RU2010134528A - Дифракционный гомогенизатор лазерного пучка, включающий в себя фотоактивный материал, и способ его изготовления - Google Patents
Дифракционный гомогенизатор лазерного пучка, включающий в себя фотоактивный материал, и способ его изготовления Download PDFInfo
- Publication number
- RU2010134528A RU2010134528A RU2010134528/28A RU2010134528A RU2010134528A RU 2010134528 A RU2010134528 A RU 2010134528A RU 2010134528/28 A RU2010134528/28 A RU 2010134528/28A RU 2010134528 A RU2010134528 A RU 2010134528A RU 2010134528 A RU2010134528 A RU 2010134528A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- photothermal
- glass
- intensity profile
- optical system
- diffractive optical
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0916—Adapting the beam shape of a semiconductor light source such as a laser diode or an LED, e.g. for efficiently coupling into optical fibers
- G02B27/0922—Adapting the beam shape of a semiconductor light source such as a laser diode or an LED, e.g. for efficiently coupling into optical fibers the semiconductor light source comprising an array of light emitters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0944—Diffractive optical elements, e.g. gratings, holograms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
- G02B27/0961—Lens arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
1. Оптическая система, содержащая: ! - дифракционный оптический элемент, расположенный вдоль оптического пути пучка и имеющий входную поверхность и выходную поверхность напротив входной поверхности и предварительно определенную толщину, продолжающуюся между входной поверхностью и выходной поверхностью, в которой дифракционный оптический элемент включает в себя фототермопреломляющий материал, и в которой профиль интенсивности лазерного пучка на входной поверхности характеризуется первым профилем интенсивности; ! - линзу, расположенную на пути пучка на предварительно определенном расстоянии от выходной поверхности и выполненную с возможностью приема лазерного пучка, выходящего из выходной поверхности, в которой профиль интенсивности лазерного пучка на поверхности линзы характеризуется вторым профилем интенсивности; ! - канал распространения пучка, продолжающийся от линзы до заданного положения вдоль пути этого пучка, в которой профиль интенсивности лазерного пучка в заданном положении характеризуется третьим профилем интенсивности, изменяющимся менее чем на 10%. ! 2. Оптическая система по п.1, в которой дифракционный оптический элемент характеризуется непрерывным изменением показателя преломления. ! 3. Оптическая система по п.1, в которой фототермопреломляющий материал, по существу, свободен от синусоидальных структур дифракционных решеток. ! 4. Оптическая система по п.3, в которой структуры дифракционных решеток являются либо периодическими, либо с линейно изменяющейся постоянной решетки. ! 5. Оптическая система по п.1, в которой дифракционный оптический элемент выполняет операции формирования изо
Claims (20)
1. Оптическая система, содержащая:
- дифракционный оптический элемент, расположенный вдоль оптического пути пучка и имеющий входную поверхность и выходную поверхность напротив входной поверхности и предварительно определенную толщину, продолжающуюся между входной поверхностью и выходной поверхностью, в которой дифракционный оптический элемент включает в себя фототермопреломляющий материал, и в которой профиль интенсивности лазерного пучка на входной поверхности характеризуется первым профилем интенсивности;
- линзу, расположенную на пути пучка на предварительно определенном расстоянии от выходной поверхности и выполненную с возможностью приема лазерного пучка, выходящего из выходной поверхности, в которой профиль интенсивности лазерного пучка на поверхности линзы характеризуется вторым профилем интенсивности;
- канал распространения пучка, продолжающийся от линзы до заданного положения вдоль пути этого пучка, в которой профиль интенсивности лазерного пучка в заданном положении характеризуется третьим профилем интенсивности, изменяющимся менее чем на 10%.
2. Оптическая система по п.1, в которой дифракционный оптический элемент характеризуется непрерывным изменением показателя преломления.
3. Оптическая система по п.1, в которой фототермопреломляющий материал, по существу, свободен от синусоидальных структур дифракционных решеток.
