RU2013147894A - Способ и приспособление для комбинированного осаждения и осаждения на всю подложку распылением - Google Patents

Способ и приспособление для комбинированного осаждения и осаждения на всю подложку распылением Download PDF

Info

Publication number
RU2013147894A
RU2013147894A RU2013147894/02A RU2013147894A RU2013147894A RU 2013147894 A RU2013147894 A RU 2013147894A RU 2013147894/02 A RU2013147894/02 A RU 2013147894/02A RU 2013147894 A RU2013147894 A RU 2013147894A RU 2013147894 A RU2013147894 A RU 2013147894A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
processing chamber
spray guns
substrate
gun
deposition
Prior art date
Application number
RU2013147894/02A
Other languages
English (en)
Inventor
Кент Райли ЧАЙЛД
Хун Шэн ЯН
Раджеш КЕЛЕКАР
Original Assignee
Интермолекуляр, Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Интермолекуляр, Инк. filed Critical Интермолекуляр, Инк.
Publication of RU2013147894A publication Critical patent/RU2013147894A/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3464Sputtering using more than one target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Spray Control Apparatus (AREA)

Abstract

1. Камера для обработки, содержащаякрышку, расположенную над верхней поверхностью области обработки указанной камеры;множество распылительных пистолетов с мишенью, прикрепленной к одному концу каждого из распылительных пистолетов, при этом указанное множество распылительных пистолетов проходит через крышку камеры для обработки и каждый из указанного множества распылительных пистолетов наклонен таким образом, что поверхность мишени, прикрепленной к каждому пистолету, наклонена в направлении внешней периферии подложки.2. Камера для обработки по п.1, в которойнормаль к поверхности мишени находится между приблизительно 1 градусом и приблизительно 75 градусами относительно нормали к поверхности опоры подложки камеры для обработки, ипри этом каждый из указанного множества распылительных пистолетов смещен относительно центра опоры подложки.3. Камера для обработки по п.1, в которойкрышка содержит защитный элемент пистолета, проходящий через крышку, для каждого из указанного множества распылительных пистолетов, и поддерживающий соответствующие распылительные пистолеты.4. Камера для обработки по п.3, в которойкаждый защитный элемент пистолета содержит противоположные полки, проходящие внутрь поперек верхнего отверстия каждого защитного элемента пистолета.5. Камера для обработки по п.1, в которойкрышка соприкасается с выступом, проходящим вдоль внешней периферийной поверхности боковой стенки камеры для обработки.6. Камера для обработки по п.5, в которой зазор проходит между верхним краем боковой стенки и нижней поверхностью крышки.7. Камера для обработки по п.3, в которойкаждый защитный элемент пистолета содер

Claims (20)

