクロ構造の作成方法 |
US7550197B2 (en) * | 2003-08-14 | 2009-06-23 | Jds Uniphase Corporation | Non-toxic flakes for authentication of pharmaceutical articles |
DE10343720A1 (de) * | 2003-09-12 | 2005-04-28 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Polarisationsstrahlteiler auf Basis eines hochfrequenten Gitters |
KR20050044961A (ko) * | 2003-11-08 | 2005-05-16 | 삼성전자주식회사 | 도광판 및 이를 갖는 백라이트 어셈블리 |
DE102004003340A1 (de) * | 2004-01-22 | 2005-08-18 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Flächensubstrat mit einer Makro- und Mikrostrukturen aufweisenden Substratoberfläche sowie Verfahren zur Herstellung eines derartigen Flächensubstrates |
TWI287120B (en) * | 2004-03-02 | 2007-09-21 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Backlight module and diffusion sheet |
US7208803B2 (en) * | 2004-05-05 | 2007-04-24 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method of forming a raised source/drain and a semiconductor device employing the same |
US7901870B1 (en) | 2004-05-12 | 2011-03-08 | Cirrex Systems Llc | Adjusting optical properties of optical thin films |
US7565084B1 (en) | 2004-09-15 | 2009-07-21 | Wach Michael L | Robustly stabilizing laser systems |
US7690814B2 (en) * | 2005-03-10 | 2010-04-06 | Honeywell International Inc. | Luminaire with a one-sided diffuser |
US20060215268A1 (en) * | 2005-03-28 | 2006-09-28 | Main Source Technology Co., Ltd. | Light diffraction plate |
CA2541568C (en) | 2005-04-06 | 2014-05-13 | Jds Uniphase Corporation | Dynamic appearance-changing optical devices (dacod) printed in a shaped magnetic field including printable fresnel structures |
CA2564764C (en) | 2005-10-25 | 2014-05-13 | Jds Uniphase Corporation | Patterned optical structures with enhanced security feature |
CA2570965A1 (en) * | 2005-12-15 | 2007-06-15 | Jds Uniphase Corporation | Security device with metameric features using diffractive pigment flakes |
US10343436B2 (en) | 2006-02-27 | 2019-07-09 | Viavi Solutions Inc. | Security device formed by printing with special effect inks |
EP1862827B2 (en) * | 2006-05-31 | 2012-05-30 | CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement | Nano-structured Zero-order diffractive filter |
US7864424B2 (en) * | 2006-05-31 | 2011-01-04 | CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA-Recherche et Développement | Zero order pigments (ZOP) |
CA2592667C (en) * | 2006-07-12 | 2014-05-13 | Jds Uniphase Corporation | Stamping a coating of cured field aligned special effect flakes and image formed thereby |
TWI301901B (en) * | 2006-08-11 | 2008-10-11 | Ind Tech Res Inst | Identification device |
JP5600382B2 (ja) * | 2007-05-07 | 2014-10-01 | ジェイディーエス ユニフェイズ コーポレーション | 回転により色を呈する構造化表面 |
AU2008201903B2 (en) * | 2007-05-07 | 2013-03-28 | Viavi Solutions Inc. | Structured surfaces that exhibit color by rotation |
DE102007035161A1 (de) * | 2007-07-25 | 2009-01-29 | Giesecke & Devrient Gmbh | Sicherheitselement mit mehreren optisch variablen Strukturen |
US20090147361A1 (en) * | 2007-12-07 | 2009-06-11 | 3M Innovative Properties Company | Microreplicated films having diffractive features on macro-scale features |
JP2009193069A (ja) | 2008-02-13 | 2009-08-27 | Jds Uniphase Corp | 光学的な特殊効果フレークを含むレーザ印刷用の媒体 |
KR20110036875A (ko) * | 2008-07-16 | 2011-04-12 | 소니 주식회사 | 광학 소자 |
