RU2010134528A - Дифракционный гомогенизатор лазерного пучка, включающий в себя фотоактивный материал, и способ его изготовления - Google Patents

Дифракционный гомогенизатор лазерного пучка, включающий в себя фотоактивный материал, и способ его изготовления Download PDF

Info

Publication number
RU2010134528A
RU2010134528A RU2010134528/28A RU2010134528A RU2010134528A RU 2010134528 A RU2010134528 A RU 2010134528A RU 2010134528/28 A RU2010134528/28 A RU 2010134528/28A RU 2010134528 A RU2010134528 A RU 2010134528A RU 2010134528 A RU2010134528 A RU 2010134528A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
photothermal
glass
intensity profile
optical system
diffractive optical
Prior art date
Application number
RU2010134528/28A
Other languages
English (en)
Inventor
Энди Дж. БЭЙРАМИАН (US)
Энди Дж. БЭЙРАМИАН
Кристофер А. ЭББЕРС (US)
Кристофер А. ЭББЕРС
Диана К. ЧЕН (US)
Диана К. ЧЕН
Original Assignee
ЛОРЕНС ЛИВЕРМОР НЭШНЛ СЕКЬЮРИТИ, ЭлЭлСи (US)
ЛОРЕНС ЛИВЕРМОР НЭШНЛ СЕКЬЮРИТИ, ЭлЭлСи
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ЛОРЕНС ЛИВЕРМОР НЭШНЛ СЕКЬЮРИТИ, ЭлЭлСи (US), ЛОРЕНС ЛИВЕРМОР НЭШНЛ СЕКЬЮРИТИ, ЭлЭлСи filed Critical ЛОРЕНС ЛИВЕРМОР НЭШНЛ СЕКЬЮРИТИ, ЭлЭлСи (US)
Publication of RU2010134528A publication Critical patent/RU2010134528A/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0916Adapting the beam shape of a semiconductor light source such as a laser diode or an LED, e.g. for efficiently coupling into optical fibers
    • G02B27/0922Adapting the beam shape of a semiconductor light source such as a laser diode or an LED, e.g. for efficiently coupling into optical fibers the semiconductor light source comprising an array of light emitters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/0944Diffractive optical elements, e.g. gratings, holograms
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0955Lenses
    • G02B27/0961Lens arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1847Manufacturing methods
    • G02B5/1857Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

1. Оптическая система, содержащая: ! - дифракционный оптический элемент, расположенный вдоль оптического пути пучка и имеющий входную поверхность и выходную поверхность напротив входной поверхности и предварительно определенную толщину, продолжающуюся между входной поверхностью и выходной поверхностью, в которой дифракционный оптический элемент включает в себя фототермопреломляющий материал, и в которой профиль интенсивности лазерного пучка на входной поверхности характеризуется первым профилем интенсивности; ! - линзу, расположенную на пути пучка на предварительно определенном расстоянии от выходной поверхности и выполненную с возможностью приема лазерного пучка, выходящего из выходной поверхности, в которой профиль интенсивности лазерного пучка на поверхности линзы характеризуется вторым профилем интенсивности; ! - канал распространения пучка, продолжающийся от линзы до заданного положения вдоль пути этого пучка, в которой профиль интенсивности лазерного пучка в заданном положении характеризуется третьим профилем интенсивности, изменяющимся менее чем на 10%. ! 2. Оптическая система по п.1, в которой дифракционный оптический элемент характеризуется непрерывным изменением показателя преломления. ! 3. Оптическая система по п.1, в которой фототермопреломляющий материал, по существу, свободен от синусоидальных структур дифракционных решеток. ! 4. Оптическая система по п.3, в которой структуры дифракционных решеток являются либо периодическими, либо с линейно изменяющейся постоянной решетки. ! 5. Оптическая система по п.1, в которой дифракционный оптический элемент выполняет операции формирования изо

Claims (20)

