RU2015120619A - Нитридный полупроводниковый элемент и способ его производства - Google Patents

Нитридный полупроводниковый элемент и способ его производства Download PDF

Info

Publication number
RU2015120619A
RU2015120619A RU2015120619A RU2015120619A RU2015120619A RU 2015120619 A RU2015120619 A RU 2015120619A RU 2015120619 A RU2015120619 A RU 2015120619A RU 2015120619 A RU2015120619 A RU 2015120619A RU 2015120619 A RU2015120619 A RU 2015120619A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
protrusions
longitudinal direction
nitride semiconductor
semiconductor element
protrusion
Prior art date
Application number
RU2015120619A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2015120619A3 (ru
RU2663684C2 (ru
Inventor
Томохиро СИМООКА
Масахико САНО
Наоки АДЗУМА
Original Assignee
Нития Корпорейшн
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Нития Корпорейшн filed Critical Нития Корпорейшн
Publication of RU2015120619A publication Critical patent/RU2015120619A/ru
Publication of RU2015120619A3 publication Critical patent/RU2015120619A3/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2663684C2 publication Critical patent/RU2663684C2/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/26Materials of the light emitting region
    • H01L33/30Materials of the light emitting region containing only elements of Group III and Group V of the Periodic Table
    • H01L33/32Materials of the light emitting region containing only elements of Group III and Group V of the Periodic Table containing nitrogen
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/005Processes
    • H01L33/0062Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds
    • H01L33/0066Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds with a substrate not being a III-V compound
    • H01L33/007Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds with a substrate not being a III-V compound comprising nitride compounds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/12Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a stress relaxation structure, e.g. buffer layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/16Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular crystal structure or orientation, e.g. polycrystalline, amorphous or porous
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/20Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

1. Нитридный полупроводниковый элемент, содержащий:сапфировую подложку, содержащую:основную поверхность, проходящую в с-плоскости сапфировой подложки, имножество выступов, расположенных на основной поверхности, причем множество выступов содержат по меньшей мере один выступ, имеющий удлиненную форму на виде в плане;ислой нитридного полупроводника, расположенный на основной поверхности сапфировой подложки,при этом по меньшей мере один выступ имеет внешний край, проходящий в продольном направлении удлиненной формы, причем внешний край проходит в направлении, ориентированном под углом в диапазоне от -10° до +10° относительно а-плоскости сапфировой подложки на виде в плане.2. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 1, в котором длина по меньшей мере одного выступа в продольном направлении в два раза или более превышает ширину по меньшей мере одного выступа в направлении ширины, которое перпендикулярно продольному направлению.3. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 1, в котором верхняя часть по меньшей мере одного выступа в поперечном сечении, параллельном направлению ширины, которое перпендикулярно продольному направлению, имеет острую форму.4. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 2, в котором верхняя часть по меньшей мере одного выступа в поперечном сечении, параллельном направлению ширины, которое перпендикулярно продольному направлению, имеет острую форму.5. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 1, в котором верхушка концевого участка по меньшей мере одного выступа в продольном направлении имеет на виде в плане полукруглую форму.6. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 2, в котором верхушка концевого участка по меньшей

Claims (15)

