RU2064700C1 - Способ изготовления терморезистора - Google Patents

Способ изготовления терморезистора Download PDF

Info

Publication number
RU2064700C1
RU2064700C1 RU93030953A RU93030953A RU2064700C1 RU 2064700 C1 RU2064700 C1 RU 2064700C1 RU 93030953 A RU93030953 A RU 93030953A RU 93030953 A RU93030953 A RU 93030953A RU 2064700 C1 RU2064700 C1 RU 2064700C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
thermistor
film
plates
thermistors
electrodes
Prior art date
Application number
RU93030953A
Other languages
English (en)
Other versions
RU93030953A (ru
Inventor
Наталия Михайловна Семецкая
Игорь Михайлович Семецкий
Original Assignee
Наталия Михайловна Семецкая
Игорь Михайлович Семецкий
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Наталия Михайловна Семецкая, Игорь Михайлович Семецкий filed Critical Наталия Михайловна Семецкая
Priority to RU93030953A priority Critical patent/RU2064700C1/ru
Publication of RU93030953A publication Critical patent/RU93030953A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2064700C1 publication Critical patent/RU2064700C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

Изобретение относится к электронной технике, а именно к пленочным терморезисторам. В способе изготовления пленочного терморезистора формируют заготовку из полупроводникового материала с органическим связующим литьем из шликера в виде сырой пленки, проводят разделение ее на прямоугольные пластины. Затем проводят обжиг. Электроды наносят по коротким либо длинным граням пластин в зависимости от заданного номинального сопротивления. Технический результат - снижение трудоемкости, улучшение технических параметров. 1табл.

