RU2007112106A - Способ и устройство изготовления материала основы для трафаретной печати, и материал основы этого типа - Google Patents

Способ и устройство изготовления материала основы для трафаретной печати, и материал основы этого типа Download PDF

Info

Publication number
RU2007112106A
RU2007112106A RU2007112106/12A RU2007112106A RU2007112106A RU 2007112106 A RU2007112106 A RU 2007112106A RU 2007112106/12 A RU2007112106/12 A RU 2007112106/12A RU 2007112106 A RU2007112106 A RU 2007112106A RU 2007112106 A RU2007112106 A RU 2007112106A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
screen
resistive layer
protective film
resistive
continuous web
Prior art date
Application number
RU2007112106/12A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2384415C2 (ru
Inventor
Уилфрид Францискус Мари КУПМАН (NL)
Уилфрид Францискус Мария Купман
Якоб Якобус ПОЕЛМАН (NL)
Якоб Якобус Поелман
Йоханнес Францискус Герардус КОСТЕР (NL)
Йоханнес Францискус Герардус Костер
Стефанус Герардус Йоханнес БЛАНКЕНБОРГ (NL)
Стефанус Герардус Йоханнес Бланкенборг
Original Assignee
Сторк Принтс Б.В. (Nl)
Сторк Принтс Б.В.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=34974150&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=RU2007112106(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Сторк Принтс Б.В. (Nl), Сторк Принтс Б.В. filed Critical Сторк Принтс Б.В. (Nl)
Publication of RU2007112106A publication Critical patent/RU2007112106A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2384415C2 publication Critical patent/RU2384415C2/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/14—Forme preparation for stencil-printing or silk-screen printing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Coloring (AREA)

Claims (25)

