RU2004111488A - Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы - Google Patents

Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы Download PDF

Info

Publication number
RU2004111488A
RU2004111488A RU2004111488/28A RU2004111488A RU2004111488A RU 2004111488 A RU2004111488 A RU 2004111488A RU 2004111488/28 A RU2004111488/28 A RU 2004111488/28A RU 2004111488 A RU2004111488 A RU 2004111488A RU 2004111488 A RU2004111488 A RU 2004111488A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electrodes
euv radiation
source
discharge
rotating
Prior art date
Application number
RU2004111488/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2278483C2 (ru
Inventor
Владимир Михайлович Борисов (RU)
Владимир Михайлович Борисов
Александр Юрьевич Виноходов (RU)
Александр Юрьевич Виноходов
Александр Сергеевич Иванов (RU)
Александр Сергеевич Иванов
Юрий Борисович Кирюхин (RU)
Юрий Борисович Кирюхин
Валентин Александрович Мищенко (RU)
Валентин Александрович Мищенко
Александр Васильевич Прокофьев (RU)
Александр Васильевич Прокофьев
Олег Борисович Христофоров (RU)
Олег Борисович Христофоров
Original Assignee
Владимир Михайлович Борисов (RU)
Владимир Михайлович Борисов
Александр Юрьевич Виноходов (RU)
Александр Юрьевич Виноходов
Юрий Борисович Кирюхин (RU)
Юрий Борисович Кирюхин
Валентин Александрович Мищенко (RU)
Валентин Александрович Мищенко
Олег Борисович Христофоров (RU)
Олег Борисович Христофоров
Александр Сергеевич Иванов (RU)
Александр Сергеевич Иванов
Александр Васильевич Прокофьев (RU)
Александр Васильевич Прокофьев
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Владимир Михайлович Борисов (RU), Владимир Михайлович Борисов, Александр Юрьевич Виноходов (RU), Александр Юрьевич Виноходов, Юрий Борисович Кирюхин (RU), Юрий Борисович Кирюхин, Валентин Александрович Мищенко (RU), Валентин Александрович Мищенко, Олег Борисович Христофоров (RU), Олег Борисович Христофоров, Александр Сергеевич Иванов (RU), Александр Сергеевич Иванов, Александр Васильевич Прокофьев (RU), Александр Васильевич Прокофьев filed Critical Владимир Михайлович Борисов (RU)
Priority to RU2004111488/28A priority Critical patent/RU2278483C2/ru
Priority to PCT/EP2005/003869 priority patent/WO2005101924A1/en
Publication of RU2004111488A publication Critical patent/RU2004111488A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2278483C2 publication Critical patent/RU2278483C2/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05GX-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05GX-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • H05G2/005X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas containing a metal as principal radiation generating component

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Claims (8)

1. Источник ЭУФ излучения с вращающимися электродами, жестко закрепленными на валу, включающий в себя импульсную систему инициирования разряда и источник питания разряда, подсоединенный к электродам, отличающийся тем, что в качестве электродов использованы два дискообразных элемента, центральные оси симметрии которых совмещены с осью вала, периферийная часть поверхности, по крайней мере, одного из электродов покрыта слоем легкоплавкого металла, и введена система подачи легкоплавкого металла на поверхность, по крайней мере, одного из электродов, а в качестве системы инициирования разряда применено устройство формирования парового канала в периферийной области межэлектродного зазора.
2. Источник ЭУФ излучения с вращающимися электродами по п.1, отличающийся тем, что в качестве устройства формирования парового канала применен лазер или электронная пушка с системой фокусировки пучка на слой легкоплавкого металла, в качестве которого использовано рабочее вещество, преимущественно олово (Sn), плазма которого имеет линии излучения в ЭУФ диапазоне спектра.
3. Источник ЭУФ излучения с вращающимися электродами по п.1, отличающийся тем, что система подачи легкоплавкого металла на поверхность электродов выполнена в виде двух ванн, заполненных жидким оловом, при этом электроды установлены с возможностью их частичного погружения в ванны при вращении.
4. Источник ЭУФ излучения с вращающимися электродами по п.3, отличающийся тем, что ванны электрически изолированы друг от друга, и источник питания подключен к вращающимся электродам посредством жидкого олова, заполняющего ванны.
5. Источник ЭУФ излучения с вращающимися электродами по п.3, отличающийся тем, что в каждой ванне с жидким оловом размещен теплообменник для отвода тепла от электродов.
6. Источник ЭУФ излучения с вращающимися электродами по п.5, отличающийся тем, что электроды снабжены лопастями для обеспечения циркуляции жидкого олова через теплообменник.
7. Способ получения ЭУФ излучения из плазмы газового разряда посредством источника ЭУФ излучения с вращающимися электродами, заключающийся в инициировании разряда между разнополярными электродами и зажигании разряда пинчевого типа при вращении с частотой v вала, отличающийся тем, что в периферийной, удаленной на расстояние R от оси вращения области межэлектродного зазора импульсно формируют канал из паров рабочего вещества для замыкания межэлектродного зазора величиной d, а затем осуществляют зажигание разряда пинчевого типа, при этом производят разрядные циклы с частотой повторения f≥2πvR/d и компенсируют расход рабочего вещества путем непрерывной подачи легкоплавкого металла на поверхность, по крайней мере, одного из электродов.
8. Способ получения ЭУФ излучения из плазмы газового разряда по п.7, отличающийся тем, что формирование парового канала осуществляют импульсным лазерным или электронным пучком, сфокусированным на слой легкоплавкого металла.
RU2004111488/28A 2004-04-14 2004-04-14 Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы RU2278483C2 (ru)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2004111488/28A RU2278483C2 (ru) 2004-04-14 2004-04-14 Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы
PCT/EP2005/003869 WO2005101924A1 (en) 2004-04-14 2005-04-13 Method and device for obtaining euv radiation from a gas-discharge plasma

