RU2017120233A - Противоэлектрод для электрохромных устройств - Google Patents

Противоэлектрод для электрохромных устройств Download PDF

Info

Publication number
RU2017120233A
RU2017120233A RU2017120233A RU2017120233A RU2017120233A RU 2017120233 A RU2017120233 A RU 2017120233A RU 2017120233 A RU2017120233 A RU 2017120233A RU 2017120233 A RU2017120233 A RU 2017120233A RU 2017120233 A RU2017120233 A RU 2017120233A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
atomic ratio
niwtao
layer
stained
electrochromic
Prior art date
Application number
RU2017120233A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2017120233A3 (ru
RU2700361C2 (ru
Inventor
Дэйн ДЖИЛЛЭСПИ
Сридхар К. КАЙЛАСАМ
Роберт Т. РОЗБИЦКИ
Original Assignee
Вью, Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Вью, Инк. filed Critical Вью, Инк.
Publication of RU2017120233A publication Critical patent/RU2017120233A/ru
Publication of RU2017120233A3 publication Critical patent/RU2017120233A3/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2700361C2 publication Critical patent/RU2700361C2/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
    • G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/10—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating making use of vibrations, e.g. ultrasonic welding
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K9/00—Tenebrescent materials, i.e. materials for which the range of wavelengths for energy absorption is changed as a result of excitation by some form of energy
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C10/00—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces
    • C23C10/28—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces using solids, e.g. powders, pastes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/085—Oxides of iron group metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
    • C23C14/185—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment
    • C23C14/5806—Thermal treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment
    • C23C14/5846—Reactive treatment
    • C23C14/5853—Oxidation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
    • G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
    • G02F1/1524—Transition metal compounds
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
    • G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
    • G02F1/1525—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material characterised by a particular ion transporting layer, e.g. electrolyte
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153—Constructional details
    • G02F1/1533—Constructional details structural features not otherwise provided for
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153—Constructional details
    • G02F1/155—Electrodes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/90—Other aspects of coatings
    • C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F2001/1502—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect complementary cell
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153—Constructional details
    • G02F1/155—Electrodes
    • G02F2001/1555—Counter electrode
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/44—Arrangements combining different electro-active layers, e.g. electrochromic, liquid crystal or electroluminescent layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Claims (90)