1. Оптическая система, содержащая:
- дифракционный оптический элемент, расположенный вдоль оптического пути пучка и имеющий входную поверхность и выходную поверхность напротив входной поверхности и предварительно определенную толщину, продолжающуюся между входной поверхностью и выходной поверхностью, в которой дифракционный оптический элемент включает в себя фототермопреломляющий материал, и в которой профиль интенсивности лазерного пучка на входной поверхности характеризуется первым профилем интенсивности;
- линзу, расположенную на пути пучка на предварительно определенном расстоянии от выходной поверхности и выполненную с возможностью приема лазерного пучка, выходящего из выходной поверхности, в которой профиль интенсивности лазерного пучка на поверхности линзы характеризуется вторым профилем интенсивности;
- канал распространения пучка, продолжающийся от линзы до заданного положения вдоль пути этого пучка, в которой профиль интенсивности лазерного пучка в заданном положении характеризуется третьим профилем интенсивности, изменяющимся менее чем на 10%.
2. Оптическая система по п.1, в которой дифракционный оптический элемент характеризуется непрерывным изменением показателя преломления.
3. Оптическая система по п.1, в которой фототермопреломляющий материал, по существу, свободен от синусоидальных структур дифракционных решеток.
4. Оптическая система по п.3, в которой структуры дифракционных решеток являются либо периодическими, либо с линейно изменяющейся постоянной решетки.
5. Оптическая система по п.1, в которой дифракционный оптический элемент выполняет операции формирования изображения.
6. Оптическая система по п.1, в которой изменение первого профиля интенсивности составляет более чем 10%.
7. Оптическая система по п.1, в которой изменение третьего профиля интенсивности составляет менее чем 5%.
8. Оптическая система по п.1, в которой изменение третьего профиля интенсивности составляет менее чем 3%.
9. Способ изготовления множества дифракционных оптических элементов, способ содержит:
- обеспечение частично пропускающего слайда;
- обеспечение первого элемента фототермопреломляющего стекла;
- направление сквозь частично пропускающий слайд первого ультрафиолетового излучения, чтобы оно падало на первый элемент фототермопреломляющего стекла;
- экспонирование предварительно определенных участков первого элемента фототермопреломляющего стекла первым УФ-излучением;
- тепловую обработку экспонированного первого элемента фототермопреломляющего стекла;
- обеспечение второго элемента фототермопреломляющего стекла;
- направление второго ультрафиолетового излучения сквозь термообработанный первый элемент фототермопреломляющего стекла, чтобы оно падало на второй элемент фототермопреломляющего стекла;
- экспонирование предварительно определенных участков второго элемента фототермопреломляющего стекла вторым УФ-излучением;
- тепловую обработку экспонированного второго элемента фототермопреломляющего стекла; и
- повторение обеспечения и обработки второго элемента фототермопреломляющего стекла, используя дополнительные элементы фототермопреломляющего стекла.
10. Способ по п.9, в котором второй элемент фототермопреломляющего стекла характеризуется непрерывным изменением показателя преломления в зависимости от положения.
11. Способ по п.9, в котором первый элемент фототермопреломляющего стекла представляет собой прямоугольный параллелепипед.
12. Способ по п.11, в котором фототермопреломляющее стекло представляет собой прямоугольный параллелепипед, а первое УФ-излучение падает на этот прямоугольный параллелепипед на поверхность, перпендикулярную наименьшему измерению этого прямоугольного параллелепипеда.
13. Способ по п.9, в котором второй элемент фототермопреломляющего стекла представляет собой прямоугольный параллелепипед.
14. Способ по п.9, в котором частично пропускающий слайд содержит фотографическое изображение.
15. Способ изготовления множества дифракционных оптических элементов, этот способ содержит:
- обеспечение шаблонной пластины, характеризующейся предварительно определенным профилем фазы в зависимости от положения;
- обеспечение множества элементов фототермопреломляющего стекла;
а) направление ультрафиолетового излучения сквозь шаблонную пластину, чтобы оно падало на первый элемент из множества элементов фототермопреломляющего стекла;
b) экспонирование предварительно определенных участков первого элемента из множества элементов фототермопреломляющего стекла УФ-излучением;
c) осуществление тепловой обработки экспонированного первого элемента из множества элементов фототермопреломляющего стекла для формирования первого дифракционного оптического элемента; и
- повторение этапов от а) до с) и последовательную замену других из множества элементов фототермопреломляющего стекла на первый элемент из множества элементов фототермопреломляющего стекла для формирования других дифракционных оптических элементов.
16. Способ по п.15, в котором шаблонная пластина содержит фототермопреломляющее стекло.
17. Способ по п.16, в котором фототермопреломляющее стекло представляет собой прямоугольный параллелепипед.
18. Способ по п.15, в котором шаблонная пластина содержит дифракционную пластину, изготовленную многоуровневым травлением.
19. Способ по п.15, в котором множество дифракционных оптических элементов характеризуется непрерывным изменением показателя преломления в зависимости от положения.
20. Способ по п.15, в котором множество дифракционных оптических элементов представляет собой дифракционные гомогенизаторы.
RU2010134528/28A 2009-08-19 2010-08-18 Дифракционный гомогенизатор лазерного пучка, включающий в себя фотоактивный материал, и способ его изготовления RU2010134528A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/544,161 2009-08-19
US12/544,161 US8728719B2 (en) 2009-08-19 2009-08-19 Diffractive laser beam homogenizer including a photo-active material and method of fabricating the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2010134528A true RU2010134528A (ru) 2012-02-27