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2004111488/28A RU2278483C2 (ru) 2004-04-14 2004-04-14 Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2004111488A true RU2004111488A (ru) 2005-10-20
RU2278483C2 RU2278483C2 (ru) 2006-06-20

Family

ID=34966511

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2004111488/28A RU2278483C2 (ru) 2004-04-14 2004-04-14 Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы

Country Status (2)

Country Link
RU (1) RU2278483C2 (ru)
WO (1) WO2005101924A1 (ru)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005023060B4 (de) * 2005-05-19 2011-01-27 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Gasentladungs-Strahlungsquelle, insbesondere für EUV-Strahlung
JP4904809B2 (ja) * 2005-12-28 2012-03-28 ウシオ電機株式会社 極端紫外光光源装置
US7501642B2 (en) * 2005-12-29 2009-03-10 Asml Netherlands B.V. Radiation source
DE102006015641B4 (de) 2006-03-31 2017-02-23 Ushio Denki Kabushiki Kaisha Vorrichtung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels einer elektrisch betriebenen Gasentladung
DE102006015640B3 (de) * 2006-03-31 2007-10-04 Xtreme Technologies Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung auf Basis einer elektrisch betriebenen Gasentladung
DE102006022823B4 (de) * 2006-05-12 2010-03-25 Xtreme Technologies Gmbh Anordnung zur Erzeugung von EUV-Strahlung auf Basis eines Gasentladungsplasmas
DE102006027856B3 (de) * 2006-06-13 2007-11-22 Xtreme Technologies Gmbh Anordnung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels elektrischer Entladung an regenerierbaren Elektroden
US8766212B2 (en) 2006-07-19 2014-07-01 Asml Netherlands B.V. Correction of spatial instability of an EUV source by laser beam steering
TW200808134A (en) 2006-07-28 2008-02-01 Ushio Electric Inc Light source device for producing extreme ultraviolet radiation and method of generating extreme ultraviolet radiation
US7759663B1 (en) * 2006-12-06 2010-07-20 Asml Netherlands B.V. Self-shading electrodes for debris suppression in an EUV source
US7518134B2 (en) * 2006-12-06 2009-04-14 Asml Netherlands B.V. Plasma radiation source for a lithographic apparatus
US7696492B2 (en) 2006-12-13 2010-04-13 Asml Netherlands B.V. Radiation system and lithographic apparatus
DE102007004440B4 (de) * 2007-01-25 2011-05-12 Xtreme Technologies Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels einer elektrisch betriebenen Gasentladung
US20080237501A1 (en) 2007-03-28 2008-10-02 Ushio Denki Kabushiki Kaisha Extreme ultraviolet light source device and extreme ultraviolet radiation generating method
JP2009087807A (ja) 2007-10-01 2009-04-23 Tokyo Institute Of Technology 極端紫外光発生方法及び極端紫外光光源装置
JP4893730B2 (ja) * 2008-12-25 2012-03-07 ウシオ電機株式会社 極端紫外光光源装置
JP5471663B2 (ja) 2010-03-19 2014-04-16 ウシオ電機株式会社 極端紫外光光源装置および集光光学手段の位置調整方法
DE102013000407B4 (de) * 2013-01-11 2020-03-26 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Verbesserung der Benetzbarkeit einer rotierenden Elektrode in einer Gasentladungslampe
DE102013110760B4 (de) 2013-09-27 2017-01-12 Ushio Denki Kabushiki Kaisha Strahlungsquelle zur Erzeugung von kurzwelliger Strahlung aus einem Plasma
RU2658314C1 (ru) * 2016-06-14 2018-06-20 Общество С Ограниченной Ответственностью "Эуф Лабс" Высокояркостный источник эуф-излучения и способ генерации излучения из лазерной плазмы
RU2709183C1 (ru) * 2019-04-26 2019-12-17 Общество С Ограниченной Ответственностью "Эуф Лабс" Источник рентгеновского излучения с жидкометаллической мишенью и способ генерации излучения
CN115103499B (zh) * 2022-06-09 2024-03-22 大连理工大学 一种水下镓铟锡液态金属成丝放电爆炸装置及方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19743311A1 (de) * 1996-09-30 1998-04-02 Fraunhofer Ges Forschung Target für die Erzeugung gepulster Röntgen- und Extrem-UV-Strahlung (EUV), Verfahren zur Erzeugung eines solchen Targets sowie seine Verwendung
JP2003288998A (ja) * 2002-03-27 2003-10-10 Ushio Inc 極端紫外光源
EP1401248B1 (en) * 2002-09-19 2012-07-25 ASML Netherlands B.V. Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method
EP1406124A1 (en) * 2002-10-03 2004-04-07 ASML Netherlands B.V. Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method
DE10342239B4 (de) * 2003-09-11 2018-06-07 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem-Ultraviolettstrahlung oder weicher Röntgenstrahlung