1. Способ изготовления электрохромной стопы, включающий:
образование катодно окрашиваемого слоя, содержащего катодно окрашиваемый электрохромный материал; и
образование анодно окрашиваемого слоя, содержащего оксид никеля-вольфрама-тантала (NiWTaO).
2. Способ по п. 1, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 3:1.
3. Способ по п. 2, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 2,5:1.
4. Способ по п. 3, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,8:1 до 2,5:1.
5. Способ по п. 4, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 2:1 до 2,5:1.
6. Способ по п. 2, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 2:1 до 3:1.
7. Способ по п. 1, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,1:1 до 6:1.
8. Способ по п. 7, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,2:1 до 5:1.
9. Способ по п. 8, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,2:1 до 1:1.
10. Способ по п. 8, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 1:1 до 2:1.
11. Способ по п. 1, согласно которому образование анодно окрашиваемого слоя включает распыление одной или более мишеней для распыления с образованием NiWTaO.
12. Способ по п. 11, согласно которому по меньшей мере одна из указанных одной или более мишеней для распыления содержит элементарный металл, выбранный из группы, состоящей из никеля, вольфрама и тантала.
13. Способ по п. 11, согласно которому по меньшей мере одна из указанных одной или более мишеней для распыления содержит сплав, содержащий два или более металлов, выбранных из группы, состоящей из никеля, вольфрама и тантала.
14. Способ по п. 11, согласно которому по меньшей мере одна из указанных одной или более мишеней для распыления содержит оксид.
15. Способ по п. 1, согласно которому анодно окрашиваемый слой является по существу аморфным.
16. Способ по п. 1, согласно которому катодно окрашиваемый слой и анодно окрашиваемый слой выполняют в прямом физическом контакте друг с другом без отдельного слоя ионного проводника, нанесенного между ними.
17. Способ по п. 1, согласно которому анодно окрашиваемый слой содержит два или более подслоя, которые имеют разные составы и/или морфологии.
18. Способ по п. 1, согласно которому катодно окрашиваемый электрохромный материал содержит оксид вольфрама (WOx).
19. Способ по п. 18, согласно которому x меньше, чем 3,0.
20. Способ по п. 19, согласно которому x составляет по меньшей мере примерно 2,7.
21. Способ по п. 1, согласно которому катодно окрашиваемый слой содержит двойной слой или градуированный слой, причем часть катодно окрашиваемого слоя является суперстехиометрической по отношению к кислороду.
22. Электрохромная стопа, содержащая:
катодно окрашиваемый слой, содержащий катодно окрашиваемый материал; и
анодно окрашиваемый слой, содержащий оксид никеля-вольфрама-тантала (NiWTaO).
23. Электрохромная стопа по п. 22, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 3:1.
24. Электрохромная стопа по п. 23, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 2,5:1.
25. Электрохромная стопа по п. 24, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,8:1 до 2,5:1.
26. Электрохромная стопа по п. 25, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 2:1 до 2,5:1.
27. Электрохромная стопа по п. 23, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 2:1 до 3:1.
28. Электрохромная стопа по п. 22, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,1:1 до 6:1.
29. Электрохромная стопа по п. 28, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,2:1 до 5:1.
30. Электрохромная стопа по п. 29, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,2:1 до 1:1.
31. Электрохромная стопа по п. 29, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 1:1 до 2:1.
32. Электрохромная стопа по п. 22, в которой анодно окрашиваемый слой является по существу аморфным.
33. Электрохромная стопа по п. 22, в которой анодно окрашиваемый слой содержит аморфную матрицу первого материала, имеющую области второго материала, рассеянного по всей аморфной матрице.
34. Электрохромная стопа по п. 22, в которой катодно окрашиваемый слой находится в прямом физическом контакте с анодно окрашиваемым слоем.
35. Электрохромная стопа по п. 22, в которой анодно окрашиваемый слой содержит два или более подслоя, имеющих различные составы и/или морфологии.
36. Электрохромная стопа по п. 22, в которой катодно окрашиваемый материал содержит оксид вольфрама (WOx).
37. Электрохромная стопа по п. 36, в которой x меньше, чем 3,0.
38. Электрохромная стопа по п.37, в которой x составляет по меньшей мере примерно 2,7.
39. Электрохромная стопа по п. 22, в которой катодно окрашиваемый слой содержит двойной слой или градуированный слой, причем часть катодно окрашиваемого слоя является суперстехиометрической по отношению к кислороду.
40. Комплексная система для нанесения покрытий при изготовлении электрохромной стопы, содержащая:
множество установок для нанесения покрытий, выровненных последовательно, соединенных между собой и выполненных с возможностью работы для пропускания подложки от одной установки к следующей без открытия подложки воздействию внешней среды, причем указанное множество установок для нанесения покрытий содержит
(i) первую установку для нанесения покрытий, содержащую один или более источников материалов для нанесения катодно окрашиваемого слоя;
(ii) вторую установку для нанесения покрытий, содержащую один или более источников материалов для нанесения анодно окрашиваемого слоя, содержащего оксид никеля-вольфрама-тантала (NiWTaO); и
