RU2004104467A - Способ обработки поверхности с помощью очистного геля, его применение и очистной гель - Google Patents

Способ обработки поверхности с помощью очистного геля, его применение и очистной гель Download PDF

Info

Publication number
RU2004104467A
RU2004104467A RU2004104467/15A RU2004104467A RU2004104467A RU 2004104467 A RU2004104467 A RU 2004104467A RU 2004104467/15 A RU2004104467/15 A RU 2004104467/15A RU 2004104467 A RU2004104467 A RU 2004104467A RU 2004104467 A RU2004104467 A RU 2004104467A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
gel
processing method
weight
mol
mixture
Prior art date
Application number
RU2004104467/15A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2291895C2 (ru
Inventor
Сильвен ФОР (FR)
Сильвен ФОР
Брюно ФУРНЕЛЬ (FR)
Брюно ФУРНЕЛЬ
Поль ФУЭНТ (FR)
Поль ФУЭНТ
Иван ЛАЛЛО (FR)
Иван Лалло
Original Assignee
Коммиссариат А Л` Энержи Атомик (Fr)
Коммиссариат А Л` Энержи Атомик
Компани Женераль Де Матьер Нюклеэр (FR)
Компани Женераль де Матьер Нюклеэр
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Коммиссариат А Л` Энержи Атомик (Fr), Коммиссариат А Л` Энержи Атомик, Компани Женераль Де Матьер Нюклеэр (FR), Компани Женераль де Матьер Нюклеэр filed Critical Коммиссариат А Л` Энержи Атомик (Fr)
Publication of RU2004104467A publication Critical patent/RU2004104467A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2291895C2 publication Critical patent/RU2291895C2/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F9/00—Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
    • G21F9/001—Decontamination of contaminated objects, apparatus, clothes, food; Preventing contamination thereof
    • G21F9/002—Decontamination of the surface of objects with chemical or electrochemical processes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D17/00—Detergent materials or soaps characterised by their shape or physical properties
    • C11D17/0008—Detergent materials or soaps characterised by their shape or physical properties aqueous liquid non soap compositions
    • C11D17/003—Colloidal solutions, e.g. gels; Thixotropic solutions or pastes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/02—Inorganic compounds ; Elemental compounds
    • C11D3/04—Water-soluble compounds
    • C11D3/042—Acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/02—Inorganic compounds ; Elemental compounds
    • C11D3/04—Water-soluble compounds
    • C11D3/046—Salts
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/02—Inorganic compounds ; Elemental compounds
    • C11D3/12—Water-insoluble compounds
    • C11D3/124—Silicon containing, e.g. silica, silex, quartz or glass beads
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
    • C23G1/025—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions acidic pickling pastes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/14—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Claims (22)

