RU2015107784A - Устройство и способ для плазменного нанесения покрытия на подложку, в частности, на прессовальный лист - Google Patents

Устройство и способ для плазменного нанесения покрытия на подложку, в частности, на прессовальный лист Download PDF

Info

Publication number
RU2015107784A
RU2015107784A RU2015107784A RU2015107784A RU2015107784A RU 2015107784 A RU2015107784 A RU 2015107784A RU 2015107784 A RU2015107784 A RU 2015107784A RU 2015107784 A RU2015107784 A RU 2015107784A RU 2015107784 A RU2015107784 A RU 2015107784A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electrode
use according
electrode segments
energy
segments
Prior art date
Application number
RU2015107784A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2615743C2 (ru
Inventor
Андреас ГЕБЕСХУБЕР
Даниэль ХАЙМ
Йоханн ЛАЙМЕР
Томас Мюллер
Михаэль ПРОШЕК
Отто ШТАДЛЕР
Херберт ШТЕРИ
Original Assignee
Берндорф Хюк Банд-Унд Прессблехтехник Гмбх
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Берндорф Хюк Банд-Унд Прессблехтехник Гмбх filed Critical Берндорф Хюк Банд-Унд Прессблехтехник Гмбх
Publication of RU2015107784A publication Critical patent/RU2015107784A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2615743C2 publication Critical patent/RU2615743C2/ru

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/32532—Electrodes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B30—PRESSES
    • B30B—PRESSES IN GENERAL
    • B30B15/00—Details of, or accessories for, presses; Auxiliary measures in connection with pressing
    • B30B15/06—Platens or press rams
    • B30B15/062—Press plates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
    • H01J37/32174—Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/32532—Electrodes
    • H01J37/32577—Electrical connecting means

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

1. Применение устройства (100…103) для плазменного нанесения покрытия на прессовальный лист (2), которое содержит вакуумную камеру (3) и расположенный в ней электрод (400…409), который при работе ориентирован, по существу, параллельно указанному прессовальному листу (2) и напротив его подлежащей покрытию стороны, причем электрод (400…409) сегментирован, и каждый из электродных сегментов (500…512) имеет собственный соединительный вывод (6) для источника (700…702) электрической энергии.2. Применение по п. 1, отличающееся тем, что отдельные электродные сегменты (501, 504, 505) устройства (100…103) изолированы друг от друга.3. Применение по п. 1, отличающееся тем, что отдельные электродные сегменты (502, 503) устройства (100…103) соединены друг с другом посредством узких перемычек (9) или, соответственно, заданных активных сопротивлений.4. Применение по п. 1, отличающееся тем, что отдельные электродные сегменты (510) устройства (100…103) посредством узких перемычек или, соответственно, заданных активных сопротивлений соединены с по меньшей мере одним источником (700) энергии.5. Применение по п. 1, отличающееся тем, что устройство (100…103) содержит несколько управляемых/регулируемых независимо друг от друга источников (701, 702) энергии, которые через указанные соединительные выводы (6) соединены с электродными сегментами (500…512).6. Применение по п. 5, отличающееся тем, что каждый электродный сегмент (510) устройства (100…103) соединен с соответствующим источником (701…706) энергии, который является управляемым/регулируемым независимо от остальных источников (701…706) энергии.7. Применение по п. 5, отличающееся тем, что устройство (100…103) содержит управляющий блок (1101), который приспособлен для переключения источника (701, 702) энергии попеременно на соответствующий электродный сегмент (508) группы (1301, 1302)

Claims (24)