контроллер, содержащий программные инструкции для пропускания подложки через указанное множество установок таким образом, чтобы обеспечить нанесение на подложку (i) катодно окрашиваемого слоя и (ii) анодно окрашиваемого слоя с образованием стопы, содержащей по меньшей мере катодно окрашиваемый слой и анодно окрашиваемый слой.
41. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 3:1.
42. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 41, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 2,5:1.
43. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 42, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,8:1 до 2,5:1.
44. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 43, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 2:1 до 2,5:1.
45. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 41, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 2:1 до 3:1.
46. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,1:1 до 6:1.
47. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 46, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,2:1 до 5:1.
48. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 47, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,2:1 до 1:1.
49. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 48, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 1:1 до 2:1.
50. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой по меньшей мере один из указанных одного или более источников материалов для нанесения анодно окрашиваемого слоя содержит элементарный металл, выбранный из группы, состоящей из: никеля, вольфрама и тантала.
51. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой по меньшей мере один из указанных одного или более источников материалов для нанесения анодно окрашиваемого слоя содержит сплав, содержащий два или более металлов, выбранных из группы, состоящей из: никеля, вольфрама и тантала.
52. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой по меньшей мере один из указанных одного или более источников материалов для нанесения анодно окрашиваемого слоя содержит оксид.
53. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, которая выполнена с возможностью нанесения анодно окрашиваемого слоя в виде по существу аморфного материала.
54. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, которая выполнена с возможностью нанесения катодно окрашиваемого слоя и анодно окрашиваемого слоя в прямом физическом контакте друг с другом.
55. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой контроллер содержит программные инструкции для нанесения анодно окрашиваемого слоя в виде двух или более подслоев, имеющих различные составы и/или морфологии.
56. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой катодно окрашиваемый слой содержит оксид вольфрама (WOx).
57. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 56, в которой x меньше, чем 3,0.
58. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 57, в которой x составляет по меньшей мере примерно 2,7.
59. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой катодно окрашиваемый слой содержит двойной слой или градуированный слой, причем часть катодно окрашиваемого слоя является суперстехиометрической по отношению к кислороду.
60. Композиция веществ, содержащая:
(a) никель;
(b) вольфрам;
(c) тантал и
(d) кислород, причем
композиция имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 3:1, и
композиция имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,1:1 до 6:1.
61. Композиция по п. 60, в которой атомное отношение Ni:(W+Ta) составляет примерно от 1,5:1 до 3:1.
62. Композиция по п. 61, в которой атомное отношение Ni:(W+Ta) составляет примерно от 1,5:1 до 2,5:1.
63. Композиция по п. 62, в которой атомное отношение Ni:(W+Ta) составляет примерно от 1,8:1 до 2,5:1.
64. Композиция по п. 63, в которой атомное отношение Ni:(W+Ta) составляет примерно от 2:1 до 2,5:1.
65. Композиция по п. 61, в которой атомное отношение Ni:(W+Ta) составляет примерно от 2:1 до 3:1.
66. Композиция по п. 60, в которой атомное отношение W:Ta составляет примерно от 0,1:1 до 6:1.
67. Композиция по п. 66, в которой атомное отношение W:Ta составляет примерно от 0,2:1 до 5:1.
68. Композиция по п. 67, в которой атомное отношение W:Ta составляет примерно от 0,2:1 до 1:1.
69. Композиция по п. 68, в которой атомное отношение W:Ta составляет примерно от 1:1 до 2:1.
70. Композиция по п. 60, выполненная в слое, имеющем толщину примерно между 50-650 нм.
71. Композиция по п. 60, которая образована посредством распыления одной или более мишеней для распыления.
72. Композиция по п. 60, которая становится окрашенной в ответ на приложенный анодный потенциал.
73. Композиция по п. 60, которая является аморфной.
74. Композиция по п. 60, которая выполнена в виде аморфной матрицы с распределенными в ней нанокристаллами.
75. Композиция по п. 74, в которой нанокристаллы имеют средний диаметр примерно 50 нм или менее.
76. Композиция по п. 75, в которой нанокристаллы имеют средний диаметр примерно между 1-10 нм.
RU2017120233A 2014-11-26 2015-11-20 Противоэлектрод для электрохромных устройств RU2700361C2 (ru)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201462085096P 2014-11-26 2014-11-26
US62/085,096 2014-11-26
US201562192443P 2015-07-14 2015-07-14
US62/192,443 2015-07-14
PCT/US2015/061995 WO2016085823A1 (en) 2014-11-26 2015-11-20 Counter electrode for electrochromic devices