4. Оптическая система по п.3, в которой структуры дифракционных решеток являются либо периодическими, либо с линейно изменяющейся постоянной решетки.
5. Оптическая система по п.1, в которой дифракционный оптический элемент выполняет операции формирования изображения.
6. Оптическая система по п.1, в которой изменение первого профиля интенсивности составляет более чем 10%.
7. Оптическая система по п.1, в которой изменение третьего профиля интенсивности составляет менее чем 5%.
8. Оптическая система по п.1, в которой изменение третьего профиля интенсивности составляет менее чем 3%.
9. Способ изготовления множества дифракционных оптических элементов, способ содержит:
- обеспечение частично пропускающего слайда;
- обеспечение первого элемента фототермопреломляющего стекла;
- направление сквозь частично пропускающий слайд первого ультрафиолетового излучения, чтобы оно падало на первый элемент фототермопреломляющего стекла;
- экспонирование предварительно определенных участков первого элемента фототермопреломляющего стекла первым УФ-излучением;
- тепловую обработку экспонированного первого элемента фототермопреломляющего стекла;
- обеспечение второго элемента фототермопреломляющего стекла;
- направление второго ультрафиолетового излучения сквозь термообработанный первый элемент фототермопреломляющего стекла, чтобы оно падало на второй элемент фототермопреломляющего стекла;
- экспонирование предварительно определенных участков второго элемента фототермопреломляющего стекла вторым УФ-излучением;
- тепловую обработку экспонированного второго элемента фототермопреломляющего стекла; и
- повторение обеспечения и обработки второго элемента фототермопреломляющего стекла, используя дополнительные элементы фототермопреломляющего стекла.
10. Способ по п.9, в котором второй элемент фототермопреломляющего стекла характеризуется непрерывным изменением показателя преломления в зависимости от положения.
11. Способ по п.9, в котором первый элемент фототермопреломляющего стекла представляет собой прямоугольный параллелепипед.
12. Способ по п.11, в котором фототермопреломляющее стекло представляет собой прямоугольный параллелепипед, а первое УФ-излучение падает на этот прямоугольный параллелепипед на поверхность, перпендикулярную наименьшему измерению этого прямоугольного параллелепипеда.
13. Способ по п.9, в котором второй элемент фототермопреломляющего стекла представляет собой прямоугольный параллелепипед.
14. Способ по п.9, в котором частично пропускающий слайд содержит фотографическое изображение.
15. Способ изготовления множества дифракционных оптических элементов, этот способ содержит:
- обеспечение шаблонной пластины, характеризующейся предварительно определенным профилем фазы в зависимости от положения;
- обеспечение множества элементов фототермопреломляющего стекла;
а) направление ультрафиолетового излучения сквозь шаблонную пластину, чтобы оно падало на первый элемент из множества элементов фототермопреломляющего стекла;
b) экспонирование предварительно определенных участков первого элемента из множества элементов фототермопреломляющего стекла УФ-излучением;
c) осуществление тепловой обработки экспонированного первого элемента из множества элементов фототермопреломляющего стекла для формирования первого дифракционного оптического элемента; и
- повторение этапов от а) до с) и последовательную замену других из множества элементов фототермопреломляющего стекла на первый элемент из множества элементов фототермопреломляющего стекла для формирования других дифракционных оптических элементов.
16. Способ по п.15, в котором шаблонная пластина содержит фототермопреломляющее стекло.
17. Способ по п.16, в котором фототермопреломляющее стекло представляет собой прямоугольный параллелепипед.
18. Способ по п.15, в котором шаблонная пластина содержит дифракционную пластину, изготовленную многоуровневым травлением.
19. Способ по п.15, в котором множество дифракционных оптических элементов характеризуется непрерывным изменением показателя преломления в зависимости от положения.