1. Способ изготовления материала основы (10) для трафаретной печати, компоненты которого содержат трафаретную сетку, резистивный слой резистивного материала и защитную пленку, причем способ включает сборку материала основы из компонентов, и способ по меньшей мере включает этапы:
a) нанесения первого резистивного слоя (30) на одну сторону трафаретной сетки (12); и
b) затем нанесения защитной пленки (22) на первый резистивный слой (30) на трафаретной сетке (12).
2. Способ по п.1, в котором резистивный материал содержит светочувствительный резистивный материал.
3. Способ по п.1, который включает этап с) высушивания трафаретной сетки (12) с резистивным слоем (30) и защитной пленкой (22), полученных на этапе b).
4. Способ по любому из пп.1-3, в котором этап b) выполняют, пока первый резистивный слой (30) влажный.
5. Способ по любому из пп.1-3, в котором этап нанесения первого резистивного слоя (30) на трафаретную сетку (12) выполняют множеством подэтапов нанесения частичного резистивного слоя (30а, 30b, 30с).
6. Способ по п.5, в котором высушивают частичный резистивный слой (30а, 30b), нанесенный на каждом подэтапе, за исключением последнего подэтапа.
7. Способ по п.5 или 6, в котором этап b) выполняют, пока последний частичный резистивный слой (30с) влажный.
8. Способ по любому из пп.1-7, в котором резистивный слой (30) или частичный резистивный слой (30а-с) наносят на трафаретную сетку (12) при помощи ракельного устройства (114) для нанесения покрытия.
9. Способ по любому из пп.1-8, в котором защитную пленку (22) обеспечивают на одной стороне дополнительным резистивным слоем (38), и на этапе b) дополнительный резистивный слой (38) вводят в контакт с первым резистивным слоем (30).
10. Способ по п.9, в котором на этапе b) та сторона (40) дополнительного резистивного слоя (38), которую вводят в контакт с первым резистивным слоем (30), влажная.
11. Способ по любому из пп.1-10, который выполняют непрерывно.
12. Способ по любому из пп.1-11, в котором защитную пленку связывают с первым резистивным слоем (30) клеящим веществом.
13. Материал (10) основы для трафаретной печати, содержащий трафаретную сетку (12), резистивный слой (30) резистивного материала и защитную пленку (22), при этом трафаретная сетка (12) содержит сеть перемычек (16), которые ограничивают впадины (14); при этом резистивный слой (30) и защитная пленка (22) обеспечены на одной стороне трафаретной сетки, и уровень заполнения резистивного слоя (30) между перемычками (14) трафаретной сетки (5) превышает 60%.
14. Материал основы по п.13, в котором уровень заполнения превышает 75%.
15. Материал основы по п.13 или 14, в котором уровень заполнения превышает 80%.
16. Материал основы по любому из пп.13-15, в котором глубина проникновения (hi) резистивного слоя (30) между перемычками (16) трафаретной сетки (5) единообразная.
17. Материал (10) основы по любому из пп.13-16, в котором расстояние от перемычек (16) трафаретной сетки (12) до поверхности (32) резистивного слоя (30) на стороне защитной пленки (22) единообразное.
18. Материал (10) основы по любому из пп.13-17, в котором поверхность резистивного слоя (30) на стороне, на которой находится защитная пленка (22), имеет значения Rz менее 10 мкм.
19. Материал (10) основы по любому из пп.13-18, в котором трафаретная сетка (12) является трафаретной сеткой, сформированной гальванопластикой.
20. Устройство (100) для изготовления материала (10) основы для трафаретной печати в виде непрерывного полотна, компоненты которого содержат трафаретную сетку (12), слой резистивного материала (30) и защитную пленку (22), причем устройство содержит: транспортерное средство (104, 106) для перемещения непрерывного полотна (108) материала (12) трафаретной сетки, средство (114) для нанесения покрытия, которое наносит резистивный материал на одну сторону двигающегося непрерывного полотна (108) материала трафаретной сетки; подающее средство (122) для подачи защитной пленки (22); соединительное средство (34, 36, 112) для введения защитной пленки (22) в контакт с резистивным материалом непрерывного полотна (108) материала (12) трафаретной сетки со слоем (30) резистивного материала; высушивающее средство (102), которое высушивает обработанное непрерывное полотно материала трафаретной сетки.
21. Устройство по п.20, в котором транспортерное средство содержит разматывающее средство (104) для разматывания непрерывного полотна материала трафаретной сетки с подающей бобины (110) и также наматывающее средство (106) для наматывания обработанного непрерывного полотна материала трафаретной сетки.
22. Устройство по любому из пп.20 и 21, в котором средство для нанесения покрытия содержит ракельное устройство (114) для нанесения покрытия.
23. Устройство по любому из пп.20-22, в котором соединительное средство представляет собой узел, состоящий из прижимного валика (36) и опорного валика (34, 112).
24. Устройство по любому из пп.20-23, в котором средства (114) для нанесения покрытия расположены вдоль вертикального сечения траектории перемещения непрерывного полотна (108) материала (12) трафаретной сетки.
25. Устройство по любому из пп.20-24, которое также содержит разрядное средство (24) для удаления электростатического заряда на защитной пленке.
RU2007112106/12A 2004-09-03 2005-09-01 Способ и устройство изготовления материала основы для трафаретной печати и материал основы этого типа RU2384415C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1026971 2004-09-03
NL1026971A NL1026971C2 (nl) 2004-09-03 2004-09-03 Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een basismateriaal voor zeefdrukken, alsmede dergelijk basismateriaal.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2007112106A true RU2007112106A (ru) 2008-10-20
RU2384415C2 RU2384415C2 (ru) 2010-03-20

Family

ID=34974150

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2007112106/12A RU2384415C2 (ru) 2004-09-03 2005-09-01 Способ и устройство изготовления материала основы для трафаретной печати и материал основы этого типа

Country Status (17)

Country Link
US (2) US8173216B2 (ru)
EP (1) EP1799456B1 (ru)
CN (1) CN101052525B (ru)
AU (1) AU2005280761B2 (ru)
BR (1) BRPI0514856B1 (ru)
CA (3) CA2579715C (ru)
DK (1) DK1799456T3 (ru)
ES (1) ES2400366T3 (ru)
HK (1) HK1113558A1 (ru)
MX (1) MX2007002664A (ru)
NL (1) NL1026971C2 (ru)
PL (1) PL1799456T3 (ru)
RU (1) RU2384415C2 (ru)
SI (1) SI1799456T1 (ru)
UA (1) UA93360C2 (ru)
WO (1) WO2006025739A1 (ru)
ZA (1) ZA200701788B (ru)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2128699A1 (en) * 2008-05-28 2009-12-02 Stork Prints B.V. Base material for preparing a stencil for screen printing
CN109847416B (zh) * 2019-04-10 2023-05-23 毅康科技有限公司 一种用于工业废水处理的除泥装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2400929A1 (de) 1973-12-03 1975-07-24 Mcgraw Colorgraph Co Verfahren zur herstellung von drucksieben
JPS53119025A (en) 1977-03-26 1978-10-18 Sumitomo Chemical Co Light forming material
JPS5511266A (en) * 1978-07-12 1980-01-26 Sumitomo Chem Co Ltd Production of photo molding material for making stencil
JPS58116540A (ja) * 1981-12-29 1983-07-11 Furukawakan Kk スクリ−ン捺染法
GB8401824D0 (en) * 1984-01-24 1984-02-29 Autotype Int Ltd Photosensitive stencil materials
DE3441593A1 (de) * 1984-11-14 1986-05-22 Ferd. Rüesch AG, St. Gallen Verfahren und vorrichtung zum herstellen von siebdruckgeweben fuer siebdruckzylinder
DE8511549U1 (de) * 1985-04-18 1986-06-19 Ferd. Rüesch AG, St. Gallen Siebdruckschablone
US6766817B2 (en) 2001-07-25 2004-07-27 Tubarc Technologies, Llc Fluid conduction utilizing a reversible unsaturated siphon with tubarc porosity action
NL1025774A1 (nl) 2004-03-19 2004-05-03 Stork Prints Bv Werkwijze voor het vervaardigen van een basismateriaal voor zeefdrukken alsmede dergelijk basismateriaal.