Publications (3)

Publication Number Publication Date
RU2017120233A true RU2017120233A (ru) 2018-12-26
RU2017120233A3 RU2017120233A3 (ru) 2019-04-11
RU2700361C2 RU2700361C2 (ru) 2019-09-16

Family

ID=56074922

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2017120233A RU2700361C2 (ru) 2014-11-26 2015-11-20 Противоэлектрод для электрохромных устройств

Country Status (10)

Country Link
EP (2) EP3224671B1 (ru)
JP (2) JP7067833B2 (ru)
KR (2) KR102479688B1 (ru)
CN (2) CN107111199B (ru)
AU (2) AU2015353823B2 (ru)
CA (1) CA2968832A1 (ru)
HK (1) HK1244544A1 (ru)
RU (1) RU2700361C2 (ru)
TW (3) TWI736526B (ru)
WO (1) WO2016085823A1 (ru)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10591795B2 (en) 2009-03-31 2020-03-17 View, Inc. Counter electrode for electrochromic devices
US10852613B2 (en) 2009-03-31 2020-12-01 View, Inc. Counter electrode material for electrochromic devices
US9664974B2 (en) 2009-03-31 2017-05-30 View, Inc. Fabrication of low defectivity electrochromic devices
US11187954B2 (en) * 2009-03-31 2021-11-30 View, Inc. Electrochromic cathode materials
US8582193B2 (en) 2010-04-30 2013-11-12 View, Inc. Electrochromic devices
US9261751B2 (en) 2010-04-30 2016-02-16 View, Inc. Electrochromic devices
US10261381B2 (en) 2009-03-31 2019-04-16 View, Inc. Fabrication of low defectivity electrochromic devices
US10156762B2 (en) 2009-03-31 2018-12-18 View, Inc. Counter electrode for electrochromic devices
US9759975B2 (en) 2010-04-30 2017-09-12 View, Inc. Electrochromic devices
US11891327B2 (en) 2014-05-02 2024-02-06 View, Inc. Fabrication of low defectivity electrochromic devices
EP3677962B1 (en) 2014-09-05 2021-11-10 View, Inc. Integrated deposition system and method for fabricating an electrochromic stack
EP4220291A3 (en) 2014-11-26 2023-10-04 View, Inc. Counter electrode for electrochromic devices
KR102202928B1 (ko) 2017-04-24 2021-01-14 주식회사 엘지화학 투광성 필름 및 이를 포함하는 전기변색소자
KR20180119120A (ko) * 2017-04-24 2018-11-01 주식회사 엘지화학 도전성 적층체 및 이를 포함하는 전기변색소자
KR102141631B1 (ko) * 2017-05-31 2020-08-05 주식회사 엘지화학 투과도 가변 필름 및 투과도 가변 필름의 제조방법
KR102035907B1 (ko) * 2017-12-15 2019-10-23 주식회사 엘지화학 장식 부재 및 이의 제조방법
KR101986348B1 (ko) * 2017-12-15 2019-06-05 성문전자주식회사 이색이상의 다변색이 가능한 스마트 윈도우용 변색필름
KR101999352B1 (ko) * 2017-12-15 2019-07-11 성문전자주식회사 투과율이 가변되는 스마트 윈도우용 변색필름
EP3823930A4 (en) * 2018-07-18 2022-04-20 Comberry, LLC ELECTROCHROMIC MATERIAL AND METHOD FOR MAKING IT
EP3857277A4 (en) * 2018-09-26 2022-06-22 Sage Electrochromics, Inc. ELECTROACTIVE DEVICE AND METHOD
CN110208997A (zh) * 2019-05-31 2019-09-06 广东旗滨节能玻璃有限公司 一种智能变色玻璃及其制备方法和应用
RU2758201C2 (ru) * 2019-11-28 2021-10-26 Общество с ограниченной ответственностью "СмартЭлектроГласс" Противоэлектрод электрохромного устройства и способ его изготовления
FR3105459B1 (fr) * 2019-12-20 2023-06-23 Saint Gobain Trempe thermique d’une electrode travail
US11703737B2 (en) * 2020-02-12 2023-07-18 Sage Electrochromics, Inc. Forming electrochromic stacks using at most one metallic lithium deposition station