1. Камера для обработки, содержащая
крышку, расположенную над верхней поверхностью области обработки указанной камеры;
множество распылительных пистолетов с мишенью, прикрепленной к одному концу каждого из распылительных пистолетов, при этом указанное множество распылительных пистолетов проходит через крышку камеры для обработки и каждый из указанного множества распылительных пистолетов наклонен таким образом, что поверхность мишени, прикрепленной к каждому пистолету, наклонена в направлении внешней периферии подложки.
2. Камера для обработки по п.1, в которой
нормаль к поверхности мишени находится между приблизительно 1 градусом и приблизительно 75 градусами относительно нормали к поверхности опоры подложки камеры для обработки, и
при этом каждый из указанного множества распылительных пистолетов смещен относительно центра опоры подложки.
3. Камера для обработки по п.1, в которой
крышка содержит защитный элемент пистолета, проходящий через крышку, для каждого из указанного множества распылительных пистолетов, и поддерживающий соответствующие распылительные пистолеты.
4. Камера для обработки по п.3, в которой
каждый защитный элемент пистолета содержит противоположные полки, проходящие внутрь поперек верхнего отверстия каждого защитного элемента пистолета.
5. Камера для обработки по п.1, в которой
крышка соприкасается с выступом, проходящим вдоль внешней периферийной поверхности боковой стенки камеры для обработки.
6. Камера для обработки по п.5, в которой зазор проходит между верхним краем боковой стенки и нижней поверхностью крышки.
7. Камера для обработки по п.3, в которой
каждый защитный элемент пистолета содержит нижнюю поверхность с проходящим через нее отверстием, которое вмещает мишень, прикрепленную к нижней поверхности распылительного пистолета, и
при этом внешний край нижней поверхности защитного элемента пистолета является закругленным и находится за пределами линии видимости при наблюдении от мишени.
8. Камера для обработки, содержащая
крышку, расположенную над верхней поверхностью области обработки указанной камеры; и
множество распылительных пистолетов, которые проходят через крышку камеры для обработки и каждый из которых ориентирован таким образом, что нижняя плоская поверхность каждого пистолета наклонена в направлении внешней периферии подложки,
причем каждый из указанного множества распылительных пистолетов прикреплен к рычагу обеспечения выступания, выполненному для обеспечения возможности перемещения с четырьмя степенями свободы.
9. Камера для обработки по п.8, в которой перемещение с четырьмя степенями свободы включает перемещение вдоль оси X, оси Y, оси Z и поворот.
10. Камера для обработки по п.8, в которой
нормаль к нижней плоской поверхности находится между приблизительно 1 градусом и приблизительно 75 градусами относительно нормали к поверхности опоры подложки камеры для обработки, и
при этом каждый из указанного множества распылительных пистолетов смещен относительно центра опоры подложки.
11. Камера для обработки по п.8, дополнительно содержащая
опору подложки, расположенную ниже указанного множества распылительных пистолетов и выполненную для поворота вокруг оси опоры подложки.
12. Камера для обработки по п.11, в которой
рычаг обеспечения выступания обеспечивает подачу вспомогательных средств к соответствующему распылительному пистолету и вал, расположенный вокруг оси опоры подложки, обеспечивает подачу вспомогательных средств к опоре подложки.
13. Камера для обработки по п.1, в которой
крышка соприкасается с боковой стенкой камеры для обработки на внешней периферийной поверхности боковой стенки.
14. Камера для обработки по п.1, в которой
корпус распылительного пистолета имеет путь заземления через крышку и защитный элемент обрабатывающего комплекта к нижней части корпуса камеры.
15. Способ обработки подложки, включающий
осаждение слоя материала поверх всей поверхности подложки посредством множества распылительных пистолетов, расположенных над поверхностью подложки; и
комбинированное осаждение еще одного слоя материала поверх области указанного слоя материала посредством указанного множества распылительных пистолетов.
16. Способ по п.15, в котором
осаждение и комбинированное осаждение выполняют последовательно в одной и той же камере для обработки.
17. Способ по п.15, в котором
каждый из указанного множества распылительных пистолетов ориентирован таким образом, что нижняя поверхность каждого распылительного пистолета наклонена в направлении внешней периферии камеры для обработки.
18. Способ по п.15, дополнительно включающий
поворот подложки во время осаждения слоя материала.
19. Способ по п.15, в котором комбинированная обработка включает
осаждение материала поверх еще одной области отличным образом от указанного осаждения еще одного слоя,
причем осаждение материала поверх еще одной области отличным образом включает в себя одно из следующего: изменение материалов, изменение условий обработки или изменение последовательностей технологических операций.
20. Способ по п.15, дополнительно включающий
перемещение каждого из указанного множества распылительных пистолетов вокруг множества осей.
RU2013147894/02A 2011-05-09 2012-05-07 Способ и приспособление для комбинированного осаждения и осаждения на всю подложку распылением RU2013147894A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/103,951 US20120285819A1 (en) 2011-05-09 2011-05-09 Combinatorial and Full Substrate Sputter Deposition Tool and Method
US13/103,951 2011-05-09
PCT/US2012/036804 WO2012154682A1 (en) 2011-05-09 2012-05-07 Combinatorial and full substrate sputter deposition tool and method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2013147894A true RU2013147894A (ru) 2015-06-20

Family

ID=47139574

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013147894/02A RU2013147894A (ru) 2011-05-09 2012-05-07 Способ и приспособление для комбинированного осаждения и осаждения на всю подложку распылением

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20120285819A1 (ru)
EP (1) EP2707519A4 (ru)
KR (1) KR20140057208A (ru)
RU (1) RU2013147894A (ru)
WO (1) WO2012154682A1 (ru)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6045031B2 (ja) * 2013-05-13 2016-12-14 株式会社島津製作所 成膜装置
US9869013B2 (en) * 2014-04-25 2018-01-16 Applied Materials, Inc. Ion assisted deposition top coat of rare-earth oxide
WO2016040547A1 (en) * 2014-09-11 2016-03-17 Massachusetts Institute Of Technology Processing system for small substrates
DE102015221211A1 (de) 2015-10-29 2015-12-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Beschichtungsvorrichtung und beschichtungsverfahren
CN110819947A (zh) * 2018-08-10 2020-02-21 无锡变格新材料科技有限公司 一种溅镀机及其溅镀工艺
KR20210032112A (ko) * 2019-09-16 2021-03-24 삼성전자주식회사 스퍼터링 장치 및 그를 이용한 자기 기억 소자의 제조 방법