1. Способ обработки поверхности очищающим гелем, который включает следующие стадии:
нанесение очистного геля на обрабатываемую поверхность, где очистной гель состоит из коллоидного раствора, включающего от 5 до 25% (в расчете на массу геля) смеси пирогенетического кремнезема с осажденным кремнеземом, от 0,5 до 4 моль/л активного очищающего агента и возможно от 0,05 до 1 моль/л окислительного агента с нормальным окислительно-восстановительным потенциалом Е0 выше 1,4 мв в сильно кислотной среде или восстановленной формы этого окислительного агента, выдерживание очистного геля на обрабатываемой поверхности при таких температуре и относительной влажности, при которых гель высыхает и при этом имеется время для того, чтобы гель обработал поверхность, прежде чем образуется сухой и твердый остаток, и удаление сухого и твердого остатка с обрабатываемой поверхности.
2. Способ обработки по п.1, в котором температура высыхания составляет от 20 до 30°С и относительная влажность от 20 до 70%.
3. Способ обработки по п.1, в котором смесь кремнеземов составляет от 5 до 15% от массы геля.
4. Способ обработки по п.1, в котором смесь кремнеземов составляет от 5 до 10% от массы геля.
5. Способ обработки по п.1, в котором осажденный кремнезем составляет 0,5% от массы геля, а пирогенетический кремнезем составляет 8% от массы геля.
6. Способ обработки по любому из пп.1-5, в котором активным обрабатывающим агентом является неорганическая кислота или смесь неорганических кислот.
7. Способ обработки по п.6, в котором неорганическую кислоту выбирают из хлористоводородной кислоты, азотной кислоты, серной кислоты, фосфорной кислоты и их смесей.
8. Способ обработки по любому из пп.1-5, в котором гель включает активный обрабатывающий агент, представляющий собой неорганическое основание, присутствующее в концентрации от 0,5 до 2 моль/л геля.
9. Способ обработки по п.8, в котором неорганическое основание выбирают из соды, поташа и их смеси.
10. Способ обработки по любому из пп.1-5, в котором очистной гель включает от 0,5 до 1 моль/л окислительного агента с нормальным окислительно-восстановительным потенциалом Е0 выше 1,4 мв в сильно кислотной среде, выбираемого из Ce(IV), Co(III) или Ag(II).
11. Способ обработки по п.1, в котором очистной гель включает от 5 до 15% мас кремнезема, от 0,5 до 2 моль/л азотной кислоты и 0,1 до 0,5 моль/л геля Ce(NO3)4 или (NH4)2Ce(NO3)6.
12. Способ обработки по п.1, в котором очистной гель наносят на обрабатываемую поверхность в количестве от 100 до 2000 г геля на 1 кв. метр поверхности.
13. Способ по п.1, в котором сухой и твердый остаток удаляют с обработанной поверхности с помощью щетки и/или отсасыванием.
14. Применение способа по любому из пп.1-13 для обезжиривания поверхности, для удаления оксидного слоя с металлической поверхности или для дезактивации поверхности.
15. Способ дезактивации устройства, включающий удаление пыли из обрабатываемого устройства с последующей обработкой устройства способом по любому из пп.1-13.
16. Способ по п.15, в котором устройством является вентиляционная шахта какого-либо ядерного устройства.
17. Гель для обработки поверхности, состоящий из коллоидного раствора, включающего от 5 до 25% (в расчете на массу геля) смеси пирогенетического кремнезема с осажденным кремнеземом, от 0,5 до 4 моль/л активного очищающего агента и, необязательно, от 0,05 до 1 моль/л окислительного агента с нормальным окислительно-восстановительным потенциалом Е0 выше 1,4 мв в сильно кислотной среде или восстановленной формы этого окислительного агента.
18. Гель по п.17, в котором смесь кремнеземов составляет от 5 до 15% от массы геля, а активным очищающим агентом является неорганическая кислота или смесь неорганических кислот.
19. Гель по п.17, в котором смесь пирогенетического и осажденного кремнеземов составляет от 5 до 10% от массы геля.
20. Гель по п.17, в котором осажденный кремнезем составляет 0,5% от массы геля, а пирогенетический кремнезем составляет 8% от массы геля.
21. Гель по п.18, в котором неорганическую кислоту выбирают из хлористоводородной кислоты, азотной кислоты, серной кислоты, фосфорной кислоты и их смесей.
22. Гель по п.17 или 20, в котором окислительный агент с нормальным окислительно-восстановительным потенциалом Е0 выше 1,4 мв в сильно кислотной среде выбирают из Ce(IV), Co(III) и Ag(II).
RU2004104467/15A 2001-07-17 2002-07-15 Способ обработки поверхности с помощью очистного геля, его применение и очистной гель RU2291895C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR01/9520 2001-07-17
FR0109520A FR2827530B1 (fr) 2001-07-17 2001-07-17 Procede de traitement d'une surface par un gel de traitement, et gel de traitement

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2004104467A true RU2004104467A (ru) 2005-05-10
RU2291895C2 RU2291895C2 (ru) 2007-01-20

Family

ID=8865598

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2004104467/15A RU2291895C2 (ru) 2001-07-17 2002-07-15 Способ обработки поверхности с помощью очистного геля, его применение и очистной гель

Country Status (11)

