RU2015109146A - Позиционирующее устройство, управляющее устройство и способ управления - Google Patents

Позиционирующее устройство, управляющее устройство и способ управления Download PDF

Info

Publication number
RU2015109146A
RU2015109146A RU2015109146A RU2015109146A RU2015109146A RU 2015109146 A RU2015109146 A RU 2015109146A RU 2015109146 A RU2015109146 A RU 2015109146A RU 2015109146 A RU2015109146 A RU 2015109146A RU 2015109146 A RU2015109146 A RU 2015109146A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
platform
stroke
long
short
movement
Prior art date
Application number
RU2015109146A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2633302C2 (ru
Inventor
ЛИВЕНОГЕН Анне Йоханнес Вильхельмус ВАН
Франк Бернард СПЕРЛИНГ
Original Assignee
Конинклейке Филипс Н.В.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Конинклейке Филипс Н.В. filed Critical Конинклейке Филипс Н.В.
Publication of RU2015109146A publication Critical patent/RU2015109146A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2633302C2 publication Critical patent/RU2633302C2/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G03F7/70725—Stages control
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B15/00—Systems controlled by a computer
    • G05B15/02—Systems controlled by a computer electric
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Linear Motors (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Reciprocating, Oscillating Or Vibrating Motors (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Linear Motors (AREA)

Abstract

1. Позиционирующее устройство (2), содержащее:- опорную структуру (10), содержащую один или более опорных элементов (11, 12, 13),- платформу (20) с длинным ходом, которая поддерживается и является подвижной в направлении (M) перемещения относительно опорного элемента (11), причем платформа с длинным ходом содержит несущий элемент (21) платформы с длинным ходом, который поддерживается посредством опорного элемента (11) с длинным ходом,- платформу (50) с коротким ходом, которая является подвижной в направлении (M) перемещения относительно платформы (20) с длинным ходом, причем платформа (50) с коротким ходом содержит несущий элемент (51) платформы с коротким ходом, который поддерживается посредством опорного элемента (12, 13) с коротким ходом, при этом платформа (20) с длинным ходом или платформа (50) с коротким ходом имеет два актуатора (30, 40), размещенных напротив друг друга на фиксированном расстоянии с зазором между ними, причем каждый актуатор (30, 40) содержит ферромагнитное ярмо (31, 41) и магнит (32, 33, 42, 43), размещенный на пути магнитного потока ярма (31, 41), и при этом другая из платформы (20) с длинным ходом или платформы (50) с коротким ходом содержит ферромагнитный центральный элемент (52), который размещен между актуаторами (30, 40),- блок (60) управления для инициирования перемещения платформы (20) с длинным ходом и платформы (50) с коротким ходом в требуемом направлении (M1) перемещения посредством сначала перемещения платформы (20) с длинным ходом в противоположном направлении (M2), которое является противоположным требуемому направлению (M1) перемещения, и/или перемещения платформы (50) с коротким ходом в требуемом направлении (M1) перемещения в течение предварительно определенного интервала времени и на расстояние, меньшее, чем расстояние (d) между

Claims (13)