20. Способ по п.15, в котором множество дифракционных оптических элементов представляет собой дифракционные гомогенизаторы.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/544,161 | 2009-08-19 | ||
US12/544,161 US8728719B2 (en) | 2009-08-19 | 2009-08-19 | Diffractive laser beam homogenizer including a photo-active material and method of fabricating the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2010134528A true RU2010134528A (ru) | 2012-02-27 |
Family
ID=43605185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2010134528/28A RU2010134528A (ru) | 2009-08-19 | 2010-08-18 | Дифракционный гомогенизатор лазерного пучка, включающий в себя фотоактивный материал, и способ его изготовления |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8728719B2 (ru) |
JP (1) | JP2011048361A (ru) |
CN (1) | CN101995663A (ru) |
RU (1) | RU2010134528A (ru) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2287642B1 (en) | 2009-08-19 | 2020-04-08 | Lawrence Livermore National Security, LLC | Method and system for homogenizing diode laser pump arrays |
KR101182235B1 (ko) * | 2009-12-14 | 2012-09-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착용 마스크, 그의 제조 방법 및 제조 장치 |
ES2872927T3 (es) * | 2013-05-21 | 2021-11-03 | Photonic Sensors & Algorithms S L | Integración monolítica de lentes plenópticas sobre sustratos fotosensores |
DE102013220448B4 (de) * | 2013-10-10 | 2022-03-17 | Zumtobel Lighting Gmbh | Beleuchtungsanordnung mit Laser als Lichtquelle |
US10008822B2 (en) * | 2014-10-10 | 2018-06-26 | The Boeing Company | Laser system and method for controlling the wave front of a laser beam |
CN111566544B (zh) * | 2017-11-06 | 2021-11-19 | 奇跃公司 | 利用阴影掩模实现可调梯度图案化的方法和系统 |
US10768361B1 (en) * | 2018-08-03 | 2020-09-08 | Facebook Technologies, Llc | System for monitoring grating formation |
CN109877445B (zh) * | 2019-04-12 | 2020-01-21 | 北京理工大学 | 一种可调飞秒激光无衍射光束曲面表面结构高效加工方法 |
CN110056794B (zh) * | 2019-04-19 | 2023-10-20 | 赛尔富电子有限公司 | 一种条形灯具 |
WO2023250320A2 (en) * | 2022-06-21 | 2023-12-28 | Seurat Technologies, Inc. | Additive manufacturing system using homogenizers and shaped amplifiers |
CN114858811A (zh) * | 2022-07-01 | 2022-08-05 | 波粒(北京)光电科技有限公司 | 基于激光穿透原理的太阳能电池片的检测系统及检测方法 |
Family Cites Families (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2951207A1 (de) * | 1978-12-26 | 1980-07-10 | Canon Kk | Verfahren zur optischen herstellung einer streuplatte |
US4427265A (en) * | 1980-06-27 | 1984-01-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffusion plate |
US4547037A (en) | 1980-10-16 | 1985-10-15 | Regents Of The University Of Minnesota | Holographic method for producing desired wavefront transformations |
JPS57148728A (en) * | 1981-03-11 | 1982-09-14 | Canon Inc | Diffusing plate |
US4514053A (en) * | 1983-08-04 | 1985-04-30 | Corning Glass Works | Integral photosensitive optical device and method |
US4572611A (en) * | 1983-08-04 | 1986-02-25 | Corning Glass Works | Apparatus including an integral optical device |
US5333077A (en) | 1989-10-31 | 1994-07-26 | Massachusetts Inst Technology | Method and apparatus for efficient concentration of light from laser diode arrays |
US5307365A (en) | 1991-08-08 | 1994-04-26 | Northrop Corporation | Cavity pumped, solid state lasers |
JPH06118863A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-28 | Toppan Printing Co Ltd | カラーリップマンホログラムの作製方法 |