1. Применение устройства (100…103) для плазменного нанесения покрытия на прессовальный лист (2), которое содержит вакуумную камеру (3) и расположенный в ней электрод (400…409), который при работе ориентирован, по существу, параллельно указанному прессовальному листу (2) и напротив его подлежащей покрытию стороны, причем электрод (400…409) сегментирован, и каждый из электродных сегментов (500…512) имеет собственный соединительный вывод (6) для источника (700…702) электрической энергии.
2. Применение по п. 1, отличающееся тем, что отдельные электродные сегменты (501, 504, 505) устройства (100…103) изолированы друг от друга.
3. Применение по п. 1, отличающееся тем, что отдельные электродные сегменты (502, 503) устройства (100…103) соединены друг с другом посредством узких перемычек (9) или, соответственно, заданных активных сопротивлений.
4. Применение по п. 1, отличающееся тем, что отдельные электродные сегменты (510) устройства (100…103) посредством узких перемычек или, соответственно, заданных активных сопротивлений соединены с по меньшей мере одним источником (700) энергии.
5. Применение по п. 1, отличающееся тем, что устройство (100…103) содержит несколько управляемых/регулируемых независимо друг от друга источников (701, 702) энергии, которые через указанные соединительные выводы (6) соединены с электродными сегментами (500…512).
6. Применение по п. 5, отличающееся тем, что каждый электродный сегмент (510) устройства (100…103) соединен с соответствующим источником (701…706) энергии, который является управляемым/регулируемым независимо от остальных источников (701…706) энергии.
7. Применение по п. 5, отличающееся тем, что устройство (100…103) содержит управляющий блок (1101), который приспособлен для переключения источника (701, 702) энергии попеременно на соответствующий электродный сегмент (508) группы (1301, 1302) электродных сегментов (508), а соединительных выводов (6) остальных электродных сегментов (508) этой группы (1301, 1302) - в изолированное от указанного первым электродного сегмента (508) разомкнутое состояние.
8. Применение по любому из пп. 1-7, отличающееся тем, что площадь электродного сегмента (500…512) устройства (100…103) меньше или равна 1 м2.
9. Применение по любому из пп. 1-7, отличающееся тем, что источники (700…706) энергии устройства (100…103) выполнены в виде источников тока.
10. Применение по п. 9, отличающееся тем, что максимальная сила тока для каждого электродного сегмента (500…512) меньше или равна 150 А.
11. Применение по любому из пп. 1-7, отличающееся тем, что электродные сегменты (503) устройства (100…103) выполнены в виде решетки.
12. Применение по любому из пп. 1-7, отличающееся тем, что электрод (405) устройства (100…103) в своей краевой зоне изогнут в направлении к подлежащему покрытию прессовальному листу (2).
13. Способ плазменного нанесения покрытия на прессовальный лист (2), характеризующийся стадиями:
а) расположения подлежащего покрытию прессовального листа (2) в вакуумной камере (3) напротив расположенного в вакуумной камере (3) сегментированного электрода (400…409) и с, по существу, параллельной ему ориентацией,
b) включения по меньшей мере одного предназначенного электродному сегменту (500…512) электрода (400…409) источника (700…706) энергии, и
с) введения газа, который вызывает стимулированное плазмой химическое осаждение из газовой фазы на заготовку прессовального листа (2).
14. Способ по п. 13, отличающийся тем, что соответствующий источник (701…706) энергии для каждого электродного сегмента (500…512) включают и управляют/регулируют независимо от остальных источников (701…706) энергии.
15. Способ по п. 13, отличающийся тем, что источник (701, 702) энергии попеременно переключают на соответствующий электродный сегмент (508) группы (1301, 1302) электродных сегментов (508), а соединительные выводы (6) остальных электродных сегментов (508) этой группы (1301, 1302) переключают в изолированное от указанного первым электродного сегмента (508) разомкнутое состояние.
16. Способ по п. 15, отличающийся тем, что выбор того электродного сегмента (508), которому предназначен включенный источник (701, 702) энергии, выполняют случайно.
17. Способ по п. 15, отличающийся тем, что расположенные аналогично белым полям шахматной доски электродные сегменты (509) и расположенные аналогично черным полям шахматной доски электродные сегменты (509) попеременно снабжают электрической энергией.
18. Способ по любому из пп. 13-17, отличающийся тем, что измеряют напряжение между электродным сегментом (511) и подлежащим покрытию прессовальным листом (2), и снабжение энергией уменьшают или выключают, когда обнаруживается падение указанного напряжения.
19. Способ по любому из пп. 13-17, отличающийся тем, что на лежащие у края электрода (409) электродные сегменты (512) подают более высокий потенциал, чем на лежащие внутри электродные сегменты (512).
20. Способ по любому из пп. 13-17, отличающийся тем, что на лежащих у края электрода (409) электродных сегментах (512) устанавливают/регулируют более высокую силу тока, чем на лежащих внутри электродных сегментах (512).
21. Способ изготовления одно- или многослойных пластинчатых материалов, в частности, пластмасс, древесных материалов и ламинатов с бумажным покрытием и без него, отличающийся тем, что для этого используют подложку или, соответственно, прессовальный лист (2), которые изготовлены с помощью стадий:
а) расположения подлежащих покрытию подложки/прессовального листа (2) в вакуумной камере (3) напротив расположенного в вакуумной камере (3) сегментированного электрода (400…409) и с, по существу, параллельной ему ориентацией,
b) включения по меньшей мере одного предназначенного электродному сегменту (500…512) электрода (400…409) источника (700…706) энергии, и
с) введения газа, который вызывает стимулированное плазмой химическое осаждение из газовой фазы на заготовку подложки/заготовку прессовального листа (2).
22. Способ по п. 21, отличающийся тем, что площадь изготавливаемых плит больше или равна 1 м2.
23. Способ по п. 21 или 22, отличающийся тем, что пластинчатый материал содержит частицы с твердостью по шкале Виккерса между 1000 и 1800, в частности, в зоне своей обращенной к прессовальному листу (2) поверхности.
24. Способ по п. 21 или 22, отличающийся тем, что пластинчатый материал содержит корунд или, соответственно, оксид алюминия Al2O3, в частности, в зоне своей обращенной к прессовальному листу (2) поверхности.
RU2015107784A 2012-08-08 2013-08-06 Устройство и способ для плазменного нанесения покрытия на подложку, в частности, на прессовальный лист RU2615743C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
ATA877/2012A AT513190B9 (de) 2012-08-08 2012-08-08 Vorrichtung und Verfahren zur Plasmabeschichtung eines Substrats, insbesondere eines Pressblechs
ATA877/2012 2012-08-08
PCT/AT2013/050152 WO2014022872A2 (de) 2012-08-08 2013-08-06 Vorrichtung und verfahren zur plasmabeschichtung eines substrats, insbesondere eines pressblechs