1. Нитридный полупроводниковый элемент, содержащий:
сапфировую подложку, содержащую:
основную поверхность, проходящую в с-плоскости сапфировой подложки, и
множество выступов, расположенных на основной поверхности, причем множество выступов содержат по меньшей мере один выступ, имеющий удлиненную форму на виде в плане;
и
слой нитридного полупроводника, расположенный на основной поверхности сапфировой подложки,
при этом по меньшей мере один выступ имеет внешний край, проходящий в продольном направлении удлиненной формы, причем внешний край проходит в направлении, ориентированном под углом в диапазоне от -10° до +10° относительно а-плоскости сапфировой подложки на виде в плане.
2. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 1, в котором длина по меньшей мере одного выступа в продольном направлении в два раза или более превышает ширину по меньшей мере одного выступа в направлении ширины, которое перпендикулярно продольному направлению.
3. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 1, в котором верхняя часть по меньшей мере одного выступа в поперечном сечении, параллельном направлению ширины, которое перпендикулярно продольному направлению, имеет острую форму.
4. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 2, в котором верхняя часть по меньшей мере одного выступа в поперечном сечении, параллельном направлению ширины, которое перпендикулярно продольному направлению, имеет острую форму.
5. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 1, в котором верхушка концевого участка по меньшей мере одного выступа в продольном направлении имеет на виде в плане полукруглую форму.
6. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 2, в котором верхушка концевого участка по меньшей мере одного выступа в продольном направлении имеет на виде в плане полукруглую форму.
7. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 3, в котором верхушка концевого участка по меньшей мере одного выступа в продольном направлении имеет на виде в плане полукруглую форму.
8. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 4, в котором верхушка концевого участка по меньшей мере одного выступа в продольном направлении имеет на виде в плане полукруглую форму.
9. Нитридный полупроводниковый элемент по любому из пп. 1-8, в котором выступы расположены с соответствующими заданными интервалами в направлении строки и в направлении столбца, причем направление строки является продольным направлением удлиненной формы, а направление столбца является направлением по ширине удлиненной формы, которое перпендикулярно продольному направлению,
при этом выступы в строках, соседствующих друг с другом в направлении столбца, расположены так, чтобы быть смещенными относительно друг друга в направлении строки.
10. Нитридный полупроводниковый элемент по любому из пп. 1-8, в котором выступы расположены с соответствующими заданными интервалами в направлении строки и в направлении столбца, причем направление строки является продольным направлением удлиненной формы, а направление столбца является направлением по ширине удлиненной формы, которое перпендикулярно продольному направлению,
при этом выступы в строках, соседствующих друг с другом в направлении столбца, расположены так, чтобы быть выровненными в направлении строки.
11. Нитридный полупроводниковый элемент по любому из пп. 1-8, в котором сапфировая подложка содержит:
первую группу, содержащую первые выступы, причем каждый из первых выступов имеет внешний край в продольном направлении удлиненной формы выступов, проходящий в направлении, ориентированном под углом в диапазоне от -10° до +10° относительно а-плоскости, линия нормали которой является первой а-осью сапфировой подложки; и
вторую группу, содержащую вторые выступы, причем каждый из вторых выступов имеет внешний край в продольном направлении удлиненной формы выступов, проходящий в направлении, ориентированном под углом в диапазоне от -10° до +10° относительно а-плоскости, линия нормали которой является второй а-осью, отличной от первой а-оси сапфировой подложки.
12. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 11, в котором:
вторые выступы, содержащиеся во второй группе, расположены на соответствующих линиях, проходящих в продольном направлении первых выступов, содержащихся в первой группе, а
первые выступы, содержащиеся в первой группе, расположены на соответствующих линиях, проходящих в продольном направлении вторых выступов, содержащихся во второй группе.
13. Нитридный полупроводниковый элемент по любому из пп. 1-8, в котором сапфировая подложка содержит:
первую группу, содержащую первые выступы, причем каждый из первых выступов имеет внешний край в продольном направлении удлиненной формы выступов, проходящий в направлении, ориентированном под углом в диапазоне от -10° до +10° относительно а-плоскости, линия нормали которой является первой а-осью сапфировой подложки;
вторую группу, содержащую вторые выступы, причем каждый из вторых выступов имеет внешний край в продольном направлении удлиненной формы выступов, проходящий в направлении, ориентированном под углом в диапазоне от -10° до +10° относительно а-плоскости, линия нормали которой является второй а-осью, отличной от первой а-оси сапфировой подложки; и
третью группу, содержащую третьи выступы, причем каждый из третьих выступов имеет внешний край в продольном направлении удлиненной формы выступов, проходящий в направлении, ориентированном под углом в диапазоне от -10° до +10° относительно а-плоскости, линия нормали которой является третьей а-осью, отличной от первой а-оси и второй а-оси сапфировой подложки.
14. Нитридный полупроводниковый элемент по п. 13, в котором:
вторые выступы, содержащиеся во второй группе, расположены на соответствующих линиях, проходящих в продольном направлении первых выступов, содержащихся в первой группе,
третьи выступы, содержащиеся в третьей группе, расположены на соответствующих линиях, проходящих в продольном направлении вторых выступов, содержащихся во второй группе, и
первые выступы, содержащиеся в первой группе, расположены на соответствующих линиях, проходящих в продольном направлении третьих выступов, содержащихся в третьей группе.
15. Способ изготовления нитридного полупроводникового элемента, содержащий этапы, на которых:
осуществляют сухое травление поверхности на стороне с-плоскости сапфировой подложки, обеспечивая маску на поверхности, чтобы сформировать множество выступов, причем множество выступов содержат по меньшей мере один выступ, имеющий удлиненную форму на виде в плане, при этом внешний край выступа в продольном направлении удлиненной формы расположен под углом в диапазоне от -10° до +10° относительно а-плоскости сапфировой подложки; и
выращивают слой нитридного полупроводника на поверхности сапфировой подложки со сформированными на ней выступами.
RU2015120619A 2014-05-30 2015-05-29 Нитридный полупроводниковый элемент и способ его производства RU2663684C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014111966 2014-05-30
JP2014-111966 2014-05-30