Family

ID=43605185

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2010134528/28A RU2010134528A (ru) 2009-08-19 2010-08-18 Дифракционный гомогенизатор лазерного пучка, включающий в себя фотоактивный материал, и способ его изготовления

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8728719B2 (ru)
JP (1) JP2011048361A (ru)
CN (1) CN101995663A (ru)
RU (1) RU2010134528A (ru)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2287642B1 (en) 2009-08-19 2020-04-08 Lawrence Livermore National Security, LLC Method and system for homogenizing diode laser pump arrays
KR101182235B1 (ko) * 2009-12-14 2012-09-12 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크, 그의 제조 방법 및 제조 장치
ES2872927T3 (es) * 2013-05-21 2021-11-03 Photonic Sensors & Algorithms S L Integración monolítica de lentes plenópticas sobre sustratos fotosensores
DE102013220448B4 (de) * 2013-10-10 2022-03-17 Zumtobel Lighting Gmbh Beleuchtungsanordnung mit Laser als Lichtquelle
US10008822B2 (en) * 2014-10-10 2018-06-26 The Boeing Company Laser system and method for controlling the wave front of a laser beam
CN111566544B (zh) * 2017-11-06 2021-11-19 奇跃公司 利用阴影掩模实现可调梯度图案化的方法和系统
US10768361B1 (en) * 2018-08-03 2020-09-08 Facebook Technologies, Llc System for monitoring grating formation
CN109877445B (zh) * 2019-04-12 2020-01-21 北京理工大学 一种可调飞秒激光无衍射光束曲面表面结构高效加工方法
CN110056794B (zh) * 2019-04-19 2023-10-20 赛尔富电子有限公司 一种条形灯具
WO2023250320A2 (en) * 2022-06-21 2023-12-28 Seurat Technologies, Inc. Additive manufacturing system using homogenizers and shaped amplifiers
CN114858811A (zh) * 2022-07-01 2022-08-05 波粒(北京)光电科技有限公司 基于激光穿透原理的太阳能电池片的检测系统及检测方法