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015107784A true RU2015107784A (ru) 2016-09-27
RU2615743C2 RU2615743C2 (ru) 2017-04-11

Family

ID=49584535

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015107784A RU2615743C2 (ru) 2012-08-08 2013-08-06 Устройство и способ для плазменного нанесения покрытия на подложку, в частности, на прессовальный лист

Country Status (18)

Country Link
US (1) US9530624B2 (ru)
EP (1) EP2882885B8 (ru)
JP (1) JP6140286B2 (ru)
KR (1) KR101742744B1 (ru)
CN (1) CN104755653B (ru)
AT (1) AT513190B9 (ru)
AU (1) AU2013302202B2 (ru)
BR (1) BR112015002657A8 (ru)
CA (1) CA2881069C (ru)
CL (1) CL2015000301A1 (ru)
DK (1) DK2882885T3 (ru)
ES (1) ES2587929T3 (ru)
IN (1) IN2015DN01149A (ru)
MY (1) MY176134A (ru)
NZ (1) NZ704253A (ru)
PL (1) PL2882885T3 (ru)
RU (1) RU2615743C2 (ru)
WO (1) WO2014022872A2 (ru)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017025389A (ja) * 2015-07-24 2017-02-02 株式会社ユーテック プラズマｃｖｄ装置及び成膜方法
US11251019B2 (en) * 2016-12-15 2022-02-15 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Plasma device
CN107283551B (zh) * 2017-08-21 2018-07-24 阜南盛原木业有限公司 一种具有良好防霉防虫性能的胶合板
JP6863199B2 (ja) 2017-09-25 2021-04-21 トヨタ自動車株式会社 プラズマ処理装置
CN109055917B (zh) * 2018-09-07 2020-09-08 信阳师范学院 一种单室双面镀膜等离子体化学气相沉积系统
DE102019127659A1 (de) * 2019-10-15 2021-04-15 Hueck Rheinische Gmbh Presswerkzeug und Verfahren zum Herstellen eines Presswerkzeugs
US11884426B2 (en) 2020-07-08 2024-01-30 Hamilton Sundstrand Corporation Compression apparatus and methods of making and using the same