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63465A (ja) * 1986-06-18 1988-01-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd スパツタ薄膜形成装置
US4923585A (en) * 1988-11-02 1990-05-08 Arch Development Corporation Sputter deposition for multi-component thin films
US5013578A (en) * 1989-12-11 1991-05-07 University Of California Apparatus for coating a surface with a metal utilizing a plasma source
US6045671A (en) * 1994-10-18 2000-04-04 Symyx Technologies, Inc. Systems and methods for the combinatorial synthesis of novel materials
US6830663B2 (en) * 1999-01-26 2004-12-14 Symyx Technologies, Inc. Method for creating radial profiles on a substrate
US20060003095A1 (en) * 1999-07-07 2006-01-05 Optomec Design Company Greater angle and overhanging materials deposition
JP2003147519A (ja) * 2001-11-05 2003-05-21 Anelva Corp スパッタリング装置
JP4437290B2 (ja) * 2003-05-14 2010-03-24 シーワイジー技術研究所株式会社 スパッタ装置
US20060054494A1 (en) * 2004-09-16 2006-03-16 Veeco Instruments Inc. Physical vapor deposition apparatus for depositing thin multilayer films and methods of depositing such films
US20060096851A1 (en) * 2004-11-08 2006-05-11 Ilya Lavitsky Physical vapor deposition chamber having an adjustable target
US7087145B1 (en) * 2005-03-10 2006-08-08 Robert Choquette Sputtering cathode assembly
US7713390B2 (en) * 2005-05-16 2010-05-11 Applied Materials, Inc. Ground shield for a PVD chamber
KR101213888B1 (ko) * 2006-05-08 2012-12-18 엘지디스플레이 주식회사 스퍼터링 장치, 그 구동 방법 및 이를 이용한 패널 제조방법
JP5301458B2 (ja) * 2007-11-28 2013-09-25 株式会社アルバック スパッタ装置及び成膜方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2012154682A1 (en) 2012-11-15
EP2707519A1 (en) 2014-03-19
EP2707519A4 (en) 2015-07-08
US20120285819A1 (en) 2012-11-15
KR20140057208A (ko) 2014-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2013147894A (ru) Способ и приспособление для комбинированного осаждения и осаждения на всю подложку распылением
TW201732063A (zh) 用於處理基板的方法與設備
RU2012131052A (ru) Установка для обработки поверхности объектов
WO2012096529A3 (ko) 반도체 제조에 사용되는 분사부재 및 그것을 갖는 플라즈마 처리 장치
JP2019218623A5 (ru)
MY171465A (en) Method to produce highly transparent hydrogenated carbon protective coating for transparent substrates
WO2006052873B1 (en) Physical vapor deposition chamber having an adjustable target
WO2006052931B1 (en) Physical vapor deposition chamber having a rotatable substrate pedestal
WO2010067974A3 (ko) 복수기판 처리장치
RU2012110192A (ru) Компонентный манипулятор для динамического позиционирования основы, способ нанесения покрыимя, а также применение компонентного манипулятора
RU2011138995A (ru) Система нанесения покрытия на основе обратной литографии с держателем подложки оптимизированной по плотности высокоинтенсивной установки обратной литографии (hula) в конической камере для осаждения
KR102210379B1 (ko) 증착막 균일도 개선을 위한 박막 증착장치
TW201612345A (en) Methods and apparatus for maintaining low non-uniformity over target life
JP2014038949A5 (ru)
MY180359A (en) Sputtering target
JP2020023737A (ja) 成膜レートモニタ装置及び成膜装置
RU2016107822A (ru) Газовая конфорка и крышка конфорки
MX2016017406A (es) Dispositivo de procesamiento de disparo y proyector.
RU2013101748A (ru) Технологический узел и установка для обработки поверхности предмета
KR102608846B1 (ko) 증착원 및 그 제조 방법
US20150047563A1 (en) Patterned processing kits for material processing
KR102137031B1 (ko) 유기박막 증착용 선형증발장치
CN109311123A (zh) 用于制备预涂覆板的方法以及相关联的装置
EA201800434A1 (ru) Вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий и способ нанесения на ней оптических покрытий
RU2490368C1 (ru) Устройство для нанесения многослойных покрытий на изделия

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20150508