US20210271145A1 (en) * 2020-02-25 2021-09-02 Sage Electrochromics, Inc. Approaches to modifying a color of an electrochromic stack in a tinted state
CN111747660A (zh) * 2020-07-09 2020-10-09 西安邮电大学 纳米孔阵列结构的电致变色复合薄膜及其制备方法、应用
CN114280111B (zh) * 2021-12-24 2023-11-24 复旦大学 铈掺杂氧化钨复合材料和硫化氢传感器、以及制备方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030031928A1 (en) * 1999-05-20 2003-02-13 Saint-Gobain Vitrage Electrochemical device
US6859297B2 (en) * 2001-08-07 2005-02-22 Midwest Research Institute Electrochromic counter electrode
DE60224681T2 (de) * 2001-08-20 2009-01-08 Showa Denko K.K. Mehrfarben-lichtemissionslampe und lichtquelle
US7372610B2 (en) * 2005-02-23 2008-05-13 Sage Electrochromics, Inc. Electrochromic devices and methods
US7593154B2 (en) * 2005-10-11 2009-09-22 Sage Electrochromics, Inc. Electrochromic devices having improved ion conducting layers
EP2255244A1 (en) * 2008-03-17 2010-12-01 NV Bekaert SA A light weight electrochromic mirror stack
US8842357B2 (en) * 2008-12-31 2014-09-23 View, Inc. Electrochromic device and method for making electrochromic device
US8582193B2 (en) * 2010-04-30 2013-11-12 View, Inc. Electrochromic devices
US8300298B2 (en) * 2010-04-30 2012-10-30 Soladigm, Inc. Electrochromic devices
US9007674B2 (en) * 2011-09-30 2015-04-14 View, Inc. Defect-mitigation layers in electrochromic devices
WO2013049379A1 (en) 2011-09-30 2013-04-04 Soladigm, Inc Improved optical device fabrication
US9664974B2 (en) * 2009-03-31 2017-05-30 View, Inc. Fabrication of low defectivity electrochromic devices
US8764950B2 (en) * 2010-04-30 2014-07-01 View, Inc. Electrochromic devices
US8289610B2 (en) * 2009-08-27 2012-10-16 Guardian Industries Corp. Electrochromic devices, assemblies incorporating electrochromic devices, and/or methods of making the same
KR101097856B1 (ko) * 2010-03-04 2011-12-23 서울대학교산학협력단 전기 변색 소자 제조방법
WO2011137104A1 (en) * 2010-04-30 2011-11-03 Soladigm, Inc. Electrochromic devices
CN107015411B (zh) 2010-04-30 2021-06-18 唯景公司 电致变色器件以及制造所述器件的方法和装置
CN102540612B (zh) * 2010-12-31 2014-06-11 京东方科技集团股份有限公司 一种电致变色器件的制作方法和电致变色器件
WO2012109494A2 (en) * 2011-02-09 2012-08-16 Kinestral Technologies, Inc. Electrochromic multi-layer devices with spatially coordinated switching
EP2734601B1 (en) * 2011-07-21 2019-09-04 Sage Electrochromics, Inc. Electrochromic nickel oxide simultaneously doped with lithium and a metal dopant
ITRM20110536A1 (it) * 2011-10-10 2013-04-11 Univ Calabria Dispositivo elettrocromico.
WO2013074702A1 (en) * 2011-11-15 2013-05-23 Ashwin-Ushas Corporation, Inc. Complimentary polymer electrochromic device
EP2883108B1 (en) * 2012-08-08 2022-06-22 Kinestral Technologies, Inc. Electrochromic multi-layer devices with composite electrically conductive layers
WO2014113795A1 (en) * 2013-01-21 2014-07-24 Kinestral Technologies, Inc. Process for preparing a multi-layer electrochromic structure

