RU2004111488A - Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы - Google Patents
Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы Download PDFInfo
- Publication number
- RU2004111488A RU2004111488A RU2004111488/28A RU2004111488A RU2004111488A RU 2004111488 A RU2004111488 A RU 2004111488A RU 2004111488/28 A RU2004111488/28 A RU 2004111488/28A RU 2004111488 A RU2004111488 A RU 2004111488A RU 2004111488 A RU2004111488 A RU 2004111488A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- electrodes
- euv radiation
- source
- discharge
- rotating
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
- H05G2/005—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas containing a metal as principal radiation generating component
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Claims (8)
1. Источник ЭУФ излучения с вращающимися электродами, жестко закрепленными на валу, включающий в себя импульсную систему инициирования разряда и источник питания разряда, подсоединенный к электродам, отличающийся тем, что в качестве электродов использованы два дискообразных элемента, центральные оси симметрии которых совмещены с осью вала, периферийная часть поверхности, по крайней мере, одного из электродов покрыта слоем легкоплавкого металла, и введена система подачи легкоплавкого металла на поверхность, по крайней мере, одного из электродов, а в качестве системы инициирования разряда применено устройство формирования парового канала в периферийной области межэлектродного зазора.
2. Источник ЭУФ излучения с вращающимися электродами по п.1, отличающийся тем, что в качестве устройства формирования парового канала применен лазер или электронная пушка с системой фокусировки пучка на слой легкоплавкого металла, в качестве которого использовано рабочее вещество, преимущественно олово (Sn), плазма которого имеет линии излучения в ЭУФ диапазоне спектра.
3. Источник ЭУФ излучения с вращающимися электродами по п.1, отличающийся тем, что система подачи легкоплавкого металла на поверхность электродов выполнена в виде двух ванн, заполненных жидким оловом, при этом электроды установлены с возможностью их частичного погружения в ванны при вращении.
4. Источник ЭУФ излучения с вращающимися электродами по п.3, отличающийся тем, что ванны электрически изолированы друг от друга, и источник питания подключен к вращающимся электродам посредством жидкого олова, заполняющего ванны.
5. Источник ЭУФ излучения с вращающимися электродами по п.3, отличающийся тем, что в каждой ванне с жидким оловом размещен теплообменник для отвода тепла от электродов.
6. Источник ЭУФ излучения с вращающимися электродами по п.5, отличающийся тем, что электроды снабжены лопастями для обеспечения циркуляции жидкого олова через теплообменник.
7. Способ получения ЭУФ излучения из плазмы газового разряда посредством источника ЭУФ излучения с вращающимися электродами, заключающийся в инициировании разряда между разнополярными электродами и зажигании разряда пинчевого типа при вращении с частотой v вала, отличающийся тем, что в периферийной, удаленной на расстояние R от оси вращения области межэлектродного зазора импульсно формируют канал из паров рабочего вещества для замыкания межэлектродного зазора величиной d, а затем осуществляют зажигание разряда пинчевого типа, при этом производят разрядные циклы с частотой повторения f≥2πvR/d и компенсируют расход рабочего вещества путем непрерывной подачи легкоплавкого металла на поверхность, по крайней мере, одного из электродов.
8. Способ получения ЭУФ излучения из плазмы газового разряда по п.7, отличающийся тем, что формирование парового канала осуществляют импульсным лазерным или электронным пучком, сфокусированным на слой легкоплавкого металла.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2004111488/28A RU2278483C2 (ru) | 2004-04-14 | 2004-04-14 | Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы |
PCT/EP2005/003869 WO2005101924A1 (en) | 2004-04-14 | 2005-04-13 | Method and device for obtaining euv radiation from a gas-discharge plasma |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2004111488/28A RU2278483C2 (ru) | 2004-04-14 | 2004-04-14 | Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2004111488A true RU2004111488A (ru) | 2005-10-20 |
RU2278483C2 RU2278483C2 (ru) | 2006-06-20 |
Family
ID=34966511
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2004111488/28A RU2278483C2 (ru) | 2004-04-14 | 2004-04-14 | Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2278483C2 (ru) |
WO (1) | WO2005101924A1 (ru) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005023060B4 (de) * | 2005-05-19 | 2011-01-27 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Gasentladungs-Strahlungsquelle, insbesondere für EUV-Strahlung |
JP4904809B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-03-28 | ウシオ電機株式会社 | 極端紫外光光源装置 |
US7501642B2 (en) * | 2005-12-29 | 2009-03-10 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source |
DE102006015641B4 (de) | 2006-03-31 | 2017-02-23 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | Vorrichtung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels einer elektrisch betriebenen Gasentladung |
DE102006015640B3 (de) * | 2006-03-31 | 2007-10-04 | Xtreme Technologies Gmbh | Vorrichtung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung auf Basis einer elektrisch betriebenen Gasentladung |