Publications (3)

Publication Number Publication Date
RU2015120619A true RU2015120619A (ru) 2016-12-20
RU2015120619A3 RU2015120619A3 (ru) 2018-07-05
RU2663684C2 RU2663684C2 (ru) 2018-08-08

Family

ID=53274434

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015120619A RU2663684C2 (ru) 2014-05-30 2015-05-29 Нитридный полупроводниковый элемент и способ его производства

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP2950356B1 (ru)
KR (1) KR102334161B1 (ru)
CN (1) CN105280776B (ru)
BR (1) BR102015012604B1 (ru)
MX (1) MX364561B (ru)
RU (1) RU2663684C2 (ru)
TW (1) TWI640104B (ru)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6135751B2 (ja) * 2015-02-18 2017-05-31 日亜化学工業株式会社 発光素子
US9773946B2 (en) 2015-02-18 2017-09-26 Nichia Corporation Light-emitting element comprising a partitioned sapphire substrate
JP7305428B2 (ja) * 2018-06-05 2023-07-10 株式会社小糸製作所 半導体成長用基板、半導体素子、半導体発光素子および半導体素子製造方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3556916B2 (ja) * 2000-09-18 2004-08-25 三菱電線工業株式会社 半導体基材の製造方法
JP3595277B2 (ja) * 2001-03-21 2004-12-02 三菱電線工業株式会社 GaN系半導体発光ダイオード
JP4055503B2 (ja) * 2001-07-24 2008-03-05 日亜化学工業株式会社 半導体発光素子
US7071494B2 (en) * 2002-12-11 2006-07-04 Lumileds Lighting U.S. Llc Light emitting device with enhanced optical scattering
JP4201079B2 (ja) * 2002-12-20 2008-12-24 昭和電工株式会社 発光素子、その製造方法およびledランプ
DE102004002132A1 (de) * 2004-01-15 2005-08-11 Man Roland Druckmaschinen Ag Einrichtung zur Erzeugung einer Beschichtung von Druckprodukten einer Druckmaschine
EP3166152B1 (en) * 2003-08-19 2020-04-15 Nichia Corporation Semiconductor light emitting diode and method of manufacturing its substrate
CN101232067B (zh) * 2005-05-16 2013-05-15 索尼株式会社 发光二极管及其制造方法、集成发光二极管、以及显示器
JP4462249B2 (ja) * 2005-09-22 2010-05-12 ソニー株式会社 発光ダイオードの製造方法、集積型発光ダイオードの製造方法および窒化物系iii−v族化合物半導体の成長方法
JP2008053385A (ja) 2006-08-23 2008-03-06 Mitsubishi Cable Ind Ltd 窒化物半導体発光ダイオード素子
CN101330002A (zh) * 2007-06-20 2008-12-24 中国科学院半导体研究所 用于氮化物外延生长的图形蓝宝石衬底的制作方法
JP2008091942A (ja) 2007-11-22 2008-04-17 Mitsubishi Cable Ind Ltd 窒化物半導体発光ダイオード
WO2009139376A1 (ja) * 2008-05-14 2009-11-19 昭和電工株式会社 Iii族窒化物半導体発光素子の製造方法及びiii族窒化物半導体発光素子、並びにランプ
KR101533296B1 (ko) * 2008-07-08 2015-07-02 삼성전자주식회사 패턴 형성 기판을 구비한 질화물 반도체 발광소자 및 그제조방법
RU2402837C1 (ru) * 2009-10-21 2010-10-27 Закрытое акционерное общество "ЭПИ-ЦЕНТР" Полупроводниковый светоизлучающий прибор с пористым буферным слоем
US8476658B2 (en) * 2009-11-25 2013-07-02 Jing Jie Dai Semiconductor light-emitting devices
JP5273081B2 (ja) * 2010-03-30 2013-08-28 豊田合成株式会社 半導体発光素子
US8765509B2 (en) * 2010-09-30 2014-07-01 Toyoda Gosei Co., Ltd. Method for producing group III nitride semiconductor light-emitting device
JP2012114204A (ja) 2010-11-24 2012-06-14 Toyoda Gosei Co Ltd Iii族窒化物半導体発光素子およびその製造方法
JP5811009B2 (ja) * 2012-03-30 2015-11-11 豊田合成株式会社 Iii族窒化物半導体の製造方法及びiii族窒化物半導体
RU134362U1 (ru) * 2012-06-26 2013-11-10 Закрытое акционерное общество "Светлана-Оптоэлектроника" Гетероструктура на профилированной подложке

