RU2009130286A - Уретанакрилаты на основе фенилизоцианата, способ их получения, их применение для получения голографических сред или фотополимерных пленок, способ покрытия голографических сред и фотополимерных пленок и формование детали на основе указанных уретанакрилатов - Google Patents

Уретанакрилаты на основе фенилизоцианата, способ их получения, их применение для получения голографических сред или фотополимерных пленок, способ покрытия голографических сред и фотополимерных пленок и формование детали на основе указанных уретанакрилатов Download PDF

Info

Publication number
RU2009130286A
RU2009130286A RU2009130286/04A RU2009130286A RU2009130286A RU 2009130286 A RU2009130286 A RU 2009130286A RU 2009130286/04 A RU2009130286/04 A RU 2009130286/04A RU 2009130286 A RU2009130286 A RU 2009130286A RU 2009130286 A RU2009130286 A RU 2009130286A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
carbon atoms
group
formula
isocyanate
holographic
Prior art date
Application number
RU2009130286/04A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2515896C2 (ru
Inventor
Томас РЕЛЛЕ (DE)
Томас РЕЛЛЕ
Фридрих-Карл БРУДЕР (DE)
Фридрих-Карл БРУДЕР
Томас ФЭККЕ (DE)
Томас ФЭККЕ
Марк-Штефан ВАЙЗЕР (DE)
Марк-Штефан ВАЙЗЕР
Деннис ХЕНЕЛЬ (DE)
Деннис ХЕНЕЛЬ
Original Assignee
Байер МатириальСайенс АГ (DE)
Байер Матириальсайенс Аг
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Байер МатириальСайенс АГ (DE), Байер Матириальсайенс Аг filed Critical Байер МатириальСайенс АГ (DE)
Publication of RU2009130286A publication Critical patent/RU2009130286A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2515896C2 publication Critical patent/RU2515896C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/26—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C271/28—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/31—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
    • C07C323/33—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring
    • C07C323/35—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring the thio group being a sulfide group
    • C07C323/36—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring the thio group being a sulfide group the sulfur atom of the sulfide group being further bound to an acyclic carbon atom

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

1. Уретанакрилаты, базирующиеся на фенилизоцианате, формулы (I) ! ! в которой ! R1, R2, R3, R4, R5 могут соответственно означать атом водорода или атом галогена или группу алкила, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, группу трифторметила, группу алкилтио, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, группу алкилселено, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, группу алкилтеллуро, имеющего от 1 до 6 атомов углерода или группу нитро, при условии, что, по меньшей мере, один заместитель группы R1, R2, R3, R4, R5 не означает водород ! R6, R7 могут соответственно означать водород или группу алкила, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, и ! A означает насыщенный или ненасыщенный или линейный или разветвленный остаток алкила, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, или остаток полиэтиленоксида (m=2-6), или остаток полипропиленоксида (m=2-6), ! причем также включены соответствующие соли, сольваты или сольваты солей соединений согласно формулы (I). ! 2. Уретанакрилаты, базирующиеся на фенилизоцианате, по п.1, отличающиеся тем, что в формуле (I), по меньшей мере, один заместитель группы R1, R2, R3, R4 и R5 означают заместитель алкилтио, имеющий от 1 до 6 атомов углерода, или хлор, или бром, и остальные заместители группы R1, R2, R3, R4 и R5 означают атомы водорода. ! 3. Уретанакрилаты, базирующиеся на фенилизоцианате, по п.1, отличающиеся тем, что в формуле (I) R6 и R7 означают атомы водорода. ! 4. Уретанакрилаты, базирующиеся на фенилизоцианате, по одному из пп.1-3, отличающиеся тем, что в формуле (I) A означает линейный остаток алкила, имеющий от 2 до 4 атомов углерода или разветвленный остаток алкила, имеющий 3 атома углерода. ! 5. Способ получения уретанакрилатов, базирующихся на фенилизоцианате, по одному из пп.1-4, в

Claims (14)