US5327515A (en) * | 1993-01-14 | 1994-07-05 | At&T Laboratories | Method for forming a Bragg grating in an optical medium |
AU6812994A (en) * | 1993-07-27 | 1995-02-28 | Physical Optics Corporation | Light source destructuring and shaping device |
US5610733A (en) | 1994-02-28 | 1997-03-11 | Digital Optics Corporation | Beam-homogenizer |
US5615022A (en) * | 1994-08-22 | 1997-03-25 | Grumman Aerospace Corporation | System and method of fabricating multiple holographic elements |
DE4443029A1 (de) * | 1994-12-02 | 1996-06-27 | Bundesdruckerei Gmbh | Masterhologramm zur Herstellung von kopiersicheren Hologrammen |
DE19632460C1 (de) | 1996-08-12 | 1997-10-30 | Microlas Lasersystem Gmbh | Optische Vorrichtung zum Homogenisieren von Laserstrahlung und Erzeugen von mehreren Beleuchtungsfeldern |
US6562523B1 (en) * | 1996-10-31 | 2003-05-13 | Canyon Materials, Inc. | Direct write all-glass photomask blanks |
US5999281A (en) * | 1997-02-28 | 1999-12-07 | Polaroid Corporation | Holographic projection screen combining an elliptical holographic diffuser and a cylindrical light-collimator |
JP4302885B2 (ja) | 1998-01-29 | 2009-07-29 | ビジックス, インコーポレイテッド | 回折性の光学的ビーム積分によるレーザー伝送システムおよび方法 |
US6215598B1 (en) | 1998-10-05 | 2001-04-10 | Ruey Jennifer Hwu | Apparatus and method for concentrating beams from broad area diode lasers, diode laser bars and/ or diode laser arrays |
US6594299B1 (en) | 1998-11-12 | 2003-07-15 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor laser light emitting apparatus and solid-state laser rod pumping module |
KR100334812B1 (ko) * | 1999-07-02 | 2002-05-02 | 윤종용 | 아포다이즈드 광섬유 격자 제작장치 |
FR2796728B1 (fr) * | 1999-07-21 | 2003-06-27 | France Telecom | Procede d'apodisation de reseau de bragg photoinscrit |
KR100315672B1 (ko) * | 1999-12-28 | 2001-11-29 | 윤종용 | 진폭 마스크를 이용한 절족화된 광섬유 격자의 제작 방법 |
US7295356B2 (en) * | 2001-06-08 | 2007-11-13 | Inphase Technologies, Inc. | Method for improved holographic recording using beam apodization |
US20030107787A1 (en) * | 2001-09-26 | 2003-06-12 | Arkady Bablumyan | Planar and fiber optical apodized diffraction structures fabrication |
US6700709B1 (en) | 2002-03-01 | 2004-03-02 | Boston Laser Inc. | Configuration of and method for optical beam shaping of diode laser bars |
JP2005521076A (ja) * | 2002-03-15 | 2005-07-14 | ピーディー−エルディー、インク. | ボリューム・ブラッグ・グレーティング(VolumeBraggGrating)素子を有する光ファイバー装置 |
WO2004033382A1 (en) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Corning Incorporated | Lens array, method for fabricating the lens array and photosensitive glass plate |
JP2007508596A (ja) | 2003-10-17 | 2007-04-05 | エクスプレイ リミテッド | 投影システムに使用する光学システムおよび方法 |
JP2005326666A (ja) | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 屈折率変調型回折光学素子とそれを含むプロジェクタ |
US20060045144A1 (en) | 2004-09-01 | 2006-03-02 | Nlight Photonics Corporation | Diode laser array beam homogenizer |
DE102005003594B4 (de) * | 2004-12-31 | 2016-02-18 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils, verfahrensgemäß hergestelltes Bauteil sowie derartige Bauteile umfassende Einrichtung |
JP2007121941A (ja) | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Kyocera Corp | ファイバ状位相格子素子、ファイバ状位相格子および位相格子モジュール |
JP2008170471A (ja) | 2007-01-05 | 2008-07-24 | Kyocera Corp | ファイバレンズ、ファイバレンズアレイ、ファイバコリメータおよび光モジュール |
