RU2013147894A - Способ и приспособление для комбинированного осаждения и осаждения на всю подложку распылением - Google Patents
Способ и приспособление для комбинированного осаждения и осаждения на всю подложку распылением Download PDFInfo
- Publication number
- RU2013147894A RU2013147894A RU2013147894/02A RU2013147894A RU2013147894A RU 2013147894 A RU2013147894 A RU 2013147894A RU 2013147894/02 A RU2013147894/02 A RU 2013147894/02A RU 2013147894 A RU2013147894 A RU 2013147894A RU 2013147894 A RU2013147894 A RU 2013147894A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- processing chamber
- spray guns
- substrate
- gun
- deposition
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3464—Sputtering using more than one target
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
Abstract
1. Камера для обработки, содержащаякрышку, расположенную над верхней поверхностью области обработки указанной камеры;множество распылительных пистолетов с мишенью, прикрепленной к одному концу каждого из распылительных пистолетов, при этом указанное множество распылительных пистолетов проходит через крышку камеры для обработки и каждый из указанного множества распылительных пистолетов наклонен таким образом, что поверхность мишени, прикрепленной к каждому пистолету, наклонена в направлении внешней периферии подложки.2. Камера для обработки по п.1, в которойнормаль к поверхности мишени находится между приблизительно 1 градусом и приблизительно 75 градусами относительно нормали к поверхности опоры подложки камеры для обработки, ипри этом каждый из указанного множества распылительных пистолетов смещен относительно центра опоры подложки.3. Камера для обработки по п.1, в которойкрышка содержит защитный элемент пистолета, проходящий через крышку, для каждого из указанного множества распылительных пистолетов, и поддерживающий соответствующие распылительные пистолеты.4. Камера для обработки по п.3, в которойкаждый защитный элемент пистолета содержит противоположные полки, проходящие внутрь поперек верхнего отверстия каждого защитного элемента пистолета.5. Камера для обработки по п.1, в которойкрышка соприкасается с выступом, проходящим вдоль внешней периферийной поверхности боковой стенки камеры для обработки.6. Камера для обработки по п.5, в которой зазор проходит между верхним краем боковой стенки и нижней поверхностью крышки.7. Камера для обработки по п.3, в которойкаждый защитный элемент пистолета содер
Claims (20)
1. Камера для обработки, содержащая
крышку, расположенную над верхней поверхностью области обработки указанной камеры;
множество распылительных пистолетов с мишенью, прикрепленной к одному концу каждого из распылительных пистолетов, при этом указанное множество распылительных пистолетов проходит через крышку камеры для обработки и каждый из указанного множества распылительных пистолетов наклонен таким образом, что поверхность мишени, прикрепленной к каждому пистолету, наклонена в направлении внешней периферии подложки.
2. Камера для обработки по п.1, в которой
нормаль к поверхности мишени находится между приблизительно 1 градусом и приблизительно 75 градусами относительно нормали к поверхности опоры подложки камеры для обработки, и
при этом каждый из указанного множества распылительных пистолетов смещен относительно центра опоры подложки.
3. Камера для обработки по п.1, в которой
крышка содержит защитный элемент пистолета, проходящий через крышку, для каждого из указанного множества распылительных пистолетов, и поддерживающий соответствующие распылительные пистолеты.
4. Камера для обработки по п.3, в которой
каждый защитный элемент пистолета содержит противоположные полки, проходящие внутрь поперек верхнего отверстия каждого защитного элемента пистолета.
5. Камера для обработки по п.1, в которой
крышка соприкасается с выступом, проходящим вдоль внешней периферийной поверхности боковой стенки камеры для обработки.
6. Камера для обработки по п.5, в которой зазор проходит между верхним краем боковой стенки и нижней поверхностью крышки.
7. Камера для обработки по п.3, в которой
каждый защитный элемент пистолета содержит нижнюю поверхность с проходящим через нее отверстием, которое вмещает мишень, прикрепленную к нижней поверхности распылительного пистолета, и
при этом внешний край нижней поверхности защитного элемента пистолета является закругленным и находится за пределами линии видимости при наблюдении от мишени.
8. Камера для обработки, содержащая
крышку, расположенную над верхней поверхностью области обработки указанной камеры; и
множество распылительных пистолетов, которые проходят через крышку камеры для обработки и каждый из которых ориентирован таким образом, что нижняя плоская поверхность каждого пистолета наклонена в направлении внешней периферии подложки,
причем каждый из указанного множества распылительных пистолетов прикреплен к рычагу обеспечения выступания, выполненному для обеспечения возможности перемещения с четырьмя степенями свободы.