Description

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано при изготовлении пленочных терморезисторов (терморезистивных датчиков).
На сегодняшний день известны дисковые (шайбовые), стержневые, бусинковые и пленочные терморезисторы. Наиболее распространенные дисковые (шайбовые) терморезисторы, например, типа ММТ-12, изготавливаются по традиционной керамической технологии, включающей формирование терморезистивного элемента путем смешивания полупроводникового материала на основе окислов Ni, Co, Mn, Cu с органическим связующим, прессование и высокотемпературный обжиг.
Недостатками подобных технических решений являются:
большие габаритные размеры и масса, что приводит к ухудшению параметров (например, к большим значениям величины тепловой постоянной времени, коэффициентов рассеяния и энергетической чувствительности);
ограниченная область применения, обусловленная отсутствием конструктивно-технологической совместимости с современными микроэлектронными устройствами;
низкая прецизионность (большой разброс номинальных значений сопротивления и величины постоянной В);
большой расход драгметаллов для создания электродов;
В настоящее время за рубежом широкую известность приобрели методы тонко- и толстопленочной технологии, которые привели к появлению пленочных ТР (ПТР) (заявка ФРГ, N 1648209, 1973 г.(2) патент США N 3503030, 1970 г.(3). Использование тонко- и толстопленочной технологии при изготовлении ТР обеспечило ряд преимуществ по сравнению с традиционной керамической технологией: улучшение параметров, расширение области применения. Так, ПТР обладают уменьшенными габаритами и массой по сравнению с дисковыми ТР, уменьшенной тепловой постоянной времени, что обеспечивает возможность использования ПТР в гибридных интегральных микросхемах, микросборках и т.д. особенно при изготовлении ПТР в безвыводном (чиповом) исполнении. Кроме того, за счет использования в технологии изготовления ТР фотолитографии или трафаретной печати и современных методов подгонки (например, лазерной) уменьшается допустимое отклонение номинального сопротивления.
В качестве прототипа выбрана технология изготовления толстопленочных терморезисторов ТР-5 (Захаров В.И. Олеск А.0. Шефтель И.Т. "Пленочные терморезисторы для гибридных микросхем и устройств микроэлектроники". Приборы и системы управления, N 6, 1986, М. Машиностроение).
Способ-прототип включает нанесение методом трафаретной печати на подложку из алюмооксидной керамики терморезистивного слоя, формируемого на основе полупроводниковых материалов окислов переходных металлов (3d окислов, например, Mn2O3,CoO,NiO,Fe2O3, проводникового слоя, слоя защитного стекла и обжиг при температуре выше 1000oС. Для обеспечения требуемых характеристик ТР применяют многослойную (трехслойную и более) печать. Электроды формируют путем нанесения через трафарет серебросодержащей пасты с последующим вжиганием. Подложки с нанесенными слоями разделяют на отдельные элементы (прямоугольные пластины) лазерным скрайбированием и ломкой.
Толстопленочный терморезистор ТР-5 имеет следующие характеристики:
номинальное сопротивление при 25oС, кOм 47 ± 10%
температурный коэффициент сопротивления,/град. -(4 ± 0,4)
постоянная В в диапазоне температур от +25 до +50oC, К 3200-3900
тепловая постоянная времени,сек 8
коэффициент рассеяния при 25oС, мВТ/град 1,5
коэффициент энергетической чувствительности, мВТ 0,35
наработка, час 15000
Величина наработки дана, исходя из данных, представленных в рекламе на толстопленочные терморезисторы ТР-5 с отрицательным температурным коэффициентом сопротивления для микроэлектроники ОЖО.468.257 ТУ (ЦНИИ "Электроника", М. 1986). Однако, при указанных преимуществах терморезистора ТР-5, полученного известным способом, он обладает рядом серьезных недостатков:
Во-первых, невозможно сохранить расчетную топологию из-за разброса размеров керамических подложек и износа гнезд кассет в процессе создания многослойной структуры. Кроме того, создание многослойных терморезистивных слоев многократно увеличивает вышеуказанную погрешность и дополняет ее разбросом по толщине слоев.
Во-вторых, невозможно достижение расчетных значений параметров из-за неуправляемости процессов гетеродиффузии, возникающих в пограничном слое терморезистивного материала и материала подложки при термообработке.
В-третьих, объемная пористость терморезистивных покрытий значительно выше, чем в терморезисторах, изготовленных прессованием, ввиду невозможности использования более высоких температур спекания, усиливающих вышеуказанные процессы гетеродиффузии.
В-четвертых, необходимость использования защитного стекла приводит в процессе его вжигания к взаимодействию между компонентами стекла и нижерасположенного терморезистивного слоя. В результате этой реакции происходит изменение электропроводности оксиднополупроводникового материала. Эти процессы, обусловленные обменом электронами между разновалентными 3d -катионами, расположенными в окта-позициях кристаллической структуры материала, практически не могут быть учтены при расчете параметров ТР.
В-пятых, на свойствах терморезистивных слоев сказываются механические напряжения, возникающие в них при несогласованности коэффициентов линейного термического расширения (КЛТР) материала подложки и терморезистивного слоя, с одной стороны, и материала терморезистивного слоя и защитного стекла, с другой стороны.
В-шестых, процесс лазерного скрайбирования весьма сложен, а ломка подложек вручную приводит к многочисленным механическим повреждениям и разбросу по размерам терморезистивных элементов.
В-седьмых, керамическая подложка является балластом, ухудшающим значения ряда параметров терморезисторов ТР-5 (например, им присуща высокая инерционность при относительно малых размерах).
Следует указать, что терморезистор ТР-5 реализован лишь в одном номинальном сопротивления (Rном 47 кОм) и существует в безвыводном (чиповом) исполнении.
Вышеуказанные конструктивно-технологические недостатки способа - прототипа затрудняют попадание в номинал, не позволяют достичь малых значений тепловой постоянной времени (малой инерционности) и достаточно высокого уровня надежности. В свою очередь, большое количество трудоемких операций с низкой прецизионностью делают способ-прототип трудновоспроизводимым, следствием чего являются низкий выход годных, высокие трудоемкость и себестоимость ТР.
Заявляемое изобретение направлено на решение задачи улучшения значений параметров ТР (уменьшение допуска на величину номинального сопротивления и постоянной В, уменьшение инерционности, увеличение длительности наработки), создания высокотехнологичными методами шкалы номинальных значений сопротивлений, снижения трудоемкости, повышения выхода годных.