Also Published As

Publication number Publication date
EP4130864A1 (en) 2023-02-08
CN107111199A (zh) 2017-08-29
TWI736526B (zh) 2021-08-21
CN107111199B (zh) 2022-03-04
KR20230003636A (ko) 2023-01-06
TW202206924A (zh) 2022-02-16
TW202314350A (zh) 2023-04-01
EP3224671B1 (en) 2024-02-28
JP7384421B2 (ja) 2023-11-21
JP2017538965A (ja) 2017-12-28
HK1244544A1 (zh) 2018-08-10
AU2015353823B2 (en) 2021-02-25
CA2968832A1 (en) 2016-06-02
JP7067833B2 (ja) 2022-05-16
AU2021202495B2 (en) 2023-02-09
RU2017120233A3 (ru) 2019-04-11
KR102479688B1 (ko) 2022-12-20
EP3224671A4 (en) 2018-06-20
EP3224671A1 (en) 2017-10-04
JP2021099492A (ja) 2021-07-01
AU2021202495A1 (en) 2021-05-20
AU2015353823A1 (en) 2017-06-08
WO2016085823A1 (en) 2016-06-02
TW201621438A (zh) 2016-06-16
TWI787905B (zh) 2022-12-21
KR20170086631A (ko) 2017-07-26
RU2700361C2 (ru) 2019-09-16
CN114488641A (zh) 2022-05-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2017120233A (ru) Противоэлектрод для электрохромных устройств
JP2017538965A5 (ru)
MX2019012770A (es) Acristalamiento de color y metodo para obtener el mismo.
JP2013544958A5 (ru)
JP2015061952A5 (ru)
WO2017203502A3 (en) High-precision shadow-mask-deposition system and method therefor
BR112015011879A2 (pt) método de produção de eletrodo para eletrólise
GB2491935A (en) Nickel-silicide formation with differential PT composition
PH12020500571A1 (en) Solar control coatings and methods of forming solar control coatings
SG11201908424QA (en) Coated steel sheet
MX362153B (es) Sustrato con un revestimiento resistente a la corrosión y procedimiento para su producción.
ES2379518T3 (es) Un procedimiento para fabricar una diana de óxido mediante depósito por pulverización catódica que comprende una primera fase y una segunda fase
MX2022005923A (es) Composicion acuosa retardante del fuego y composicion acuosa de recubrimiento que comprende dicha composicion retardante del fuego.
WO2014155944A8 (ja) 溶融Ａｌ－Ｚｎ系めっき鋼板及びその製造方法
MX2017016707A (es) Vidrio que comprende un revestimiento funcional que contiene plata e indio.
CH713317B8 (de) Substrat beschichtet mit einem Anti-Reflex-Beschichtungssystem mit Hartstoffbeschichtung sowie Verfahren zu dessen Herstellung.
WO2016061468A3 (en) High-speed deposition of mixed oxide barrier films
AR067094A1 (es) Composicion de recubrimiento que exhibe propiedades de resistencia a la corrosion, sustrato y metodo para producir la composicion.
WO2015090991A3 (de) Verfahren zur herstellung strukturierter metallischer beschichtungen
DE102008019665A1 (de) Transparentes Barriereschichtsystem
PH12016502097A1 (en) Steel plate for container
EA201692354A1 (ru) Материал, содержащий функциональный слой, изготовленный из серебра, кристаллизованного на слое оксида никеля
RU2019138325A (ru) Мишень для получения цветного остекления
JP2018538571A5 (ru)
MY180808A (en) In-cu alloy sputtering target and method for producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20201121