9. Камера для обработки по п.8, в которой перемещение с четырьмя степенями свободы включает перемещение вдоль оси X, оси Y, оси Z и поворот.
10. Камера для обработки по п.8, в которой
нормаль к нижней плоской поверхности находится между приблизительно 1 градусом и приблизительно 75 градусами относительно нормали к поверхности опоры подложки камеры для обработки, и
при этом каждый из указанного множества распылительных пистолетов смещен относительно центра опоры подложки.
11. Камера для обработки по п.8, дополнительно содержащая
опору подложки, расположенную ниже указанного множества распылительных пистолетов и выполненную для поворота вокруг оси опоры подложки.
12. Камера для обработки по п.11, в которой
рычаг обеспечения выступания обеспечивает подачу вспомогательных средств к соответствующему распылительному пистолету и вал, расположенный вокруг оси опоры подложки, обеспечивает подачу вспомогательных средств к опоре подложки.
13. Камера для обработки по п.1, в которой
крышка соприкасается с боковой стенкой камеры для обработки на внешней периферийной поверхности боковой стенки.
14. Камера для обработки по п.1, в которой
корпус распылительного пистолета имеет путь заземления через крышку и защитный элемент обрабатывающего комплекта к нижней части корпуса камеры.
15. Способ обработки подложки, включающий
осаждение слоя материала поверх всей поверхности подложки посредством множества распылительных пистолетов, расположенных над поверхностью подложки; и
комбинированное осаждение еще одного слоя материала поверх области указанного слоя материала посредством указанного множества распылительных пистолетов.
16. Способ по п.15, в котором
осаждение и комбинированное осаждение выполняют последовательно в одной и той же камере для обработки.
17. Способ по п.15, в котором
каждый из указанного множества распылительных пистолетов ориентирован таким образом, что нижняя поверхность каждого распылительного пистолета наклонена в направлении внешней периферии камеры для обработки.
18. Способ по п.15, дополнительно включающий
поворот подложки во время осаждения слоя материала.
19. Способ по п.15, в котором комбинированная обработка включает
осаждение материала поверх еще одной области отличным образом от указанного осаждения еще одного слоя,
причем осаждение материала поверх еще одной области отличным образом включает в себя одно из следующего: изменение материалов, изменение условий обработки или изменение последовательностей технологических операций.
20. Способ по п.15, дополнительно включающий
перемещение каждого из указанного множества распылительных пистолетов вокруг множества осей.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/103,951 US20120285819A1 (en) | 2011-05-09 | 2011-05-09 | Combinatorial and Full Substrate Sputter Deposition Tool and Method |
US13/103,951 | 2011-05-09 | ||
PCT/US2012/036804 WO2012154682A1 (en) | 2011-05-09 | 2012-05-07 | Combinatorial and full substrate sputter deposition tool and method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2013147894A true RU2013147894A (ru) | 2015-06-20 |
Family
ID=47139574
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2013147894/02A RU2013147894A (ru) | 2011-05-09 | 2012-05-07 | Способ и приспособление для комбинированного осаждения и осаждения на всю подложку распылением |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120285819A1 (ru) |
EP (1) | EP2707519A4 (ru) |
KR (1) | KR20140057208A (ru) |
RU (1) | RU2013147894A (ru) |
WO (1) | WO2012154682A1 (ru) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6045031B2 (ja) * | 2013-05-13 | 2016-12-14 | 株式会社島津製作所 | 成膜装置 |
US9869013B2 (en) * | 2014-04-25 | 2018-01-16 | Applied Materials, Inc. | Ion assisted deposition top coat of rare-earth oxide |
WO2016040547A1 (en) * | 2014-09-11 | 2016-03-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Processing system for small substrates |
DE102015221211A1 (de) | 2015-10-29 | 2015-12-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beschichtungsvorrichtung und beschichtungsverfahren |
CN110819947A (zh) * | 2018-08-10 | 2020-02-21 | 无锡变格新材料科技有限公司 | 一种溅镀机及其溅镀工艺 |
KR20210032112A (ko) * | 2019-09-16 | 2021-03-24 | 삼성전자주식회사 | 스퍼터링 장치 및 그를 이용한 자기 기억 소자의 제조 방법 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63465A (ja) * | 1986-06-18 | 1988-01-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スパツタ薄膜形成装置 |