Осуществление предполагаемого изобретения позволит создать шкалу номинальных сопротивлений от 1 Ом до 106 Ом, обеспечит уменьшение допуска на величину номинального сопротивления до ± 5%, уменьшение допуска на величину В до ±3% уменьшение значения тепловой постоянной временя до 0,7 сек, увеличение длительности наработки до 32000 час, повышение плотности монтажа в радиоэлектронной аппаратуре, возможность двустороннего монтажа. При этом, за счет использования высокотехнологичной и легковоспроизводимой технологии достигается повышение выхода годных и значительное снижение трудоемкости.
Для достижения обеспечиваемого изобретением технического результата предлагается способ изготовления пленочного терморезистора, при котором формируют заготовку терморезистора из полупроводниковых материалов, разделяют ее на прямоугольные пластины, проводят обжиг и нанесение электродов; при этом заготовку терморезистора формируют литьем из шликера на основе полупроводниковых материалов и органического связующего в виде сырой пленки, проводят указанное разделение на пластины, после чего проводят обжиг пластин, а электроды наносят по коротким, либо длинным граням пластин, в зависимости от заданного номинального сопротивления.
Отличительными от прототипа являются следующие признаки: формирование заготовки терморезистора не на керамическом носителе (подложке), а непосредственно из пленки, полученной литьем из шликера на основе полупроводникового материала с органическим связующим; обжиг после разделения сырой пленки на отдельные прямоугольные пластины (а не до разделения); возможность нанесения электродов по различным граням пластин в соответствия с требуемым значением номинального сопротивления.
На сегодняшний день неизвестно такое или идентичное заявляемому техническое решение, что позволяет считать предлагаемый способ отвечающим критерию "новизна".
В предлагаемом способе заготовку терморезистора формируют литьем из шликера в виде сырой пленки, т.е. без использования носителя (подложки), что обуславливает уменьшение тепловой постоянной времени (инерционности) и позволяет повысить точность всех термометрических измерений за счет непосредственного контакта термодатчика с контролируемой средой. Кроме того, литьевой способ обеспечивает однородность и равномерность полупроводникового материала, что способствует достижению значительно меньшего разброса по электропроводности (и соответственно, по номинальному сопротивлению) и энергии активации (постоянная В).
Использование в терморезисторе, изготовленном предлагаемым способом, только двух конструктивных материалов терморезистивного и проводящего - исключает образование нескольких переходных слоев на границе раздела материалов с различными значениями КЛТР ("керамика терморезистивный слой - проводящий слой стекло"), как в прототипе. Это обстоятельство приводит к значительному увеличению температурновременной стабильности ТР.
Предлагаемый способ позволяет создать шкалу номинальных сопротивлений ( в отличие от прототипа, который позволяет реализовать лишь одно номинальное сопротивление) за счет получения объемного ТР вместо плоскостного и расположения электродов на различных гранях пластин.
Таким образом, впервые осуществленное оригинальное сочетание некоторых элементов технологии производства монолитных керамических конденсаторов и технологии производства терморезисторов обеспечило возможность создания качественно нового класса объемных высокостабильных миниатюрных терморезисторов с улучшенными параметрами.
Заявляемое техническое решение как совокупность указанных существенных признаков составляет неразрывную причинно-следственную связь с достигаемым техническим результатом и отвечает критерию "изобретательский уровень".
Предлагаемый способ осуществляют следующим образом: для формирования заготовки терморезистора готовят термочувствительный полупроводниковый материал на основе тройных и четверных систем 3 d -окислов ( системы окислов Mn,Ni,Co,Zn, легированные добавками Cu, Li и т.д.), проводят помол до требуемой степени дисперсности и приготавливают литьевой шликер смешиванием термочувствительного полупроводникового материала с органическим связующим, например, 3-5%-ным раствором каучука в бензине, в фарфоровом барабане в течение 0,5-2 час, в соответствии с традиционной в керамическом производстве технологией получения литьевых шликеров (УБО.027.772ТИ). Из полученного шликера осуществляют литье пленки через фильеру с регулируемым сечением. Несколько слоев пленки уплотняют до требуемой толщины (от 0,3мм до 2 мм) путем проката через вальцы. Затем из пленки производят вырубку прямоугольных пластин (размером 0,3х1,5х1,5 мм до 2х5х25мм) и обжигают их в воздушной среде при температуре 1000-1300°С с выдержкой в течение 1-3 час, при пиковой температуре. Электроды формируют путем нанесения серебросодержащих паст, известных в керамическом производстве, и вжигания при температуре 820-870oС с выдержкой в течение 0,5-1 час. При этом электроды могут быть нанесены по различным граням пластин в зависимости от заданного номинального значения сопротивления. Для припайки выводов используют припой ПОС-61 или припайную пасту на его основе, а также серебросодержащие припои (например. Пср-2).
При этом возможно исполнение ТР с одно- или разнонаправленными выводами, которые могут быть проволочными или ленточными. Затем терморезистор покрывают влагозащитной эмалью путем окунания с последующей подсушкой при температуре ≈125oС в течение 1 час. Результаты реализаций предлагаемого способа изготовления ТР, а также для сравнения способа изготовления ТР-5 (прототип) и терморезистора типа ММТ-12 (аналог) приведены в таблице.
Как следует из данных, представленных в таблице, предлагаемый способ позволяет достичь значительного улучшения технических и эксплуатационных характеристик ТР по сравнению с прототипом:
снижение инерционности (уменьшение значения тепловой постоянной временя от 8 до 0,7 сек);
уменьшение разброса значений номинального сопротивления (от ±10% до ±5%) и постоянной В (от ±10% до ±3%);
повышение температурно-временной стабильности (увеличение длительности наработки от 15000 час. до 32000 час). Кроме того, обеспечиваются:
широкий диапазон номинальных значений сопротивления (от 1•101Oм до 1•1O6Oм);
возможность повышения плотности монтажа;
значительно более воспроизводимая и менее трудоемкая технология;
более высокий процент выхода годных ТР и снижение себестоимости;
значительное снижение расхода драгметаллов по сравнению с существующими типами ТР.
Терморезисторы, изготовленные предлагаемым способом, могут использоваться в схемах и устройствах для термокомпенсации, термостабилизации, температурного контроля, измерения и регулирования температуры в медицинской и бытовой технике, контрольно-измерительной аппаратуре, приборостроении, связи, автомобилестроении и т.п.