1. Позиционирующее устройство (2), содержащее:
- опорную структуру (10), содержащую один или более опорных элементов (11, 12, 13),
- платформу (20) с длинным ходом, которая поддерживается и является подвижной в направлении (M) перемещения относительно опорного элемента (11), причем платформа с длинным ходом содержит несущий элемент (21) платформы с длинным ходом, который поддерживается посредством опорного элемента (11) с длинным ходом,
- платформу (50) с коротким ходом, которая является подвижной в направлении (M) перемещения относительно платформы (20) с длинным ходом, причем платформа (50) с коротким ходом содержит несущий элемент (51) платформы с коротким ходом, который поддерживается посредством опорного элемента (12, 13) с коротким ходом, при этом платформа (20) с длинным ходом или платформа (50) с коротким ходом имеет два актуатора (30, 40), размещенных напротив друг друга на фиксированном расстоянии с зазором между ними, причем каждый актуатор (30, 40) содержит ферромагнитное ярмо (31, 41) и магнит (32, 33, 42, 43), размещенный на пути магнитного потока ярма (31, 41), и при этом другая из платформы (20) с длинным ходом или платформы (50) с коротким ходом содержит ферромагнитный центральный элемент (52), который размещен между актуаторами (30, 40),
- блок (60) управления для инициирования перемещения платформы (20) с длинным ходом и платформы (50) с коротким ходом в требуемом направлении (M1) перемещения посредством сначала перемещения платформы (20) с длинным ходом в противоположном направлении (M2), которое является противоположным требуемому направлению (M1) перемещения, и/или перемещения платформы (50) с коротким ходом в требуемом направлении (M1) перемещения в течение предварительно определенного интервала времени и на расстояние, меньшее, чем расстояние (d) между ферромагнитным центральным элементом (52) и ближайшим актуатором (30, 40) в неподвижном состоянии платформы (20) с длинным ходом, и затем перемещения платформы (20) с длинным ходом в требуемом
направлении (M1) перемещения.
2. Позиционирующее устройство по п. 1, в котором каждое из ярем (31, 41) имеет E-образную форму, U-образную форму или C-образную форму.
3. Позиционирующее устройство по п. 1, в котором каждое из ярем (31, 41) имеет E-образную форму, при этом магнит является постоянным магнитом (32, 42), размещенным сверху центральной части (34, 44) соответствующего ярма (31, 41).
4. Позиционирующее устройство по п. 1, в котором каждое из ярем (31, 41) имеет E-образную форму, при этом магнит является электромагнитом (33, 43), сформированным посредством катушки индуктивности, намотанной вокруг центральной части (34, 44) соответствующего ярма (31, 41).
5. Позиционирующее устройство по п. 1, в котором каждое из ярем (31, 41) имеет E-образную форму, при этом магнит содержит постоянный магнит (32, 42), размещенный сверху центральной части (34, 44) соответствующего ярма (31, 41), и электромагнит (33, 43), сформированный посредством катушки индуктивности, намотанной вокруг центральной части (34, 44) соответствующего ярма (31, 41).
6. Позиционирующее устройство по п. 4 или 5, дополнительно содержащее источник (70) тока для предоставления тока катушкам (33, 43) индуктивности для стабилизации и/или управления позицией ферромагнитного центрального ходового элемента (52).
7. Позиционирующее устройство по п. 1, в котором блок (60) управления выполнен с возможностью инициировать перемещение платформы (20) с длинным ходом в требуемом направлении (M1) перемещения посредством сначала перемещения платформы (20) с длинным ходом в противоположном направлении (M2) и/или посредством перемещения платформы (50) с коротким ходом в требуемом направлении (M1) перемещения в течение такого предварительно определенного времени и на такое расстояние, что ферромагнитный центральный элемент (52) не приходит в соприкосновение с актуатором (30, 40).
8. Позиционирующее устройство по п. 1, в котором блок (60) управления содержит актуатор (61) перемещения для выполнения
перемещения платформы (20) с длинным ходом и/или платформы (50) с коротким ходом и контроллер (62) для управления актуатором (61) перемещения.
9. Позиционирующее устройство по п. 1, в котором два актуатора (30, 40) установлены на несущем элементе (21) платформы с длинным ходом, при этом ферромагнитный центральный элемент (52) установлен на несущем элементе (51) платформы с коротким ходом.
10. Позиционирующее устройство по п. 1, в котором два актуатора (30, 40) установлены на несущем элементе (51) платформы с коротким ходом, при этом ферромагнитный центральный элемент (52) установлен на несущем элементе (21) платформы с длинным ходом.