Also Published As

Publication number Publication date
NL1026971C2 (nl) 2006-03-06
CA2743541C (en) 2013-10-15
DK1799456T3 (da) 2013-03-11
HK1113558A1 (en) 2008-10-10
EP1799456B1 (en) 2012-12-12
US8746140B2 (en) 2014-06-10
EP1799456A1 (en) 2007-06-27
US8173216B2 (en) 2012-05-08
CA2579715C (en) 2012-10-02
WO2006025739A1 (en) 2006-03-09
AU2005280761A1 (en) 2006-03-09
BRPI0514856A (pt) 2008-06-24
CA2579715A1 (en) 2006-03-09
CA2743544A1 (en) 2006-03-09
CA2743541A1 (en) 2006-03-09
BRPI0514856B1 (pt) 2018-10-30
CN101052525A (zh) 2007-10-10
US20070298180A1 (en) 2007-12-27
CA2743544C (en) 2014-01-28
CN101052525B (zh) 2012-10-03
SI1799456T1 (sl) 2013-03-29
ZA200701788B (en) 2008-11-26
PL1799456T3 (pl) 2013-04-30
RU2384415C2 (ru) 2010-03-20
UA93360C2 (ru) 2011-02-10
AU2005280761B2 (en) 2011-07-21
ES2400366T3 (es) 2013-04-09
US20120199024A1 (en) 2012-08-09
MX2007002664A (es) 2007-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6411466B2 (ja) スロットダイコーティング方法及び装置
US9873276B2 (en) Microcontact printing stamps with functional features
CN104244609B (zh) 基材双面塞孔装置
JP2010094613A (ja) 粘着剤塗工用グラビアロールおよび粘着テープの製造方法
CA2302803A1 (en) Flexographic printing apparatus
TWI420987B (zh) 用於製造電子裝置之尖端印刷及刮塗系統及方法
JP2008520082A5 (ru)
RU2007112106A (ru) Способ и устройство изготовления материала основы для трафаретной печати, и материал основы этого типа
JPH02263419A (ja) 積層型チップコンデンサ用金属化フィルムの製造方法
JP4074293B2 (ja) 電子回路用基板の塗料塗布保護フィルム付き塗膜形成方法及びその塗膜形成装置
CA2531804A1 (en) Apparatus for feeding inner wrapper for wrapping cigarette bundles
JP4624387B2 (ja) レジスト塗布基板製造方法と、その製造方法で製造されたレジスト塗布基板
RU2375735C2 (ru) Способ изготовления материала основы для трафаретной печати и материал основы этого типа
JP2009172949A (ja) グラビア印刷版および積層電子部品の製造方法
JP4624241B2 (ja) 保護フィルム付き絶縁塗料又は感光塗料塗布プリント配線基板製造方法
JPH0897448A (ja) 太陽電池の電極形成方法
JP2005166914A (ja) 太陽電池の製造方法
JP2002336757A (ja) アプリケータ
JP2000133934A (ja) セラミック基板への導体充填装置
WO2022254598A1 (ja) ロータリースクリーン印刷装置及びロータリースクリーン印刷方法
JPS6341239B2 (ru)
JP4024156B2 (ja) 塗布装置および塗布方法
JP5782759B2 (ja) 粘着シートの製造方法及び粘着シートの製造装置
TW507347B (en) Method for filling plating through hole on package substrate and mechanism thereof
JP5265314B2 (ja) プリント配線基板へのレジスト塗布方法