Also Published As

Publication number Publication date
RU2278483C2 (ru) 2006-06-20
WO2005101924A1 (en) 2005-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2004111488A (ru) Эуф источник с вращающимися электродами и способ получения эуф излучения из газоразрядной плазмы
TWI382789B (zh) 製造遠紫外線輻射或軟性x射線之方法及裝置
JP4810351B2 (ja) ガス放電による放射線発生装置
US7531820B2 (en) Arrangement and method for the generation of extreme ultraviolet radiation
US7557511B2 (en) Apparatus and method utilizing high power density electron beam for generating pulsed stream of ablation plasma
US8008595B2 (en) Arrangement for generating extreme ultraviolet radiation by means of an electrically operated gas discharge
US7812542B2 (en) Arrangement and method for the generation of extreme ultraviolet radiation by means of an electrically operated gas discharge
JP4949516B2 (ja) ガス放電光源用の電極デバイス、及びこの電極デバイスをもつガス放電光源を作動させる方法
TW201320830A (zh) 具有減少殘餘物產生之雷射產生之電漿超紫外線(euv)源
EP2482303B1 (en) Deposition apparatus and methods
JP4268987B2 (ja) 電気的に作動するガス放電に基づく極紫外線発生装置
JP5566302B2 (ja) 特にeuv放射のためのガス放電光源
JP5504673B2 (ja) 極端紫外光光源装置
JP2009104924A (ja) 極端紫外光光源装置
JP2009224182A (ja) 極端紫外光光源装置
US8426834B2 (en) Method and apparatus for the generation of EUV radiation from a gas discharge plasma
RU2647489C1 (ru) Электронная отпаянная пушка для вывода электронного потока и рентгеновского излучения из вакуумной области в атмосферу
RU2373591C1 (ru) Источник эуф-излучения
RU2383074C2 (ru) Мощный источник эуф излучения
JPS5842769A (ja) 光ビ−ムを用いたイオンプレ−ティング装置
JPH05230634A (ja) アークイオンプレーティング装置
UA118235C2 (uk) Спосіб синтезу наноструктур оксиду міді в наносекундному розряді з електролітичним електродом
JP2001116897A (ja) X線源
JPH11284288A (ja) 金属蒸気レーザ装置
JPH11204895A (ja) 金属蒸気レーザ装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20070415