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2951207A1 (de) * 1978-12-26 1980-07-10 Canon Kk Verfahren zur optischen herstellung einer streuplatte
US4427265A (en) * 1980-06-27 1984-01-24 Canon Kabushiki Kaisha Diffusion plate
US4547037A (en) 1980-10-16 1985-10-15 Regents Of The University Of Minnesota Holographic method for producing desired wavefront transformations
JPS57148728A (en) * 1981-03-11 1982-09-14 Canon Inc Diffusing plate
US4514053A (en) * 1983-08-04 1985-04-30 Corning Glass Works Integral photosensitive optical device and method
US4572611A (en) * 1983-08-04 1986-02-25 Corning Glass Works Apparatus including an integral optical device
US5333077A (en) 1989-10-31 1994-07-26 Massachusetts Inst Technology Method and apparatus for efficient concentration of light from laser diode arrays
US5307365A (en) 1991-08-08 1994-04-26 Northrop Corporation Cavity pumped, solid state lasers
JPH06118863A (ja) * 1992-09-30 1994-04-28 Toppan Printing Co Ltd カラーリップマンホログラムの作製方法
US5327515A (en) * 1993-01-14 1994-07-05 At&T Laboratories Method for forming a Bragg grating in an optical medium
AU6812994A (en) * 1993-07-27 1995-02-28 Physical Optics Corporation Light source destructuring and shaping device
US5610733A (en) 1994-02-28 1997-03-11 Digital Optics Corporation Beam-homogenizer
US5615022A (en) * 1994-08-22 1997-03-25 Grumman Aerospace Corporation System and method of fabricating multiple holographic elements
DE4443029A1 (de) * 1994-12-02 1996-06-27 Bundesdruckerei Gmbh Masterhologramm zur Herstellung von kopiersicheren Hologrammen
DE19632460C1 (de) 1996-08-12 1997-10-30 Microlas Lasersystem Gmbh Optische Vorrichtung zum Homogenisieren von Laserstrahlung und Erzeugen von mehreren Beleuchtungsfeldern
US6562523B1 (en) * 1996-10-31 2003-05-13 Canyon Materials, Inc. Direct write all-glass photomask blanks
US5999281A (en) * 1997-02-28 1999-12-07 Polaroid Corporation Holographic projection screen combining an elliptical holographic diffuser and a cylindrical light-collimator
JP4302885B2 (ja) 1998-01-29 2009-07-29 ビジックス, インコーポレイテッド 回折性の光学的ビーム積分によるレーザー伝送システムおよび方法
US6215598B1 (en) 1998-10-05 2001-04-10 Ruey Jennifer Hwu Apparatus and method for concentrating beams from broad area diode lasers, diode laser bars and/ or diode laser arrays
US6594299B1 (en) 1998-11-12 2003-07-15 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor laser light emitting apparatus and solid-state laser rod pumping module
KR100334812B1 (ko) * 1999-07-02 2002-05-02 윤종용 아포다이즈드 광섬유 격자 제작장치
FR2796728B1 (fr) * 1999-07-21 2003-06-27 France Telecom Procede d'apodisation de reseau de bragg photoinscrit
KR100315672B1 (ko) * 1999-12-28 2001-11-29 윤종용 진폭 마스크를 이용한 절족화된 광섬유 격자의 제작 방법
US7295356B2 (en) * 2001-06-08 2007-11-13 Inphase Technologies, Inc. Method for improved holographic recording using beam apodization
US20030107787A1 (en) * 2001-09-26 2003-06-12 Arkady Bablumyan Planar and fiber optical apodized diffraction structures fabrication
US6700709B1 (en) 2002-03-01 2004-03-02 Boston Laser Inc. Configuration of and method for optical beam shaping of diode laser bars
JP2005521076A (ja) * 2002-03-15 2005-07-14 ピーディー−エルディー、インク. ボリューム・ブラッグ・グレーティング(VolumeBraggGrating)素子を有する光ファイバー装置
WO2004033382A1 (en) * 2002-10-04 2004-04-22 Corning Incorporated Lens array, method for fabricating the lens array and photosensitive glass plate
JP2007508596A (ja) 2003-10-17 2007-04-05 エクスプレイ リミテッド 投影システムに使用する光学システムおよび方法
JP2005326666A (ja) 2004-05-14 2005-11-24 Sumitomo Electric Ind Ltd 屈折率変調型回折光学素子とそれを含むプロジェクタ
US20060045144A1 (en) 2004-09-01 2006-03-02 Nlight Photonics Corporation Diode laser array beam homogenizer
DE102005003594B4 (de) * 2004-12-31 2016-02-18 Schott Ag Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils, verfahrensgemäß hergestelltes Bauteil sowie derartige Bauteile umfassende Einrichtung
JP2007121941A (ja) 2005-10-31 2007-05-17 Kyocera Corp ファイバ状位相格子素子、ファイバ状位相格子および位相格子モジュール
JP2008170471A (ja) 2007-01-05 2008-07-24 Kyocera Corp ファイバレンズ、ファイバレンズアレイ、ファイバコリメータおよび光モジュール
US7551818B2 (en) 2007-09-28 2009-06-23 The Aerospace Corporation High power optical fiber laser array holographic coupler manufacturing method
BRPI0820188A2 (pt) * 2007-11-08 2017-05-09 Sunrgi estruturas e métodos concentradores de luz.
US20090190214A1 (en) * 2008-01-29 2009-07-30 Nicholas Francis Borrelli Polarizing photorefractive glass
US8547632B2 (en) * 2009-08-19 2013-10-01 Lawrence Livermore National Security, Llc Method and system for homogenizing diode laser pump arrays