US8498033B2 (en) | 2008-09-05 | 2013-07-30 | Jds Uniphase Corporation | Optical device exhibiting color shift upon rotation |
JP2010197798A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-09 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止機能を有する光学素子及びそれを具備する偽造防止表示体 |
GB2486994B (en) * | 2009-08-10 | 2017-03-22 | Innovia Security Pty Ltd | Optically variable devices and method of manufacture |
FR2959830B1 (fr) * | 2010-05-07 | 2013-05-17 | Hologram Ind | Composant optique d'authentification et procede de fabrication dudit composant |
US8832763B2 (en) * | 2010-09-29 | 2014-09-09 | Verizon Patent And Licensing Inc. | Catalog slicing in a video provisioning system |
DE102010049831A1 (de) * | 2010-10-27 | 2012-05-03 | Giesecke & Devrient Gmbh | Optisch variables Flächenmuster |
DE102010049832A1 (de) * | 2010-10-27 | 2012-05-03 | Giesecke & Devrient Gmbh | Optisch variables Flächenmuster |
FR2979435B1 (fr) * | 2011-08-24 | 2016-11-11 | Hologram Ind | Composant optique de securite, fabrication d'un tel composant et produit securise equipe d'un tel composant |
EP2594149A1 (en) * | 2011-11-18 | 2013-05-22 | Fabrica Nacional De Moneda Y Timbre - Real Casa De La Moneda | Object comprising a region of its surface suitable for showing a plurality of images |
DK2802450T3 (en) | 2012-01-12 | 2019-03-25 | Viavi Solutions Inc | Article with a dynamic frame consisting of decorated pigment flakes |
CN103256990B (zh) * | 2012-06-18 | 2016-05-04 | 太原理工大学 | 一种衍射棱锥波前传感器 |
KR101902659B1 (ko) * | 2013-07-18 | 2018-10-01 | 바스프 에스이 | 단속된 금속성 층으로 코팅된 표면을 포함하는 태양광 관리를 위한 반투명 건축 요소 |
US11126902B2 (en) | 2014-06-03 | 2021-09-21 | IE-9 Technology Corp. | Optically variable data storage device |
US9489604B2 (en) | 2014-06-03 | 2016-11-08 | IE-9 Technology Corp. | Optically variable data storage device |
DE102014014082A1 (de) * | 2014-09-23 | 2016-03-24 | Giesecke & Devrient Gmbh | Optisch variables Sicherheitselement mit reflektivem Flächenbereich |
DE102014014079A1 (de) * | 2014-09-23 | 2016-03-24 | Giesecke & Devrient Gmbh | Optisch variables Sicherheitselement mit reflektivem Flächenbereich |
US11622849B2 (en) | 2018-02-01 | 2023-04-11 | Amo Groningen B.V. | Lenses with optical markings |
DE102021005911A1 (de) * | 2021-11-30 | 2023-06-01 | Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh | Sicherheitselement mit reflektivem Flächenbereich, Datenträger und Herstellungsverfahren |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4576850A (en) * | 1978-07-20 | 1986-03-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Shaped plastic articles having replicated microstructure surfaces |
DE3166630D1 (en) * | 1981-02-03 | 1984-11-15 | Landis & Gyr Ag | Method for preventing the sucessful forgery of documents and device therefor |
US4496216A (en) * | 1982-12-30 | 1985-01-29 | Polaroid Corporation | Method and apparatus for exposing photosensitive material |
US4737448A (en) * | 1986-03-31 | 1988-04-12 | Xerox Corporation | Color images formed by multiple diffraction gratings |
US4888260A (en) * | 1987-08-10 | 1989-12-19 | Polaroid Corporation | Volume phase reflection holograms and methods for fabricating them |
US5161057A (en) * | 1988-09-12 | 1992-11-03 | Johnson Kenneth C | Dispersion-compensated fresnel lens |
