RU2019135167A - Испарительное устройство для системы вакуумного осаждения, способ и устройство для осаждения пленки материала - Google Patents

Испарительное устройство для системы вакуумного осаждения, способ и устройство для осаждения пленки материала Download PDF

Info

Publication number
RU2019135167A
RU2019135167A RU2019135167A RU2019135167A RU2019135167A RU 2019135167 A RU2019135167 A RU 2019135167A RU 2019135167 A RU2019135167 A RU 2019135167A RU 2019135167 A RU2019135167 A RU 2019135167A RU 2019135167 A RU2019135167 A RU 2019135167A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
evaporation
plate
crucible
opening
mesh
Prior art date
Application number
RU2019135167A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2815055C2 (ru
Inventor
Юри РУССО
Жан-Луи ГИЙО
Франк СТЕММЕЛАН
Original Assignee
Рибе
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Рибе filed Critical Рибе
Publication of RU2019135167A publication Critical patent/RU2019135167A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2815055C2 publication Critical patent/RU2815055C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/26Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Claims (20)

1. Испарительное устройство, содержащее испарительную ячейку (2), которая включает в себя нагревательные средства (4 и 6) и тигель (5), характеризующийся наличием верхнего открытого конца и нижнего глухого дна для размещения на нем загружаемого материала (3), подлежащего испарению или возгонке, причем нагревательные средства (4 и 6) выполнены с возможностью нагрева тигеля, содержащего загружаемый материал, и создания потока материала в паровой фазе путем испарения или возгонки загружаемого материала (3);
отличающееся тем, что испарительное устройство дополнительно включает в себя фильтрующую вставку (70), содержащую:
- верхнюю часть (20) с коническим отверстием (11), предназначенную для размещения на верхнем открытом конце тигеля (5); и
- нижнюю часть (21), содержащую - если считать сверху вниз - пластину (13), которая снабжена, по меньшей мере, одним отверстием (130), и одну сетку (14); при этом нижняя часть (21) предназначена для установки в тигеле (5) между верхней частью (20) и загружаемым материалом (3).
2. Испарительное устройство по п. 1, в котором нагревательные средства включают в себя первую зону (4) нагрева и вторую зону (6) нагрева, причем первая зона (4) нагрева располагается в нижней части испарительной ячейки (2), а вторая зона (6) нагрева располагается в верхней части эффузионной ячейки (2).
3. Испарительное устройство по п. 2, в котором пластина (13) располагается над нижней частью испарительной ячейки (2).
4. Испарительное устройство по п. 1 или 2, в котором верхняя часть (21) содержит, если считать сверху вниз, другую пластину (12), снабженную, по меньшей мере, одним другим отверстием (120); пластину (13), снабженную, по меньшей мере, одним отверстием (130); и сетку (14).
5. Испарительное устройство по п. 4, в котором, по меньшей мере, одно указанное отверстие (130) в указанной пластине (13) и, по меньшей мере, одно указанное другое отверстие (120) в указанной другой пластине (12) располагаются в шахматном порядке.
6. Испарительное устройство по п. 1 или 2, в котором общая площадь поверхности, по меньшей мере, одного указанного отверстия (130) указанной пластины (13) составляет не более 1% площади поверхности указанной пластины (13).
7. Испарительное устройство по п. 1 или 2, в котором нижняя часть (21) содержит, если считать сверху вниз, указанную пластину (13), сетку (14) и другую сетку (15), причем размер ячеек сетки (14) меньше размера ячеек указанной другой сетки (15).
8. Испарительное устройство по п. 1 или 2, в котором коническое отверстие (11) фильтрующей вставки (70) образует конус вращения с усеченной вершиной и основанием.
9. Испарительное устройство по п. 1 или 2, в котором фильтрующая вставка (70) содержит колпачок с отверстием, который охватывает коническое отверстие (11) фильтрующей вставки (70), причем указанный колпачок выполнен с возможностью термической изоляции тигеля (5).
10. Испарительное устройство по п. 1 или 2, дополнительно содержащее крепежные средства (16) для соединения между собой нижней части (21) и верхней части (20) фильтрующей вставки (70).
11. Устройство для осаждения пленки материала на подложку (10), содержащее испарительное устройство по п. 1 или 2 и камеру (1) для вакуумного осаждения, причем указанное устройство для осаждения выполнено с возможностью осаждения, по меньшей мере, одной пленки указанного материала в паровой фазе на подложку (10).
12. Способ осаждения пленки материала на подложку (10), включающий в себя следующие стадии:
- размещение загружаемого материала (3), подлежащего испарению или возгонке, на дне тигеля (5) устройства для осаждения по п. 1;
- вакуумирование камеры (1) путем откачки из нее воздуха;
- нагревание тигеля, содержащего загружаемый материал (3), с целью создания потока материала в паровой фазе путем испарения или возгонки загружаемого материала (3);
- фильтрацию твердого и/или жидкого материала путем его пропускания через фильтрующую вставку (70) с обеспечением возможности одновременного прохождения потока материала в паровой фазе через коническое отверстие (11); и
- осаждение пленки из указанного материала в паровой фазе на подложку (10).
RU2019135167A 2018-11-06 2019-11-01 Испарительное устройство для системы вакуумного осаждения, способ и устройство для осаждения пленки материала RU2815055C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1860207A FR3088078B1 (fr) 2018-11-06 2018-11-06 Dispositif d'evaporation pour systeme d'evaporation sous vide, appareil et procede de depot d'un film de matiere
FR1860207 2018-11-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2019135167A true RU2019135167A (ru) 2021-05-04
RU2815055C2 RU2815055C2 (ru) 2024-03-11

