RU2016122191A - Использование полноформатного матричного датчика изображения для измерения толщины пленки в реальном времени на оборудовании для изготовления пленки - Google Patents

Использование полноформатного матричного датчика изображения для измерения толщины пленки в реальном времени на оборудовании для изготовления пленки Download PDF

Info

Publication number
RU2016122191A
RU2016122191A RU2016122191A RU2016122191A RU2016122191A RU 2016122191 A RU2016122191 A RU 2016122191A RU 2016122191 A RU2016122191 A RU 2016122191A RU 2016122191 A RU2016122191 A RU 2016122191A RU 2016122191 A RU2016122191 A RU 2016122191A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
substrate
film
deposition
tunable filter
thickness
Prior art date
Application number
RU2016122191A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2016122191A3 (ru
RU2717384C2 (ru
Inventor
Пол С. БОНИНО
Роберт П. ГЕРЛОСКИ
Джейсон М. ЛЕФЕВР
Original Assignee
Зирокс Корпорейшн
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Зирокс Корпорейшн filed Critical Зирокс Корпорейшн
Publication of RU2016122191A publication Critical patent/RU2016122191A/ru
Publication of RU2016122191A3 publication Critical patent/RU2016122191A3/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2717384C2 publication Critical patent/RU2717384C2/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • G01B11/0625—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
    • G01B11/0633—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection using one or more discrete wavelengths
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • G01B11/0683—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating measurement during deposition or removal of the layer
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0691—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of objects while moving
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • G01J3/0208—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using focussing or collimating elements, e.g. lenses or mirrors; performing aberration correction
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • G01J3/0229—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using masks, aperture plates, spatial light modulators or spatial filters, e.g. reflective filters

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Claims (37)