1. Уретанакрилаты, базирующиеся на фенилизоцианате, формулы (I)
Figure 00000001
в которой
R1, R2, R3, R4, R5 могут соответственно означать атом водорода или атом галогена или группу алкила, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, группу трифторметила, группу алкилтио, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, группу алкилселено, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, группу алкилтеллуро, имеющего от 1 до 6 атомов углерода или группу нитро, при условии, что, по меньшей мере, один заместитель группы R1, R2, R3, R4, R5 не означает водород
R6, R7 могут соответственно означать водород или группу алкила, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, и
A означает насыщенный или ненасыщенный или линейный или разветвленный остаток алкила, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, или остаток полиэтиленоксида (m=2-6), или остаток полипропиленоксида (m=2-6),
причем также включены соответствующие соли, сольваты или сольваты солей соединений согласно формулы (I).
2. Уретанакрилаты, базирующиеся на фенилизоцианате, по п.1, отличающиеся тем, что в формуле (I), по меньшей мере, один заместитель группы R1, R2, R3, R4 и R5 означают заместитель алкилтио, имеющий от 1 до 6 атомов углерода, или хлор, или бром, и остальные заместители группы R1, R2, R3, R4 и R5 означают атомы водорода.
3. Уретанакрилаты, базирующиеся на фенилизоцианате, по п.1, отличающиеся тем, что в формуле (I) R6 и R7 означают атомы водорода.
4. Уретанакрилаты, базирующиеся на фенилизоцианате, по одному из пп.1-3, отличающиеся тем, что в формуле (I) A означает линейный остаток алкила, имеющий от 2 до 4 атомов углерода или разветвленный остаток алкила, имеющий 3 атома углерода.
5. Способ получения уретанакрилатов, базирующихся на фенилизоцианате, по одному из пп.1-4, в котором изоцианаты формулы (II)
Figure 00000002
подвергают взаимодействию с соединениями формулы (III)
Figure 00000003
,
причем
R1, R2, R3, R4, R5 могут соответственно означать атом водорода, или атом галогена, или группу алкила, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, группу трифторметила, группу алкилтио, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, группу алкилселено, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, группу алкилтеллуро, имеющего от 1 до 6 атомов углерода или группу нитро, при условии, что, по меньшей мере, один заместитель группы R1, R2, R3, R4, R5 не означает водород
R6, R7 могут соответственно означать водород или группу алкила, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, и
A означает насыщенный, или ненасыщенный, или линейный, или разветвленный остаток алкила, имеющего от 1 до 6 атомов углерода, или остаток полиэтиленоксида (m=2-6), или остаток полипропиленоксида (m=2-6).
6. Способ по п.5, отличающийся тем, что в качестве изоцианатов формулы (I) используют 2-тиометилфенилизоцианат, 3-тиометилфенилизоцианат, 4-тиометилфенилизоцианат, 2-хлорфенилизоцианат, 3-хлорфенилизоцианат, 4-хлорфенилизоцианат, 2-бромфенилизоцианат, 3-бромфенилизоцианат, 4-бромфенилизоцианат или их смеси.
7. Способ по п.5 или 6, отличающийся тем, что в качестве соединений формулы (III) используют 2-гидроксиэтилакрилат, 3-гидроксипропилакрилат, 4-гидроксибутилакрилат, полипропиленоксидмоно(мет)акрилат, полиэтиленоксидмоно(мет)акрилат или их смеси.
8. Применение уретанакрилатов, базирующихся на фенилизоцианате, по одному из пп.1-4, для получения голографических сред или голографических фотополимерных пленок.
9. Способ экспонирования голографических сред и голографических фотополимерных пленок, в котором предложенные согласно изобретению уретанакрилаты по одному из пп.1-4, которые представлены в полимерной матрице, выборочно полимеризуют путем электромагнитного излучения.
10. Формованное изделие, полученное при использовании уретанакрилатов, базирующихся на фенилизоцианате, по одному из пп.1-4.
11. Формованное изделие по п.10, отличающееся тем, что оно имеет коэффициент преломления при 405 нм >1,50.
12. Формованное изделие по п.10, отличающееся тем, что оно имеет значения ДЕ, измеренные с помощью двухлучевой интерференции в системе отражения >25%.
13. Формованное изделие по одному из пп.10-12, отличающееся тем, что оно представляет оптические линзы, зеркала, отражательные зеркала, фильтры, диффузионные диски, дифракционные элементы, световоды, устройства, изменяющие направление оси светового пучка, проекционные окна, маски, персональные портреты, биометрические изображения в документах безопасности, снимки или структуры снимков для рекламы.
14. Голографические оптические элементы и голографические снимки, которые получают способом по п.9.
RU2009130286/04A 2008-08-08 2009-08-07 Уретанакрилаты на основе фенилизоцианата, способ их получения, их применение для получения голографических сред или фотополимерных пленок, способ покрытия голографических сред и фотополимерных пленок и формованные детали на основе указанных уретанакрилатов RU2515896C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP08014170.8 2008-08-08
EP08014170A EP2154128B1 (de) 2008-08-08 2008-08-08 Phenylisocyanat-basierte Urethanacrylate mit hohem Brechungsindex