11. Управляющее устройство (60) для использования в позиционирующем устройстве (1), содержащем опорную структуру (10), содержащую один или более опорных элементов (11, 12, 13), платформу (20) с длинным ходом, которая поддерживается и является подвижной в направлении (M) перемещения относительно опорного элемента (11), причем платформа с длинным ходом содержит несущий элемент (21) платформы с длинным ходом, который поддерживается посредством опорного элемента (11) с длинным ходом, платформу (50) с коротким ходом, которая является подвижной в направлении (M) перемещения относительно платформы (20) с длинным ходом, причем платформа (50) с коротким ходом содержит несущий элемент (51) платформы с коротким ходом, который поддерживается посредством опорного элемента (12, 13) с коротким ходом, при этом платформа (20) с длинным ходом или платформа (50) с коротким ходом имеет два актуатора (30, 40), размещенных напротив друг друга на фиксированном расстоянии с зазором между ними, причем каждый актуатор (30, 40) содержит ферромагнитное ярмо (31, 41) и магнит (32, 33, 42, 43), размещенный на пути магнитного потока ярма (31, 41), и при этом другая из платформы (20) с длинным ходом или платформы (50) с коротким ходом содержит ферромагнитный центральный элемент (52), который размещен между актуаторами (30, 40), при этом упомянутое управляющее устройство выполнено с возможностью инициировать
перемещение платформы (20) с длинным ходом и платформы (50) с коротким ходом в требуемом направлении (M1) перемещения посредством сначала перемещения платформы (20) с длинным ходом в противоположном направлении (M2), которое является противоположным требуемому направлению (M1) перемещения, и/или перемещения платформы (50) с коротким ходом в требуемом направлении (M1) перемещения в течение предварительно определенного интервала времени и на расстояние, меньшее, чем расстояние (d) между ферромагнитным центральным ходовым элементом (52) и ближайшим актуатором (30, 40) в неподвижном состоянии платформы (20) с длинным ходом, и затем перемещения платформы (20) с длинным ходом в требуемом направлении (M1) перемещения.
12. Способ управления для использования в позиционирующем устройстве (1), содержащем опорную структуру (10), содержащую один или более опорных элементов (11, 12, 13), платформу (20) с длинным ходом, которая поддерживается и является подвижной в направлении (M) перемещения относительно опорного элемента (11), причем платформа с длинным ходом содержит несущий элемент (21) платформы с длинным ходом, который поддерживается посредством опорного элемента (11) с длинным ходом, платформу (50) с коротким ходом, которая является подвижной в направлении (M) перемещения относительно платформы (20) с длинным ходом, причем платформа (50) с коротким ходом содержит несущий элемент (51) платформы с коротким ходом, который поддерживается посредством опорного элемента (12, 13) с коротким ходом, при этом платформа (20) с длинным ходом или платформа (50) с коротким ходом имеет два актуатора (30, 40), размещенных напротив друг друга на фиксированном расстоянии с зазором между ними, причем каждый актуатор (30, 40) содержит ферромагнитное ярмо (31, 41) и магнит (32, 33, 42, 43), размещенный на пути магнитного потока ярма (31, 41), и при этом другая из платформы (20) с длинным ходом или платформы (50) с коротким ходом содержит ферромагнитный центральный элемент (52), который размещается между актуаторами (30, 40), при этом упомянутый способ управления содержит этап, на котором инициируют перемещение платформы (20) с длинным ходом
и платформы (50) с коротким ходом в требуемом направлении (M1) перемещения посредством сначала перемещения платформы (20) с длинным ходом в противоположном направлении (M2), которое является противоположным требуемому направлению (M1) перемещения, и/или перемещение платформы (50) с коротким ходом в требуемом направлении (M1) перемещения в течение предварительно определенного интервала времени и на расстояние, меньшее, чем расстояние (d) между ферромагнитным центральным ходовым элементом (52) и ближайшим актуатором (30, 40) в неподвижном состоянии платформы (20) с длинным ходом, и затем перемещение платформы (20) с длинным ходом в требуемом направлении (M1) перемещения.
13. Компьютерная программа, содержащая средство программного кода, чтобы побуждать компьютер выполнять этапы способа по п. 12, когда упомянутая компьютерная программа выполняется на компьютере.
RU2015109146A 2012-10-09 2013-09-27 Позиционирующее устройство, управляющее устройство и способ управления RU2633302C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201261711251P 2012-10-09 2012-10-09
US61/711,251 2012-10-09
PCT/IB2013/058925 WO2014057386A1 (en) 2012-10-09 2013-09-27 Positioning device, control device and control method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015109146A true RU2015109146A (ru) 2016-11-27
RU2633302C2 RU2633302C2 (ru) 2017-10-11