1. Способ обеспечения анализа толщины пленки с помощью спектрофотометра, включающий:
конфигурирование источника света для испускания светового пучка на пленку, осажденную на поверхности подложки, причем источник света расположен рядом с поверхностью подложки; и
конфигурирование линейного датчика для приема света, отражающегося от осажденной пленки на поверхности подложки, через градиентную линзу и линейно перестраиваемый фильтр, причем линейный датчик расположен рядом с подложкой, градиентная линза помещена на оптическом пути световых пучков, отражающихся от поверхности подложки, и между поверхностью подложки и линейно перестраиваемым фильтром, а линейно перестраиваемый фильтр помещен на оптическом пути света, отражающегося от поверхности подложки, и между линейным датчиком и градиентной линзой; и
конфигурирование процессора для определения толщины пленки на основании спектральной отражательной способности указанной пленки, принятой от линейного датчика,
причем линейно перестраиваемый фильтр является оптическим фильтром, имеющим покрытие для полосового пропускания, а свойство покрытия для полосового пропускания изменяется по длине линейно перестраиваемого фильтра таким образом, чтобы сдвигать центральную длину волны линейного перестраиваемого фильтра линейно по его длине.
2. Способ по п. 1, дополнительно включающий обеспечение зазора между линейно перестраиваемым фильтром и линейным датчиком.
3. Способ по п. 1, в котором линейный датчик является полноформатным матричным датчиком изображений. 
4. Способ по п. 1, в котором линейный датчик является микросхемой датчика изображения.
5. Способ по п. 1, дополнительно включающий:
конфигурирование процессора для выполнения инструкций, содержащих:
сравнение толщины пленки на основании спектральной отражательной способности с заранее определенным значением толщины и
регулировку по меньшей мере одного параметра осаждения для задания отрегулированного параметра осаждения, если разность между толщиной пленки и заранее определенным значением толщины больше, чем заранее определенный допуск.
6. Способ по п. 1, в котором указанная пленка содержит первую пленку, а указанный способ дополнительно включает:
конфигурирование второго источника света для испускания светового пучка на вторую пленку, расположенную на первой пленке;
конфигурирование второго линейного датчика в отличном местоположении, чем первый линейный датчик, для приема света, отражающегося от второй пленки, расположенной на первой пленке, через вторую градиентную линзу и второй линейно перестраиваемый фильтр, причем второй линейный датчик расположен рядом с подложкой, вторая градиентная линза помещена на оптическом пути света, отражающегося от поверхности первой пленки, и между поверхностью первой пленки и вторым линейно перестраиваемым фильтром, а второй линейно перестраиваемый фильтр помещен на оптическом пути световых пучков, отражающихся от поверхности первой пленки, и между вторым линейным датчиком и второй градиентной линзой; и
конфигурирование процессора для определения толщины второй пленки на основании спектральной отражательной способности второй пленки, принятой от второго линейного датчика,
причем второй линейно перестраиваемый фильтр является оптическим фильтром, имеющим покрытие для полосового пропускания, а свойство покрытия для полосового пропускания изменяется по длине второго линейно перестраиваемого фильтра таким образом, чтобы сдвигать центральную длину волны этого второго линейного перестраиваемого фильтра линейно по его длине.
7. Способ по п. 6, дополнительно включающий:
конфигурирование процессора для выполнения инструкций, содержащих:
сравнение толщины второй пленки на основании спектральной отражательной способности с заранее определенным значением толщины; и
регулировку по меньшей мере одного параметра осаждения, если разность между толщиной второй пленки и заранее определенным значением толщины больше, чем заранее определенный допуск.
8. Способ изготовления фоторецептора, включающий:
перемещение подложки со скоростью подачи подложки через систему для осаждения пленки, содержащую по меньшей мере одну станцию для осаждения пленки;
активацию указанной по меньшей мере одной станции для осаждения пленки для осаждения жидкости на подложку, причем количество указанной жидкости задано скоростью осаждения и объемом осаждения;
формирование первого слоя на подложке из указанной жидкости;
обеспечение света на встроенный спектрофотометр и получение спектроскопических ответных данных, представляющих по меньшей мере одно из числа подложки и первого слоя, причем указанный свет отражен по меньшей мере от одного из числа поверхности первого слоя и поверхности подложки или пропущен через по меньшей одно из числа первого слоя и подложки, и
определение с использованием по меньшей мере одного электронного процессора и на основании указанных спектрофотометрических данных толщины по меньшей мере одного из числа подложки и первого слоя;
сравнение с использованием по меньшей мере одного электронного процессора измеренного значения толщины с заранее определенным значением толщины и
регулировку по меньшей мере одного из числа скорости подачи подложки, скорости осаждения и объема осаждения.
9. Система для получения данных о толщине осажденных пленок с использованием спектрофотометра во время сборки фоторецептора, содержащая:
спектрофотометр, выполненный с возможностью получения спектроскопических ответных измерений света, отраженного от поверхности или пропущенного через поверхность по меньшей мере одного из числа подложки и слоя, осажденного поверх этой подложки;
по меньшей мере один электронный процессор, соединенный с возможностью осуществления связи со спектрофотометром и выполненный с возможностью:
определения с использованием по меньшей мере одного электронного процессора и на основании указанных спектрофотометрических данных толщины по меньшей мере одного из числа подложки и слоя и
сравнения с использованием по меньшей мере одного электронного процессора измеренного значения толщины с заранее определенным значением толщины;
подающее устройство для подложки для обеспечения подложки со скоростью подачи подложки и
станцию для осаждения слоя, соединенную с возможностью осуществления связи с указанным по меньшей мере одним электронным процессором, причем станция для осаждения слоя выполнена с возможностью осаждения указанного слоя поверх подложки по меньшей мере с одним из скорости осаждения и объема осаждения.
10. Система по п. 9, в которой указанный по меньшей мере один электронный процессор дополнительно выполнен с возможностью управления станцией для осаждения слоя для регулировки по меньшей мере одного из числа скорости осаждения и объема осаждения.
RU2016122191A 2015-06-18 2016-06-06 Использование полноформатного матричного датчика изображения для измерения толщины пленки в реальном времени на оборудовании для изготовления пленки RU2717384C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/743491 2015-06-18
US14/743,491 US9702689B2 (en) 2015-06-18 2015-06-18 Use of a full width array imaging sensor to measure real time film thicknesses on film manufacturing equipment

Publications (3)

Publication Number Publication Date
RU2016122191A true RU2016122191A (ru) 2017-12-11
RU2016122191A3 RU2016122191A3 (ru) 2020-01-14
RU2717384C2 RU2717384C2 (ru) 2020-03-23

Family

ID=57467217

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016122191A RU2717384C2 (ru) 2015-06-18 2016-06-06 Использование полноформатного матричного датчика изображения для измерения толщины пленки в реальном времени на оборудовании для изготовления пленки

Country Status (6)