Also Published As

Publication number Publication date
US8728719B2 (en) 2014-05-20
JP2011048361A (ja) 2011-03-10
CN101995663A (zh) 2011-03-30
US20110043917A1 (en) 2011-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2010134528A (ru) Дифракционный гомогенизатор лазерного пучка, включающий в себя фотоактивный материал, и способ его изготовления
RU2010134536A (ru) Способ и система для гомогенизации матриц диодной лазерной накачки
US6285443B1 (en) Illuminating arrangement for a projection microlithographic apparatus
Miklyaev et al. Novel continuously shaped diffractive optical elements enable high efficiency beam shaping
US20140092384A1 (en) Diffraction grating manufacturing method, spectrophotometer, and semiconductor device manufacturing method
JP2007328096A (ja) 回折光学素子とその作製方法および光学モジュール
Nguyen et al. Freeform three-dimensional embedded polymer waveguides enabled by external-diffusion assisted two-photon lithography
CN111742248B (zh) 扩散板
US9331452B2 (en) Method and system for homogenizing diode laser pump arrays
CN101726791A (zh) 一种制作波长可调的光纤光栅的方法
Yuan et al. Close packed random rectangular microlens array used for laser beam homogenization
US6707537B2 (en) Projection exposure system
Streppel et al. Formation of micro-optical structures by self-writing processes in photosensitive polymers
Mu et al. Polarisation control in arrays of Microlenses and gratings: Performance in visible–IR spectral ranges
JP2011106842A (ja) 回折格子分光器
Motogaito et al. Fabrication and characterization of a binary diffractive lens for controlling focal distribution
KR100342493B1 (ko) 회절 효과를 최소화하기 위한 광섬유 격자 제작장치
TWI485431B (zh) 用於均質同調輻射的設備
Amarasinghe et al. Investigation of 3D refractive index contrast variations in PVG based photo printed passive optical integrated circuit components
Lin et al. Arbitrary trapezoidal illumination generation method based on variable slits for optical lithography
KR101838774B1 (ko) 투영 광학계와 투영 노광 장치
Hessler et al. Relaxed fabrication tolerances for low-Fresnel-number lenses
TW558658B (en) Apparatus and method for fabricating a light waveguide grating with index of refraction having symmetric distribution
Yang et al. Improve large area uniformity and production capacity of laser interference lithography with beam flattening device
KR20150111223A (ko) Uv led를 채용한 선형 마스크 얼라이너

Legal Events

Date Code Title Description
FA92 Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted)

Effective date: 20150515