RU2061109C1 - Способ получения монокристаллов селеногаллата серебра - Google Patents

Способ получения монокристаллов селеногаллата серебра Download PDF

Info

Publication number
RU2061109C1
RU2061109C1 RU94021181A RU94021181A RU2061109C1 RU 2061109 C1 RU2061109 C1 RU 2061109C1 RU 94021181 A RU94021181 A RU 94021181A RU 94021181 A RU94021181 A RU 94021181A RU 2061109 C1 RU2061109 C1 RU 2061109C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
silver
monocrystals
selenohallate
manufacture
melt
Prior art date
Application number
RU94021181A
Other languages
English (en)
Other versions
RU94021181A (ru
Inventor
Н.Г. Колин
В.Г. Косушкин
Original Assignee
Филиал научно-исследовательского физико-химического института им.Л.Я.Карпова
Научно-исследовательский институт материалов электронной техники
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Филиал научно-исследовательского физико-химического института им.Л.Я.Карпова, Научно-исследовательский институт материалов электронной техники filed Critical Филиал научно-исследовательского физико-химического института им.Л.Я.Карпова
Priority to RU94021181A priority Critical patent/RU2061109C1/ru
Publication of RU94021181A publication Critical patent/RU94021181A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2061109C1 publication Critical patent/RU2061109C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Изобретение относится к технологии получения тройных полупроводниковых соединений типа AIBIIIC VI 2 и промышленно применимо при получении монокристаллов селеногаллата серебра, которые широко используются в производстве изделий нелинейной оптики. Задачей изобретения является получение высококачественных монокристаллов селеногаллата серебра больших физических размеров (диаметром до 40 мм, длиной до 100 мм) со следующими техническими характеристиками: диапазон пропускания 0,725 - 18,0 мкм; ширина запрещенной зоны 1,83 эВ; угол фазового согласования 46 - 48 град. Сущность изобретения: способ получения монокристалла селеногаллата серебра основан на получении монокристаллов направленной кристаллизации расплава при градиенте температуры вблизи фронта кристаллизации, при этом направленную кристаллизацию проводят вытягиванием монокристалла на затравку из расплава в тигле при градиенте температуры 170 - 190 oC/см и постоянстве стехиометрического состава выращиваемого монокристалла со скоростью 3 - 4 мм/ч. 1 табл.

Description

Изобретение относится к технологии получения тройных полупроводниковых соединений типа AIBIIIC VI 2 и может быть использовано при получении мронокристаллов селеногаллата серебра, которые широко используются в производстве изделий нелинейной оптики (мощные технологические лазеры и др.).
Известен способ получения монокристаллов селеногаллата серебра направленной кристаллизацией расплава при градиенте температуры вблизи фронта кристаллизации 30оС/см и скорости выращивания 3-7 мм/сут [1]
Выращивание проводили методом Бриджена-Стокбаргера в кварцевых ампулах диаметром 3-5 см на затравочном кристалле, ориентированном вдоль направления (001).
Недостатками способа являются низкая скорость выращивания, высокая неоднородность монокристаллов, сильное отклонение от стехиометрического состава AgGaSe2 в сторону избытка Ga2Se3. С целью гомогенизации состава и устранения центров рассеивания кристаллы подвергались отжигу в парах Ag2Se и Ag2Se-Se при 750оС в течение 30 сут.
Задача изобретения получение высококачественных монокристаллов селеногаллата серебра больших физических размеров с хорошей однородностью и воспроизводимостью свойств и высоким процентом выхода годных монокристаллов.
Для этого направленную кристаллизацию проводят вытягиванием монокристалла на затравку из расплава в тигле при градиенте температуры 170-190оС/см со скоростью 3-4 мм/ч при постоянстве стехиометрического состава выращиваемого монокристалла.
При градиентах температуры менее 170оС/см снижается устойчивость роста монокристалла и уменьшается выход годного до 20% при градиентах температуры более 190оС/см также снижается выход годного за счет увеличения оптической неоднородности монокристаллов.
Постоянство стехиометрического состава выращиваемого кристалла обеспечивается увеличением градиента температуры на 3-5оС на каждый сантиметр длины.
При скорости увеличения градиента температуры менее 3оС/см длины монокристалла уменьшается скорость кристаллизации и соответствернно падает производительность процесса, при скорости увеличения градиента температуры более 5оС/см снижается выход монокристаллов за счет возрастания брака по растрескиванию слитков.
При скорости вытягивания менее 3 мм/ч снижается производительность процесса и возрастает неоднородность монокристаллов, при скорости вытягивания более 4 мм/ч снижается выход годных монокристаллов за счет растрескивания слитков.
П р и м е р. Синтез селеногаллата серебра проводят в тигле из пиролитического нитрида бора. Загрузку компонентов галлия, серебра и селена рассчитывают из стехиометрического соотношения их в соединении. В тигель загружают 161 г серебра чистотой 99,9999, 104 г галлия и 239 г селена. Тигель с загруженными компонентами помещают в камеру установки выращивания монокристаллов и нагревают до 1035-1045оС в течение 2 ч. Камеру установки предварительно откачивают до остаточного давления 10-2 мм рт.ст. и наполняют инертным газом до давления 40 атм. Указанные условия в камере выдерживают в течение 15 ч, что обеспечивает получение соединения высокой гомогенности. Полученный расплав соединения охлаждают со скоростью 100оС/ч до 700оС, после чего скорость охлаждения увеличивают до 150-200оС и охлаждают до комнатной температуры.
Полученный материал извлекают из тигля и контролируют рентгеновским методом фазовый состав. Синтезированный однофазный селеногаллат серебра вновь помещают в тигель установки выращивания монокристаллов. На верхнем штоке закрепляют затравку, а в тигель с загруженным селеногаллатом серебра помещают также 150 г оксида бора, который после расплавления создает на поверхности расплава в тигле слой толщиной 15 мм. Загруженные компоненты в тигле расплавляют и устанавливают температуру поверхности расплава на 10-12оС выше температуры плавления соединения, выдерживают расплав для гомогенизации при указанных условиях в течение 30-40 мин и проводят затравливание. После затравливания вытягивают монокристалл на затравку из расплава в тигле при осевом градиенте температуры в кристалле 170-190оС/см с увеличением градиента температуры на 3-5оС на каждый сантиметр длины вытягиваемого монокристалла. Скорость вытягивания монокристалла 3-4 мм/ч. Монокристалл выращивают в атмосфере инертного газа при давлении 8-12 атм.
Получают монокристалл селеногаллата серебра AgGaSe2 диаметром 40 мм и высотой 75 мм, стехиометрического состава с шириной запрещенной зоны ΔЕ 1,83 эВ, диапазоном оптического пропускания λ= 0,7-18,0 мкм, углом фазового согласования θ=47 град, плотностью D 450 кг/мм2.
Режимы экспериментов реализации способа приведены в таблице.
Как видно из таблицы, предлагаемый способ позволяет получить высококачественные монокристаллы селеногаллата серебра, отличающиеся большими физическими размерами, высокой однородностью свойств и хорошими оптическими характеристиками, что невозможно получить в настоящее время другими способами.
Способ прошел испытание. В настоящее время монокристаллы селеногаллата серебра выпускаются опытными партиями для использования в производстве мощных технологических лазеров.