Country Link
US (2) US9702689B2 (ru)
JP (1) JP2017009586A (ru)
KR (1) KR102355922B1 (ru)
CN (1) CN106257234B (ru)
DE (1) DE102016210367A1 (ru)
RU (1) RU2717384C2 (ru)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10132612B2 (en) 2015-07-30 2018-11-20 Hseb Dresden Gmbh Method and assembly for determining the thickness of a layer in a sample stack
KR102496479B1 (ko) * 2015-10-22 2023-02-06 삼성전자주식회사 3차원 카메라와 투과도 측정방법
EP3346229B1 (en) * 2017-01-09 2022-03-30 Unity Semiconductor GmbH Method and assembly for determining the thickness of layers in a sample stack
JP6487579B1 (ja) * 2018-01-09 2019-03-20 浜松ホトニクス株式会社 膜厚計測装置、膜厚計測方法、膜厚計測プログラム、及び膜厚計測プログラムを記録する記録媒体
KR102202789B1 (ko) * 2018-05-24 2021-01-14 주식회사 엘지화학 3층 구조의 연료전지용 수소이온교환 강화막 비파괴 두께 측정 방법
EP3434327B1 (de) * 2018-07-26 2020-06-17 WM Beautysystems AG & Co. KG Bestrahlungsvorrichtung zur bestrahlung von menschlicher haut
CN114112930B (zh) * 2020-08-26 2023-06-27 立邦涂料（中国）有限公司 涂料湿膜对比率的测试装置及测试方法
CN113433153B (zh) * 2021-05-18 2023-04-25 中国工程物理研究院材料研究所 一种梯度变形量样品弥散强化相的检测装置及方法

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0292898A (ja) * 1988-09-29 1990-04-03 Fujitsu Ltd 高温超伝導体薄膜の成長方法および装置
GB9219450D0 (en) * 1992-09-15 1992-10-28 Glaverbel Thin film thickness monitoring and control
US5278589A (en) 1992-11-04 1994-01-11 Xerox Corporation Single pass color printer
US5365074A (en) 1993-08-23 1994-11-15 Xerox Corporation Apparatus for determining registration of imaging members
DE19517194A1 (de) * 1995-05-11 1996-11-14 Giesecke & Devrient Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Prüfung von Blattgut, wie z.B. Banknoten oder Wertpapiere
US6836324B2 (en) * 1998-03-18 2004-12-28 Nova Measuring Instruments Ltd. Method and apparatus for measurements of patterned structures
KR100281203B1 (ko) * 1998-07-16 2001-02-01 장용균 고분자수지필름제조장치
US6351308B1 (en) * 1999-11-24 2002-02-26 Xerox Corporation Color printer color control system with automatic spectrophotometer calibration system
JP2002002045A (ja) 2000-04-20 2002-01-08 Sankyo Seiki Mfg Co Ltd インクリボンの色検出センサ及び色検出方法
US6638668B2 (en) 2000-05-12 2003-10-28 Ocean Optics, Inc. Method for making monolithic patterned dichroic filter detector arrays for spectroscopic imaging
JP2008186815A (ja) * 2001-03-23 2008-08-14 Mitsubishi Chemicals Corp 薄膜型発光体及びその製造方法
CN1292315C (zh) 2001-05-31 2006-12-27 富士施乐株式会社 彩色图像的形成方法以及彩色图像的形成装置
US6940592B2 (en) * 2001-10-09 2005-09-06 Applied Materials, Inc. Calibration as well as measurement on the same workpiece during fabrication
JP3933591B2 (ja) * 2002-03-26 2007-06-20 淳二 城戸 有機エレクトロルミネッセント素子
US7205166B2 (en) * 2002-06-28 2007-04-17 Lam Research Corporation Method and apparatus of arrayed, clustered or coupled eddy current sensor configuration for measuring conductive film properties
JP2004115852A (ja) * 2002-09-25 2004-04-15 Canon Inc スパッタリング成膜方法
JP2004247113A (ja) * 2003-02-13 2004-09-02 Sony Corp 有機電界発光素子の製造装置及び有機電界発光素子の製造方法
JP2004279749A (ja) 2003-03-17 2004-10-07 Fuji Xerox Co Ltd 画像形成装置
KR100716704B1 (ko) * 2004-03-03 2007-05-14 산요덴키가부시키가이샤 퇴적 두께 측정 방법, 재료층의 형성 방법, 퇴적 두께 측정장치 및 재료층의 형성 장치
US6975949B2 (en) * 2004-04-27 2005-12-13 Xerox Corporation Full width array scanning spectrophotometer
EP2092322B1 (en) 2006-12-14 2016-02-17 Life Technologies Corporation Methods and apparatus for measuring analytes using large scale fet arrays
JP5184842B2 (ja) * 2007-08-20 2013-04-17 大塚電子株式会社 着色膜厚測定方法及び装置
RU73728U1 (ru) * 2007-11-12 2008-05-27 Закрытое акционерное общество "ФТИ-ДиВиКам" Устройство для измерения толщины пленок на вращающихся подложках
KR101018644B1 (ko) * 2008-09-05 2011-03-03 에스엔유 프리시젼 주식회사 증착장치 및 이를 이용한 증착방법
US8203769B2 (en) * 2008-10-10 2012-06-19 Xerox Corporation In-line linear variable filter based spectrophotometer
US8368002B2 (en) 2009-10-15 2013-02-05 Xerox Corporation In-line image sensor in combination with linear variable filter based spectrophotometer
US8603839B2 (en) * 2010-07-23 2013-12-10 First Solar, Inc. In-line metrology system
DE102011082793A1 (de) * 2011-09-15 2013-03-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Vorrichtungen zur Bestimmung eines Verschmutzungsgrads und/oder zur Schichtdickenbestimmung eines Bandes
US8982362B2 (en) * 2011-10-04 2015-03-17 First Solar, Inc. System and method for measuring layer thickness and depositing semiconductor layers
US20130226330A1 (en) * 2012-02-24 2013-08-29 Alliance For Sustainable Energy, Llc Optical techniques for monitoring continuous manufacturing of proton exchange membrane fuel cell components
DK2666544T3 (en) * 2012-05-24 2018-01-02 Vito Nv PROCEDURE FOR DEPOSITING AND CHARACTERIZING A COATING
US9766126B2 (en) 2013-07-12 2017-09-19 Zyomed Corp. Dynamic radially controlled light input to a noninvasive analyzer apparatus and method of use thereof
US9448346B2 (en) 2012-12-19 2016-09-20 Viavi Solutions Inc. Sensor device including one or more metal-dielectric optical filters
WO2014105555A1 (en) * 2012-12-27 2014-07-03 First Solar, Inc. Method and system for in-line real-time calculation of semiconductor layer thicknesses
KR102009739B1 (ko) * 2013-01-29 2019-08-12 비아비 솔루션즈 아이엔씨. 가변 광 필터 및 그에 기반한 파장­선택 센서
WO2015112335A1 (en) * 2014-01-21 2015-07-30 Applied Materials, Inc. Measurement of film thickness on an arbitrary substrate