US7551818B2 (en) | 2007-09-28 | 2009-06-23 | The Aerospace Corporation | High power optical fiber laser array holographic coupler manufacturing method |
BRPI0820188A2 (pt) * | 2007-11-08 | 2017-05-09 | Sunrgi | estruturas e métodos concentradores de luz. |
US20090190214A1 (en) * | 2008-01-29 | 2009-07-30 | Nicholas Francis Borrelli | Polarizing photorefractive glass |
US8547632B2 (en) * | 2009-08-19 | 2013-10-01 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Method and system for homogenizing diode laser pump arrays |
-
2009
- 2009-08-19 US US12/544,161 patent/US8728719B2/en active Active
-
2010
- 2010-08-10 JP JP2010179470A patent/JP2011048361A/ja not_active Withdrawn
- 2010-08-18 CN CN2010102620778A patent/CN101995663A/zh active Pending
- 2010-08-18 RU RU2010134528/28A patent/RU2010134528A/ru not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8728719B2 (en) | 2014-05-20 |
JP2011048361A (ja) | 2011-03-10 |
CN101995663A (zh) | 2011-03-30 |
US20110043917A1 (en) | 2011-02-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2010134528A (ru) | Дифракционный гомогенизатор лазерного пучка, включающий в себя фотоактивный материал, и способ его изготовления | |
RU2010134536A (ru) | Способ и система для гомогенизации матриц диодной лазерной накачки | |
US6285443B1 (en) | Illuminating arrangement for a projection microlithographic apparatus | |
Miklyaev et al. | Novel continuously shaped diffractive optical elements enable high efficiency beam shaping | |
US20140092384A1 (en) | Diffraction grating manufacturing method, spectrophotometer, and semiconductor device manufacturing method | |
JP2007328096A (ja) | 回折光学素子とその作製方法および光学モジュール | |
Nguyen et al. | Freeform three-dimensional embedded polymer waveguides enabled by external-diffusion assisted two-photon lithography | |
CN111742248B (zh) | 扩散板 | |
US9331452B2 (en) | Method and system for homogenizing diode laser pump arrays | |
CN101726791A (zh) | 一种制作波长可调的光纤光栅的方法 | |
Yuan et al. | Close packed random rectangular microlens array used for laser beam homogenization | |
US6707537B2 (en) | Projection exposure system | |
Streppel et al. | Formation of micro-optical structures by self-writing processes in photosensitive polymers | |
Mu et al. | Polarisation control in arrays of Microlenses and gratings: Performance in visible–IR spectral ranges | |
JP2011106842A (ja) | 回折格子分光器 | |
Motogaito et al. | Fabrication and characterization of a binary diffractive lens for controlling focal distribution | |
KR100342493B1 (ko) | 회절 효과를 최소화하기 위한 광섬유 격자 제작장치 | |
TWI485431B (zh) | 用於均質同調輻射的設備 | |
Amarasinghe et al. | Investigation of 3D refractive index contrast variations in PVG based photo printed passive optical integrated circuit components | |
Lin et al. | Arbitrary trapezoidal illumination generation method based on variable slits for optical lithography | |
KR101838774B1 (ko) | 투영 광학계와 투영 노광 장치 | |
Hessler et al. | Relaxed fabrication tolerances for low-Fresnel-number lenses | |
TW558658B (en) | Apparatus and method for fabricating a light waveguide grating with index of refraction having symmetric distribution | |
Yang et al. | Improve large area uniformity and production capacity of laser interference lithography with beam flattening device | |
KR20150111223A (ko) | Uv led를 채용한 선형 마스크 얼라이너 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FA92 | Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted) |
Effective date: 20150515 |