Country Link
US (2) US7713357B2 (ru)
EP (1) EP1421165B1 (ru)
JP (1) JP4334339B2 (ru)
CN (1) CN1273578C (ru)
AT (1) ATE338806T1 (ru)
DE (1) DE60214567T2 (ru)
ES (1) ES2271318T3 (ru)
FR (1) FR2827530B1 (ru)
RU (1) RU2291895C2 (ru)
UA (1) UA82465C2 (ru)
WO (1) WO2003008529A1 (ru)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3914721B2 (ja) * 2001-06-25 2007-05-16 株式会社平間理化研究所 非水系レジスト剥離液管理装置及び非水系レジスト剥離液管理方法
FR2827530B1 (fr) * 2001-07-17 2004-05-21 Commissariat Energie Atomique Procede de traitement d'une surface par un gel de traitement, et gel de traitement
US8009696B2 (en) * 2004-08-06 2011-08-30 Ipeak Networks Incorporated System and method for achieving accelerated throughput
CN1332398C (zh) * 2004-10-15 2007-08-15 中国人民解放军总参谋部工程兵科研三所 剥离型压制去污剂
US20060151434A1 (en) * 2005-01-07 2006-07-13 The Boc Group, Inc. Selective surface texturing through the use of random application of thixotropic etching agents
FR2891470B1 (fr) 2005-10-05 2007-11-23 Commissariat Energie Atomique Gel aspirable pour la decontamination de surfaces et utilisation
FR2962046B1 (fr) * 2010-07-02 2012-08-17 Commissariat Energie Atomique Gel de decontamination biologique et procede de decontamination de surfaces utilisant ce gel.
FR2984170B1 (fr) 2011-12-19 2014-01-17 Commissariat Energie Atomique Gel de decontamination et procede de decontamination de surfaces par trempage utilisant ce gel.
JP5846997B2 (ja) * 2012-03-30 2016-01-20 鹿島建設株式会社 膜形成用組成物、表面洗浄方法、放射性物質除去方法、表面保護方法、及び膜
FR2990364B1 (fr) 2012-05-11 2014-06-13 Commissariat Energie Atomique Procede de decontamination radioactive d'une terre par mousse de flottation a air disperse et ladite mousse
FR3003869B1 (fr) 2013-03-29 2015-05-01 Commissariat Energie Atomique Gel de decontamination pigmente et procede de decontamination de surfaces utilisant ce gel.
FR3003763B1 (fr) 2013-03-29 2015-05-15 Commissariat Energie Atomique Gel alcalin oxydant de decontamination biologique et procede de decontamination biologique de surfaces utilisant ce gel.
CN103695205B (zh) * 2013-12-03 2016-01-20 中国人民解放军总参谋部工程兵科研三所 一种自碎式消污液
FR3014336B1 (fr) 2013-12-05 2016-01-22 Commissariat Energie Atomique Utilisation d'un gel alcalin oxydant pour eliminer un biofilm sur une surface d'un substrat solide.
US9969549B2 (en) * 2014-03-24 2018-05-15 The Boeing Company Systems and methods for controlling a fuel tank environment
FR3027310B1 (fr) 2014-10-15 2017-12-15 Commissariat Energie Atomique Gel pour eliminer les graffitis et procede pour eliminer les graffitis utilisant ce gel.
FR3053897B1 (fr) 2016-07-13 2022-05-20 Commissariat Energie Atomique Gel de decontamination adsorbant et photocatalytique et procede de decontamination de surfaces utilisant ce gel
FR3054839B1 (fr) 2016-08-05 2020-06-26 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Gel aspirable et procede pour eliminer une contamination radioactive contenue dans une couche organique en surface d'un substrat solide.
US20180094217A1 (en) * 2016-09-30 2018-04-05 General Electric Company Method and material for cleaning metal surfaces
RU2655525C2 (ru) * 2016-10-05 2018-05-28 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Волгоградский государственный медицинский университет" Министерства здравоохранения Российской Федерации ГБОУ ВПО ВолгГМУ МЗ РФ Неводный способ очистки для удаления поверхностных загрязнений с ортопедических конструкций
RU2662531C1 (ru) * 2017-05-31 2018-07-26 Кирилл Игоревич Мыльников Камера для обработки изделий из пластика
FR3083712B1 (fr) 2018-07-11 2022-01-21 Commissariat Energie Atomique Procede de decontamination d'un milieu gazeux contamine par des especes contaminantes en suspension.
RU187811U1 (ru) * 2018-11-14 2019-03-19 Александр Николаевич Костин Устройство для финишной обработки поверхности изделий из пластика
RU189421U1 (ru) * 2019-02-11 2019-05-22 Александр Николаевич Костин Портативное устройство для финишной обработки поверхности изделий из пластика
EP3986275A4 (en) * 2019-06-20 2022-11-30 HB Innovations, Inc. SYSTEM AND METHOD FOR MONITORING/DETECTING AND RESPONDING TO INFANT BREATHING
CN112760659B (zh) * 2020-12-02 2022-09-27 中国辐射防护研究院 一种氧化去污凝胶及其制备方法与用途
CN114672816B (zh) * 2022-01-07 2024-04-05 航天科工防御技术研究试验中心 一种用于清除铝合金表面腐蚀的组合物及其制备方法和应用
CN115261860B (zh) * 2022-06-10 2024-04-16 航天科工防御技术研究试验中心 一种铝合金表面腐蚀清除剂及其制备方法和应用