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3984043A (en) * 1972-07-10 1976-10-05 United Technologies Corporation Method for bonding composite materials
NL8602357A (nl) * 1985-10-07 1987-05-04 Epsilon Ltd Partnership Inrichting en werkwijze voor het chemisch uit damp neerslaan met gebruik van een axiaal symmetrische gasstroming.
US4885074A (en) 1987-02-24 1989-12-05 International Business Machines Corporation Plasma reactor having segmented electrodes
US5156820A (en) * 1989-05-15 1992-10-20 Rapro Technology, Inc. Reaction chamber with controlled radiant energy heating and distributed reactant flow
RU2176681C2 (ru) * 1989-11-22 2001-12-10 Волков Валерий Венедиктович Способ получения покрытий в вакууме, устройство для получения покрытий в вакууме, способ изготовления устройства для получения покрытий в вакууме
JP2901317B2 (ja) * 1990-07-02 1999-06-07 株式会社日立製作所 スパッタ装置及びそれを用いた成膜方法
US5244375A (en) 1991-12-19 1993-09-14 Formica Technology, Inc. Plasma ion nitrided stainless steel press plates and applications for same
DE4202425C2 (de) 1992-01-29 1997-07-17 Leybold Ag Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats, insbesondere mit elektrisch nichtleitenden Schichten
US5273588A (en) * 1992-06-15 1993-12-28 Materials Research Corporation Semiconductor wafer processing CVD reactor apparatus comprising contoured electrode gas directing means
DE4443608C1 (de) * 1994-12-07 1996-03-21 Siemens Ag Plasmareaktor und Verfahren zu dessen Betrieb
DE19757141A1 (de) * 1997-12-20 1999-06-24 Philips Patentverwaltung Array aus Diamant/wasserstoffhaltigen Elektroden
US6190514B1 (en) 1997-12-30 2001-02-20 Premark Rwp Holdings, Inc. Method for high scan sputter coating to produce coated, abrasion resistant press plates with reduced built-in thermal stress
JP3595853B2 (ja) * 1999-03-18 2004-12-02 日本エー・エス・エム株式会社 プラズマｃｖｄ成膜装置
AU2001245938A1 (en) * 2000-03-28 2001-10-08 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for controlling power delivered to a multiple segment electrode
US20020155957A1 (en) * 2001-02-14 2002-10-24 Danly, James C. Sintered anti-friction bearing surface
US6741446B2 (en) * 2001-03-30 2004-05-25 Lam Research Corporation Vacuum plasma processor and method of operating same
DE20113503U1 (de) * 2001-08-14 2002-01-17 Espe Rolf Presswerkzeug mit hochabriebfester Oberfläche
US7217471B2 (en) * 2002-05-17 2007-05-15 3M Innovative Properties Company Membrane electrode assembly with compression control gasket
DE10337117A1 (de) * 2003-08-11 2005-03-17 Dieffenbacher Gmbh + Co. Kg Verfahren und Ein- oder Mehretagenpresse zur Herstellung von Holzwerkstoffplatten, insbesondere OSB-Platten
TWI283651B (en) * 2004-04-23 2007-07-11 Bobst Sa Device for transferring a foil matter from outside to inside of a machine
RU2285742C2 (ru) * 2004-07-27 2006-10-20 Евгений Владимирович Берлин Способ нанесения металлического покрытия на диэлектрическую подложку и устройство для его осуществления
US20080261471A1 (en) * 2004-10-22 2008-10-23 Dow Global Technologies Inc. Polyolefinic Materials for Plastic Composites
JP4704088B2 (ja) 2005-03-31 2011-06-15 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
US20070042131A1 (en) 2005-08-22 2007-02-22 Applied Materials, Inc., A Delaware Corporation Non-intrusive plasma monitoring system for arc detection and prevention for blanket CVD films
EP1929314B1 (en) * 2005-09-22 2018-12-19 Koninklijke Philips N.V. Two-dimensional adaptive accelerometer based on dielectrophoresis
JP5590893B2 (ja) * 2007-02-08 2014-09-17 ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・（スイッツランド）・ゲーエムベーハー 熱硬化性組成物
KR101297711B1 (ko) * 2007-02-09 2013-08-20 한국과학기술원 플라즈마 처리장치 및 플라즈마 처리방법
JP4707693B2 (ja) * 2007-05-01 2011-06-22 株式会社アルバック スパッタリング装置及びスパッタリング方法
JP5429771B2 (ja) 2008-05-26 2014-02-26 株式会社アルバック スパッタリング方法
US20100252744A1 (en) * 2009-04-06 2010-10-07 Koninklijke Philips Electronics N.V. Radiation detector with a plurality of electrode systems
US8433401B2 (en) * 2009-07-09 2013-04-30 Incube Labs, Llc Ring electrode assembly and applications thereof
US20120180810A1 (en) 2009-07-26 2012-07-19 Leybold Optics Gmbh Cleaning of a process chamber
JP5496073B2 (ja) * 2010-12-21 2014-05-21 三菱電機株式会社 微結晶半導体薄膜製造装置および微結晶半導体薄膜製造方法
US20120247543A1 (en) * 2011-03-31 2012-10-04 Integrated Photovoltaic, Inc. Photovoltaic Structure