Claims (1)

  1. Способ получения монокристаллов селеногаллата серебра направленной кристаллизацией расплава при градиенте температуры вблизи фронта кристаллизации, отличающийся тем, что направленную кристаллизацию проводят вытягиванием монокристалла на затравку из расплава в тигле при градиенте температуры 170 190 град/см и постоянстве стехиометрического состава выращиваемого монокристалла со скоростью 3 4 мм/ч.
RU94021181A 1994-07-07 1994-07-07 Способ получения монокристаллов селеногаллата серебра RU2061109C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU94021181A RU2061109C1 (ru) 1994-07-07 1994-07-07 Способ получения монокристаллов селеногаллата серебра

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU94021181A RU2061109C1 (ru) 1994-07-07 1994-07-07 Способ получения монокристаллов селеногаллата серебра

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU94021181A RU94021181A (ru) 1996-04-27
RU2061109C1 true RU2061109C1 (ru) 1996-05-27

Family

ID=20156883

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU94021181A RU2061109C1 (ru) 1994-07-07 1994-07-07 Способ получения монокристаллов селеногаллата серебра

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2061109C1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Бадиков В.В., Лаптев В.В., Панюхин В.Л. и др. Получение и оптические свойства нелинейных монокристаллов селеногаллата серебра. Квантовая электроника. 1992, т.19, N 8, с.782-784. *

Also Published As

Publication number Publication date
RU94021181A (ru) 1996-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004099340A (ja) 炭化珪素単結晶育成用種結晶と炭化珪素単結晶インゴット及びその製造方法
US20060260536A1 (en) Vessel for growing a compound semiconductor single crystal, compound semiconductor single crystal, and process for fabricating the same
EP0751242A1 (en) Process for bulk crystal growth
JPH1067600A (ja) 単結晶炭化珪素インゴット及びその製造方法
JPH04292499A (ja) 炭化珪素単結晶の製造方法
US4299650A (en) Minimization of strain in single crystals
RU2061109C1 (ru) Способ получения монокристаллов селеногаллата серебра
US5667585A (en) Method for the preparation of wire-formed silicon crystal
CN113293429B (zh) 一种单斜相Ga2S3单晶的制备方法
EP1114884A1 (en) Process for producing compound semiconductor single crystal
JPH0244798B2 (ru)
JPH07206597A (ja) ZnSeバルク単結晶の製造方法
EP0355833A2 (en) Method of producing compound semiconductor single crystal
JP3513046B2 (ja) 単結晶の製造装置
RU2818932C1 (ru) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ АРСЕНИДА ГАЛЛИЯ (GaAs)
RU2813036C1 (ru) Способ выращивания монокристаллов тройного соединения цинка, германия и фосфора
JPS6090897A (ja) 化合物半導体単結晶の製造方法および製造装置
JP2873449B2 (ja) 化合物半導体浮遊帯融解単結晶成長方法
JP2700145B2 (ja) 化合物半導体単結晶の製造方法
SU678748A1 (ru) Способ получени кристаллов
JPS6065794A (ja) 高品質ガリウム砒素単結晶の製造方法
Govinda Rajan et al. Synthesis and single crystal growth of gallium phosphide by the liquid encapsulated vertical Bridgman technique
JP2005047797A (ja) InP単結晶、GaAs単結晶、及びそれらの製造方法
JPH10212200A (ja) 半絶縁性GaAs単結晶の製造方法
JPS627693A (ja) 化合物半導体単結晶の成長装置