Claims (1)

  1. Способ изготовления пленочного терморезистора, при котором формируют заготовку терморезистора из полупроводниковых материалов, разделяют ее на прямоугольные пластины, проводят обжиг и нанесение электродов, отличающийся тем, что заготовку терморезистора формируют литьем из шликера на основе полупроводниковых материалов и органического связующего в виде сырой пленки, затем проводят указанное разделение на пластины, после чего проводят обжиг, а электроды наносят по коротким либо длинным граням пластин в зависимости от заданного номинального сопротивления.
RU93030953A 1993-06-15 1993-06-15 Способ изготовления терморезистора RU2064700C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93030953A RU2064700C1 (ru) 1993-06-15 1993-06-15 Способ изготовления терморезистора

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93030953A RU2064700C1 (ru) 1993-06-15 1993-06-15 Способ изготовления терморезистора

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU93030953A RU93030953A (ru) 1995-11-10
RU2064700C1 true RU2064700C1 (ru) 1996-07-27

Family

ID=20143131

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU93030953A RU2064700C1 (ru) 1993-06-15 1993-06-15 Способ изготовления терморезистора

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2064700C1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002045888A1 (fr) * 2000-12-08 2002-06-13 Centre National De La Recherche Scientifique Procede de fabrication de films minces en composite metal/ceramique
RU2556876C1 (ru) * 2014-01-29 2015-07-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Башкирский государственный университет" Терморезистивный материал на основе асфальта пропановой деасфальтизации

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1. Шефтель И.Г. Терморезисторы.- М.: Наука, 1973, с. 28. 2. Заявка ФРГ N 1648209, кл. Н 01 С 7/00, 1973. 3. Патент США N 3503030, кл. Н 01 С 7/00, 1970. 4. Захаров В.И. и др. Пленочные терморезисторы для гибридных микросхем и устройств микроэлектроники.- М.: 1986, с.37. *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002045888A1 (fr) * 2000-12-08 2002-06-13 Centre National De La Recherche Scientifique Procede de fabrication de films minces en composite metal/ceramique
US7585456B2 (en) 2000-12-08 2009-09-08 Centre National De La Recherche Scientifique Manufacturing process for thin films made of metal/ceramic composite
US7871562B2 (en) 2000-12-08 2011-01-18 Centre National De La Recherche Scientifique Manufacturing process for thin films made of metal /ceramic composite
RU2556876C1 (ru) * 2014-01-29 2015-07-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Башкирский государственный университет" Терморезистивный материал на основе асфальта пропановой деасфальтизации

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4361597A (en) Process for making sensor for detecting fluid flow velocity or flow amount
JPH04502966A (ja) 温度センサとその製造方法
JPH10224004A (ja) 厚膜抵抗体ペースト
JPS6038802B2 (ja) 電気抵抗器およびその製造
RU2064700C1 (ru) Способ изготовления терморезистора
JPH0736361B2 (ja) 抵抗材料、その製造方法およびそれを用いた抵抗ペースト
JP2021532539A (ja) セラミック発熱体およびその製造方法ならびに用途
JP3033852B2 (ja) 窒化アルミニウムヒータ用抵抗体及び抵抗ペースト組成物
RU2755344C1 (ru) Способ получения толстоплёночных структур для теплоэлектрических генераторов
CN112321330B (zh) 一种基于多副族元素的陶瓷发热体及其制备方法和用途
JPS6312326B2 (ru)
JPS6326522B2 (ru)
JP2000136967A (ja) 温度検知素子
JP3635669B2 (ja) 厚膜多層基板の製造方法
RU2792330C1 (ru) Платиновая резистивная паста
JPS6351356B2 (ru)
RU2669001C1 (ru) Резистивная паста
JP4596622B2 (ja) セラミックヒーターとこれを用いたウエハ加熱装置
JPH1012045A (ja) 低温焼成用導電ペースト
JPS58131702A (ja) 厚膜温度感応素子及びそれを製造するための方法及び材料
US20220238261A1 (en) High Adhesion Resistive Composition
JPS58198754A (ja) ガスセンサ素子用ヒ−タ付基板の製造方法
RU12744U1 (ru) Нагревательный элемент
JP3697135B2 (ja) グレーズド絶縁基板、集合絶縁基板、その製造方法、チップ型ヒューズ及びヒューズ抵抗器
US3565682A (en) Ceramic electrical resistors containing pdm02,where m is co,cr,rh or cr/rh