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3578499A (en) * 1968-08-02 1971-05-11 Grace W R & Co Gelling composition for general purpose cleaning and sanitizing
FR2380624A1 (fr) * 1977-02-09 1978-09-08 Commissariat Energie Atomique Procede de decontamination radioactive d'une piece
US4365516A (en) * 1978-01-06 1982-12-28 Rockwell International Corporation Ultrasonic couplant gel compositions and method for employing same
JPS5939511B2 (ja) * 1982-08-05 1984-09-25 正己 小林 ゲル状脱錆剤
FR2656949B1 (fr) * 1990-01-09 1994-03-25 Commissariat A Energie Atomique Gel decontaminant et son utilisation pour la decontamination radioactive de surfaces.
US5264010A (en) * 1992-04-27 1993-11-23 Rodel, Inc. Compositions and methods for polishing and planarizing surfaces
FR2695839B1 (fr) * 1992-09-23 1994-10-14 Commissariat Energie Atomique Gel décontaminant réducteur et son utilisation pour la décontamination de surface notamment d'installations nucléaires.
US5782940A (en) * 1996-03-15 1998-07-21 Carborundum Universal Limited Process for the preparation of alumina abrasives
FR2746328B1 (fr) * 1996-03-21 1998-05-29 Stmi Soc Tech Milieu Ionisant Gel organomineral de decontamination et son utilisation pour la decontamination de surfaces
FR2781809B1 (fr) * 1998-07-31 2002-06-07 Commissariat Energie Atomique Composition de degraissage et procedes utilisant cette composition
US6455751B1 (en) * 1999-03-03 2002-09-24 The Regents Of The University Of California Oxidizer gels for detoxification of chemical and biological agents
FR2798603B1 (fr) * 1999-09-20 2002-03-01 Tech En Milieu Ionisant Stmi S Gel organique de decontamination et son utilisation pour la decontamination de surfaces
US6616910B2 (en) * 2000-05-05 2003-09-09 Institut Francais Du Petrole Process for preparation of an EUO-structural-type zeolite, the zeolite that is obtained and its use as catalyst for isomerization of C8-aromatic compounds
FR2827530B1 (fr) * 2001-07-17 2004-05-21 Commissariat Energie Atomique Procede de traitement d'une surface par un gel de traitement, et gel de traitement
US6605158B1 (en) * 2001-10-12 2003-08-12 Bobolink, Inc. Radioactive decontamination and translocation method

Also Published As

Publication number Publication date
US20060032518A1 (en) 2006-02-16
US7713357B2 (en) 2010-05-11
US7718010B2 (en) 2010-05-18
DE60214567T2 (de) 2007-09-13
ATE338806T1 (de) 2006-09-15
JP2004535510A (ja) 2004-11-25
JP4334339B2 (ja) 2009-09-30
EP1421165A1 (fr) 2004-05-26
FR2827530B1 (fr) 2004-05-21
UA82465C2 (ru) 2008-04-25
US20040175505A1 (en) 2004-09-09
DE60214567D1 (de) 2006-10-19
EP1421165B1 (fr) 2006-09-06
CN1273578C (zh) 2006-09-06
ES2271318T3 (es) 2007-04-16
WO2003008529A1 (fr) 2003-01-30
CN1592778A (zh) 2005-03-09
FR2827530A1 (fr) 2003-01-24
RU2291895C2 (ru) 2007-01-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2004104467A (ru) Способ обработки поверхности с помощью очистного геля, его применение и очистной гель
UA98930C2 (ru) Гель для очиски поверхностей (варианты), его применение и способ дезактивации поверхности
DE2706519C2 (de) Verfahren zum Reinigen der Oberfläche von polierten Siliciumplättchen
ATE438704T1 (de) Fluoridhaltige saure zusammensetzung zur entfernung von photolack- und ätzrückständen
IT1191613B (it) Fosfato di zirconio e suo metodo di preparazione
JP3046208B2 (ja) シリコンウェハおよびシリコン酸化物の洗浄液
US4116714A (en) Post-polishing semiconductor surface cleaning process
JP2004535510A5 (ru)
EP0982765A3 (en) Cleaning method of semiconductor substrate
JP2009052142A5 (ru)
JP2009530811A5 (ru)
ATE373074T1 (de) Dekontaminierung mit prioneninfiziertem material kontaminierter oberflächen mit oxidationsmittelbasierenden formulierungen
CA2329535A1 (en) A cleaning composition for printing presses
RU2002116231A (ru) Агент для травления, содержащий мочевину, и способ его получения
KR100351229B1 (ko) 반도체웨이퍼의 습식화학적처리방법
EE200100510A (et) Vesikeskkonnas kasutatav keraamiline toode ning selle määrdumisvastaseks töötlemise meetod
BR8602514A (pt) Banhos e processo para o polimento quimico de uma superficie de aco inoxidavel
JP2018529012A (ja) 基板からバイオフィルムを除去するバイオ洗浄キットおよび方法
JP3405371B2 (ja) 半導体基板のオゾン洗浄方法
RU2000130144A (ru) Способ кислородной пассивации и очистки стальных труб
JP3071987U (ja) 劣化防止処理を施した墓石及びその附属設備
CN105237040A (zh) 一种石质文物及石材表面石膏风化层的选择性清除方法
RU98107302A (ru) Способ изготовления известково-песчаных строительных материалов
JP3118201B2 (ja) 有機質汚れの高度洗浄方法
JP3145341B2 (ja) アルミナ製品の表面改質方法及び表面改質アルミナ製品

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20170716