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150138092A (ko) 2015-12-09
CN105280776A (zh) 2016-01-27
CN105280776B (zh) 2019-01-01
RU2015120619A3 (ru) 2018-07-05
KR102334161B1 (ko) 2021-12-02
MX364561B (es) 2019-04-30
TW201607075A (zh) 2016-02-16
EP2950356A1 (en) 2015-12-02
TWI640104B (zh) 2018-11-01
RU2663684C2 (ru) 2018-08-08
BR102015012604B1 (pt) 2022-04-05
EP2950356B1 (en) 2017-04-05
BR102015012604A2 (pt) 2015-12-01
MX2015006833A (es) 2016-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
USD704479S1 (en) Pillow
USD771831S1 (en) Wand
CL2015002195A1 (es) Conjuntos ópticos con conectividad gestionada
USD709715S1 (en) Pillow
RU2015120619A (ru) Нитридный полупроводниковый элемент и способ его производства
RU2019101915A (ru) Улучшенное приспособление для прорезывания зубов
CL2015003291E1 (es) Dibujo industrial de ornamentacion para pantalon corto formada por dos lineas paralelas con zona central punteada y seis filas de rectangulos formando diagonales; perpendiculares bajo la linea inferior comprende dos franjas paralelas, de ancho y longitud indefinido, cada una punteada y con siete lineas rectas centrales, paralelas y longitudinales.
EA201500463A1 (ru) Плуг с множеством закрепленных на плужной балке плужных элементов
AR098322A1 (es) Un aparato para el trasplante de plantas
ES2533759R1 (es) Sujeción
AR119641A1 (es) Barra del cóncavo y rejilla de separación de cosechadora
USD745965S1 (en) Surgical instrument shaft with hole pattern
JP2016122704A5 (ru)
EA201792666A1 (ru) Мягкие абсорбирующие листы, структурирующие материалы для изготовления мягких абсорбирующих листов и способы изготовления мягких абсорбирующих листов
USD746450S1 (en) Surgical instrument shaft with hole pattern
DE112019004879A5 (de) Optoelektronischer halbleiterchip mit kontaktelementen und dessen erstellungsverfahren
USD745964S1 (en) Surgical instrument shaft with hole pattern
USD782607S1 (en) Fishing reel portion
EA201690293A1 (ru) Способ изготовления модулей пола, включающих элементы с криволинейными краями, изготовленные из пиломатериалов, имеющих края с естественной кривизной древесного материала
RU2015141461A (ru) Абсорбирующее изделие, демонстрирующее управляемую деформацию и продольное распределение текучей среды
USD781996S1 (en) Fishing reel portion
JP2015211142A5 (ru)
RU2015125303A (ru) Протектор шины с направленной скульптурой
CL2012000571A1 (es) Escurridor que comprende un cuerpo unitario con un extremo superior de forma conica y un primer perimetro inferior que define una perforacion central, y un extremo inferior que comprende una pluralidad de surcos que se extienden hacia el exterior y una terminacion que define un segundo perimetro.
DE112016002001A5 (de) Anordnung mit einem Substrat und einem Halbleiterlaser