DE102006022823B4 (de) * | 2006-05-12 | 2010-03-25 | Xtreme Technologies Gmbh | Anordnung zur Erzeugung von EUV-Strahlung auf Basis eines Gasentladungsplasmas |
DE102006027856B3 (de) * | 2006-06-13 | 2007-11-22 | Xtreme Technologies Gmbh | Anordnung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels elektrischer Entladung an regenerierbaren Elektroden |
US8766212B2 (en) | 2006-07-19 | 2014-07-01 | Asml Netherlands B.V. | Correction of spatial instability of an EUV source by laser beam steering |
TW200808134A (en) | 2006-07-28 | 2008-02-01 | Ushio Electric Inc | Light source device for producing extreme ultraviolet radiation and method of generating extreme ultraviolet radiation |
US7759663B1 (en) * | 2006-12-06 | 2010-07-20 | Asml Netherlands B.V. | Self-shading electrodes for debris suppression in an EUV source |
US7518134B2 (en) * | 2006-12-06 | 2009-04-14 | Asml Netherlands B.V. | Plasma radiation source for a lithographic apparatus |
US7696492B2 (en) | 2006-12-13 | 2010-04-13 | Asml Netherlands B.V. | Radiation system and lithographic apparatus |
DE102007004440B4 (de) * | 2007-01-25 | 2011-05-12 | Xtreme Technologies Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels einer elektrisch betriebenen Gasentladung |
US20080237501A1 (en) | 2007-03-28 | 2008-10-02 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet radiation generating method |
JP2009087807A (ja) | 2007-10-01 | 2009-04-23 | Tokyo Institute Of Technology | 極端紫外光発生方法及び極端紫外光光源装置 |
JP4893730B2 (ja) * | 2008-12-25 | 2012-03-07 | ウシオ電機株式会社 | 極端紫外光光源装置 |
JP5471663B2 (ja) | 2010-03-19 | 2014-04-16 | ウシオ電機株式会社 | 極端紫外光光源装置および集光光学手段の位置調整方法 |
DE102013000407B4 (de) * | 2013-01-11 | 2020-03-26 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Verbesserung der Benetzbarkeit einer rotierenden Elektrode in einer Gasentladungslampe |
DE102013110760B4 (de) | 2013-09-27 | 2017-01-12 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | Strahlungsquelle zur Erzeugung von kurzwelliger Strahlung aus einem Plasma |
RU2658314C1 (ru) * | 2016-06-14 | 2018-06-20 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Эуф Лабс" | Высокояркостный источник эуф-излучения и способ генерации излучения из лазерной плазмы |
RU2709183C1 (ru) * | 2019-04-26 | 2019-12-17 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Эуф Лабс" | Источник рентгеновского излучения с жидкометаллической мишенью и способ генерации излучения |
CN115103499B (zh) * | 2022-06-09 | 2024-03-22 | 大连理工大学 | 一种水下镓铟锡液态金属成丝放电爆炸装置及方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19743311A1 (de) * | 1996-09-30 | 1998-04-02 | Fraunhofer Ges Forschung | Target für die Erzeugung gepulster Röntgen- und Extrem-UV-Strahlung (EUV), Verfahren zur Erzeugung eines solchen Targets sowie seine Verwendung |
JP2003288998A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Ushio Inc | 極端紫外光源 |
EP1401248B1 (en) * | 2002-09-19 | 2012-07-25 | ASML Netherlands B.V. | Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method |
EP1406124A1 (en) * | 2002-10-03 | 2004-04-07 | ASML Netherlands B.V. | Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method |
DE10342239B4 (de) * | 2003-09-11 | 2018-06-07 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem-Ultraviolettstrahlung oder weicher Röntgenstrahlung |
-
2004
- 2004-04-14 RU RU2004111488/28A patent/RU2278483C2/ru not_active IP Right Cessation
-
2005
- 2005-04-13 WO PCT/EP2005/003869 patent/WO2005101924A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2278483C2 (ru) | 2006-06-20 |
WO2005101924A1 (en) | 2005-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2004111488A (ru) | Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы | |
TWI382789B (zh) | 製造遠紫外線輻射或軟性x射線之方法及裝置 | |
JP4810351B2 (ja) | ガス放電による放射線発生装置 | |
US7531820B2 (en) | Arrangement and method for the generation of extreme ultraviolet radiation | |
US7557511B2 (en) | Apparatus and method utilizing high power density electron beam for generating pulsed stream of ablation plasma | |
US8008595B2 (en) | Arrangement for generating extreme ultraviolet radiation by means of an electrically operated gas discharge | |
US7812542B2 (en) | Arrangement and method for the generation of extreme ultraviolet radiation by means of an electrically operated gas discharge | |
JP4949516B2 (ja) | ガス放電光源用の電極デバイス、及びこの電極デバイスをもつガス放電光源を作動させる方法 | |
TW201320830A (zh) | 具有減少殘餘物產生之雷射產生之電漿超紫外線(euv)源 | |
EP2482303B1 (en) | Deposition apparatus and methods | |
JP4268987B2 (ja) | 電気的に作動するガス放電に基づく極紫外線発生装置 | |
JP5566302B2 (ja) | 特にeuv放射のためのガス放電光源 | |
JP5504673B2 (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
JP2009104924A (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
JP2009224182A (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
US8426834B2 (en) | Method and apparatus for the generation of EUV radiation from a gas discharge plasma | |
RU2647489C1 (ru) | Электронная отпаянная пушка для вывода электронного потока и рентгеновского излучения из вакуумной области в атмосферу | |
RU2373591C1 (ru) | Источник эуф-излучения | |
RU2383074C2 (ru) | Мощный источник эуф излучения | |
JPS5842769A (ja) | 光ビ−ムを用いたイオンプレ−ティング装置 | |
JPH05230634A (ja) | アークイオンプレーティング装置 | |
UA118235C2 (uk) | Спосіб синтезу наноструктур оксиду міді в наносекундному розряді з електролітичним електродом | |
JP2001116897A (ja) | X線源 | |
JPH11284288A (ja) | 金属蒸気レーザ装置 | |
JPH11204895A (ja) | 金属蒸気レーザ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20070415 |