US4923585A (en) * | 1988-11-02 | 1990-05-08 | Arch Development Corporation | Sputter deposition for multi-component thin films |
US5013578A (en) * | 1989-12-11 | 1991-05-07 | University Of California | Apparatus for coating a surface with a metal utilizing a plasma source |
US6045671A (en) * | 1994-10-18 | 2000-04-04 | Symyx Technologies, Inc. | Systems and methods for the combinatorial synthesis of novel materials |
US6830663B2 (en) * | 1999-01-26 | 2004-12-14 | Symyx Technologies, Inc. | Method for creating radial profiles on a substrate |
US20060003095A1 (en) * | 1999-07-07 | 2006-01-05 | Optomec Design Company | Greater angle and overhanging materials deposition |
JP2003147519A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-21 | Anelva Corp | スパッタリング装置 |
JP4437290B2 (ja) * | 2003-05-14 | 2010-03-24 | シーワイジー技術研究所株式会社 | スパッタ装置 |
US20060054494A1 (en) * | 2004-09-16 | 2006-03-16 | Veeco Instruments Inc. | Physical vapor deposition apparatus for depositing thin multilayer films and methods of depositing such films |
US20060096851A1 (en) * | 2004-11-08 | 2006-05-11 | Ilya Lavitsky | Physical vapor deposition chamber having an adjustable target |
US7087145B1 (en) * | 2005-03-10 | 2006-08-08 | Robert Choquette | Sputtering cathode assembly |
US7713390B2 (en) * | 2005-05-16 | 2010-05-11 | Applied Materials, Inc. | Ground shield for a PVD chamber |
KR101213888B1 (ko) * | 2006-05-08 | 2012-12-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | 스퍼터링 장치, 그 구동 방법 및 이를 이용한 패널 제조방법 |
JP5301458B2 (ja) * | 2007-11-28 | 2013-09-25 | 株式会社アルバック | スパッタ装置及び成膜方法 |
-
2011
- 2011-05-09 US US13/103,951 patent/US20120285819A1/en not_active Abandoned
-
2012
- 2012-05-07 EP EP12782323.5A patent/EP2707519A4/en not_active Withdrawn
- 2012-05-07 WO PCT/US2012/036804 patent/WO2012154682A1/en active Application Filing
- 2012-05-07 RU RU2013147894/02A patent/RU2013147894A/ru not_active Application Discontinuation
- 2012-05-07 KR KR1020137032501A patent/KR20140057208A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012154682A1 (en) | 2012-11-15 |
EP2707519A1 (en) | 2014-03-19 |
EP2707519A4 (en) | 2015-07-08 |
US20120285819A1 (en) | 2012-11-15 |
KR20140057208A (ko) | 2014-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2013147894A (ru) | Способ и приспособление для комбинированного осаждения и осаждения на всю подложку распылением | |
TW201732063A (zh) | 用於處理基板的方法與設備 | |
RU2012131052A (ru) | Установка для обработки поверхности объектов | |
WO2012096529A3 (ko) | 반도체 제조에 사용되는 분사부재 및 그것을 갖는 플라즈마 처리 장치 | |
JP2019218623A5 (ru) | ||
MY171465A (en) | Method to produce highly transparent hydrogenated carbon protective coating for transparent substrates | |
WO2006052873B1 (en) | Physical vapor deposition chamber having an adjustable target | |
WO2006052931B1 (en) | Physical vapor deposition chamber having a rotatable substrate pedestal | |
WO2010067974A3 (ko) | 복수기판 처리장치 | |
RU2012110192A (ru) | Компонентный манипулятор для динамического позиционирования основы, способ нанесения покрыимя, а также применение компонентного манипулятора | |
RU2011138995A (ru) | Система нанесения покрытия на основе обратной литографии с держателем подложки оптимизированной по плотности высокоинтенсивной установки обратной литографии (hula) в конической камере для осаждения | |
KR102210379B1 (ko) | 증착막 균일도 개선을 위한 박막 증착장치 | |
TW201612345A (en) | Methods and apparatus for maintaining low non-uniformity over target life | |
JP2014038949A5 (ru) | ||
MY180359A (en) | Sputtering target | |
JP2020023737A (ja) | 成膜レートモニタ装置及び成膜装置 | |
RU2016107822A (ru) | Газовая конфорка и крышка конфорки | |
MX2016017406A (es) | Dispositivo de procesamiento de disparo y proyector. | |
RU2013101748A (ru) | Технологический узел и установка для обработки поверхности предмета | |
KR102608846B1 (ko) | 증착원 및 그 제조 방법 | |
US20150047563A1 (en) | Patterned processing kits for material processing | |
KR102137031B1 (ko) | 유기박막 증착용 선형증발장치 | |
CN109311123A (zh) | 用于制备预涂覆板的方法以及相关联的装置 | |
EA201800434A1 (ru) | Вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий и способ нанесения на ней оптических покрытий | |
RU2490368C1 (ru) | Устройство для нанесения многослойных покрытий на изделия |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FA93 | Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination) |
Effective date: 20150508 |