Family

ID=

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020076152A (ja) 2020-05-21
US20200140991A1 (en) 2020-05-07
EP3650577A1 (fr) 2020-05-13
CN111139436A (zh) 2020-05-12
FR3088078A1 (fr) 2020-05-08
FR3088078B1 (fr) 2021-02-26
KR20200052244A (ko) 2020-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100980729B1 (ko) 증착 공정용 다중 노즐 증발원
KR100697663B1 (ko) 유기물 증착 장치
KR100758694B1 (ko) 유기발광소자 박막 제작을 위한 선형증발원
TW201125995A (en) Linear evaporation source and deposition apparatus having the same
JP2007314873A (ja) 複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源
RU2019135167A (ru) Испарительное устройство для системы вакуумного осаждения, способ и устройство для осаждения пленки материала
CN109200736A (zh) 冷凝板、真空干燥设备以及真空干燥方法
JP3754380B2 (ja) 薄膜堆積用分子線源セルと薄膜堆積方法
KR101589521B1 (ko) 밀봉 구조를 개선한 증착용 도가니 장치
KR101135519B1 (ko) 증발챔버의 진공펌프 보호장치
KR20110024223A (ko) 증발 장치 및 이를 포함하는 진공 증착 장치
KR101131599B1 (ko) 증발 장치 및 이를 구비하는 진공 증착 장치
KR20140120556A (ko) 증착 장치
KR100651258B1 (ko) 유기 박막 증착 공정용 멀티 노즐 도가니 장치
KR100770458B1 (ko) 유기박막 증착용 도가니 장치
KR20150069833A (ko) 증발장치
RU2815055C2 (ru) Испарительное устройство для системы вакуумного осаждения, способ и устройство для осаждения пленки материала
US6467427B1 (en) Evaporation source material supplier
WO2018137322A1 (zh) 一种坩埚
KR101474363B1 (ko) Oled 증착기 소스
WO2007069865A1 (en) Crucible assembly for deposition of organic thin film
KR101980280B1 (ko) 박막증착장치
JPH0570931A (ja) 真空蒸着装置および防着板
KR20070051602A (ko) 유기물 진공 증착 장치
CN116005114A (zh) 蒸镀源和蒸镀装置