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2009130286A true RU2009130286A (ru) 2011-02-20
RU2515896C2 RU2515896C2 (ru) 2014-05-20

Family

ID=40263539

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2009130286/04A RU2515896C2 (ru) 2008-08-08 2009-08-07 Уретанакрилаты на основе фенилизоцианата, способ их получения, их применение для получения голографических сред или фотополимерных пленок, способ покрытия голографических сред и фотополимерных пленок и формованные детали на основе указанных уретанакрилатов

Country Status (12)

Country Link
US (1) US8222314B2 (ru)
EP (2) EP2154128B1 (ru)
JP (1) JP5523008B2 (ru)
KR (1) KR101633513B1 (ru)
CN (1) CN101704773B (ru)
AT (1) ATE493383T1 (ru)
BR (1) BRPI0902816A2 (ru)
CA (1) CA2674826A1 (ru)
DE (1) DE502008002161D1 (ru)
IL (1) IL200025A0 (ru)
RU (1) RU2515896C2 (ru)
SG (1) SG159455A1 (ru)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9976192B2 (en) 2006-03-10 2018-05-22 Ldip, Llc Waveguide-based detection system with scanning light source
US8288157B2 (en) 2007-09-12 2012-10-16 Plc Diagnostics, Inc. Waveguide-based optical scanning systems
US9528939B2 (en) 2006-03-10 2016-12-27 Indx Lifecare, Inc. Waveguide-based optical scanning systems
US9423397B2 (en) 2006-03-10 2016-08-23 Indx Lifecare, Inc. Waveguide-based detection system with scanning light source
EP2144942A1 (en) * 2007-04-11 2010-01-20 Bayer MaterialScience AG Radiation-crosslinking and thermally crosslinking pu systems comprising iminooxadiazinedione
CN102460254B (zh) 2009-04-29 2015-05-06 Plc诊断股份有限公司 具有扫描光源的基于波导的检测系统
RU2542981C9 (ru) 2009-11-03 2015-12-10 Байер Матириальсайенс Аг Способ изготовления голографических сред
ES2453267T3 (es) 2009-11-03 2014-04-07 Bayer Intellectual Property Gmbh Procedimiento de fabricación de una película holográfica
ATE548730T1 (de) 2009-11-03 2012-03-15 Bayer Materialscience Ag Photopolymerformulierungen mit einstellbarem mechanischem modul guv
TWI488908B (zh) 2009-11-03 2015-06-21 Bayer Materialscience Ag 製造全像膜的方法
KR101767280B1 (ko) * 2009-11-03 2017-08-23 코베스트로 도이칠란드 아게 신규한 비결정화 메타크릴레이트, 그의 제조 및 용도
JP5638085B2 (ja) 2009-11-03 2014-12-10 バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフトＢａｙｅｒ ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ ＡＧ 異なった書込コモノマーを含有する感光性ポリマー組成物
EP2531889B1 (de) * 2010-02-02 2020-06-03 Covestro Deutschland AG Verwendung einer photopolymer-formulierung mit ester-basierten schreibmonomeren zur herstellung holographischer medien
WO2012020061A1 (de) 2010-08-11 2012-02-16 Bayer Materialscience Ag Difunktionelle (meth)-acrylat-schreibmonomere
CN103384710A (zh) * 2011-01-26 2013-11-06 M-I有限公司 井筒加强组合物
EP2613319A1 (de) 2012-01-05 2013-07-10 Bayer MaterialScience AG Schichtverbund aus einem Photopolymerfilm und einer Klebstoffschicht
US10018566B2 (en) 2014-02-28 2018-07-10 Ldip, Llc Partially encapsulated waveguide based sensing chips, systems and methods of use
WO2015161969A1 (de) 2014-04-25 2015-10-29 Bayer Material Science Ag Aromatische glykolether als schreibmonomere in holographischen photopolymer-formulierungen
JP6700280B2 (ja) 2014-12-12 2020-05-27 コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトＣｏｖｅｓｔｒｏ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ Ａｇ フォトポリマーのための書込モノマーとしてのナフチルアクリレート
EP3233791B8 (de) * 2014-12-19 2020-12-30 Covestro Intellectual Property GmbH & Co. KG Feuchtigkeitsstabile holographische medien
US11181479B2 (en) 2015-02-27 2021-11-23 Ldip, Llc Waveguide-based detection system with scanning light source
EP3166109A1 (de) 2015-11-09 2017-05-10 Covestro Deutschland AG Kit-of-parts enthaltend versiegellungsschicht und photopolymer
JP7012704B2 (ja) * 2016-08-10 2022-01-28 アルケマ フランス 環状構造要素、ウレタン／ウレイド結合及びフリーラジカル重合性官能基を含む化合物
EP3495886A1 (de) 2017-12-06 2019-06-12 Covestro Deutschland AG Klebstofffreier photopolymerschichtaufbau
US11406964B2 (en) * 2018-03-28 2022-08-09 Covestro Intellectual Property Gmbh & Co. Kg Heterogeneous catalysts for the synthesis of carbamates
CN113304683B (zh) * 2021-06-17 2022-12-13 江南大学 葡糖酰胺封端聚醚型表面活性剂、其制备方法及应用
WO2024005140A1 (ja) * 2022-06-30 2024-01-04 三菱ケミカル株式会社 化合物、重合性組成物、重合物、ホログラム記録媒体、光学材料、並びに光学部品
WO2024052256A1 (de) 2022-09-07 2024-03-14 Covestro Deutschland Ag Spezielle benzopyryliumsalze als farbstoffe für photopolymerzusammensetzungen
WO2024085208A1 (ja) * 2022-10-19 2024-04-25 三菱ケミカル株式会社 化合物、重合性組成物、重合体、ホログラム記録媒体、光学材料、並びに光学部品