Also Published As

Publication number Publication date
DK2882885T3 (en) 2016-09-05
MY176134A (en) 2020-07-24
EP2882885B8 (de) 2016-08-31
BR112015002657A8 (pt) 2019-07-30
CN104755653B (zh) 2017-09-19
CA2881069A1 (en) 2014-02-13
NZ704253A (en) 2016-08-26
AT513190A1 (de) 2014-02-15
IN2015DN01149A (ru) 2015-06-26
CA2881069C (en) 2017-11-07
JP6140286B2 (ja) 2017-05-31
AT513190B1 (de) 2014-03-15
KR20150042817A (ko) 2015-04-21
KR101742744B1 (ko) 2017-06-01
US9530624B2 (en) 2016-12-27
ES2587929T3 (es) 2016-10-27
CL2015000301A1 (es) 2015-09-21
WO2014022872A2 (de) 2014-02-13
AU2013302202A1 (en) 2015-02-26
WO2014022872A3 (de) 2014-05-15
RU2615743C2 (ru) 2017-04-11
JP2015531820A (ja) 2015-11-05
BR112015002657A2 (pt) 2017-07-04
AT513190B9 (de) 2014-05-15
AU2013302202B2 (en) 2015-12-03
US20150255254A1 (en) 2015-09-10
EP2882885B1 (de) 2016-05-25
EP2882885A2 (de) 2015-06-17
CN104755653A (zh) 2015-07-01
PL2882885T3 (pl) 2016-11-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2015107784A (ru) Устройство и способ для плазменного нанесения покрытия на подложку, в частности, на прессовальный лист
WO2009065039A3 (en) Methods and apparatus for sputtering deposition using direct current
EP2367198A3 (en) Ultraviolet light irradiation device
JP2009533551A5 (ru)
EP1973140A3 (en) Plasma species and uniformity control through pulsed VHF operation
WO2013042027A3 (en) Thermal plate with planar thermal zones for semiconductor processing
EP2312612A3 (en) Plasma reactor for abating hazardous materials and driving method thereof
EP2526776A3 (en) Microwave vacuum-drying of organic materials
EP2066015A3 (en) Microstructure with enlarged mass and electrode area for kinetic to electrical energy conversion
WO2008130507A3 (en) Plasma source with segmented magnetron cathode
EP2081417A3 (en) Ceramic plasma reactor and reaction apparatus
EP2610892A3 (en) Mass spectrometer and mass spectrometry
EP2587354A3 (en) Touch panel and output method therefor
EP2120254A3 (en) Plasma processing apparatus
WO2010026860A1 (ja) スパッタ装置
JP2012216737A5 (ru)
JP2015095396A5 (ru)
Zheng et al. Electrode configuration and polarity effects on water evaporation enhancement by electric field
EP2061124A3 (en) Multiple-axis control apparatus for ionization systems
EP1170776A3 (en) Vacuum arc evaporation source and film formation apparatus using the same
CN105448794B (zh) 一种托盘及承载装置
EP2282362A3 (en) Surface Light-Emitting Device
JP2003100733A5 (ru)
JP2019117924A5 (ru)
KR101480776B1 (ko) 면상 발열체를 이용한 인조 손톱 성형장치

Legal Events

Date Code Title Description
PC43 Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions

Effective date: 20191025

PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20200117

MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20200807