JPH04356001A (ja) * | 1990-12-18 | 1992-12-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | 回折格子の製造方法 |
JP3092741B2 (ja) * | 1991-11-05 | 2000-09-25 | 若竹 雅之 | 疑似発光面体及びそれに用いる光学色フィルタ板体、並びに疑似発光面体を用いた表示素子及び表示装置 |
DE4225007C2 (de) * | 1992-07-29 | 1998-02-05 | Helmut Frank Ottomar P Mueller | Oberlicht |
US5682265A (en) * | 1994-02-18 | 1997-10-28 | Massachusetts Institute Of Technology | Diffractive microstructures for color separation and fusing |
FR2726660B1 (fr) * | 1994-11-03 | 1997-01-10 | Bernard Sermage | Reseau reflechissant de diffraction optique et procedes de fabrication |
US5905571A (en) * | 1995-08-30 | 1999-05-18 | Sandia Corporation | Optical apparatus for forming correlation spectrometers and optical processors |
-
1995
- 1995-12-06 GB GBGB9524862.1A patent/GB9524862D0/en active Pending
-
1996
- 1996-12-06 EP EP96941141A patent/EP0865616B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-06 RU RU98112596/28A patent/RU2162240C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1996-12-06 AU AU10388/97A patent/AU704669B2/en not_active Ceased
- 1996-12-06 DE DE69619691T patent/DE69619691T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-06 US US09/077,460 patent/US6043936A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-06 PL PL96327130A patent/PL183249B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1996-12-06 WO PCT/GB1996/003016 patent/WO1997021121A1/en active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69619691T2 (de) | 2002-08-22 |
DE69619691D1 (de) | 2002-04-11 |
EP0865616A1 (en) | 1998-09-23 |
PL183249B1 (pl) | 2002-06-28 |
GB9524862D0 (en) | 1996-02-07 |
PL327130A1 (en) | 1998-11-23 |
AU1038897A (en) | 1997-06-27 |
AU704669B2 (en) | 1999-04-29 |
US6043936A (en) | 2000-03-28 |
EP0865616B1 (en) | 2002-03-06 |
WO1997021121A1 (en) | 1997-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2162240C2 (ru) | Дифракционная структура | |
KR100619122B1 (ko) | 큐브 코너 공동계 재귀반사구 및 그 제조 방법 | |
EP1364233B1 (en) | Directional diffuser | |
CA1188139A (en) | Diffractive subtractive color filter responsive to angle of incidence of polychromatic illuminating light | |
DE3855529T2 (de) | Hologramme und Beugungsgitter | |
JP4443040B2 (ja) | 超小型マイクロプリズム再帰反射体およびその形成方法 | |
JP4510636B2 (ja) | レンズ的効果を生じさせる光学的回折構造を備えた層構造 | |
US20140009836A1 (en) | Wood-like films and other decorative films utilizing fresnel mirrors | |
BG63737B1 (bg) | Двойно изпъкнал лист | |
KR20010031581A (ko) | 변경된 비활성 영역이 있는 큐브 코너 제품 및 그 제조 방법 | |
JP2006507526A5 (ru) | ||
US20220274435A1 (en) | Optical anti-counterfeiting element and optical anti-counterfeiting product | |
EP3496077B1 (en) | Display body | |
KR102479527B1 (ko) | 광결정 소재를 포함하는 광가변부가 적용된 금속가공품 및 그의 제조방법 | |
KR100397166B1 (ko) | 재귀반사체 | |
KR20030015730A (ko) | 이중 접합 홀로그램 회절격자층을 갖는 재귀반사체 | |
JP2021124602A (ja) | カラーシフトデバイス | |
JP2023019615A (ja) | 発色構造体 | |
JP2023019616A (ja) | 発色構造体 | |
RU2039315C1 (ru) | Светорассеиватель | |
KR20030086457A (ko) | 이중 접합 홀로그램 회절격자층을 갖는 재귀반사체 | |
MXPA01006937A (en) | Cube corner cavity based retroreflectors and methods for making same | |
UA26127A (uk) | Орhамеhт, що оптичhо зміhюється | |
DE2302960A1 (de) | Retroreflektierende oberflaeche |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20061207 |