Also Published As

Publication number Publication date
CN106257234B (zh) 2019-05-10
DE102016210367A1 (de) 2016-12-22
US9702689B2 (en) 2017-07-11
RU2016122191A3 (ru) 2020-01-14
US20160370174A1 (en) 2016-12-22
KR20160150004A (ko) 2016-12-28
CN106257234A (zh) 2016-12-28
US20170241771A1 (en) 2017-08-24
RU2717384C2 (ru) 2020-03-23
US9976845B2 (en) 2018-05-22
KR102355922B1 (ko) 2022-01-26
JP2017009586A (ja) 2017-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2016122191A (ru) Использование полноформатного матричного датчика изображения для измерения толщины пленки в реальном времени на оборудовании для изготовления пленки
JP2017009586A5 (ru)
US10466031B2 (en) Apparatus for measuring thickness and surface profile of multilayered film structure using imaging spectral optical system and measuring method
US5555472A (en) Method and apparatus for measuring film thickness in multilayer thin film stack by comparison to a reference library of theoretical signatures
US8023115B2 (en) Sensor, sensing system and sensing method
WO2013099107A1 (ja) 膜厚分布測定方法
KR20110038602A (ko) 막 두께 측정 장치 및 막 두께 측정 방법
US9470633B2 (en) Method, apparatus and system for transmittance measurement
CN107607051A (zh) 一种膜厚检测装置
US20120140235A1 (en) Method for measuring the film element using optical multi-wavelength interferometry
TWI804751B (zh) 光學量測裝置、光學裝置以及使用者裝置
KR20080111723A (ko) 반사광측정법에 근거한 분산 백색광 간섭법을 이용한박막두께 및 형상측정방법
CN101285771B (zh) 一种微型傅里叶变换光谱仪的制作方法
JP2016033489A5 (ru)
US20200326177A1 (en) Method to Determine Properties of a Coating on a Transparent Film, Method for Manufacturing a Capacitor Film and Device to Determine Properties of a Coating on a Transparent Film
JPH0915140A (ja) 楕円偏光測定方法、楕円偏光計及びそのような方法及び装置を使用して層の生成を制御する装置
KR970003422A (ko) 다층 박막 시스템을 기판상에 형성하고 박막의 2개의 표면 사이의 거리를 측정하는 방법 및 장치
Ayupov et al. Searching for the starting approximation when solving inverse problems in ellipsometry and spectrophotometry
CN103849850A (zh) 光学薄膜的膜厚监控方法及非规整膜系光学膜厚仪
CN107525589B (zh) 一种波长定标系统及方法
CN103674892B (zh) 一种基于全内反射偏振位相差测量来监控薄膜生长的方法
RU2415378C2 (ru) Способ измерения толщины и показателя преломления тонких прозрачных покрытий на подложке
KR20110064649A (ko) 백색광 간섭계를 기반으로 하는 굴절률 측정 장치 및 방법
CN112710244A (zh) 一种光学滤光片薄膜厚度的监控方法
RU2527670C2 (ru) Способ измерения толщин нанометровых слоев многослойного покрытия, проводимого в процессе его напыления