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2217744A1 (de) * 1972-04-13 1973-10-18 Agfa Gevaert Ag Lichtempfindliche polymere
GB1429649A (en) * 1972-06-22 1976-03-24 Agfagevaert Unsaturated carboxylic esters of hydroxyalkyl carbamates addition polymers derived thereform and photographic silver halide materials containing said polymers
US4227980A (en) * 1978-09-13 1980-10-14 Whittaker Corporation Photoreactive coating compositions based on urethane modified acrylates
US5342891A (en) * 1987-06-30 1994-08-30 Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation (N-substituted carbamoyloxy) alkanoyloxyalkyl acrylate polymers and compositions made therefrom
US4968837A (en) 1989-07-28 1990-11-06 Ethyl Corporation Resolution of racemic mixtures
DE3935138A1 (de) * 1989-10-21 1991-04-25 Hoechst Ag Ethylenisch ungesaettigte, grenzflaechenaktive urethanderivate und verfahren zu ihrer herstellung
RU2002637C1 (ru) * 1992-07-14 1993-11-15 Московское научно-производственное объединение "НИОПИК" Способ получени декорированного материала
GB9410578D0 (en) * 1994-05-26 1994-07-13 London Hospital Med Coll Novel (meth)acrylate monomers and denture base compositions prepared therefrom
US5916987A (en) * 1996-05-29 1999-06-29 Mitsui Chemicals, Inc. Thiol and Sulfur-containing O-(meth) acrylate compounds and use thereof
JP3778620B2 (ja) * 1996-07-15 2006-05-24 岡本化学工業株式会社 感光性組成物
JP3672059B2 (ja) * 1996-10-11 2005-07-13 日本化薬株式会社 樹脂組成物、レンズ用樹脂組成物及びその硬化物
RU2167150C2 (ru) * 1998-03-25 2001-05-20 Фокин Александр Васильевич Полифторалкил-n-арилкарбаматы, обладающие антимикробной активностью
JP3068562B2 (ja) 1998-06-12 2000-07-24 ホーヤ株式会社 光学部材用コーティング組成物、それを用いて得られる薄膜層及びそれを有する光学部材
US7566412B2 (en) * 1999-11-10 2009-07-28 Dentsply International Inc. Dental method and device
KR100453344B1 (ko) 2000-09-22 2004-10-20 미쯔이카가쿠 가부시기가이샤 아크릴산 에스테르화합물 및 그 용도
JP4008203B2 (ja) 2001-03-28 2007-11-14 リンテック株式会社 光学用フィルム
US6780546B2 (en) 2001-08-30 2004-08-24 Inphase Technologies, Inc. Blue-sensitized holographic media
AU2003281616A1 (en) 2002-07-22 2004-02-09 Mitsui Chemicals, Inc. Resin composition containing ultrafine inorganic particle
US7498394B2 (en) * 2003-02-24 2009-03-03 The Regents Of The University Of Colorado (Meth)acrylic and (meth)acrylamide monomers, polymerizable compositions, and polymers obtained
CA2683882A1 (en) * 2007-04-11 2008-10-23 Bayer Materialscience Ag Aromatic urethane acrylates having a high refractive index