Family

ID=49765591

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015109146A RU2633302C2 (ru) 2012-10-09 2013-09-27 Позиционирующее устройство, управляющее устройство и способ управления

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9507276B2 (ru)
EP (1) EP2907158B1 (ru)
JP (1) JP5878676B2 (ru)
CN (1) CN104704625B (ru)
BR (1) BR112015003044A2 (ru)
RU (1) RU2633302C2 (ru)
WO (1) WO2014057386A1 (ru)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5973064B2 (ja) * 2012-05-29 2016-08-23 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 支持装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
JP6452338B2 (ja) * 2013-09-04 2019-01-16 キヤノン株式会社 ステージ装置、およびその駆動方法
CN108279551B (zh) * 2017-01-05 2020-10-27 复旦大学 光刻机运动平台及其微运动平台和控制方法
EP3961305A3 (de) 2020-06-29 2022-03-09 Carl Zeiss SMT GmbH Kompensation von kriecheffekten in einer abbildungseinrichtung
EP3964893A1 (de) 2020-06-29 2022-03-09 Carl Zeiss SMT GmbH Kompensation von kriecheffekten in einer abbildungseinrichtung

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4507597A (en) * 1983-06-10 1985-03-26 The Perkin-Elmer Corporation Electro-magnetic alignment assemblies
JPS61127104A (ja) 1984-11-24 1986-06-14 Matsushita Electric Works Ltd 電磁石装置
SU1732398A1 (ru) * 1989-07-31 1992-05-07 Физико-Энергетический Институт Ан Латвсср Устройство дл подачи и позиционировани полупроводниковых пластин при контроле их свойств
NL8902471A (nl) * 1989-10-05 1991-05-01 Philips Nv Tweetraps positioneerinrichting.
US5815246A (en) * 1996-12-24 1998-09-29 U.S. Philips Corporation Two-dimensionally balanced positioning device, and lithographic device provided with such a positioning device
AU8747698A (en) 1997-08-21 1999-03-16 Nikon Corporation Positioning device, driving unit, and aligner equipped with the device
US6130517A (en) * 1998-02-12 2000-10-10 Nikon Corporation Magnetic actuator producing large acceleration on fine stage and low RMS power gain
US6437463B1 (en) 2000-04-24 2002-08-20 Nikon Corporation Wafer positioner with planar motor and mag-lev fine stage
JP4745556B2 (ja) * 2001-08-20 2011-08-10 キヤノン株式会社 位置決め装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP4136363B2 (ja) 2001-11-29 2008-08-20 キヤノン株式会社 位置決め装置及びそれを用いた露光装置
US6927505B2 (en) 2001-12-19 2005-08-09 Nikon Corporation Following stage planar motor
JP2006510182A (ja) 2002-12-16 2006-03-23 コーニンクレッカ　フィリップス　エレクトロニクス　エヌ　ヴィ 高い位置正確性で物体を処理するための装置
US20050162802A1 (en) * 2004-01-22 2005-07-28 Nikon Research Corporation Of America Offset gap control for electromagnetic devices
US7253576B2 (en) * 2004-04-05 2007-08-07 Nikon Corporation E/I core actuator commutation formula and control method
US7456935B2 (en) 2005-04-05 2008-11-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a positioning device for positioning an object table
CN101310430A (zh) 2005-11-18 2008-11-19 皇家飞利浦电子股份有限公司 具有带状线圈的线性可变磁阻致动器
US7352149B2 (en) 2006-08-29 2008-04-01 Asml Netherlands B.V. Method for controlling the position of a movable object, a positioning system, and a lithographic apparatus
JP5020597B2 (ja) * 2006-10-27 2012-09-05 キヤノン株式会社 位置決め装置、露光装置、及びデバイス製造方法
NL2005240A (en) 2009-09-22 2011-03-23 Asml Netherlands Bv Actuator, positioning system and lithographic apparatus.

Also Published As

Publication number Publication date
US20150235887A1 (en) 2015-08-20
CN104704625A (zh) 2015-06-10
BR112015003044A2 (pt) 2017-07-04
US9507276B2 (en) 2016-11-29
JP5878676B2 (ja) 2016-03-08
EP2907158A1 (en) 2015-08-19
CN104704625B (zh) 2018-03-06
WO2014057386A1 (en) 2014-04-17
JP2015530866A (ja) 2015-10-15
RU2633302C2 (ru) 2017-10-11
EP2907158B1 (en) 2016-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2015109146A (ru) Позиционирующее устройство, управляющее устройство и способ управления
US9890871B2 (en) High-power bi-directional non-recovery spring magnetic valve comprising permanent magnet
CN104704598B (zh) 电磁接触器
IN2014DE01485A (ru)
JP2014235953A5 (ru)
RU2017140453A (ru) Контактор и контакторная система
KR20150004799A (ko) 전자 접촉기
KR20170100928A (ko) 솔레노이드 액추에이터
CN102705415B (zh) 一种高速电磁阻尼器
US20210125796A1 (en) Medium voltage circuit breaker with vacuum interrupters and a drive and method for operating the same
US9466412B2 (en) Magnetic contactor
RU2014126416A (ru) Электромагнитный привод
CN103971999A (zh) 长行程低温升双线圈电磁铁
UA64554U (ru) Бистабильный электромагнитный привод коммутационного устройства
CN105281536A (zh) 用于xy工作台的驱动器以及xy工作台
WO2018004037A3 (ko) 보이스 코일 모터 구동제어장치 및 그 방법
JP6289009B2 (ja) 電磁アクチュエータ
KR102198711B1 (ko) 전자 접촉기 및 전자 접촉기를 이용한 스타-델타 결선 절환 방법
CN201638757U (zh) 继电器
RU2586107C2 (ru) Электромагнит следящего действия
CN105742123A (zh) 接通或分断小电流电路电磁式自动控制装置及控制方法
CN104546370A (zh) 不完整磁环电磁悬浮上下运动按摩椅
JP2015035319A (ja) ソレノイド装置及びこれを用いた電磁継電器
CN103575494B (zh) 梁式振动台的磁路系统及其调节方法
WO2020013792A3 (en) A non-contact carrier system

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20180928