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100019388A (ko) 2010-02-18
US8222314B2 (en) 2012-07-17
ATE493383T1 (de) 2011-01-15
CN101704773A (zh) 2010-05-12
IL200025A0 (en) 2010-05-17
RU2515896C2 (ru) 2014-05-20
JP5523008B2 (ja) 2014-06-18
JP2010043079A (ja) 2010-02-25
EP2154128A1 (de) 2010-02-17
SG159455A1 (en) 2010-03-30
US20100036013A1 (en) 2010-02-11
EP2154128B1 (de) 2010-12-29
CA2674826A1 (en) 2010-02-08
BRPI0902816A2 (pt) 2010-05-25
KR101633513B1 (ko) 2016-06-24
DE502008002161D1 (de) 2011-02-10
EP2154129A1 (de) 2010-02-17
CN101704773B (zh) 2014-03-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2009130286A (ru) Уретанакрилаты на основе фенилизоцианата, способ их получения, их применение для получения голографических сред или фотополимерных пленок, способ покрытия голографических сред и фотополимерных пленок и формование детали на основе указанных уретанакрилатов
JP2010043079A5 (ru)
US9804490B2 (en) Holographic media with improved light sensitivity
EP3245051B1 (de) Verfahren zur herstellung eines optischen giesskörpers mit holografisch optischem element und optischer giesskörper
EP2531892B1 (de) Verwendung einer photopolymer-formulierung mit triazin-basierten schreibmonomeren
WO2005059618A3 (en) Microlithography projection objective with crystal lens
KR102252704B1 (ko) 아크릴레이트계 보호성 광택제 및 접착제
JPH0355587A (ja) ホトポリマ中に形成された反射ホログラムを有するホログラフ光学エレメント
TW201437270A (zh) 光擴散膜用組合物和光擴散膜
WO2011095442A1 (de) Photopolymer-formulierung mit ester-basierten schreibmonomeren
CN107223121B (zh) 湿稳定的全息介质
JP2012008525A (ja) 立体表示システム
EP2845195A1 (de) Neue photoinitiatoren für photopolymere
JP2019501405A (ja) シーリング層及びフォトポリマーを含む部品のキット
TW201908135A (zh) 含有全像照射之光聚合物層與高抗性漆層之全像介質
KR100553052B1 (ko) 광학재료, 광학소자, 적층형회절광학소자, 광학계 및광학소자의 성형방법
EP2904531A1 (de) Auswahlverfahren für photoinitiatorsysteme
Shcherbakov et al. Direct Laser Writing of Microscale 3D Structures: Morphological and Mechanical Properties
WO2019069488A1 (ja) 化合物、樹脂前駆体、硬化物、光学素子、光学系、カメラ用交換レンズ、光学装置、接合レンズ、及び接合レンズの製造方法
CN112764159B (zh) 光波导元件及其制备方法以及全息光波导显示设备
JP2018526475A (ja) 鎖置換されたシアニン色素を含むホログラフィック媒体
Forman et al. Photoinhibited superresolution lithography: overcoming chemical blur
CN115038687A (zh) 化合物、树脂前体、固化物、光学元件、光学系统、照相机用更换镜头、光学装置、接合透镜以及接合透镜的制造方法
JP2020519942A (ja) ホログラフィック露光用のフォトポリマー層および高抵抗のコーティング層を含むフィルム構造
EP3401910A1 (de) Holographisches medium enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit